JPH06188301A - 半導体ウェハ無塵搬送装置 - Google Patents

半導体ウェハ無塵搬送装置

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JPH06188301A
JPH06188301A JP33724792A JP33724792A JPH06188301A JP H06188301 A JPH06188301 A JP H06188301A JP 33724792 A JP33724792 A JP 33724792A JP 33724792 A JP33724792 A JP 33724792A JP H06188301 A JPH06188301 A JP H06188301A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
dust
carrier
wafer
semiconductor
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP33724792A
Other languages
English (en)
Inventor
Masato Takemura
真人 竹村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】クリーンルームが全体に亘って高清浄度でなく
とも半導体ウェハの搬送の際に汚染することを防止する
とともに動作時間が短い半導体ウェハ無塵搬送装置を提
供する。 【構成】除塵フィルタを有し、下降空気流を発生するフ
ァンと、この下降空気流が通り抜ける孔を底に有し、半
導体ウェハを下降空気流に曝したまま収納するキャリヤ
と、下降空気流を囲む防塵壁とを備えた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、クリーンルーム内にお
いて用いる半導体ウェハ無塵搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】集積回路の高集積化に伴い、クリーンル
ームの清浄度向上が要求されている。この清浄度向上の
ため工程の無人化が進められ、半導体ウェハの搬送にお
いて半導体ウェハ搬送装置が導入されている。この半導
体ウェハ搬送装置は、クリーンルームの天井からの垂直
層流によりクリーンルーム全体に亘って高清浄度空間を
形成し、この高清浄度空間中を搬送軌道に沿って半導体
ウェハを曝したまま搭載した搬送台車が往き来するもの
である。また半導体ウェハ搬送装置に、半導体ウェハを
入れるための蓋つきのボックスを搭載し、このボックス
に半導体ウェハを格納し、ボックスの蓋を閉めた状態で
搬送を行うものもある(特開昭62−185336号公
報参照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術におい
て、高清浄度空間を搬送軌道に沿って搬送台車が搬送す
る半導体ウェハ搬送装置には、半導体ウェハを曝したま
ま搬送するものであるため、クリーンルーム内全体に亘
って高清浄度が要求される。クリーンルームの建設費及
び運転費は、高清浄度になるほど高くなるためコストが
嵩むという問題がある。また搬送台車にボックスを装備
する半導体ウェハ搬送装置には、ボックス内には空気の
流れがないため長期間の間に、蓋の開閉等によって発生
した微粒子がボックス内に滞留して半導体ウェハの汚染
の原因となるという問題がある。さらに蓋付きのボック
スであるため、蓋の開閉により動作時間が長くなるとい
う問題がある。
【0004】本発明は、上記事情に鑑み、クリーンルー
ムの建設費及び運転費が嵩むことなく、かつ半導体ウェ
ハが搬送する際に汚染することを防止するとともに動作
時間が短い半導体ウェハ無塵搬送装置を提供することを
目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置は、除塵フィルタ
を有し、下降空気流を発生するファンと、このファンが
発生する下降空気流が通過する孔を底に有し、半導体ウ
ェハを下降空気流に曝しつつ収納するキャリヤと、下降
空気流を囲む防塵壁とを備えたことを特徴とするもので
ある。
【0006】
【作用】本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置は、除塵フ
ィルタを通してファンが、半導体ウェハを曝しつつ収納
するキャリヤに下降空気流を吹きかけ、この下降空気流
が通過する孔をキャリヤは底に有するものであるため、
微粒子がキャリヤ内に滞留して半導体ウェハが汚染する
ことを防止するとともに蓋の開閉が必要なく動作時間が
短い。また本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置は、下降
空気流を囲む防塵壁を備えたものであるため、防塵壁に
よりクリーンルーム内の微粒子が下降空気流に紛れ込む
ことがなく、これによりクリーンルーム内全体に亘って
高清浄度でなくとも半導体ウェハを曝したまま搬送でき
る。
【0007】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
1は、本発明の一実施例の半導体ウェハ無塵運搬装置の
側面図、図2は、半導体ウェハを搭載した状態の図1に
示す半導体ウェハ無塵運搬装置の斜視図である。
【0008】この半導体ウェハ無塵運搬装置は、クリー
ンルーム内の搬送軌道(図示せず)の上を移動する台車
3の上に垂直方向に軸着して水平方向に回転する支柱1
0を備えている。この支柱10の上端は図1における左
側に屈曲し、この屈曲した部分の下面に除塵フィルタ1
を設けている。この除塵フィルタ1に、支柱10の下方
にある空気取入口9から取り入れた空気を、ファン2に
より支柱10の内部を通るダクト(図示せず)を通して
送り込む。この送り込んだ空気を、除塵フィルタ1によ
り除塵し、図1に矢印で示すダウンフロー(本発明にい
う下降空気流)にして防塵壁8により囲んで送り出す。
ダウンフローにあたる位置に、ダウンフローが通る孔7
a(図4参照)を有するキャリヤ台7を設ける。このキ
ャリヤ台7の上に、例えば6インチの半導体ウェハ6
(図2参照)を曝したまま収納するキャリヤ5を搭載し
た状態(図2参照)で、半導体ウェハ無塵運搬装置は半
導体ウェハ6を搬送する。キャリヤ5は、その底に孔
(図示せず)を有し、この孔とキャリヤ台7の孔7aと
をダウンフローが通り抜ける。キャリヤ5をアーム4に
より、半導体ウェハの製造装置11(図5参照)からキ
ャリヤ台7に移載するとともにキャリヤ台7から半導体
ウェハの製造装置11に移載する。この移載の際に支柱
10は水平方向に回転する。また防塵壁8の大きさは、
半導体ウェハ6の収納および取出しを妨げないように定
める。
【0009】図3は、図1,図2に示すキャリヤ台の平
面図、図4は、図3に示すキャリヤ台の一部分の拡大図
である。このキャリヤ台7は、6インチの半導体ウェハ
用であり、その大きさはL1=200mm,L2=22
0mmである。このキャリヤ台7は、図4に示す孔7a
(直径7c=5mm)を全面に亘って、隣合う孔7aど
うしの中心間隔7bは5mmの配置で多数設けているも
のであるため、図1に示すダウンフローが通り抜けるこ
とができる。
【0010】ここに、キャリヤ台7は、キャリヤ5をア
ーム4により保持して搬送することにより、必ずしも必
要ではない。この半導体ウェハ無塵搬送装置は、除塵フ
ィルタ1により除塵した清浄なダウンフローを防塵壁8
で囲み、このダウンフローを曝したままの半導体ウェハ
6に送風しつつ搬送するものであるため、半導体ウェハ
6を収納するキャリヤ5及びキャリア台7には上下を貫
く孔が多数開いており空気が滞留せず、汚染源となる微
粒子(図示せず)が半導体ウェハ6に付着することを防
止するとともに付着した微粒子を取り去る。防塵壁8
は、クリーンルーム内の微粒子がダウンフローに入り込
むことを防止する。
【0011】図5は、本発明の半導体ウェハ無塵搬送装
置を用いる一例のクリーンルームの垂直方向の断面図で
ある。尚、図5に示す矢印は風の流れを示す。図5に示
すクリーンルームは、本発明の半導体ウェハ無塵搬送装
置が移動する作業通路12、半導体ウェハ製造装置11
を設置するプロセス領域13、及び風を排出する排出領
域17からなる。このクリーンルームは、作業通路フィ
ルタ14およびプロセスフィルタ15から風をクリーン
ルーム内に送り込み、この送り込んだ風を排出領域17
から排出する。作業通路12とプロセス領域13の境界
には、従来のように垂れ壁16を設けている。また、作
業通路フィルタ14およびプロセスフィルタ15は、そ
れぞれ別々にファン(図示せず)を備えている。
【0012】このクリーンルームは、位置によって風速
が異なり、プロセスフィルタ15が風を送り込むプロセ
ス領域13では風速0.3m/s、作業通路フィルタ1
4が風を送り込む作業通路12では0.15m/sであ
る。このように、プロセス領域13の風速が作業通路1
2の風速より速く、かつ従来のように垂れ壁16を設け
ているため、作業通路12の上方で発塵があってもプロ
セス領域13には塵(図示せず)は入り込まない。
【0013】現在、半導体製造に必要な清浄度は、0.
1μmクラス1(0.1μm以上の粒径のゴミが1立方
フィート中に1個以下)である。この0.1μmクラス
1を実現するためにはクリーンルームの作業通路フィル
タ14およびプロセスフィルタ15の吹出風速を、一般
に行われているように0.3〜0.35m/sにする必
要がある。
【0014】本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置のダウ
ンフローの風速を、0.3〜0.35m/sにすると作
業通路12での風速を半分の0.15m/sにしても、
半導体ウェハ6が汚染することなく搬送することができ
る。また本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置は、防塵壁
8を備えているものであるため、作業通路12の上方で
発塵があっても半導体ウェハ6が汚染することはない。
【0015】本実施例の半導体ウェハ無塵搬送装置に備
えたファンとフィルタの大きさを示す。6インチの半導
体ウェハ対応のキャリヤ台7は、この半導体ウェハの平
面(160mm×170mm)より広く図3に示すよう
にした。同じく6インチの半導体ウェハ対応の除塵フィ
ルタ1の面積も、この半導体ウェハの平面より広く 0.2×0.22=0.044m2 ものにした。
【0016】ここに、除塵フィルタには、ULPAフィ
ルタ(0.1μm以上の微粒子捕集効果99.9995
%以上)を用いる。ダウンフローの吹出風速は、0.3
m/sとすると、ダウンフローの風量は、 風量 = フィルタ面積 × 吹出風速 0.3 × 0.044 × 60 = 0.792 [m3 /min] したがって、ファン2には、毎分あたり1m3 の空気を
送風できるものを用いる。
【0017】
【発明の効果】以上、説明したように本発明の半導体ウ
ェハ無塵搬送装置は、搬送しつつ半導体ウェハに下降空
気流を吹きかけ、この下降空気流が通過する孔をキャリ
ヤ底に有するものであるため、微粒子が滞留して半導体
ウェハを汚染することがないとともに蓋の開閉が必要な
く動作時間が短い。また本発明の半導体ウェハ無塵搬送
装置は、下降空気流を囲む防塵壁を備え、この防塵壁に
よりクリーンルーム内の微粒子が下降空気流に紛れ込む
ことがなくなり、クリーンルーム内が全体に亘って高清
浄度でなくとも半導体ウェハを曝したまま搬送できる。
これにより、クリーンルームの建設コスト及び運転コス
トが低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の半導体ウェハ無塵運搬装置
の側面図である。
【図2】半導体ウェハを搭載した状態の図1に示す半導
体ウェハ無塵運搬装置の斜視図である。
【図3】図1,図2に示すキャリヤ台の平面図である。
【図4】図3に示すキャリヤ台の一部分の拡大図であ
る。
【図5】本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置を用いる一
例のクリーンルームの垂直方向の断面図である。
【符号の説明】
1 防塵フィルタ 2 ファン 3 台車 4 アーム 5 キャリヤ 6 半導体ウェハ 7 キャリヤ台 8 防塵壁

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウェハ無塵搬送装置において、 除塵フィルタを有し、下降空気流を発生するファンと、
    該ファンが発生する前記下降空気流が通過する孔を底に
    有し、半導体ウェハを前記下降空気流に曝しつつ収納す
    るキャリヤと、前記下降空気流を囲む防塵壁とを備えた
    ことを特徴とする半導体ウェハ無塵搬送装置。
JP33724792A 1992-12-17 1992-12-17 半導体ウェハ無塵搬送装置 Withdrawn JPH06188301A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33724792A JPH06188301A (ja) 1992-12-17 1992-12-17 半導体ウェハ無塵搬送装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33724792A JPH06188301A (ja) 1992-12-17 1992-12-17 半導体ウェハ無塵搬送装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06188301A true JPH06188301A (ja) 1994-07-08

Family

ID=18306828

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33724792A Withdrawn JPH06188301A (ja) 1992-12-17 1992-12-17 半導体ウェハ無塵搬送装置

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JP (1) JPH06188301A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10289939A (ja) * 1997-04-14 1998-10-27 Shinko Electric Co Ltd 無人搬送台車
WO2011001637A1 (ja) * 2009-06-29 2011-01-06 ムラテックオートメーション株式会社 搬送台車

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Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20000307