JPH06188301A - 半導体ウェハ無塵搬送装置 - Google Patents
半導体ウェハ無塵搬送装置Info
- Publication number
- JPH06188301A JPH06188301A JP33724792A JP33724792A JPH06188301A JP H06188301 A JPH06188301 A JP H06188301A JP 33724792 A JP33724792 A JP 33724792A JP 33724792 A JP33724792 A JP 33724792A JP H06188301 A JPH06188301 A JP H06188301A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor wafer
- dust
- carrier
- wafer
- semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】クリーンルームが全体に亘って高清浄度でなく
とも半導体ウェハの搬送の際に汚染することを防止する
とともに動作時間が短い半導体ウェハ無塵搬送装置を提
供する。 【構成】除塵フィルタを有し、下降空気流を発生するフ
ァンと、この下降空気流が通り抜ける孔を底に有し、半
導体ウェハを下降空気流に曝したまま収納するキャリヤ
と、下降空気流を囲む防塵壁とを備えた。
とも半導体ウェハの搬送の際に汚染することを防止する
とともに動作時間が短い半導体ウェハ無塵搬送装置を提
供する。 【構成】除塵フィルタを有し、下降空気流を発生するフ
ァンと、この下降空気流が通り抜ける孔を底に有し、半
導体ウェハを下降空気流に曝したまま収納するキャリヤ
と、下降空気流を囲む防塵壁とを備えた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、クリーンルーム内にお
いて用いる半導体ウェハ無塵搬送装置に関する。
いて用いる半導体ウェハ無塵搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】集積回路の高集積化に伴い、クリーンル
ームの清浄度向上が要求されている。この清浄度向上の
ため工程の無人化が進められ、半導体ウェハの搬送にお
いて半導体ウェハ搬送装置が導入されている。この半導
体ウェハ搬送装置は、クリーンルームの天井からの垂直
層流によりクリーンルーム全体に亘って高清浄度空間を
形成し、この高清浄度空間中を搬送軌道に沿って半導体
ウェハを曝したまま搭載した搬送台車が往き来するもの
である。また半導体ウェハ搬送装置に、半導体ウェハを
入れるための蓋つきのボックスを搭載し、このボックス
に半導体ウェハを格納し、ボックスの蓋を閉めた状態で
搬送を行うものもある（特開昭６２−１８５３３６号公
報参照）。
ームの清浄度向上が要求されている。この清浄度向上の
ため工程の無人化が進められ、半導体ウェハの搬送にお
いて半導体ウェハ搬送装置が導入されている。この半導
体ウェハ搬送装置は、クリーンルームの天井からの垂直
層流によりクリーンルーム全体に亘って高清浄度空間を
形成し、この高清浄度空間中を搬送軌道に沿って半導体
ウェハを曝したまま搭載した搬送台車が往き来するもの
である。また半導体ウェハ搬送装置に、半導体ウェハを
入れるための蓋つきのボックスを搭載し、このボックス
に半導体ウェハを格納し、ボックスの蓋を閉めた状態で
搬送を行うものもある（特開昭６２−１８５３３６号公
報参照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術におい
て、高清浄度空間を搬送軌道に沿って搬送台車が搬送す
る半導体ウェハ搬送装置には、半導体ウェハを曝したま
ま搬送するものであるため、クリーンルーム内全体に亘
って高清浄度が要求される。クリーンルームの建設費及
び運転費は、高清浄度になるほど高くなるためコストが
嵩むという問題がある。また搬送台車にボックスを装備
する半導体ウェハ搬送装置には、ボックス内には空気の
流れがないため長期間の間に、蓋の開閉等によって発生
した微粒子がボックス内に滞留して半導体ウェハの汚染
の原因となるという問題がある。さらに蓋付きのボック
スであるため、蓋の開閉により動作時間が長くなるとい
う問題がある。
て、高清浄度空間を搬送軌道に沿って搬送台車が搬送す
る半導体ウェハ搬送装置には、半導体ウェハを曝したま
ま搬送するものであるため、クリーンルーム内全体に亘
って高清浄度が要求される。クリーンルームの建設費及
び運転費は、高清浄度になるほど高くなるためコストが
嵩むという問題がある。また搬送台車にボックスを装備
する半導体ウェハ搬送装置には、ボックス内には空気の
流れがないため長期間の間に、蓋の開閉等によって発生
した微粒子がボックス内に滞留して半導体ウェハの汚染
の原因となるという問題がある。さらに蓋付きのボック
スであるため、蓋の開閉により動作時間が長くなるとい
う問題がある。
【０００４】本発明は、上記事情に鑑み、クリーンルー
ムの建設費及び運転費が嵩むことなく、かつ半導体ウェ
ハが搬送する際に汚染することを防止するとともに動作
時間が短い半導体ウェハ無塵搬送装置を提供することを
目的とする。
ムの建設費及び運転費が嵩むことなく、かつ半導体ウェ
ハが搬送する際に汚染することを防止するとともに動作
時間が短い半導体ウェハ無塵搬送装置を提供することを
目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置は、除塵フィルタ
を有し、下降空気流を発生するファンと、このファンが
発生する下降空気流が通過する孔を底に有し、半導体ウ
ェハを下降空気流に曝しつつ収納するキャリヤと、下降
空気流を囲む防塵壁とを備えたことを特徴とするもので
ある。
の本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置は、除塵フィルタ
を有し、下降空気流を発生するファンと、このファンが
発生する下降空気流が通過する孔を底に有し、半導体ウ
ェハを下降空気流に曝しつつ収納するキャリヤと、下降
空気流を囲む防塵壁とを備えたことを特徴とするもので
ある。
【０００６】
【作用】本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置は、除塵フ
ィルタを通してファンが、半導体ウェハを曝しつつ収納
するキャリヤに下降空気流を吹きかけ、この下降空気流
が通過する孔をキャリヤは底に有するものであるため、
微粒子がキャリヤ内に滞留して半導体ウェハが汚染する
ことを防止するとともに蓋の開閉が必要なく動作時間が
短い。また本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置は、下降
空気流を囲む防塵壁を備えたものであるため、防塵壁に
よりクリーンルーム内の微粒子が下降空気流に紛れ込む
ことがなく、これによりクリーンルーム内全体に亘って
高清浄度でなくとも半導体ウェハを曝したまま搬送でき
る。
ィルタを通してファンが、半導体ウェハを曝しつつ収納
するキャリヤに下降空気流を吹きかけ、この下降空気流
が通過する孔をキャリヤは底に有するものであるため、
微粒子がキャリヤ内に滞留して半導体ウェハが汚染する
ことを防止するとともに蓋の開閉が必要なく動作時間が
短い。また本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置は、下降
空気流を囲む防塵壁を備えたものであるため、防塵壁に
よりクリーンルーム内の微粒子が下降空気流に紛れ込む
ことがなく、これによりクリーンルーム内全体に亘って
高清浄度でなくとも半導体ウェハを曝したまま搬送でき
る。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
１は、本発明の一実施例の半導体ウェハ無塵運搬装置の
側面図、図２は、半導体ウェハを搭載した状態の図１に
示す半導体ウェハ無塵運搬装置の斜視図である。
１は、本発明の一実施例の半導体ウェハ無塵運搬装置の
側面図、図２は、半導体ウェハを搭載した状態の図１に
示す半導体ウェハ無塵運搬装置の斜視図である。
【０００８】この半導体ウェハ無塵運搬装置は、クリー
ンルーム内の搬送軌道（図示せず）の上を移動する台車
３の上に垂直方向に軸着して水平方向に回転する支柱１
０を備えている。この支柱１０の上端は図１における左
側に屈曲し、この屈曲した部分の下面に除塵フィルタ１
を設けている。この除塵フィルタ１に、支柱１０の下方
にある空気取入口９から取り入れた空気を、ファン２に
より支柱１０の内部を通るダクト（図示せず）を通して
送り込む。この送り込んだ空気を、除塵フィルタ１によ
り除塵し、図１に矢印で示すダウンフロー（本発明にい
う下降空気流）にして防塵壁８により囲んで送り出す。
ダウンフローにあたる位置に、ダウンフローが通る孔７
ａ（図４参照）を有するキャリヤ台７を設ける。このキ
ャリヤ台７の上に、例えば６インチの半導体ウェハ６
（図２参照）を曝したまま収納するキャリヤ５を搭載し
た状態（図２参照）で、半導体ウェハ無塵運搬装置は半
導体ウェハ６を搬送する。キャリヤ５は、その底に孔
（図示せず）を有し、この孔とキャリヤ台７の孔７ａと
をダウンフローが通り抜ける。キャリヤ５をアーム４に
より、半導体ウェハの製造装置１１（図５参照）からキ
ャリヤ台７に移載するとともにキャリヤ台７から半導体
ウェハの製造装置１１に移載する。この移載の際に支柱
１０は水平方向に回転する。また防塵壁８の大きさは、
半導体ウェハ６の収納および取出しを妨げないように定
める。
ンルーム内の搬送軌道（図示せず）の上を移動する台車
３の上に垂直方向に軸着して水平方向に回転する支柱１
０を備えている。この支柱１０の上端は図１における左
側に屈曲し、この屈曲した部分の下面に除塵フィルタ１
を設けている。この除塵フィルタ１に、支柱１０の下方
にある空気取入口９から取り入れた空気を、ファン２に
より支柱１０の内部を通るダクト（図示せず）を通して
送り込む。この送り込んだ空気を、除塵フィルタ１によ
り除塵し、図１に矢印で示すダウンフロー（本発明にい
う下降空気流）にして防塵壁８により囲んで送り出す。
ダウンフローにあたる位置に、ダウンフローが通る孔７
ａ（図４参照）を有するキャリヤ台７を設ける。このキ
ャリヤ台７の上に、例えば６インチの半導体ウェハ６
（図２参照）を曝したまま収納するキャリヤ５を搭載し
た状態（図２参照）で、半導体ウェハ無塵運搬装置は半
導体ウェハ６を搬送する。キャリヤ５は、その底に孔
（図示せず）を有し、この孔とキャリヤ台７の孔７ａと
をダウンフローが通り抜ける。キャリヤ５をアーム４に
より、半導体ウェハの製造装置１１（図５参照）からキ
ャリヤ台７に移載するとともにキャリヤ台７から半導体
ウェハの製造装置１１に移載する。この移載の際に支柱
１０は水平方向に回転する。また防塵壁８の大きさは、
半導体ウェハ６の収納および取出しを妨げないように定
める。
【０００９】図３は、図１，図２に示すキャリヤ台の平
面図、図４は、図３に示すキャリヤ台の一部分の拡大図
である。このキャリヤ台７は、６インチの半導体ウェハ
用であり、その大きさはＬ１＝２００ｍｍ，Ｌ２＝２２
０ｍｍである。このキャリヤ台７は、図４に示す孔７ａ
（直径７ｃ＝５ｍｍ）を全面に亘って、隣合う孔７ａど
うしの中心間隔７ｂは５ｍｍの配置で多数設けているも
のであるため、図１に示すダウンフローが通り抜けるこ
とができる。
面図、図４は、図３に示すキャリヤ台の一部分の拡大図
である。このキャリヤ台７は、６インチの半導体ウェハ
用であり、その大きさはＬ１＝２００ｍｍ，Ｌ２＝２２
０ｍｍである。このキャリヤ台７は、図４に示す孔７ａ
（直径７ｃ＝５ｍｍ）を全面に亘って、隣合う孔７ａど
うしの中心間隔７ｂは５ｍｍの配置で多数設けているも
のであるため、図１に示すダウンフローが通り抜けるこ
とができる。
【００１０】ここに、キャリヤ台７は、キャリヤ５をア
ーム４により保持して搬送することにより、必ずしも必
要ではない。この半導体ウェハ無塵搬送装置は、除塵フ
ィルタ１により除塵した清浄なダウンフローを防塵壁８
で囲み、このダウンフローを曝したままの半導体ウェハ
６に送風しつつ搬送するものであるため、半導体ウェハ
６を収納するキャリヤ５及びキャリア台７には上下を貫
く孔が多数開いており空気が滞留せず、汚染源となる微
粒子（図示せず）が半導体ウェハ６に付着することを防
止するとともに付着した微粒子を取り去る。防塵壁８
は、クリーンルーム内の微粒子がダウンフローに入り込
むことを防止する。
ーム４により保持して搬送することにより、必ずしも必
要ではない。この半導体ウェハ無塵搬送装置は、除塵フ
ィルタ１により除塵した清浄なダウンフローを防塵壁８
で囲み、このダウンフローを曝したままの半導体ウェハ
６に送風しつつ搬送するものであるため、半導体ウェハ
６を収納するキャリヤ５及びキャリア台７には上下を貫
く孔が多数開いており空気が滞留せず、汚染源となる微
粒子（図示せず）が半導体ウェハ６に付着することを防
止するとともに付着した微粒子を取り去る。防塵壁８
は、クリーンルーム内の微粒子がダウンフローに入り込
むことを防止する。
【００１１】図５は、本発明の半導体ウェハ無塵搬送装
置を用いる一例のクリーンルームの垂直方向の断面図で
ある。尚、図５に示す矢印は風の流れを示す。図５に示
すクリーンルームは、本発明の半導体ウェハ無塵搬送装
置が移動する作業通路１２、半導体ウェハ製造装置１１
を設置するプロセス領域１３、及び風を排出する排出領
域１７からなる。このクリーンルームは、作業通路フィ
ルタ１４およびプロセスフィルタ１５から風をクリーン
ルーム内に送り込み、この送り込んだ風を排出領域１７
から排出する。作業通路１２とプロセス領域１３の境界
には、従来のように垂れ壁１６を設けている。また、作
業通路フィルタ１４およびプロセスフィルタ１５は、そ
れぞれ別々にファン（図示せず）を備えている。
置を用いる一例のクリーンルームの垂直方向の断面図で
ある。尚、図５に示す矢印は風の流れを示す。図５に示
すクリーンルームは、本発明の半導体ウェハ無塵搬送装
置が移動する作業通路１２、半導体ウェハ製造装置１１
を設置するプロセス領域１３、及び風を排出する排出領
域１７からなる。このクリーンルームは、作業通路フィ
ルタ１４およびプロセスフィルタ１５から風をクリーン
ルーム内に送り込み、この送り込んだ風を排出領域１７
から排出する。作業通路１２とプロセス領域１３の境界
には、従来のように垂れ壁１６を設けている。また、作
業通路フィルタ１４およびプロセスフィルタ１５は、そ
れぞれ別々にファン（図示せず）を備えている。
【００１２】このクリーンルームは、位置によって風速
が異なり、プロセスフィルタ１５が風を送り込むプロセ
ス領域１３では風速０．３ｍ／ｓ、作業通路フィルタ１
４が風を送り込む作業通路１２では０．１５ｍ／ｓであ
る。このように、プロセス領域１３の風速が作業通路１
２の風速より速く、かつ従来のように垂れ壁１６を設け
ているため、作業通路１２の上方で発塵があってもプロ
セス領域１３には塵（図示せず）は入り込まない。
が異なり、プロセスフィルタ１５が風を送り込むプロセ
ス領域１３では風速０．３ｍ／ｓ、作業通路フィルタ１
４が風を送り込む作業通路１２では０．１５ｍ／ｓであ
る。このように、プロセス領域１３の風速が作業通路１
２の風速より速く、かつ従来のように垂れ壁１６を設け
ているため、作業通路１２の上方で発塵があってもプロ
セス領域１３には塵（図示せず）は入り込まない。
【００１３】現在、半導体製造に必要な清浄度は、０．
１μｍクラス１（０．１μｍ以上の粒径のゴミが１立方
フィート中に１個以下）である。この０．１μｍクラス
１を実現するためにはクリーンルームの作業通路フィル
タ１４およびプロセスフィルタ１５の吹出風速を、一般
に行われているように０．３〜０．３５ｍ／ｓにする必
要がある。
１μｍクラス１（０．１μｍ以上の粒径のゴミが１立方
フィート中に１個以下）である。この０．１μｍクラス
１を実現するためにはクリーンルームの作業通路フィル
タ１４およびプロセスフィルタ１５の吹出風速を、一般
に行われているように０．３〜０．３５ｍ／ｓにする必
要がある。
【００１４】本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置のダウ
ンフローの風速を、０．３〜０．３５ｍ／ｓにすると作
業通路１２での風速を半分の０．１５ｍ／ｓにしても、
半導体ウェハ６が汚染することなく搬送することができ
る。また本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置は、防塵壁
８を備えているものであるため、作業通路１２の上方で
発塵があっても半導体ウェハ６が汚染することはない。
ンフローの風速を、０．３〜０．３５ｍ／ｓにすると作
業通路１２での風速を半分の０．１５ｍ／ｓにしても、
半導体ウェハ６が汚染することなく搬送することができ
る。また本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置は、防塵壁
８を備えているものであるため、作業通路１２の上方で
発塵があっても半導体ウェハ６が汚染することはない。
【００１５】本実施例の半導体ウェハ無塵搬送装置に備
えたファンとフィルタの大きさを示す。６インチの半導
体ウェハ対応のキャリヤ台７は、この半導体ウェハの平
面（１６０ｍｍ×１７０ｍｍ）より広く図３に示すよう
にした。同じく６インチの半導体ウェハ対応の除塵フィ
ルタ１の面積も、この半導体ウェハの平面より広く ０．２×０．２２＝０．０４４ｍ2 ものにした。
えたファンとフィルタの大きさを示す。６インチの半導
体ウェハ対応のキャリヤ台７は、この半導体ウェハの平
面（１６０ｍｍ×１７０ｍｍ）より広く図３に示すよう
にした。同じく６インチの半導体ウェハ対応の除塵フィ
ルタ１の面積も、この半導体ウェハの平面より広く ０．２×０．２２＝０．０４４ｍ2 ものにした。
【００１６】ここに、除塵フィルタには、ＵＬＰＡフィ
ルタ（０．１μｍ以上の微粒子捕集効果９９．９９９５
％以上）を用いる。ダウンフローの吹出風速は、０．３
ｍ／ｓとすると、ダウンフローの風量は、 風量 ＝ フィルタ面積 × 吹出風速 ０．３ × ０．０４４ × ６０ ＝ ０．７９２ ［ｍ3 ／ｍｉｎ］ したがって、ファン２には、毎分あたり１ｍ3 の空気を
送風できるものを用いる。
ルタ（０．１μｍ以上の微粒子捕集効果９９．９９９５
％以上）を用いる。ダウンフローの吹出風速は、０．３
ｍ／ｓとすると、ダウンフローの風量は、 風量 ＝ フィルタ面積 × 吹出風速 ０．３ × ０．０４４ × ６０ ＝ ０．７９２ ［ｍ3 ／ｍｉｎ］ したがって、ファン２には、毎分あたり１ｍ3 の空気を
送風できるものを用いる。
【００１７】
【発明の効果】以上、説明したように本発明の半導体ウ
ェハ無塵搬送装置は、搬送しつつ半導体ウェハに下降空
気流を吹きかけ、この下降空気流が通過する孔をキャリ
ヤ底に有するものであるため、微粒子が滞留して半導体
ウェハを汚染することがないとともに蓋の開閉が必要な
く動作時間が短い。また本発明の半導体ウェハ無塵搬送
装置は、下降空気流を囲む防塵壁を備え、この防塵壁に
よりクリーンルーム内の微粒子が下降空気流に紛れ込む
ことがなくなり、クリーンルーム内が全体に亘って高清
浄度でなくとも半導体ウェハを曝したまま搬送できる。
これにより、クリーンルームの建設コスト及び運転コス
トが低減できる。
ェハ無塵搬送装置は、搬送しつつ半導体ウェハに下降空
気流を吹きかけ、この下降空気流が通過する孔をキャリ
ヤ底に有するものであるため、微粒子が滞留して半導体
ウェハを汚染することがないとともに蓋の開閉が必要な
く動作時間が短い。また本発明の半導体ウェハ無塵搬送
装置は、下降空気流を囲む防塵壁を備え、この防塵壁に
よりクリーンルーム内の微粒子が下降空気流に紛れ込む
ことがなくなり、クリーンルーム内が全体に亘って高清
浄度でなくとも半導体ウェハを曝したまま搬送できる。
これにより、クリーンルームの建設コスト及び運転コス
トが低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の半導体ウェハ無塵運搬装置
の側面図である。
の側面図である。
【図２】半導体ウェハを搭載した状態の図１に示す半導
体ウェハ無塵運搬装置の斜視図である。
体ウェハ無塵運搬装置の斜視図である。
【図３】図１，図２に示すキャリヤ台の平面図である。
【図４】図３に示すキャリヤ台の一部分の拡大図であ
る。
る。
【図５】本発明の半導体ウェハ無塵搬送装置を用いる一
例のクリーンルームの垂直方向の断面図である。
例のクリーンルームの垂直方向の断面図である。
１ 防塵フィルタ ２ ファン ３ 台車 ４ アーム ５ キャリヤ ６ 半導体ウェハ ７ キャリヤ台 ８ 防塵壁
Claims (1)
- 【請求項１】 半導体ウェハ無塵搬送装置において、 除塵フィルタを有し、下降空気流を発生するファンと、
該ファンが発生する前記下降空気流が通過する孔を底に
有し、半導体ウェハを前記下降空気流に曝しつつ収納す
るキャリヤと、前記下降空気流を囲む防塵壁とを備えた
ことを特徴とする半導体ウェハ無塵搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33724792A JPH06188301A (ja) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 半導体ウェハ無塵搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33724792A JPH06188301A (ja) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 半導体ウェハ無塵搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06188301A true JPH06188301A (ja) | 1994-07-08 |
Family
ID=18306828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33724792A Withdrawn JPH06188301A (ja) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 半導体ウェハ無塵搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06188301A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10289939A (ja) * | 1997-04-14 | 1998-10-27 | Shinko Electric Co Ltd | 無人搬送台車 |
| WO2011001637A1 (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-06 | ムラテックオートメーション株式会社 | 搬送台車 |
-
1992
- 1992-12-17 JP JP33724792A patent/JPH06188301A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10289939A (ja) * | 1997-04-14 | 1998-10-27 | Shinko Electric Co Ltd | 無人搬送台車 |
| WO2011001637A1 (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-06 | ムラテックオートメーション株式会社 | 搬送台車 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN107039322B (zh) | 微环境装置 | |
| US10930536B2 (en) | Workpiece stocker with circular configuration | |
| JP4354675B2 (ja) | 薄板状電子部品クリーン移載装置および薄板状電子製品製造システム | |
| JP2007180516A (ja) | 密閉容器の蓋開閉システム | |
| JP2004200669A (ja) | ミニエンバイロメント装置、薄板状物製造システム及び清浄容器の雰囲気置換方法 | |
| GB2126710A (en) | Storage case to prevent dust contamination | |
| JPH06188301A (ja) | 半導体ウェハ無塵搬送装置 | |
| JP4790326B2 (ja) | 処理システム及び処理方法 | |
| JPH06340304A (ja) | 筐体の収納棚及び筐体の搬送方法並びに洗浄装置 | |
| JPH11347937A (ja) | 研磨加工室の換気構造 | |
| JP2001284426A (ja) | ウェハの昇降装置 | |
| JP2001313325A (ja) | 物品容器開閉・転送装置 | |
| JPH024145A (ja) | クリーンブース | |
| JPH0745488A (ja) | 清浄雰囲気保持容器 | |
| JPH09153531A (ja) | クリーン度の高い検査装置 | |
| JP2001153420A (ja) | クリーンルーム用無人搬送車 | |
| JP4483012B2 (ja) | 局所浄化方法 | |
| JP2750304B2 (ja) | クリーンルーム | |
| JP2006332483A (ja) | 搬送装置及び搬送装置を使用する方法 | |
| KR100627016B1 (ko) | 반도체 제조를 위한 크린룸 | |
| JPH03156231A (ja) | 精密洗浄装置およびその換気方法 | |
| JPS61175426A (ja) | 清浄搬送装置 | |
| JPH04287341A (ja) | ウェーハのハンドリング装置 | |
| JPH04307954A (ja) | ウエハカセット搬送装置 | |
| JPH07922U (ja) | ウエハカセットストッカ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000307 |