JPH07922U - ウエハカセットストッカ - Google Patents

ウエハカセットストッカ

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Publication number
JPH07922U
JPH07922U JP3074293U JP3074293U JPH07922U JP H07922 U JPH07922 U JP H07922U JP 3074293 U JP3074293 U JP 3074293U JP 3074293 U JP3074293 U JP 3074293U JP H07922 U JPH07922 U JP H07922U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
wafer cassette
wafer
shelf
blowing device
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP3074293U
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English (en)
Inventor
守男 奥谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
JFE Steel Corp
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Publication date
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Publication of JPH07922U publication Critical patent/JPH07922U/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】ウエハの自然酸化や燐ガラスの水分吸収を防止
するウエハカセットストッカを提供する。 【構成】ウエハカセットストッカ10の上部にN2 ガス
吹出装置22を備え、このN2 ガス吹出装置22に、ウ
エハカセットストッカ10の高さ方向に1列に並んだ4
個のウエハカセットに対して1つのノズルを形成した。
ノズルから、棚12に向けて乾燥したN2 ガスが50リ
ットル/min.吹き出す。吹き出したN 2 ガスは矢印
Aで示される方向に流れ、ウエハカセット14の内部及
び周囲で下方向の流れを形成する。さらに、ウエハカセ
ットストッカ10の上部には、N2ガス吹出装置22を
挟んで2つのクリーンエア吹出装置24を備え、それぞ
れのクリーンエア吹出装置24から30m/sec.の
速度で吹き出たクリーンエアは矢印Bで示される方向に
流れる。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、ウエハカセットが載置される棚を備え、多数のウエハカセットを収 容するウエハカセットストッカに関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置が製造されるクリーンルームには、ウエハカセットを載置する棚が 設けられたウエハカセットストッカが備えられている。このウエハカセットスト ッカには、次工程の処理を待つ仕掛り品のウエハを収容したウエハカセットが載 置され、次工程の処理まで保管される。ウエハカセットストッカには、ウエハの パーティクル汚染を防止するために、常時クリーンエアが流されている開放タイ プと窒素が密封されている密閉タイプが知られている。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】
上記した開放タイプのウエハカセットストッカでは、ウエハカセットに収容さ れたウエハのパーティクル汚染がクリーンエアにより防止される。しかし、次工 程の処理装置の故障等が原因でウエハカセットストッカでの保管時間等が長くな ると、クリーンエアに含まれている酸素がウエハのシリコンと化合し自然酸化膜 が形成されるという問題がある。さらに、ウエハに燐ガラスが形成されていると 、この燐ガラスが空気中の水分を吸収するという問題もある。このため、ロット のスケージュル作成時には自然酸化膜の成長を押さえるための時間制限を考慮し なければならず、この時間制限がロットスケジュール作成を困難にしている。
【0004】 一方、窒素が密封された密閉タイプは、窒素を密封するため装置が大掛かりと なり占有面積が広くなるという問題がある。また、密封された内部がパーティク ルで汚染されると、ウエハもパーティクルで汚染されるという問題もある。 本考案は、上記事情に鑑み、ウエハの自然酸化や燐ガラスの水分吸収を防止す るウエハカセットストッカを提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本考案のウエハカセットストッカは、 (1)底壁にガスを通過させる開口が形成され複数のウエハを収容するウエハカ セットが載置される、ガスを通過させる開口が形成された棚 (2)棚に向けて前記棚の上方から乾燥した不活性ガスを吹き出し該不活性ガス の下方向の流れを形成する、前記棚の上方に設けられた不活性ガス吹出装置 (3)不活性ガスの下方向の流れと外部の空気との間にパーティクルが低減され たクリーンガスを吹き出す、前記棚の上方に設けられたクリーンガス吹出装置を 備えたことを特徴とするものである。
【0006】 ここで、不活性ガスとして、N2 ガス、Heガス、Arガス等を使用すること ができる。
【0007】
【作用】
本考案のウエハカセットストッカは、棚の上方に不活性ガス吹出装置とクリー ンガス吹出装置が設けられた簡易な構造である。不活性ガス吹出装置からは乾燥 した不活性ガスが吹き出され、ウエハカセットと棚の開口を通って、不活性ガス の下方向の流れがウエハカセットの内部及び周囲に形成される。また、クリーン ガス吹出装置からは、不活性ガスの下方向の流れと外部の空気との間にパーティ クルが低減されたクリーンガスが吹き出され、不活性ガスの流れは外部の空気か らシールドされる。このため、ウエハカセットストッカに長時間ウエハが置かれ ても、不活性ガスの流れには外部の空気が入り込まず、この不活性ガスの流れの 中に置かれたウエハに自然酸化膜が形成されることやウエハに形成された燐ガラ スが空気中の水分を吸収することが防止される。
【0008】
【実施例】
以下、図1及び図2を参照して本考案のウエハカセットストッカの一実施例を 説明する。 図1はウエハカセットストッカの概略を示す構成図、図2はN2 ガスとクリー ンエアの流れを示す説明図である。
【0009】 ウエハカセットストッカ10には、4段の棚12が備えられており、各棚12 には複数のウエハカセット14が載置され、各ウエハカセット14にはウエハ1 6が略平行に収容されている。棚12には、上方から吹き出されるN2 ガスが通 り抜けるように開口部12aが形成されている。ウエハカセット14の底部にも 開口部(図示せず)が形成されており、上方から吹き出されるN2 ガスが通り抜 けるように構成されている。ウエハカセットストッカ10の側部には側壁18が 設けられており、側壁18に沿って流れるN2 ガスはこの側壁18により外部空 気からシールドされている。ウエハカセットストッカ10の底部には、この底部 に到達したクリーンエアを側方に流す断面L字の板20が取り付けられている。 尚、ウエハカセット14はクレーン(図示せず)により棚12に載置され、また クレーンにより棚12から取り出されるように構成されている。
【0010】 ウエハカセットストッカ10の上部には長手方向にN2 ガス吹出装置22が備 えられている。このN2 ガス吹出装置22には、ウエハカセットストッカ10の 高さ方向に1列に並んだ4個のウエハカセットに対して1つのノズル(図示せず )が形成されており、このノズルから、棚12に向けて乾燥したN2 ガスが50 リットル/min.吹き出される。吹き出されたN2 ガスは矢印Aで示される方 向に流れ、ウエハカセット14の内部及び周囲で下方向の流れを形成する。さら に、ウエハカセットストッカ10の上部には、N2 ガス吹出装置22を挟んで2 つのクリーンエア吹出装置24が備えられており、それぞれのクリーンエア吹出 装置24からは30m/sec.の速度でクリーンエアが吹き出され、吹き出さ れたクリーンエアは矢印Bで示される方向に流れる。この結果、クリーンエアは 、N2 ガスの下方向の流れと外部の空気との間を流れ、N2 ガスの下方向の流れ は外部の空気からシールドされる。このため、N2 ガスの下方向の流れには外部 の空気が入り込まず、この下方向の流れの中に置かれたウエハ16に空気中のパ ーティクルが付着することや、ウエハ16に自然酸化膜が形成されることや、ウ エハ16に形成された燐ガラスが空気中の水分を吸収することが防止される。ま た、ウエハカセットストッカ10は、棚に向けてのみN2 ガスが流れるように構 成されているため、N2 ガスの使用量が少なく経済的である。
【0011】 ここで、N2 ガスの使用量の一例について説明する。 4段の棚12には、ウエハカセットストッカ10の高さ方向に1列に並んだ4 個のウエハカセット14が5列並んでいる。1個のウエハカセット14のサイズ を約20cm×15cm×15cmとすると、4個のウエハカセット14が占め る容積は約20リットルとなる。棚12の近傍のその他の空間の容積を約30リ ットルとすると、ウエハカセットストッカ10の高さ方向1列のウエハカセット 14が占める空間の容積は約50リットルとなる。N2 ガス吹出装置22の1つ のノズルからは、上述のように50リットル/min.でN2 ガスが吹き出され るるめ、5列では250リットル/min.のN2 ガスが消費される。この結果 、N2 ガスの使用量は、従来の密封タイプのウエハカセットストッカの約1/3 で済む。
【0012】 尚、クリーンエアの代わりにN2 ガスを吹き出させても良いが、N2 ガスの消 費量が増大する。
【0013】
【考案の効果】
以上説明したように本考案のウエハカセットストッカでは、棚に向けてのみ不 活性ガスを流し、しかもこの不活性ガスの下方向の流れをクリーンガスでシール ドしているため、ウエハカセットストッカに長時間ウエハが置かれても、不活性 ガスの下方向の流れには外部の空気が入り込まず、この不活性ガスの下方向の流 れの中に置かれたウエハに自然酸化膜が形成されることやウエハに形成された燐 ガラスが空気中の水分を吸収することが防止される。また、棚に向けてのみ不活 性ガスを流すようにしたため、不活性ガスの使用量が少なく経済的である。
【図面の簡単な説明】
【図1】ウエハカセットストッカの概略を示す構成図で
ある。
【図2】不活性ガスとクリーンエアの流れを示す説明図
である。
【符号の説明】
10 ウエハカセットストッカ 12 棚 14 ウエハカセット 16 ウエハ 22 N2 ガス吹出装置 24 クリーンエア吹出装置

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 底壁にガスを通過させる開口が形成され
    複数のウエハを収容するウエハカセットが載置される、
    ガスを通過させる開口が形成された棚と、 前記棚に向けて前記棚の上方から乾燥した不活性ガスを
    吹き出し該不活性ガスの下方向の流れを形成する、前記
    棚の上方に設けられた不活性ガス吹出装置と、 前記不活性ガスの下方向の流れと外部の空気との間にパ
    ーティクルが低減されたクリーンガスを吹き出す、前記
    棚の上方に設けられたクリーンガス吹出装置とを備えた
    ことを特徴とするウエハカセットストッカ。
JP3074293U 1993-06-08 1993-06-08 ウエハカセットストッカ Withdrawn JPH07922U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3074293U JPH07922U (ja) 1993-06-08 1993-06-08 ウエハカセットストッカ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3074293U JPH07922U (ja) 1993-06-08 1993-06-08 ウエハカセットストッカ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07922U true JPH07922U (ja) 1995-01-06

Family

ID=12312137

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3074293U Withdrawn JPH07922U (ja) 1993-06-08 1993-06-08 ウエハカセットストッカ

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JP (1) JPH07922U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007519595A (ja) * 2003-12-23 2007-07-19 ヴィースナー ゲーエムベーハー 腐食を低減するために冷却プロセス領域をコンディショニングする方法および装置

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Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19971106