JPH09153531A - クリーン度の高い検査装置 - Google Patents

クリーン度の高い検査装置

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Publication number
JPH09153531A
JPH09153531A JP33823195A JP33823195A JPH09153531A JP H09153531 A JPH09153531 A JP H09153531A JP 33823195 A JP33823195 A JP 33823195A JP 33823195 A JP33823195 A JP 33823195A JP H09153531 A JPH09153531 A JP H09153531A
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wafer chuck
particles
inspection
air
space
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JP33823195A
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English (en)
Inventor
Kaoru Fujiwara
馨 藤原
Motohiro Kuji
基弘 久慈
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Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の検査装置の場合には、装置本体内に空
気を送風してもウエハチャックとその上方でプローブカ
ードが固定されたヘッドプレートを含む天板との間の隙
間が狭く、この隙間に気流を十分に通すことができずウ
エハチャックに付着したパーティクルを除去できない。 【解決手段】 本検査装置は、半導体ウエハ1を収納す
る収納空間2と、この収納空間2の半導体ウエハ1を搬
送するピンセット3と、このピンセット3により搬送さ
れた半導体ウエハ1を載置するウエハチャック5と、こ
のウエハチャック5上の半導体ウエハ1と接触してその
電気的検査を行う接触子とを装置本体7内に備え、ウエ
ハチャック5に、その表面に向けて送風する送風手段5
1を設けたことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、クリーン度の高い
検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の検査装置は、通常、カセット単位
で搬入された半導体ウエハ等の被処理体を収納する収納
部と、この収納部の後方に隣接しカセット内の被処理体
を搬送するピンセットと、このピンセットにより搬送さ
れた被処理体を授受する載置台と、この載置台上の被処
理体にプローブ針等の接触子を接触させて電気的検査を
行うプローブカードとを備えて構成されている。そし
て、ピンセットにより被処理体をカセット内から取り出
してプリアライメントする。次いで、ピンセットにより
被処理体を載置台上へ引き渡し、更に載置台をX、Y、
及びθ方向へ移動させて被処理体を検査位置へアライメ
ントした後、載置台をZ方向をオーバードライブしてそ
の被処理体と接触子とを接触させ、テスタからの信号を
受信して所定の電気的検査を行っている。
【0003】従来から検査装置は上述のように成膜工程
やエッチング工程などの前工程で形成された集積回路の
電気的検査を行う場合に用いられるため、前工程のよう
にパーティクルが問題になることは少ない。しかし、パ
ーティクルが極力発生せず、パーティクルの少ない環境
で被処理体の検査をすることが望ましい。ところが、検
査装置本体内には搬送機構や載置台の駆動機構等が存在
するため、これらの駆動機構等から僅かではあるが塵埃
等のパーティクルを発生する。そのため、従来から検査
装置は排気ファン等を装備し、装置本体内の空気を排気
すると共に装置本体内での蓄熱を防止するようにしてい
る。
【0004】また、検査装置は一般には上述したように
集積回路が形成された被処理体について検査を行うもの
であるが、検査装置の中には特殊な使い方をするものが
ある。例えば、半導体製造工場を建設し、前工程を立ち
上げて本稼働する前などに、各工程の装置が本来の性能
通りに稼働するか否かを調べるために、前工程で処理さ
れた被処理体をサンプリングし、その被処理体について
検査を行う場合がある。このような場合には、検査後の
被処理体を元の工程へ戻し、引き続きその後の処理を行
うことがある。そのため、処理工程に戻された検査後の
被処理体にパーティクルが付着していることは好ましく
ない。このような場合にはパーティクルに対して特別の
対策が必要である。そこで、例えば装置本体内で空気の
下降流を作り、装置本体内のパーティクルが被処理体に
付着しないようにしたものがある。尚、パーティクルと
はゴミ、金属、有機物、人体から発生する塵埃等の浮遊
粒子の総称である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
検査装置の場合には、空気の下降流によりウエハチャッ
ク等のパーティクルを除去し、そのパーティクルを排気
するようにしてあるが、カセット、ピンセット及び載置
台等が装置本体内の面積の大部分を占め、これらが下降
流の抵抗体となって下降流の乱流を生じ、乱流によりパ
ーティクルが舞い上がってパーティクルを装置本体内か
ら効果的に排出、除去することができず、ひいてはパー
ティクルがウエハチャックに付着し、このパーティクル
が被処理体を汚染するとう課題があった。また、このよ
うに外部から装置本体内に空気を送風してもウエハチャ
ックとその上方でプローブカードが固定されたヘッドプ
レートを含む天板との間の隙間が狭く、この隙間に気流
を十分に通すことができずウエハチャックに付着したパ
ーティクルを除去できないという課題があった。
【0006】本発明は上記課題を解決するためになされ
たもので、装置本体内で塵埃等のパーティクルが発生し
たり装置本体内にパーティクルが侵入したりすることが
あっても、また、天板と載置台間の隙間が狭くてもパー
ティクルがウエハチャック、サブチャック等の載置台に
付着することがないクリーン度の高い検査装置を提供す
ることを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、検査装置
内での塵埃等のパーティクルの原因及びその挙動につい
て種々検討した結果、ウエハチャック等の載置台に特定
の防塵対策を講じることにより載置台に対するパーティ
クルの付着を防止できることを知見した。
【0008】本発明は上記知見に基づいてなされたもの
で、請求項1に記載の検査装置は、被処理体を収納する
収納部と、この収納部の被処理体を搬送する搬送機構
と、この搬送機構により搬送された被処理体を載置する
載置台と、この載置台上の被処理体と接触してその電気
的検査を行う接触子とを装置本体内に備えた検査装置に
おいて、上記載置台に、その表面に向けて送風する送風
手段を設けたことを特徴とするものである。
【0009】また、本発明の請求項2に記載の検査装置
は、被処理体を収納する収納部と、この収納部の被処理
体を搬送する搬送機構と、この搬送機構により搬送され
た被処理体を載置する載置台と、この載置台上の被処理
体と接触してその電気的検査を行う接触子とを装置本体
内に備えた検査装置において、上記装置本体内の空間を
その一側面からその対向側面に向かって流れる水平空気
流を作る送風手段を上記一側面に設けると共に少なくと
も上記対向側面に上記水平空気流を排出する排気手段を
設け、更に、上記載置台に沿って流れる上記水平気流を
整流する整流部材を上記載置台に設けたことを特徴とす
るものである。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図1〜図11に示す実施例
に基づいて本発明を説明する。本実施形態の検査装置
は、図1に示すように、被処理体として例えば25枚の
半導体ウエハ1が収容されたカセットKを載置、収納す
る収納空間2と、この収納空間2の後方に配置され且つ
半導体ウエハを搬送機構例えば上下2段のピンセット3
により搬送する搬送空間4と、この搬送空間4内のピン
セット3を介して半導体ウエハ1をウエハチャック5に
おいて授受し且つウエハチャック5上の半導体ウエハ1
にプローブ等の接触子(図示せず)を接触させて電気的
検査を行う検査空間6とを備え、クリーンルーム内に設
置されている。そして、各空間2、4、6により装置本
体7内の空間が形成されている。収納空間2と搬送空間
4は透明アクリル板等からのプラスチック製の仕切板8
により検査空間6から仕切られている。そして、ピンセ
ット3、ウエハチャック5等の駆動機構は図示しない制
御装置の制御下で駆動するようにしてある。
【0011】上記収納空間2内にはインデクサ(図示せ
ず)が昇降可能に配設され、このインデクサが制御装置
の制御下で所定量昇降した位置でピンセット3によりカ
セットK内の半導体ウエハ1を出し入れし、ウエハチャ
ック5との間で半導体ウエハ1を搬送するようにしてあ
る。また、収納空間2の天板には矩形状の開口部2Aが
形成され、この開口部2Aの正面(図1の手前)側の1
辺を除く3辺にパーティション9が空気導入部材として
立設され、このパーティション9及び開口部2Aを介し
て空気の下降流(図1の矢印A)が収納空間2内へ導入
されるようになっている。また、上昇端にあるインデク
サにカセットKを載置すると、パーティション9がカセ
ットKの正面以外の三面を囲むようにしてある。
【0012】上記搬送空間4内のピンセット3は進退動
可能で且つθ方向で回転可能に構成され、カセットK内
の半導体ウエハ1を出し入れすると共に、隣接する検査
空間6内のウエハチャック5との間で半導体ウエハ1を
搬送し、ウエハチャック5との間で半導体ウエハ1を授
受するようにしてある。また、図示してないが、搬送空
間4内にはサブチャックが配設され、ピンセット3によ
り取り出した半導体ウエハ1をサブチャック上に載置
し、ここで検査空間6内へ搬送する直前に半導体ウエハ
1をプリアライメントするようにしてある。
【0013】上記ウエハチャック5は昇降可能で且つθ
方向で回転可能に構成され、図1に示すようにXテーブ
ル10上に配設されている。Xテーブル10はX方向で
往復移動可能にYテーブル11上に配設され、Yテーブ
ル11はY方向で往復移動可能に基台12上に配設され
ている。また、検査空間6内にはアライメント機構を構
成するアライメントブリッジ13がウエハチャック5の
上方を左右に横断すると共に前後方向で往復移動可能に
配設され、ウエハチャック5上に半導体ウエハ1が載置
された時にアライメントブリッジ13がウエハチャック
5の上方へ進出し、ウエハチャック5がX、Y及びθ方
向で移動する間に図示しないCCDカメラ等を用いて半
導体ウエハ1を所定の検査位置に位置合わせするように
してある。
【0014】ところで、上記装置本体7の正面には図1
に示すように第1、第2ファンフィルターユニット(以
下、「FFU」と称す。)14、15が配設され、これ
らのFFU14、15により装置本体7内の空間で正面
側から背面側への水平流を作るようにしてある。尚、第
1、第2FFU14、15は同一の構成部材によって構
成されている。また、装置本体7の背面及び右側面には
装置本体7内の水平流(図1の矢印B、矢印C)を装置
本体7外へ排出する排気手段としての排気ダクト16が
第1、第2FFU14、15の高さに略一致させて配設
されている。この排気手段は図示しない排気ファンを有
し、排気ファンにより排気ダクト16を介して装置本体
7内の水平気流を排出するようにしてある。
【0015】第1FFU14は、例えば図2に示すよう
に、下方から上方に向けて空気を送風するブロワー14
Aと、収納空間2の正面に配設されたフィルター例えば
ULPAフィルター14Bと、これらを収納するケーシ
ング14Cとを備え、ブロワー14Aから送風された空
気をULPAフィルター14Bによって除塵し、除塵後
の空気を同図の矢印で示すように収納空間2の前方から
搬送空間4の後方へ水平に流す、いわゆる空気のサイド
フローを作るように構成されている。また、第2FFU
15は検査空間6を正面側から背面側へ向かう空気のサ
イドフローを作るようにしてある。第1、第2FFU1
4、15による気流の流速は制御装置によってパーティ
クルの除去に適した流速例えば0.3〜0.5m/秒にそ
れぞれ制御されている。尚、図示してないが、収納空間
2正面の壁面には除塵後の空気が流入する開口部が形成
されている。また、図2では内部の構成機器は省略し、
気流のみを図示してある。
【0016】また、上記排気ダクト16は、収納空間2
の右側面から搬送空間4及び検査空間6の背面全体に渡
るように略L字状に形成されている。そして、排気ダク
ト16と装置本体7との境界面は例えばパンチングプレ
ート16Aにより形成され、パンチングプレート16A
を介して水平気流を図1の矢印D、E、Fで示すように
排出するようにしてある。即ち、収納空間2内へ送風さ
れた除塵後の空気はカセットKを通りパーティション9
から流入した空気を随伴し、搬送空間4の右側面のパン
チングプレート(図示せず)から排気ダクト16を経由
して外部へ排出されるようにしてある。この排気流は検
査空間6からパンチングプレート16Aを通過して排気
ダクト16を流れる排気流と合流し、装置本体7外へ矢
印Fで示すように排出されるようになっている。尚、排
気ダクト16は他の排気ダクトに連結されてクリーンル
ーム外へ排出するようにしても良く、必要に応じて第1
FFU14により空気の除塵を行った後装置本体7内へ
戻し循環利用するようにしても良い。
【0017】更に、上記ウエハチャック5には図1、図
3及び図4の(a)、(b)に示すようにウエハチャッ
ク5の表面に向けて送風する送風手段51が付設され、
この送風手段51によりパーティクルがウエハチャック
5に載置された半導体ウエハ1に付着するのを防止する
ようにしてある。この送風手段51は、例えば両端が閉
じた細長形状の筒体51Aと、この筒体51Aをウエハ
チャック5の周面に固定する固定脚51Bと、上記筒体
51Aの一端に接続された空気配管51Cと、図示しな
い空気供給源とを有している。そして、図4の(a)、
(b)で拡大して示すように筒体51Aにはスリット5
1Dが長手方向に形成され、更にこのスリット51Dに
例えばULPAフィルター(Ultra Low Penetoration A
ir-filter)51Eが被覆されている。スリット51D
は、図3の(a)に示すように、筒体51Aの下端より
ウエハチャック5寄りに形成され、図3の(a)で示す
ように除塵後の空気をウエハチャック5の表面に向けて
斜め下方に吹き付け、ウエハチャック5の全表面に沿っ
て流れてパーティクルを吹き飛ばすようにしてある。
尚、この筒体51Aはウエハチャック5より直径が多少
大きなリング状に形成したものであっても良い。また、
スリット51Dの代わりに長手方向に沿って複数の噴出
孔を設けても良い。また、筒体51A等はULPAフィ
ルター51Eにより全体が被覆されたものであっても良
い。
【0018】また、図5に示すようにピンセット3の背
面側にはボード17からピンセット3を隔離する隔離板
18が配設され、この隔離板18によって搬送空間4内
の気流をその右側面の排気ダクト16へ排出し、ボード
17の発熱に伴う熱対流を隔離すると共にボード17か
ら半導体ウエハ1へパーティクルが付着しないようにし
てある。
【0019】また、収納空間2及び搬送空間4と検査空
間6を仕切る仕切板8には、図6に示すように、ピンセ
ット3が半導体ウエハ1をウエハチャック5へ引き渡す
ための、あるいはウエハチャック5上の半導体ウエハ1
を受け取るための開口部8Aが形成されている。この開
口部8Aには例えば下側でヒンジ結合された片開きの扉
8Bが同図の矢印で示すように開閉可能に取り付けら
れ、ピンセット3がウエハチャック5との間で半導体ウ
エハ1を授受する時にのみ扉8Bが制御装置の制御下で
エアシリンダ等の駆動機構により開放するようにしてあ
る。従って、ピンセット3とウエハチャック5との間で
半導体ウエハ1を授受しない時には、扉8Bが閉じて収
納空間2及び搬送空間4と検査空間6とを区画し、仕切
8の両側の空間の気流を個別に制御できるようにしてあ
る。
【0020】上記検査空間6の底面19の開口部には図
7に示すように薄型(例えば35mm)のHEPAフィ
ルター(High Efficiency Particulate Air-filter)20
が取り付けられ、このHEPAフィルター20によりウ
エハチャック5等の抵抗体で乱れた下降流を除塵した後
外部(クリーンルーム)へ排出するようにしてある。
【0021】また、検査空間6の4箇所のコーナー部に
は図8に示すように丸み21が付けてあり、これらの丸
み21によりサイドフローが検査空間6の内側面に従っ
て円滑に流れ、コーナー部でのパーティクルの溜まりを
防止するようにしてある。尚、図示してないが、このよ
うな丸み20は収納空間2及び搬送空間4のコーナー部
にも設けられている。
【0022】更に、図9に示すように検査空間6内のア
ライメントブリッジ12のガイドレールのような摺動部
12Aにカバー12Bが設けられ、このカバー12Bに
より摺動部12Aで発生するパーティクルが飛散するの
を防止するようにしてある。その他の摺動部にも同様に
対策を講じることができる。また、ウエハチャック5の
制御用ケーブルが受けるケーブルベア等の摺動部には発
塵し難い四フッ化樹脂等からなるテープを張り付けて発
塵を防止するようにしても良い。
【0023】次に動作について説明する。まず、例えば
オペレータがカセットKを収納空間2のインデクサ上に
載置する。その後、第1、第2FFU14、15のブロ
ワー14A等を駆動すると、ブロワー14Aからクリー
ンルームの空気がハウジング14C内に吸引される。こ
の空気はULPAフィルター14B等により除塵された
後、収納空間2及び検査空間6の開口部からそれぞれの
空間内へ送風される。収納空間2内ではインデクサが昇
降して所定の位置で停止した後、ピンセット3が駆動し
て所定の半導体ウエハ1をカセットKから取り出す。
【0024】この時、第1FFU14により収納空間2
内では正面から背面に向かう空気のサイドフローが形成
されている。このサイドフローは収納空間2内のカセッ
トKを前後方向に横切ると共にパーティション9から導
入されたクリーンルームの空気を随伴して搬送空間4内
のピンセット3を前後方向に横切り、ピンセット3の背
面側の隔離板18に衝突する。この時、搬送空間4の左
側には仕切板8があるためサイドフローは右側面に向き
を変えてパンチングプレート16Aから排気ダクト16
へ流出する。
【0025】また、ピンセット3等の駆動機構において
パーティクルが発生しても、このようなパーティクルは
サイドフローにより半導体ウエハ1の下流側へ流れ、し
かも、収納空間2及び搬送空間4のコーナー部には丸み
が付けてあるため、コーナー部では丸みに沿って流れ、
パーティクルが搬送空間4内に滞留することなく円滑に
排気ダクト16へ排出される。
【0026】このように収納空間2及び搬送空間4内で
は空気流がサイドフローになっているため、カセットK
やピンセット3によるサイドフローの乱れが抑制され、
パーティクルを円滑に排気ダクト16へ排出することが
できる。また、オペレータに起因する塵埃等のパーティ
クルが開口部2Aから侵入し、あるいはピンセット3の
駆動等によりパーティクルが発生しても、これらのパー
ティクルは空気のサイドフローに随伴して半導体ウエハ
1に付着する間もなく排気ダクト16へ排出され、収納
空間2及び搬送空間4内におけるパーティクルの滞留を
防止することができる。このような状態でピンセット3
がカセットKから検査空間6へ搬送すると、仕切板8の
扉8Bが開いて開口部8Aを開放する。
【0027】一方、検査空間6ではウエハチャック5が
半導体ウエハ1を受け取る位置で既に待機している。従
って、ピンセット3がθ方向に90°回転してカセット
Kから検査空間6へ向きを変え、仕切板8の開口部8A
から検査空間6へ進出すると、半導体ウエハ1がウエハ
チャック5の真上に来る。ウエハチャック5の昇降ピン
(図示せず)が上昇し、ウエハチャック5により半導体
ウエハ1をピンセット3から受け取る。
【0028】この間、検査空間6ではウエハチャック5
に送風手段51により除塵後の空気がウエハチャック5
の上面、あるいは半導体ウエハ1の表面に吹き付けられ
ている。この時第2FFU15により検査空間6内では
正面から背面に向かう空気のサイドフローが形成されて
おり、このサイドフローは半導体ウエハ1を移載する時
のピンセット3及びウエハチャック5を横切り、送風手
段51からの空気流と合流してパンチングプレート16
Aから排気ダクト16へ流出する。また、検査空間6の
コーナー部には丸み21が設けてあるため、サイドフロ
ーはコーナー部では丸み21に沿って流れ、流れが滞留
することなく円滑に排気ダクト16へ流れる。
【0029】このように検査空間6内では送風手段51
からウエハチャック5の上面に除塵後の空気を吹き付け
ているため、送風手段51による空気流によりウエハチ
ャック5に付着した、あるいは付着しようとするパーテ
ィクルを吹き飛ばし、ウエハチャック5へのパーティク
ルの付着を防止する。また、検査空間6内では空気のサ
イドフローが形成されているため、ウエハチャック5や
ピンセット3による抵抗が比較的小さく、検査空間6内
でのサイドフローの乱れが抑制され、パーティクルは送
風手段51により吹き飛ばされたパーティクルと共に排
気ダクト16へ円滑に排出される。また、ウエハチャッ
ク5の駆動等により塵埃などのパーティクルが発生して
も、このようなパーティクルは送風手段51からの空気
流とサイドフローによりウエハチャック5の下流側へ流
れ、しかも、コーナー部ではパーティクルは丸み21に
沿って流れ、検査空間6内に滞留することなくサイドフ
ローに随伴して排気ダクト16へ排出される。更に、ウ
エハチャック5、X、Yテーブル10、11による抵抗
でサイドフローが乱れても、その一部は底面18のHE
PAフィルター19から外部へ流出するため、乱流の影
響が軽減される。
【0030】また、ウエハチャック5で半導体ウエハ1
を受け取ると、アライメントブリッジ12が駆動してウ
エハチャック5上の半導体ウエハ1を所定の検査位置に
位置合わせする。この時、ガイドレールのような摺動部
12Aでパーティクルが発生しても、カバー12Bによ
りパーティクルの拡散を防止し、カバー12Bに沿って
流れるサイドフローによりパーティクルを排気ダクト1
6へ排出する。
【0031】以上説明したように本実施形態によれば、
ウエハチャック5に、その表面に向けて送風する送風手
段51を設けたため、装置本体7内で塵埃等のパーティ
クルが発生したり装置本体7内にパーティクルが侵入し
たりすることがあっても、また、ヘッドプレートとウエ
ハチャック5間の隙間が狭くても、送風手段51によっ
て隙間に気流を作ることができ、この気流によりパーテ
ィクルをウエハチャック5から吹き飛ばして除去するこ
とができ、パーティクルがウエハチャック5に付着する
ことがない。従って、検査後の半導体ウエハ1へのパー
ティクルの付着を防止することができ、半導体製造の前
工程の各種装置の性能評価にも有効に利用することがで
きる。
【0032】また、本発明の他の実施形態では、上記送
風手段51に代えてウエハチャック5の周囲に図10に
示すように肉厚の断面形状が外周から内周に向かって漸
増するリング状の整流部材22を装着することができ
る。この整流部材22により検査空間6内のサイドフロ
ーの層流状態を極力乱すことなくサイドフローをウエハ
チャック5の表面側に導入し、ウエハチャック5とヘッ
ドプレート間に気流を作って下流側へ円滑に流し、ウエ
ハチャック5上面でのパーティクルの付着を防止すると
共に、検査空間6内でのパーティクルの散乱を抑制する
ことができる。従って、本実施形態においても上記実施
形態に準じた作用効果を期することができる。
【0033】また、上記各実施形態の検査装置は図11
に示すように除塵室(以下、「クリーンブース」と称
す。)30内に配置したクローズドシステムを構成する
ことにより装置本体7内のクリーン度をより効果的に高
めることができる。即ち、このクリーンブース30は、
同図に示すように、装置本体7を囲む枠体31と、この
枠体31の周囲に取り付けられた透明アクリル板等から
なる側板32と、天面33に配列された複数のFFU3
4と、これらのFFU34へ送風するブロワー35とを
備え、例えば清浄度クラス10のクリーン度を保持する
ようにて構成されている。また、検査装置の排気ダクト
16はブロワー35の吸引ダクトに連結され、装置本体
7内から排気された空気を循環使用するようにしてあ
る。
【0034】また、図示してないが、装置本体7の正面
側の側板32には開閉扉が設けられており、半導体ウエ
ハ1を装置本体7に対して出し入れする時には開閉扉を
開放し、この部分でカセットKの搬入搬出を行えるよう
にしてある。また、クリーンブース30内の圧力はクリ
ーンルームの圧力より多少高く、例えば0.2〜0.3m
mH2Oだけ高い陽圧に設定できるようにしてある。
【0035】従って、本実施形態の場合には、クリーン
ブース30のブロワー35を駆動すると共に検査装置の
第1、第2FFU14、15のブロワーを駆動すると、
クリーンブース30内ではFFU34による除塵後の空
気が天面33から下向きに流れてダウンフローを作る。
この時クリーンブース30内の空気はFFU34により
清浄度クラス10のクリーン度に調整している。そし
て、クリーンブース30内はクリーンルームより陽圧に
なっているため、クリーンルームからの空気の流入を防
止することができ、内部のクリーン度をクリーンルーム
のクリーン度に左右されることなく清浄度クラス10に
保持することができる。
【0036】尚、本発明は上記実施形態に何等制限され
るものではなく、送風手段及び整流部材は必要に応じて
適宜設計変更することができる。
【0037】
【発明の効果】本発明の請求項1及び請求項2に記載の
発明によれば、装置本体内で塵埃等のパーティクルが発
生したり装置本体内にパーティクルが侵入したりするこ
とがあっても、また、天板と載置台間の隙間が狭くても
パーティクルがウエハチャック、サブチャック等の載置
台に付着することがないクリーン度の高い検査装置を提
供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の検査装置の一実施形態を示す斜視図で
ある。
【図2】図1に示す検査装置の気流を説明するための断
面図である。
【図3】本発明の検査装置のウエハチャックを取り出し
て示す斜視図である。
【図4】(a)は図3に示すウエハチャックの要部断面
図、(b)はその正面図である。
【図5】図1に示す検査装置の搬送空間を示す部分斜視
図である。
【図6】図1に示す検査装置の収納空間及び搬送空間と
検査空間との仕切板を示す斜視図である。
【図7】図1に示す検査装置の検査空間の底面を取り出
して示す斜視図である。
【図8】本発明の検査装置に好適に適用できるアライメ
ント機構を示す正面図である。
【図9】図1に示す検査装置の検査空間の概略を示す上
方からの平面図である。
【図10】本発明の検査装置のウエハチャックの他の一
例を示す部分断面図である。
【図11】本発明の検査装置の他の実施形態を示す斜視
図である。
【符号の説明】
1 半導体ウエハ 3 ピンセット(搬送機構) 5 ウエハチャック(載置台) 7 装置本体 14 第1送風手段 15 第2送風手段 16 排気ダクト(排気手段)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/68 H01L 21/68 A

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被処理体を収納する収納部と、この収納
    部の被処理体を搬送する搬送機構と、この搬送機構によ
    り搬送された被処理体を載置する載置台と、この載置台
    上の被処理体と接触してその電気的検査を行う接触子と
    を装置本体内に備えた検査装置において、上記載置台
    に、その表面に向けて送風する送風手段を設けたことを
    特徴とする検査装置。
  2. 【請求項2】 被処理体を収納する収納部と、この収納
    部の被処理体を搬送する搬送機構と、この搬送機構によ
    り搬送された被処理体を載置する載置台と、この載置台
    上の被処理体と接触してその電気的検査を行う接触子と
    を装置本体内に備えた検査装置において、上記装置本体
    内の空間をその一側面からその対向側面に向かって流れ
    る水平空気流を作る送風手段を上記一側面に設けると共
    に少なくとも上記対向側面に上記水平空気流を排出する
    排気手段を設け、更に、上記載置台に沿って流れる上記
    水平気流を整流する整流部材を上記載置台に設けたこと
    を特徴とする検査装置。
JP33823195A 1995-11-30 1995-11-30 クリーン度の高い検査装置 Pending JPH09153531A (ja)

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US08/754,767 US5910727A (en) 1995-11-30 1996-11-20 Electrical inspecting apparatus with ventilation system

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