JPH06186551A - 液晶表示素子 - Google Patents
液晶表示素子Info
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- JPH06186551A JPH06186551A JP33691692A JP33691692A JPH06186551A JP H06186551 A JPH06186551 A JP H06186551A JP 33691692 A JP33691692 A JP 33691692A JP 33691692 A JP33691692 A JP 33691692A JP H06186551 A JPH06186551 A JP H06186551A
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- Japan
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- silicone
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 液晶セルを構成する透明電極付き基板と液晶
配向膜の間に、シリコーン変性ポリイミド膜を有する液
晶表示素子。 【効果】 液晶表示素子製造工程中の絶縁膜形成工程に
おいて良好な被膜を容易に形成することができ、表示品
位が高く、信頼性にも優れる液晶表示素子を得ることが
できる。
配向膜の間に、シリコーン変性ポリイミド膜を有する液
晶表示素子。 【効果】 液晶表示素子製造工程中の絶縁膜形成工程に
おいて良好な被膜を容易に形成することができ、表示品
位が高く、信頼性にも優れる液晶表示素子を得ることが
できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示素子に関するも
のであり、さらに詳しくは、液晶表示素子製造工程中の
絶縁膜形成工程において良好な被膜を容易に形成するこ
とができ、表示品位が高く、信頼性にも優れる液晶表示
素子に関するものである。
のであり、さらに詳しくは、液晶表示素子製造工程中の
絶縁膜形成工程において良好な被膜を容易に形成するこ
とができ、表示品位が高く、信頼性にも優れる液晶表示
素子に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶表示素子において液晶が注入
されているセルを構成する材料は、上下の透明電極付き
基板、その上に形成される液晶配向膜、周囲を囲むシー
ル材と封口材、およびセルギャップをとるスペーサーで
あった。近年、信頼性の向上と、表示品位の向上、特に
面内の表示の均一性を向上させる目的で、透明電極付き
基板と液晶配向膜の間に平坦化膜や絶縁膜といわれる被
膜を形成することが行われつつある。しかし、これらの
被膜はシリカ等の無機材料であるため製膜時に350〜400
℃の高温の工程が必要である。このため、コストが高く
なり、さらに、基板がプラスティックフィルムである場
合にはこれらの被膜を形成できず、ガラス基板の液晶表
示素子と比較して表示品位に劣るものしか製造できない
という問題がある。
されているセルを構成する材料は、上下の透明電極付き
基板、その上に形成される液晶配向膜、周囲を囲むシー
ル材と封口材、およびセルギャップをとるスペーサーで
あった。近年、信頼性の向上と、表示品位の向上、特に
面内の表示の均一性を向上させる目的で、透明電極付き
基板と液晶配向膜の間に平坦化膜や絶縁膜といわれる被
膜を形成することが行われつつある。しかし、これらの
被膜はシリカ等の無機材料であるため製膜時に350〜400
℃の高温の工程が必要である。このため、コストが高く
なり、さらに、基板がプラスティックフィルムである場
合にはこれらの被膜を形成できず、ガラス基板の液晶表
示素子と比較して表示品位に劣るものしか製造できない
という問題がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な液晶表示素子の問題点を解決し、液晶表示素子製造工
程中の絶縁膜形成工程において良好な被膜を容易に形成
することができ、表示品位が高く、信頼性にも優れる液
晶表示素子を提供するものである。
な液晶表示素子の問題点を解決し、液晶表示素子製造工
程中の絶縁膜形成工程において良好な被膜を容易に形成
することができ、表示品位が高く、信頼性にも優れる液
晶表示素子を提供するものである。
【０００４】
【作用】本発明中の透明電極付き基板と配向膜の間のシ
リコーン変性ポリイミド膜は、従来の絶縁膜および平坦
化膜の役割をはたすものであり、さらに、120〜200℃で
製膜することが可能である。このため、従来のガラス基
板液晶の工程を低コスト化することが可能であるととも
に、基板がプラスティックフィルムである場合にも製膜
する事が可能である。
リコーン変性ポリイミド膜は、従来の絶縁膜および平坦
化膜の役割をはたすものであり、さらに、120〜200℃で
製膜することが可能である。このため、従来のガラス基
板液晶の工程を低コスト化することが可能であるととも
に、基板がプラスティックフィルムである場合にも製膜
する事が可能である。
【０００５】本発明中のシリコーン変性ポリイミド膜
は、シリコーン変性ポリイミド前駆体溶液または可溶性
シリコーン変性ポリイミドの溶液を印刷、スピンコート
などにより塗布し、120〜200℃、より好ましくは150〜2
00℃で製膜することにより得ることができる。120℃未
満の温度では、溶剤を完全に除去する事が難しいので好
ましくない。
は、シリコーン変性ポリイミド前駆体溶液または可溶性
シリコーン変性ポリイミドの溶液を印刷、スピンコート
などにより塗布し、120〜200℃、より好ましくは150〜2
00℃で製膜することにより得ることができる。120℃未
満の温度では、溶剤を完全に除去する事が難しいので好
ましくない。
【０００６】本発明に用いるシリコーン変性ポリイミド
前駆体溶液または可溶性シリコーン変性ポリイミド溶液
は、シリコーンを構造中に持つジアミンと芳香族または
脂肪族の酸二無水物と芳香族または脂肪族のジアミンを
極性溶媒中で反応させることにより得ることができる。
前駆体溶液または可溶性シリコーン変性ポリイミド溶液
は、シリコーンを構造中に持つジアミンと芳香族または
脂肪族の酸二無水物と芳香族または脂肪族のジアミンを
極性溶媒中で反応させることにより得ることができる。
【０００７】シリコーンを構造中に持つジアミンの好ま
しいものの例としては、1,3-ビス(アミノプロピル)テト
ラメチルジシロキサン、式（１）に示すジアミノシリコ
ーン化合物等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。
しいものの例としては、1,3-ビス(アミノプロピル)テト
ラメチルジシロキサン、式（１）に示すジアミノシリコ
ーン化合物等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。
【化１】
【０００８】芳香族または脂肪族の酸二無水物として好
ましいものの例を挙げると、3,3',4,4'-ビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物、3,3'-オキシジフタル酸二無水
物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン二無水物、3,3',4,4'-ジフェニルスルホンテ
トラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロブタンテトラ
カルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカ
ルボン酸二無水物、5-(2,5-ジオキソテトラヒドロ-3-フ
ラニル)-3-メチル-3-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸
無水物、ビシクロ[2,2,2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テト
ラカルボン酸二無水等であるが、これらに限定されるも
のではない。
ましいものの例を挙げると、3,3',4,4'-ビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物、3,3'-オキシジフタル酸二無水
物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン二無水物、3,3',4,4'-ジフェニルスルホンテ
トラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロブタンテトラ
カルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカ
ルボン酸二無水物、5-(2,5-ジオキソテトラヒドロ-3-フ
ラニル)-3-メチル-3-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸
無水物、ビシクロ[2,2,2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テト
ラカルボン酸二無水等であるが、これらに限定されるも
のではない。
【０００９】芳香族または脂肪族のジアミンとして好ま
しいものの例を挙げると、p-フェニレンジアミン、m-フ
ェニレンジアミン、2,5-ジアミノ-p-キシレン、3,3'-ジ
メチルベンジジン、2,2-ビス(トリフルオロメチル)ベン
ジジン、4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、3,4'-ジア
ミノジフェニルエーテル、4,4'-ジアミノジフェニルメ
タン、4,4'-ジアミノジフェニルスルホン、2,2-ビス[4,
4'-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス
[4,4'-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロ
プロパン、1,4-ジアミノシクロヘキサン、1,3-ビス(ア
ミノメチル)シクロヘキサン、4,4'-ジアミノジシクロヘ
キシルメタン等であるが、これらに限定されるものでは
ない。
しいものの例を挙げると、p-フェニレンジアミン、m-フ
ェニレンジアミン、2,5-ジアミノ-p-キシレン、3,3'-ジ
メチルベンジジン、2,2-ビス(トリフルオロメチル)ベン
ジジン、4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、3,4'-ジア
ミノジフェニルエーテル、4,4'-ジアミノジフェニルメ
タン、4,4'-ジアミノジフェニルスルホン、2,2-ビス[4,
4'-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス
[4,4'-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロ
プロパン、1,4-ジアミノシクロヘキサン、1,3-ビス(ア
ミノメチル)シクロヘキサン、4,4'-ジアミノジシクロヘ
キシルメタン等であるが、これらに限定されるものでは
ない。
【００１０】極性溶媒として好ましいものの例を挙げる
と、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、m-クレゾール、γ-ブチロラク
トン等であるが、これらに限定されるものではない。
と、N-メチル-2-ピロリドン、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、m-クレゾール、γ-ブチロラク
トン等であるが、これらに限定されるものではない。
【００１１】本発明のシリコーン変性ポリイミド膜は、
前述したように基板がプラスティックである場合に、よ
り効果的である。本発明中の基板となるプラスティック
フィルムとして好ましいものの例を挙げると、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリアリ
レート等であるが、これらに限定されるものではない。
前述したように基板がプラスティックである場合に、よ
り効果的である。本発明中の基板となるプラスティック
フィルムとして好ましいものの例を挙げると、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリアリ
レート等であるが、これらに限定されるものではない。
【００１２】
【実施例】以下、実施例により詳細を説明するが、本発
明はこれらの実施例によって何等限定されるものではな
い。
明はこれらの実施例によって何等限定されるものではな
い。
【００１３】（実施例１）温度計，撹拌機，原料投入
口，乾燥窒素ガス導入管を備えた四ツ口セパラブルフラ
スコ中、ピロメリット酸二無水物17.45g(0.08モル)をN-
メチル-2-ピロリドン200gに分散させる。この系に、原
料投入口から式（１）に示すジアミノシリコーン化合物
10.90g(0.02モル)を滴下し、滴下後１時間系の温度を20
℃に保ちながら反応させた。続いて、2,2-ビス(4-(4-ア
ミノフェノキシ)フェニル)プロパン24.63g(0.06モル)を
一気に投入し、20℃に保ちながら５時間撹拌を続けてシ
リコーン変性ポリアミド酸溶液を得た。
口，乾燥窒素ガス導入管を備えた四ツ口セパラブルフラ
スコ中、ピロメリット酸二無水物17.45g(0.08モル)をN-
メチル-2-ピロリドン200gに分散させる。この系に、原
料投入口から式（１）に示すジアミノシリコーン化合物
10.90g(0.02モル)を滴下し、滴下後１時間系の温度を20
℃に保ちながら反応させた。続いて、2,2-ビス(4-(4-ア
ミノフェノキシ)フェニル)プロパン24.63g(0.06モル)を
一気に投入し、20℃に保ちながら５時間撹拌を続けてシ
リコーン変性ポリアミド酸溶液を得た。
【化１】
【００１４】このシリコーン変性ポリアミド酸溶液を樹
脂分濃度が５％となるようにγ-ブチロラクトンで希釈
し、フレキソ印刷機を用いてライン幅900μmピッチ1000
μmのITO電極パターンを形成してある60mm×60mmのポリ
エーテルスルホンフィルム基板上に印刷し、乾燥機中17
0℃１時間加熱し、基板上にシリコーン変性ポリイミド
膜を形成した。
脂分濃度が５％となるようにγ-ブチロラクトンで希釈
し、フレキソ印刷機を用いてライン幅900μmピッチ1000
μmのITO電極パターンを形成してある60mm×60mmのポリ
エーテルスルホンフィルム基板上に印刷し、乾燥機中17
0℃１時間加熱し、基板上にシリコーン変性ポリイミド
膜を形成した。
【００１５】このシリコーン変性ポリイミド膜上に、フ
レキソ印刷機を用いて液晶配向剤（住友ベークライト
(株)製「スミレジンエクセルＣＲＤ-4009」）を印刷
し、乾燥機中150℃２時間加熱して液晶配向膜を形成し
た。以上の被膜を形成した基板２枚を用い、以下常法に
よりセルギャップ７μmのＳＴＮセルを作製した。液晶
はメルク社製「ＺＬＩ-2293」を用いた。
レキソ印刷機を用いて液晶配向剤（住友ベークライト
(株)製「スミレジンエクセルＣＲＤ-4009」）を印刷
し、乾燥機中150℃２時間加熱して液晶配向膜を形成し
た。以上の被膜を形成した基板２枚を用い、以下常法に
よりセルギャップ７μmのＳＴＮセルを作製した。液晶
はメルク社製「ＺＬＩ-2293」を用いた。
【００１６】得られた液晶表示素子の上下のITOパター
ン間に±５V、33Hzの矩形波を印加したところ、全面に
わたりムラの無い良好な表示が得られた。この液晶表示
素子を85℃の恒温槽中に168時間放置し、室温に戻した
後同様の波形を印加した場合も、全面にわたりムラの無
い良好な表示が得られた。
ン間に±５V、33Hzの矩形波を印加したところ、全面に
わたりムラの無い良好な表示が得られた。この液晶表示
素子を85℃の恒温槽中に168時間放置し、室温に戻した
後同様の波形を印加した場合も、全面にわたりムラの無
い良好な表示が得られた。
【００１７】（実施例２〜３および比較例１〜２）表１
に示すように、基板材料、絶縁膜材料と絶縁膜形成条件
を変えた以外は実施例１と同様にして液晶表示素子を作
製し、表示ムラを評価した。
に示すように、基板材料、絶縁膜材料と絶縁膜形成条件
を変えた以外は実施例１と同様にして液晶表示素子を作
製し、表示ムラを評価した。
【００１８】
【表１】 1) ＰＥＴ；ポリエチレンテレフタレート 2) シリコーン変性ポリイミド溶液；住友ベークライト
(株)製スミレジンエクセルＣＲＣ-7040 3) ＰＡ；ポリアリレート 4) ＰＥＳ；ポリエーテルスルホン
(株)製スミレジンエクセルＣＲＣ-7040 3) ＰＡ；ポリアリレート 4) ＰＥＳ；ポリエーテルスルホン
【００１９】実施例１〜３では、液晶表示素子は作製直
後、85℃168時間放置後ともにムラの無い良好な表示品
位であった。比較例１では、シリカ系コート剤を用いた
ので絶縁膜形成温度を300℃という高温にしなければな
らなかった。このため、プラスティックとしては比較的
耐熱性の高いPESを用いたものの基板が劣化し、液晶表
示素子を作製することができなかった。比較例２では、
透明電極付き基板と液晶配向膜の間にシリコーン変性ポ
リイミド膜を有していないため、作製直後の表示は良好
であったものの85℃168時間放置後には全面に濃淡のム
ラが発生してしまった。
後、85℃168時間放置後ともにムラの無い良好な表示品
位であった。比較例１では、シリカ系コート剤を用いた
ので絶縁膜形成温度を300℃という高温にしなければな
らなかった。このため、プラスティックとしては比較的
耐熱性の高いPESを用いたものの基板が劣化し、液晶表
示素子を作製することができなかった。比較例２では、
透明電極付き基板と液晶配向膜の間にシリコーン変性ポ
リイミド膜を有していないため、作製直後の表示は良好
であったものの85℃168時間放置後には全面に濃淡のム
ラが発生してしまった。
【００２０】
【発明の効果】本発明の液晶表示素子は、液晶表示素子
製造工程中の絶縁膜形成工程において良好な被膜を容易
に形成することができ、表示品位が高く、信頼性にも優
れる液晶表示素子である。
製造工程中の絶縁膜形成工程において良好な被膜を容易
に形成することができ、表示品位が高く、信頼性にも優
れる液晶表示素子である。
Claims (2)
- 【請求項１】 液晶セルを構成する透明電極付き基板と
液晶配向膜の間に、シリコーン変性ポリイミド膜を有す
ることを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項２】 基板がプラスティックフィルムである請
求項１記載の液晶表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33691692A JP3095100B2 (ja) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33691692A JP3095100B2 (ja) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 液晶表示素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06186551A true JPH06186551A (ja) | 1994-07-08 |
| JP3095100B2 JP3095100B2 (ja) | 2000-10-03 |
Family
ID=18303822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33691692A Expired - Fee Related JP3095100B2 (ja) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3095100B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100372071B1 (ko) * | 1999-11-30 | 2003-02-14 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 액정 표시 장치 및 수지 조성물 |
| US8129494B2 (en) | 2006-12-26 | 2012-03-06 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Resin composition for printing plate |
| WO2012081762A1 (ko) * | 2010-12-16 | 2012-06-21 | 에스케이씨코오롱피아이주식회사 | 폴리아믹산 중합체 및 이로부터 제조된 폴리이미드 필름 |
-
1992
- 1992-12-17 JP JP33691692A patent/JP3095100B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100372071B1 (ko) * | 1999-11-30 | 2003-02-14 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 액정 표시 장치 및 수지 조성물 |
| US8129494B2 (en) | 2006-12-26 | 2012-03-06 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Resin composition for printing plate |
| US8263730B2 (en) | 2006-12-26 | 2012-09-11 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Resin composition for printing plate |
| EP2567995A2 (en) | 2006-12-26 | 2013-03-13 | Asahi Kasei E-materials Corporation | Resin composition for printing plate |
| WO2012081762A1 (ko) * | 2010-12-16 | 2012-06-21 | 에스케이씨코오롱피아이주식회사 | 폴리아믹산 중합체 및 이로부터 제조된 폴리이미드 필름 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3095100B2 (ja) | 2000-10-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |