JPH06177105A - 処理液の供給方法及び供給装置 - Google Patents
処理液の供給方法及び供給装置Info
- Publication number
- JPH06177105A JPH06177105A JP35168492A JP35168492A JPH06177105A JP H06177105 A JPH06177105 A JP H06177105A JP 35168492 A JP35168492 A JP 35168492A JP 35168492 A JP35168492 A JP 35168492A JP H06177105 A JPH06177105 A JP H06177105A
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- JP
- Japan
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- processing liquid
- gas
- supply
- valve
- liquid
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 処理液を精度良く定量供給し、また、任意の
設定量の処理液を供給することができるようにする。 【構成】 バルブ２、バルブ７及び電磁弁５を閉じた状
態で電磁弁６を開け、気体供給管１２より気体Ｇを密閉
容器１内に充満する。その後、電磁弁６を閉じてバルブ
７を開け、ポンプ８により容器１０から処理液９を密閉
容器１内に供給する。この時、電磁弁５を開き、処理液
９により密閉容器１内から押し出された気体Ｇの排出量
を気体計量器４で計量する。この計量値に基づいて演算
制御器１１によって演算を行い、任意の設定値に達した
時、演算制御器１１はバルブ７を閉じ、密閉容器１内へ
の処理液９の供給を停止する。その後、バルブ２を開
け、処理液供給管３より処理液９を例えばウエハ洗浄装
置の薬液処理槽へ供給する。
設定量の処理液を供給することができるようにする。 【構成】 バルブ２、バルブ７及び電磁弁５を閉じた状
態で電磁弁６を開け、気体供給管１２より気体Ｇを密閉
容器１内に充満する。その後、電磁弁６を閉じてバルブ
７を開け、ポンプ８により容器１０から処理液９を密閉
容器１内に供給する。この時、電磁弁５を開き、処理液
９により密閉容器１内から押し出された気体Ｇの排出量
を気体計量器４で計量する。この計量値に基づいて演算
制御器１１によって演算を行い、任意の設定値に達した
時、演算制御器１１はバルブ７を閉じ、密閉容器１内へ
の処理液９の供給を停止する。その後、バルブ２を開
け、処理液供給管３より処理液９を例えばウエハ洗浄装
置の薬液処理槽へ供給する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体装置の製
造工程で使用される表面処理装置等に付属して各種の処
理液を供給するための方法及び装置に関する。
造工程で使用される表面処理装置等に付属して各種の処
理液を供給するための方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の処理液の供給装置は、例えば図２
に示すように、処理液１９を入れた容器２０、ポンプ１
８、バルブ１７、秤量容器１３、Ｎ2 レベルセンサー１
６からなり、バルブ１７を開いて処理液１９をポンプ１
８により秤量容器１３内に供給し、Ｎ2 レベルセンサー
１６の検知ノズル１６ａまで処理液１９の液面が満たさ
れた状態で、バルブ１７を閉じて処理液１９の供給を停
止する。そして、この定量した処理液１９をバルブ１４
を開いて吐出管１５より吐出し、定量の処理液１９を例
えばウエハ洗浄装置の薬液処理槽へ供給する。
に示すように、処理液１９を入れた容器２０、ポンプ１
８、バルブ１７、秤量容器１３、Ｎ2 レベルセンサー１
６からなり、バルブ１７を開いて処理液１９をポンプ１
８により秤量容器１３内に供給し、Ｎ2 レベルセンサー
１６の検知ノズル１６ａまで処理液１９の液面が満たさ
れた状態で、バルブ１７を閉じて処理液１９の供給を停
止する。そして、この定量した処理液１９をバルブ１４
を開いて吐出管１５より吐出し、定量の処理液１９を例
えばウエハ洗浄装置の薬液処理槽へ供給する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たように従来は、秤量容器１３内に供給された処理液１
９の量をＮ2 レベルセンサー１６によって計測していた
ので、秤量容器１３への処理液１９の供給時に生じる液
面ゆれ等によって、処理液１９の正確な定量供給、特に
大容量の処理液１９の定量供給が極めて困難であるとい
う問題があった。また、Ｎ2 レベルセンサー１６の検知
ノズル１６ａの位置が固定されているため、任意の設定
量の処理液１９を供給することができないという問題も
あった。
たように従来は、秤量容器１３内に供給された処理液１
９の量をＮ2 レベルセンサー１６によって計測していた
ので、秤量容器１３への処理液１９の供給時に生じる液
面ゆれ等によって、処理液１９の正確な定量供給、特に
大容量の処理液１９の定量供給が極めて困難であるとい
う問題があった。また、Ｎ2 レベルセンサー１６の検知
ノズル１６ａの位置が固定されているため、任意の設定
量の処理液１９を供給することができないという問題も
あった。
【０００４】そこで本発明は、処理液を精度良く定量供
給し、また、任意の設定量の処理液を供給することがで
きる処理液の供給方法及び供給装置を提供することを目
的とする。
給し、また、任意の設定量の処理液を供給することがで
きる処理液の供給方法及び供給装置を提供することを目
的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による処理液の供給方法は、密閉容器内に気
体を充満し、その密閉容器内に処理液を供給し、この時
の前記密閉容器からの前記気体の排出量を計測すること
により、前記密閉容器内に供給された前記処理液の供給
量を計測するものである。
に、本発明による処理液の供給方法は、密閉容器内に気
体を充満し、その密閉容器内に処理液を供給し、この時
の前記密閉容器からの前記気体の排出量を計測すること
により、前記密閉容器内に供給された前記処理液の供給
量を計測するものである。
【０００６】また、本発明による処理液の供給装置は、
密閉容器と、この密閉容器内に気体を充満させる気体供
給手段と、前記気体が充満された前記密閉容器内に処理
液を供給する処理液供給手段と、前記処理液が供給され
た時の前記密閉容器からの前記気体の排出量を計測する
気体計量手段と、この計測に基づいて前記処理液供給手
段を制御する制御手段とを備えたものである。
密閉容器と、この密閉容器内に気体を充満させる気体供
給手段と、前記気体が充満された前記密閉容器内に処理
液を供給する処理液供給手段と、前記処理液が供給され
た時の前記密閉容器からの前記気体の排出量を計測する
気体計量手段と、この計測に基づいて前記処理液供給手
段を制御する制御手段とを備えたものである。
【０００７】
【作用】上記のように構成された本発明によれば、気体
が充満された密閉容器内に処理液を供給すると、この処
理液により密閉容器から気体が押し出される。気体の排
出量は処理液の供給量に対応して変化するので、その気
体の排出量を計測することにより処理液の供給量を計測
する。これにより、液面ゆれ等や容量の大小に影響され
ることなく、任意の設定量の処理液を極めて正確に定量
供給することができる。
が充満された密閉容器内に処理液を供給すると、この処
理液により密閉容器から気体が押し出される。気体の排
出量は処理液の供給量に対応して変化するので、その気
体の排出量を計測することにより処理液の供給量を計測
する。これにより、液面ゆれ等や容量の大小に影響され
ることなく、任意の設定量の処理液を極めて正確に定量
供給することができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明による処理液の供給方法及び供
給装置の一実施例を図１を参照して説明する。
給装置の一実施例を図１を参照して説明する。
【０００９】１は密閉容器であり、例えばＮ2 等の不活
性ガスからなる気体Ｇが気体供給管１２から電磁弁６を
介して充満される。処理液９は容器１０内に貯留され、
ポンプ８にてバルブ７を介して密閉容器１内に供給され
る。密閉容器１から排出される気体Ｇは、電磁弁５を経
て例えばマスフローコントローラ等からなる気体計量器
４により計量される。演算制御器１１は気体計量器４に
よる計量値に基づいて演算を行い、バルブ７の開閉を制
御する。演算制御器１１は任意の設定値を設定可能であ
り、また気体Ｇや処理液９の供給路及び排出路等におけ
る誤差補正値も設定可能である。密閉容器１内に供給さ
れた処理液９はバルブ２を開けることにより処理液供給
管３から排出される。
性ガスからなる気体Ｇが気体供給管１２から電磁弁６を
介して充満される。処理液９は容器１０内に貯留され、
ポンプ８にてバルブ７を介して密閉容器１内に供給され
る。密閉容器１から排出される気体Ｇは、電磁弁５を経
て例えばマスフローコントローラ等からなる気体計量器
４により計量される。演算制御器１１は気体計量器４に
よる計量値に基づいて演算を行い、バルブ７の開閉を制
御する。演算制御器１１は任意の設定値を設定可能であ
り、また気体Ｇや処理液９の供給路及び排出路等におけ
る誤差補正値も設定可能である。密閉容器１内に供給さ
れた処理液９はバルブ２を開けることにより処理液供給
管３から排出される。
【００１０】上記のように構成された処理液の供給装置
によれば、まず、バルブ２、バルブ７及び電磁弁５を閉
じた状態で電磁弁６を開け、気体供給管１２より気体Ｇ
を密閉容器１内に充満する。その後、電磁弁６を閉じて
バルブ７を開け、ポンプ８により容器１０から処理液９
を密閉容器１内に供給する。この時、電磁弁５を開き、
処理液９により密閉容器１から押し出された気体Ｇの排
出量を気体計量器４によって計量する。この計量値に基
づいて演算制御器１１によって演算を行い、任意の設定
値に達した時、演算制御器１１はバルブ７を閉じ、密閉
容器１内への処理液９の供給を停止する。その後、バル
ブ２を開け、処理液供給管３より処理液９を例えばウエ
ハ洗浄装置の薬液処理槽へ供給する。
によれば、まず、バルブ２、バルブ７及び電磁弁５を閉
じた状態で電磁弁６を開け、気体供給管１２より気体Ｇ
を密閉容器１内に充満する。その後、電磁弁６を閉じて
バルブ７を開け、ポンプ８により容器１０から処理液９
を密閉容器１内に供給する。この時、電磁弁５を開き、
処理液９により密閉容器１から押し出された気体Ｇの排
出量を気体計量器４によって計量する。この計量値に基
づいて演算制御器１１によって演算を行い、任意の設定
値に達した時、演算制御器１１はバルブ７を閉じ、密閉
容器１内への処理液９の供給を停止する。その後、バル
ブ２を開け、処理液供給管３より処理液９を例えばウエ
ハ洗浄装置の薬液処理槽へ供給する。
【００１１】このように、気体Ｇが充満された密閉容器
１内に処理液９を供給した時、この処理液９により密閉
容器１から押し出された気体Ｇの排出量は処理液９の供
給量に対応して変化する。従って、気体Ｇの排出量を計
測することによって、密閉容器１内における液面ゆれ等
や容量の大小に影響されることなく、任意の設定量の処
理液９を極めて正確に定量供給することができる。
１内に処理液９を供給した時、この処理液９により密閉
容器１から押し出された気体Ｇの排出量は処理液９の供
給量に対応して変化する。従って、気体Ｇの排出量を計
測することによって、密閉容器１内における液面ゆれ等
や容量の大小に影響されることなく、任意の設定量の処
理液９を極めて正確に定量供給することができる。
【００１２】以上、本発明の一実施例に付き説明した
が、本発明は上記実施例に限定されることなく、本発明
の技術的思想に基づいて各種の有効な変更並びに応用が
可能である。例えば、気体計量手段は実施例のマスフロ
ーコントローラ以外に各種の機器を用いることができ
る。なお、本発明は処理液の正確な定量を必要とする各
種の処理液の供給方法及び供給装置に適用可能である。
が、本発明は上記実施例に限定されることなく、本発明
の技術的思想に基づいて各種の有効な変更並びに応用が
可能である。例えば、気体計量手段は実施例のマスフロ
ーコントローラ以外に各種の機器を用いることができ
る。なお、本発明は処理液の正確な定量を必要とする各
種の処理液の供給方法及び供給装置に適用可能である。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
密閉容器からの気体の排出量を計測することにより密閉
容器内に供給された処理液の供給量を計測するので、液
面ゆれ等や容量の大小に影響されることなく、処理液を
極めて正確に定量供給することができ、しかも任意の設
定量の処理液を供給することが可能である。
密閉容器からの気体の排出量を計測することにより密閉
容器内に供給された処理液の供給量を計測するので、液
面ゆれ等や容量の大小に影響されることなく、処理液を
極めて正確に定量供給することができ、しかも任意の設
定量の処理液を供給することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による処理液の供給装置の一実施例にお
ける概略構成図である。
ける概略構成図である。
【図２】従来の処理液の供給装置における概略構成図で
ある。
ある。
１ 密閉容器 ２ バルブ ３ 処理液供給管 ４ 気体計量器 ５ 電磁弁 ６ 電磁弁 ７ バルブ ８ ポンプ ９ 処理液 １０ 容器 １１ 演算制御器 １２ 気体供給管 Ｇ 気体
Claims (2)
- 【請求項１】 密閉容器内に気体を充満し、その密閉容
器内に処理液を供給し、この時の前記密閉容器からの前
記気体の排出量を計測することにより、前記密閉容器内
に供給された前記処理液の供給量を計測することを特徴
とする処理液の供給方法。 - 【請求項２】 密閉容器と、この密閉容器内に気体を充
満させる気体供給手段と、前記気体が充満された前記密
閉容器内に処理液を供給する処理液供給手段と、前記処
理液が供給された時の前記密閉容器からの前記気体の排
出量を計測する気体計量手段と、この計測に基づいて前
記処理液供給手段を制御する制御手段とを備えたことを
特徴とする処理液の供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35168492A JPH06177105A (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | 処理液の供給方法及び供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35168492A JPH06177105A (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | 処理液の供給方法及び供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06177105A true JPH06177105A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18418924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35168492A Withdrawn JPH06177105A (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | 処理液の供給方法及び供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06177105A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100382045B1 (ko) * | 2000-11-10 | 2003-04-26 | 씨앤지하이테크 주식회사 | 다채널 약액 정량공급장치 및 그 방법 |
| WO2022245712A1 (en) * | 2021-05-21 | 2022-11-24 | Applied Materials, Inc. | Consistent known volume liquid metal or metal alloy transfer from atmospheric to vacuum chamber |
-
1992
- 1992-12-08 JP JP35168492A patent/JPH06177105A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100382045B1 (ko) * | 2000-11-10 | 2003-04-26 | 씨앤지하이테크 주식회사 | 다채널 약액 정량공급장치 및 그 방법 |
| WO2022245712A1 (en) * | 2021-05-21 | 2022-11-24 | Applied Materials, Inc. | Consistent known volume liquid metal or metal alloy transfer from atmospheric to vacuum chamber |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000307 |