JPH06132268A - 液体の流量制御方法及びその流量制御装置 - Google Patents
液体の流量制御方法及びその流量制御装置Info
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- JPH06132268A JPH06132268A JP28408592A JP28408592A JPH06132268A JP H06132268 A JPH06132268 A JP H06132268A JP 28408592 A JP28408592 A JP 28408592A JP 28408592 A JP28408592 A JP 28408592A JP H06132268 A JPH06132268 A JP H06132268A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】精密に濃度調整された処理液が得られる、液体
を高精度で秤量することを目的とする。 【構成】秤量タンク１１内の液体１２ａの重量を重量セ
ンサー１３で検出し、その重量センサー１３の検出結果
と、予め記憶した重量に対する液体供給量を、コントロ
ーラ１４を用いて監視することにより、秤量タンク１１
内に供給する液体供給源１２からの液体１２ａの流量を
設備コントローラ１５で開閉弁１６を開閉することによ
り制御する液体の流量制御方法である。 【効果】連続的に液面レベルを検出できるため、高精度
に流量を制御でき、しかも秤量する液体と非接触である
ため液体内への不純物の混入を皆無にできる。
を高精度で秤量することを目的とする。 【構成】秤量タンク１１内の液体１２ａの重量を重量セ
ンサー１３で検出し、その重量センサー１３の検出結果
と、予め記憶した重量に対する液体供給量を、コントロ
ーラ１４を用いて監視することにより、秤量タンク１１
内に供給する液体供給源１２からの液体１２ａの流量を
設備コントローラ１５で開閉弁１６を開閉することによ
り制御する液体の流量制御方法である。 【効果】連続的に液面レベルを検出できるため、高精度
に流量を制御でき、しかも秤量する液体と非接触である
ため液体内への不純物の混入を皆無にできる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体ウエハなどの
表面を洗浄したり、エッチングするなど、半導体ウエハ
などの表面処理を行う液体の流量制御方法及びその流量
制御装置に関するものである。
表面を洗浄したり、エッチングするなど、半導体ウエハ
などの表面処理を行う液体の流量制御方法及びその流量
制御装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程における半導体ウ
エハの、例えば、洗浄工程では、有機溶剤や純水などの
液体が秤量タンクを経て処理槽内に供給されており、半
導体ウエハをこの処理槽内へ順番に浸漬することで、そ
の半導体ウエハの表面に付着した不純物を除去するよう
にしている。
エハの、例えば、洗浄工程では、有機溶剤や純水などの
液体が秤量タンクを経て処理槽内に供給されており、半
導体ウエハをこの処理槽内へ順番に浸漬することで、そ
の半導体ウエハの表面に付着した不純物を除去するよう
にしている。
【０００３】半導体素子の高集積化に伴い、このような
半導体ウエハの洗浄はますます重要になっており、この
洗浄に用いる液体の量や温度などを厳密に管理する必要
がある。また、同時に高純度の液体を使用する必要が生
じている。
半導体ウエハの洗浄はますます重要になっており、この
洗浄に用いる液体の量や温度などを厳密に管理する必要
がある。また、同時に高純度の液体を使用する必要が生
じている。
【０００４】従来、この液体の管理を行うために、図５
に示したような液体の流量制御装置が用いられている。
図５はその液体の流量制御装置を模式図で示したもので
ある。この液体の流量制御装置１の構成を説明する。こ
の液体の流量制御装置１は、液体供給源２と、この液体
供給源２からの液体２ａを秤量する秤量タンク３と、こ
の秤量タンク３と前記液体供給源２との間に介在する開
閉弁４と、前記秤量タンク３の外側側面に所定の間隔幅
の高さで固定された液体２ａの液面レベル２ｂを検出す
るための複数の光電センサー５Ａ、５Ｂ及び５Ｃと、こ
れらの光電センサー５Ａ、５Ｂ及び５Ｃの出力に基づい
て前記開閉弁４を制御するコントローラ６とから構成さ
れている。なお、符号７は供給管を、そして符号８は前
記光電センサー５Ａ、５Ｂ及び５Ｃの前記秤量タンク３
の外側側面への取付け装置を示す。
に示したような液体の流量制御装置が用いられている。
図５はその液体の流量制御装置を模式図で示したもので
ある。この液体の流量制御装置１の構成を説明する。こ
の液体の流量制御装置１は、液体供給源２と、この液体
供給源２からの液体２ａを秤量する秤量タンク３と、こ
の秤量タンク３と前記液体供給源２との間に介在する開
閉弁４と、前記秤量タンク３の外側側面に所定の間隔幅
の高さで固定された液体２ａの液面レベル２ｂを検出す
るための複数の光電センサー５Ａ、５Ｂ及び５Ｃと、こ
れらの光電センサー５Ａ、５Ｂ及び５Ｃの出力に基づい
て前記開閉弁４を制御するコントローラ６とから構成さ
れている。なお、符号７は供給管を、そして符号８は前
記光電センサー５Ａ、５Ｂ及び５Ｃの前記秤量タンク３
の外側側面への取付け装置を示す。
【０００５】次に、このような構成の液体の流量制御装
置１を用いた液体の流量制御方法を説明する。先ず、開
閉弁４を開放して秤量タンク３内に液体２ａを供給す
る。そして、例えば、光電センサー５Ａが取り付けられ
た位置に液体２ａの液面レベル２ｂが達した場合に、そ
の光電センサー５Ａが作動し、例えば、オンまたはオフ
の信号を出力する。この出力信号の有無に基づいて液面
２ｂのレベルを段階的に検出し、コントローラ６が開閉
弁４の開閉を制御し、秤量タンク３内に供給する液体２
ａの流量を制御する。
置１を用いた液体の流量制御方法を説明する。先ず、開
閉弁４を開放して秤量タンク３内に液体２ａを供給す
る。そして、例えば、光電センサー５Ａが取り付けられ
た位置に液体２ａの液面レベル２ｂが達した場合に、そ
の光電センサー５Ａが作動し、例えば、オンまたはオフ
の信号を出力する。この出力信号の有無に基づいて液面
２ｂのレベルを段階的に検出し、コントローラ６が開閉
弁４の開閉を制御し、秤量タンク３内に供給する液体２
ａの流量を制御する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この液体の流
量制御装置１及びその流量制御方法には次のような問題
がある。その第１点は、光電センサーを用いた液体の流
量制御装置では、秤量タンクの材質や形状及び液体の種
類によって光電センサーの感度にばらつきが生じ、その
ため煩雑な調整を行わなければならないことである。
量制御装置１及びその流量制御方法には次のような問題
がある。その第１点は、光電センサーを用いた液体の流
量制御装置では、秤量タンクの材質や形状及び液体の種
類によって光電センサーの感度にばらつきが生じ、その
ため煩雑な調整を行わなければならないことである。
【０００７】第２点は、設定する液面のレベルに対応し
た個数だけ、光電センサーを取り付ける必要があること
である。例えば、半導体ウエハの洗浄装置においては、
処理槽へ洗浄液を供給するのに必要な液面レベルの有無
を検出する光電センサーＳａと、秤量タンク内の液体が
空の状態の液面レベルの有無を検出する光電センサーＳ
ｂと、前記光電センサーＳａが不良を起こした場合、更
に高い液面レベルで液体の有無を検出する光電センサー
Ｓｃの最低３個の光電センサーが必要となる。
た個数だけ、光電センサーを取り付ける必要があること
である。例えば、半導体ウエハの洗浄装置においては、
処理槽へ洗浄液を供給するのに必要な液面レベルの有無
を検出する光電センサーＳａと、秤量タンク内の液体が
空の状態の液面レベルの有無を検出する光電センサーＳ
ｂと、前記光電センサーＳａが不良を起こした場合、更
に高い液面レベルで液体の有無を検出する光電センサー
Ｓｃの最低３個の光電センサーが必要となる。
【０００８】第３点は、前記のように、この液体の流量
制御は光電センサーの出力信号のオン・オフに基づいて
開閉弁を開閉しており、従って、液面レベルを段階的に
しか検出することができないため、高精度な検出を行う
には光電センサーを数多く取り付ける必要がある。この
発明は、前記のような問題点を無くし、１個のセンサー
で高精度に、かつクリーンに液面レベルを検出する液体
の流量制御方法及びその流量制御装置を提供することを
目的とするものである。
制御は光電センサーの出力信号のオン・オフに基づいて
開閉弁を開閉しており、従って、液面レベルを段階的に
しか検出することができないため、高精度な検出を行う
には光電センサーを数多く取り付ける必要がある。この
発明は、前記のような問題点を無くし、１個のセンサー
で高精度に、かつクリーンに液面レベルを検出する液体
の流量制御方法及びその流量制御装置を提供することを
目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】そのため、この発明の液
体の流量制御方法及びその流量制御装置は、秤量タンク
内の液体の重量を検出し、重量センサの検出結果と、予
め記憶した重量に対する液体供給量を監視することによ
り、秤量タンク内に供給する液体の流量を制御する方法
を採った。
体の流量制御方法及びその流量制御装置は、秤量タンク
内の液体の重量を検出し、重量センサの検出結果と、予
め記憶した重量に対する液体供給量を監視することによ
り、秤量タンク内に供給する液体の流量を制御する方法
を採った。
【００１０】そして、その方法を実現する液体の流量制
御装置としては、液体供給源と、秤量タンクと、これら
両者間に介在する開閉弁と、前記秤量タンク内の液体の
重量を、その液体と非接触状態で測定する重量センサー
と、この重量センサーの出力信号に基づいて得られたデ
ータ出力により前記開閉弁を制御し、前記液体供給源か
ら前記秤量タンクへの液体供給流量を制御するコントロ
ーラとから構成した。
御装置としては、液体供給源と、秤量タンクと、これら
両者間に介在する開閉弁と、前記秤量タンク内の液体の
重量を、その液体と非接触状態で測定する重量センサー
と、この重量センサーの出力信号に基づいて得られたデ
ータ出力により前記開閉弁を制御し、前記液体供給源か
ら前記秤量タンクへの液体供給流量を制御するコントロ
ーラとから構成した。
【００１１】また、この液体の流量制御装置を、異なる
液体供給源からの異なる液体を所定容量、処理液とし
て、或いはそれらの所定容量を混合して処理液を作成
し、この処理液で半導体ウエハの表面を処理する半導体
ウエハの表面処理装置の、前記所定容量の異なる各液体
を供給する装置に適用した。この発明はこのような手段
により前記課題を解決するようにした。
液体供給源からの異なる液体を所定容量、処理液とし
て、或いはそれらの所定容量を混合して処理液を作成
し、この処理液で半導体ウエハの表面を処理する半導体
ウエハの表面処理装置の、前記所定容量の異なる各液体
を供給する装置に適用した。この発明はこのような手段
により前記課題を解決するようにした。
【００１２】
【作用】秤量タンク外の重量センサーにより液体の重量
を検出し、その重量に対応して液面レベルを監視でき、
重量センサーの出力をコントローラに送り、開閉弁を開
閉することで液体の流量を連続的に制御できる。
を検出し、その重量に対応して液面レベルを監視でき、
重量センサーの出力をコントローラに送り、開閉弁を開
閉することで液体の流量を連続的に制御できる。
【００１３】
【実施例】以下、図１乃至図３を用いて、この発明の液
体の流量制御方法及びその流量制御装置を説明する。図
１はこの発明の液体の流量制御装置の実施例の模式図で
あり、図２はこの発明の液面レベルの検出方法を説明す
る模式図であり、そして図３は液面レベルと秤量タンク
の重量との関係を示したグラフである。
体の流量制御方法及びその流量制御装置を説明する。図
１はこの発明の液体の流量制御装置の実施例の模式図で
あり、図２はこの発明の液面レベルの検出方法を説明す
る模式図であり、そして図３は液面レベルと秤量タンク
の重量との関係を示したグラフである。
【００１４】図１において、符号１０は全体として液体
の流量制御装置を指す。この液体の流量制御装置１０
は、液体供給源１２からの液体１２ａが供給管１７を通
じて供給される秤量タンク１１と、この秤量タンク１１
の重量を検出する重量センサー１３と、重量センサー１
３の出力側に接続されたコントローラ１４と、その出力
側に接続された設備コントローラ１５と、この出力を、
前記液体供給源１２と秤量タンク１１との間に設けた開
閉弁１６とから構成されている。
の流量制御装置を指す。この液体の流量制御装置１０
は、液体供給源１２からの液体１２ａが供給管１７を通
じて供給される秤量タンク１１と、この秤量タンク１１
の重量を検出する重量センサー１３と、重量センサー１
３の出力側に接続されたコントローラ１４と、その出力
側に接続された設備コントローラ１５と、この出力を、
前記液体供給源１２と秤量タンク１１との間に設けた開
閉弁１６とから構成されている。
【００１５】前記コントローラ１４は、前記重量センサ
ー１３から得た出力信号を増幅するアンプや中央演算子
処理装置（ＣＰＵ）、電源、通信回路などから構成され
ていて、重量センサー１３の出力信号から液面レベル１
２ｂを算出し、設定した液面レベルと比較して、液体１
２ａを補充するかどうかを判定するものである。
ー１３から得た出力信号を増幅するアンプや中央演算子
処理装置（ＣＰＵ）、電源、通信回路などから構成され
ていて、重量センサー１３の出力信号から液面レベル１
２ｂを算出し、設定した液面レベルと比較して、液体１
２ａを補充するかどうかを判定するものである。
【００１６】前記設備コントローラ１５は、この判定結
果に基づく出力信号を受けて、前記液体供給源１２に接
続された前記開閉弁１６の開閉を行う。また、設備コン
トローラ１５からの異常信号やメッセージ信号などがこ
の通信回路を介して前記コントローラ１４に送信され
る。これらの信号はコントローラ１４にて解析され、そ
の判定結果に基づいた制御信号が再び設備コントローラ
１５に送信されるようになっている。
果に基づく出力信号を受けて、前記液体供給源１２に接
続された前記開閉弁１６の開閉を行う。また、設備コン
トローラ１５からの異常信号やメッセージ信号などがこ
の通信回路を介して前記コントローラ１４に送信され
る。これらの信号はコントローラ１４にて解析され、そ
の判定結果に基づいた制御信号が再び設備コントローラ
１５に送信されるようになっている。
【００１７】次に、このような液体の流量制御装置１０
を用いた液体の流量制御方法について説明する。液面レ
ベル１２ｂが高くなれば、重量センサー１３の出力信号
が増加する。次いで、この出力信号はコントローラ１４
に供給され、予め記憶された液面レベルに対する液体１
２ａの重量の関係を比較する。そして、この比較結果に
基づいて、液体１２ａのレベルが設定値より低い場合に
は開閉弁１６を開ける命令を、また反対に高い場合には
開閉弁１６を閉める命令を設備コントローラ１５に送信
する。そして、設備コントローラ１５が開閉弁１６に開
閉の信号を送信することにより、液体供給源１２から秤
量タンク１１に供給される液体１２ａの流量を制御する
ことができる。
を用いた液体の流量制御方法について説明する。液面レ
ベル１２ｂが高くなれば、重量センサー１３の出力信号
が増加する。次いで、この出力信号はコントローラ１４
に供給され、予め記憶された液面レベルに対する液体１
２ａの重量の関係を比較する。そして、この比較結果に
基づいて、液体１２ａのレベルが設定値より低い場合に
は開閉弁１６を開ける命令を、また反対に高い場合には
開閉弁１６を閉める命令を設備コントローラ１５に送信
する。そして、設備コントローラ１５が開閉弁１６に開
閉の信号を送信することにより、液体供給源１２から秤
量タンク１１に供給される液体１２ａの流量を制御する
ことができる。
【００１８】次に、この発明の液体の流量制御方法にお
ける液面レベルの検出方法について図２を用いて説明す
る。同図Ａは秤量タンク１１内の液面レベルが０（零）
であるＨ0 の状態を、同図Ｂは液面レベルがＨ1 の状態
を、そして同図Ｃは液面レベルがＨ2 の状態を示してい
る。
ける液面レベルの検出方法について図２を用いて説明す
る。同図Ａは秤量タンク１１内の液面レベルが０（零）
であるＨ0 の状態を、同図Ｂは液面レベルがＨ1 の状態
を、そして同図Ｃは液面レベルがＨ2 の状態を示してい
る。
【００１９】先ず、図２Ａに示したように、液面が０の
時は、重量センサー１３は秤量タンク１１内の液体の重
量を検出せず、秤量タンク１１の重量ｍ0 のみを検出す
る。次に、図２Ｂに示したように、秤量タンク１１内に
液体１２ａが供給されて、液面レベル１２ｂが高さＨ0
から高さＨ1 になった場合、重量センサー１３は秤量タ
ンク１１の重量ｍ0 と秤量タンク１１内の液体１２ａの
重量ｍ1 を、即ち、ｍ0 ＋ｍ1 を検出する。そして、図
２Ｃに示したように、秤量タンク１１内へ、更に液体１
２ａが供給され、液面レベル１２ｂが高さＨ1 より高い
Ｈ2 となった場合、重量センサー１３は秤量タンク１１
の重量ｍ0 と重量ｍ1 より大きい重量ｍ2 を、即ち、ｍ
0 ＋ｍ2 を検出する。
時は、重量センサー１３は秤量タンク１１内の液体の重
量を検出せず、秤量タンク１１の重量ｍ0 のみを検出す
る。次に、図２Ｂに示したように、秤量タンク１１内に
液体１２ａが供給されて、液面レベル１２ｂが高さＨ0
から高さＨ1 になった場合、重量センサー１３は秤量タ
ンク１１の重量ｍ0 と秤量タンク１１内の液体１２ａの
重量ｍ1 を、即ち、ｍ0 ＋ｍ1 を検出する。そして、図
２Ｃに示したように、秤量タンク１１内へ、更に液体１
２ａが供給され、液面レベル１２ｂが高さＨ1 より高い
Ｈ2 となった場合、重量センサー１３は秤量タンク１１
の重量ｍ0 と重量ｍ1 より大きい重量ｍ2 を、即ち、ｍ
0 ＋ｍ2 を検出する。
【００２０】図３にこの液面レベルＨと秤量タンクの重
量ｍとの関係を示した。横軸は液面レベルＨ、縦軸は秤
量タンクの重量ｍを表している。即ち、図２Ａは液面レ
ベルＨ0 での秤量タンク重量ｍ0 を表し、図２Ｂは液面
レベルＨ1 での秤量タンク重量ｍ1 を表し、そして図２
Ｃは液面レベルＨ2 での秤量タンク重量ｍ2 を表してい
る。以上のように液面レベルＨと秤量タンク重量ｍとの
関係は比例増加する。なお、図３に示した液面レベルＨ
と秤量タンクの重量ｍとの関係は、液体１２ａの温度
ｔ、比重ｄの時による。従って、温度ｔ、比重ｄが異な
れば、図３に示したグラフは変化するものである。
量ｍとの関係を示した。横軸は液面レベルＨ、縦軸は秤
量タンクの重量ｍを表している。即ち、図２Ａは液面レ
ベルＨ0 での秤量タンク重量ｍ0 を表し、図２Ｂは液面
レベルＨ1 での秤量タンク重量ｍ1 を表し、そして図２
Ｃは液面レベルＨ2 での秤量タンク重量ｍ2 を表してい
る。以上のように液面レベルＨと秤量タンク重量ｍとの
関係は比例増加する。なお、図３に示した液面レベルＨ
と秤量タンクの重量ｍとの関係は、液体１２ａの温度
ｔ、比重ｄの時による。従って、温度ｔ、比重ｄが異な
れば、図３に示したグラフは変化するものである。
【００２１】具体的な一例として、半導体ウエハ洗浄装
置の処理槽への供給系に、この発明の液体の流量制御方
法及びその流量制御装置を適応した場合について説明す
る。図４にその半導体ウエハ洗浄装置を模式図で示し
た。なお、この半導体ウエハ洗浄装置（以下、単に「洗
浄装置」と記す）における液体１２ａＡを扱う系統と液
体１２ａＢを扱う系統の構成は図１に示した液体の流量
制御装置１０と同一構成であるので同一符号を付し、液
体１２ａＡを扱う系統には添字Ａを、液体１２ａＢを扱
う系統には添字Ｂを付して説明を省略する。
置の処理槽への供給系に、この発明の液体の流量制御方
法及びその流量制御装置を適応した場合について説明す
る。図４にその半導体ウエハ洗浄装置を模式図で示し
た。なお、この半導体ウエハ洗浄装置（以下、単に「洗
浄装置」と記す）における液体１２ａＡを扱う系統と液
体１２ａＢを扱う系統の構成は図１に示した液体の流量
制御装置１０と同一構成であるので同一符号を付し、液
体１２ａＡを扱う系統には添字Ａを、液体１２ａＢを扱
う系統には添字Ｂを付して説明を省略する。
【００２２】符号２０は全体として洗浄装置を指す。こ
の洗浄装置２０では、一例として前記のように、液体１
２ａＡ及び液体１２ａＢを混合して用いる混合タイプの
処理液を扱う。液体１２ａＡ及び液体１２ａＢのいずれ
の系統も図１に示した流量制御装置１０から構成されて
おり、秤量タンク１１Ａ及び１１Ｂの底面に設けられた
出口は、それぞれ管１８Ａ及び１８Ｂを介して処理槽１
９に接続されている。処理槽１９への液体秤量は、秤量
タンク１１Ａ、１１Ｂで行う。
の洗浄装置２０では、一例として前記のように、液体１
２ａＡ及び液体１２ａＢを混合して用いる混合タイプの
処理液を扱う。液体１２ａＡ及び液体１２ａＢのいずれ
の系統も図１に示した流量制御装置１０から構成されて
おり、秤量タンク１１Ａ及び１１Ｂの底面に設けられた
出口は、それぞれ管１８Ａ及び１８Ｂを介して処理槽１
９に接続されている。処理槽１９への液体秤量は、秤量
タンク１１Ａ、１１Ｂで行う。
【００２３】いま、各コントローラ１４Ａ及び１４Ｂ
に、液体１２ａＡの液面１２ｂＡ及び液体１２ａＢの液
面１２ｂＢがそれぞれ液面レベルＨ2 及びＨ1 に到達し
たら、液体１２ａＡ及び液体１２ａＢを処理槽１９へそ
れぞれの液面１２ｂＡ、１２ｂＢが０になるまで供給
し、その後、重量センサー１３Ａ及び１３Ｂが各コント
ローラ１４Ａ及び１４Ｂへ液面レベルＨ0 の信号を送
り、設備コントローラ１５Ａ及び１５Ｂで開閉弁１６Ａ
及び１６Ｂを開にさせ、液体供給源１２Ａ及び１２Ｂか
らの液体１２ａＡ及び液体１２ａＢが秤量タンク１１Ａ
及び１１Ｂの設定された、それぞれの液面レベルＨ2 及
びＨ1 に供給されるシーケンスを記憶させたとする。
に、液体１２ａＡの液面１２ｂＡ及び液体１２ａＢの液
面１２ｂＢがそれぞれ液面レベルＨ2 及びＨ1 に到達し
たら、液体１２ａＡ及び液体１２ａＢを処理槽１９へそ
れぞれの液面１２ｂＡ、１２ｂＢが０になるまで供給
し、その後、重量センサー１３Ａ及び１３Ｂが各コント
ローラ１４Ａ及び１４Ｂへ液面レベルＨ0 の信号を送
り、設備コントローラ１５Ａ及び１５Ｂで開閉弁１６Ａ
及び１６Ｂを開にさせ、液体供給源１２Ａ及び１２Ｂか
らの液体１２ａＡ及び液体１２ａＢが秤量タンク１１Ａ
及び１１Ｂの設定された、それぞれの液面レベルＨ2 及
びＨ1 に供給されるシーケンスを記憶させたとする。
【００２４】秤量タンク１１Ａ及び１１Ｂのそれぞれの
液面レベルＨ2 及びＨ1 に液体１２ａＡ及び液体１２ａ
Ｂが供給されたとすると、それぞれの液体を処理槽１９
へ供給する。この供給後、処理槽１９の混合比が望んで
いたものと異なった場合、次回の供給前に液面レベルＨ
2 及びＨ1 を再設定する必要がある。再設定は液体１２
ａＡ及び液体１２ａＢの重量と比重、処理槽１９の容積
から厳密に設定することができる。使用する液体の比重
が判れば、それらの重量が重量センサー１３Ａ及び１３
Ｂで検出できるので、予め化学計算により濃度の予想が
できる。所望の混合比の処理液が得られると、その処理
槽１９で半導体ウエハを洗浄することができる。
液面レベルＨ2 及びＨ1 に液体１２ａＡ及び液体１２ａ
Ｂが供給されたとすると、それぞれの液体を処理槽１９
へ供給する。この供給後、処理槽１９の混合比が望んで
いたものと異なった場合、次回の供給前に液面レベルＨ
2 及びＨ1 を再設定する必要がある。再設定は液体１２
ａＡ及び液体１２ａＢの重量と比重、処理槽１９の容積
から厳密に設定することができる。使用する液体の比重
が判れば、それらの重量が重量センサー１３Ａ及び１３
Ｂで検出できるので、予め化学計算により濃度の予想が
できる。所望の混合比の処理液が得られると、その処理
槽１９で半導体ウエハを洗浄することができる。
【００２５】
【発明の効果】以上、説明したように、この発明の液体
の流量制御方法及びその流量制御装置によれば、次のよ
うな効果がある。即ち、 １．一個の重量センサーにより液面レベルを検出でき、
液体と非接触であるため液体内への不純物の混入は皆無
で、高純度の液体を必要とする場合、特に有効である。 ２．連続的に液面レベルを検出できるため、高精度に流
量を制御できる。 ３．連続的な液面レベルの設定は光電センサーなどに要
した煩雑な調整を必要としない。 ４．２以上の重量センサーを用いて２種以上の液体をそ
れぞれ秤量でき、予め使用する量、濃度の混合液の 設
定ができる。
の流量制御方法及びその流量制御装置によれば、次のよ
うな効果がある。即ち、 １．一個の重量センサーにより液面レベルを検出でき、
液体と非接触であるため液体内への不純物の混入は皆無
で、高純度の液体を必要とする場合、特に有効である。 ２．連続的に液面レベルを検出できるため、高精度に流
量を制御できる。 ３．連続的な液面レベルの設定は光電センサーなどに要
した煩雑な調整を必要としない。 ４．２以上の重量センサーを用いて２種以上の液体をそ
れぞれ秤量でき、予め使用する量、濃度の混合液の 設
定ができる。
【図１】この発明の液体の流量制御装置の模式図であ
る。
る。
【図２】図１の流量制御装置における液面レベルの検出
方法を説明する模式図である。
方法を説明する模式図である。
【図３】液面レベルと秤量タンクの重量との関係を示し
たグラフである。
たグラフである。
【図４】この発明の液体の流量制御装置の応用例である
半導体ウエハ洗浄装置の模式図である。
半導体ウエハ洗浄装置の模式図である。
【図５】従来技術の液体の流量制御装置の模式図であ
る。
る。
１０ 液体の流量制御装置 １１ 秤量タンク １２ 液体供給源 １２Ａ 液体供給源 １２Ｂ 液体供給源 １２ａ 液体 １２ａＡ 液体 １２ａＢ 液体 １２ｂ 液面 １２ｂＡ 液面 １２ｂＢ 液面 １３ 重量センサー １３Ａ 重量センサー １３Ｂ 重量センサー １４ コントローラ １４Ａ コントローラ １４Ｂ コントローラ １５ 設備コントローラ １５Ａ 設備コントローラ １５Ｂ 設備コントローラ １６ 開閉弁 １６Ａ 開閉弁 １６Ｂ 開閉弁 １７ 供給管 １７Ａ 供給管 １７Ｂ 供給管 １８Ａ 管 １８Ｂ 管 １９ 処理槽 ２０ 半導体ウエハ洗浄装置
Claims (3)
- 【請求項１】秤量タンク内の液体の重量を検出し、重量
センサの検出結果と、予め記憶した重量に対する液体供
給量を監視することにより、秤量タンク内に供給する液
体の流量を制御することを特徴とする液体の流量制御方
法。 - 【請求項２】液体供給源と、秤量タンクと、これら両者
間に介在する開閉弁と、前記秤量タンク内の液体の重量
を、その液体と非接触状態で測定する重量センサーと、
この重量センサーの出力信号に基づいて得られたデータ
出力により前記開閉弁を制御し、前記液体供給源から前
記秤量タンクへの液体供給流量を制御するコントローラ
とから構成された液体の流量制御装置。 - 【請求項３】異なる液体供給源からの異なる液体を所定
容量、処理液として、或いはそれらの所定容量を混合し
て処理液を作成し、この処理液で半導体ウエハの表面を
処理する半導体ウエハの表面処理装置において、前記所
定容量の異なる各液体は前記請求項２に記載の液体の流
量制御装置から供給されることを特徴とする半導体ウエ
ハの表面処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28408592A JPH06132268A (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | 液体の流量制御方法及びその流量制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28408592A JPH06132268A (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | 液体の流量制御方法及びその流量制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06132268A true JPH06132268A (ja) | 1994-05-13 |
Family
ID=17674059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28408592A Pending JPH06132268A (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | 液体の流量制御方法及びその流量制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06132268A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010046563A (ja) * | 2008-08-19 | 2010-03-04 | Asahi Breweries Ltd | 洗びん方法 |
| US8298369B2 (en) | 2006-03-07 | 2012-10-30 | Ebara Corporation | Liquid supply method, liquid supply apparatus, substrate polishing apparatus, and method of measuring supply flow rate of liquid |
-
1992
- 1992-10-22 JP JP28408592A patent/JPH06132268A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8298369B2 (en) | 2006-03-07 | 2012-10-30 | Ebara Corporation | Liquid supply method, liquid supply apparatus, substrate polishing apparatus, and method of measuring supply flow rate of liquid |
| JP2010046563A (ja) * | 2008-08-19 | 2010-03-04 | Asahi Breweries Ltd | 洗びん方法 |
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