JPH05299403A - 処理槽への薬液定量供給方法および装置 - Google Patents
処理槽への薬液定量供給方法および装置Info
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- JPH05299403A JPH05299403A JP10330792A JP10330792A JPH05299403A JP H05299403 A JPH05299403 A JP H05299403A JP 10330792 A JP10330792 A JP 10330792A JP 10330792 A JP10330792 A JP 10330792A JP H05299403 A JPH05299403 A JP H05299403A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】処理槽に供給する各種薬液成分のうち、少なく
とも純水の秤量槽を省略して装置の簡略化を図るととも
に、薬液ミストの発生を防止し、かつ薬液混合比の変更
にも簡単な調整で対応できるようにした処理槽への薬液
定量供給方法を提供する。 【構成】純水を含む２種類以上の薬液を所定の混合比率
に定量採取して処理槽へ供給する際に、薬液総容量に対
応する定量レベルH2を検出するレベルセンサ８，および
混合比可変範囲での純水最小容量以下の液量に対応する
下限レベルH5を検出するレベルセンサ１５を装備した処
理槽１に対し、第一の工程で下限レベルH5に合わせて処
理槽に供給すべき純水容量の一部を処理槽に供給し、第
二の工程で純水以外の薬液を秤量槽４Ｂ，４Ｃに定量採
取して処理槽に供給し、第三の工程で定量レベルH2に合
わせて純水の残り容量を処理槽に供給する。
とも純水の秤量槽を省略して装置の簡略化を図るととも
に、薬液ミストの発生を防止し、かつ薬液混合比の変更
にも簡単な調整で対応できるようにした処理槽への薬液
定量供給方法を提供する。 【構成】純水を含む２種類以上の薬液を所定の混合比率
に定量採取して処理槽へ供給する際に、薬液総容量に対
応する定量レベルH2を検出するレベルセンサ８，および
混合比可変範囲での純水最小容量以下の液量に対応する
下限レベルH5を検出するレベルセンサ１５を装備した処
理槽１に対し、第一の工程で下限レベルH5に合わせて処
理槽に供給すべき純水容量の一部を処理槽に供給し、第
二の工程で純水以外の薬液を秤量槽４Ｂ，４Ｃに定量採
取して処理槽に供給し、第三の工程で定量レベルH2に合
わせて純水の残り容量を処理槽に供給する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェーハ，液晶
ガラス基板などに対する洗浄，エッチング等のウエット
処理工程に適用する処理槽への薬液定量供給方法，およ
び装置に関する。
ガラス基板などに対する洗浄，エッチング等のウエット
処理工程に適用する処理槽への薬液定量供給方法，およ
び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】周知のように半導体ウェーハのプロセス
処理、特に洗浄，湿式エッチングなどのプロセス処理工
程では、所定の混合比率に合わせて定量採取した純水
（希釈用水）を含む２種類以上の薬液を処理槽に供給
し、ここに半導体ウェーハを浸漬して薬液処理を行うよ
うにしている。
処理、特に洗浄，湿式エッチングなどのプロセス処理工
程では、所定の混合比率に合わせて定量採取した純水
（希釈用水）を含む２種類以上の薬液を処理槽に供給
し、ここに半導体ウェーハを浸漬して薬液処理を行うよ
うにしている。
【０００３】次に、従来より実施されている処理槽への
薬液定量供給方法，特にウェーハの洗浄工程において、
所定の混合比率に合わせて定量採取した超純水（ＤＩ
Ｗ），過酸化水素（Ｈ2 Ｏ2 ），水酸化アンモニウム
（ＮＨ4 ＯＨ）を処理槽に供給する場合の薬液供給方法
を図３，図４で説明する。図３は前記洗浄工程に適用す
る薬液定量供給装置であり、１は内槽１ａと外槽１ｂか
らなるオーバーフロー形の処理槽、２は循環ポンプ、３
はフィルタ、４Ａ，４Ｂ，４Ｃは超純水（ＤＩＷ），過
酸化水素（Ｈ2 Ｏ2 ），水酸化アンモニウム（ＮＨ4 Ｏ
Ｈ）を個別に秤量する秤量槽、５Ａ，５Ｂ，５Ｃは薬液
供給弁、６Ａ，６Ｂ，６Ｃは薬液払出弁である。
薬液定量供給方法，特にウェーハの洗浄工程において、
所定の混合比率に合わせて定量採取した超純水（ＤＩ
Ｗ），過酸化水素（Ｈ2 Ｏ2 ），水酸化アンモニウム
（ＮＨ4 ＯＨ）を処理槽に供給する場合の薬液供給方法
を図３，図４で説明する。図３は前記洗浄工程に適用す
る薬液定量供給装置であり、１は内槽１ａと外槽１ｂか
らなるオーバーフロー形の処理槽、２は循環ポンプ、３
はフィルタ、４Ａ，４Ｂ，４Ｃは超純水（ＤＩＷ），過
酸化水素（Ｈ2 Ｏ2 ），水酸化アンモニウム（ＮＨ4 Ｏ
Ｈ）を個別に秤量する秤量槽、５Ａ，５Ｂ，５Ｃは薬液
供給弁、６Ａ，６Ｂ，６Ｃは薬液払出弁である。
【０００４】また、処理槽１には上限レベルH1，定量レ
ベルH2, 液量不足レベルH3, 空レベルH4を検出するレベ
ルセンサ（エア圧式レベルセンサ）７，８，９，１０を
装備し、一方の各秤量槽４Ａ，４Ｂ，４Ｃにはそれぞれ
上限レベルh1, 定量レベルh2, 空レベルh3を検出するレ
ベルセンサ（静電容量式レベルセンサ）１１，１２，１
３を備えている。ここで、特に前記した定量レベルH2
は、ウェーハなどの処理物が処理槽内で薬液中に十分に
浸漬するような位置に定めたレベルであって、薬液の総
容量は混合比率に関係なくこの定量レベルまで供給され
る。また、上限レベルセンサ７，１１は薬液の過剰供給
を検出し、空レベルセンサ１０，１３は薬液の払出し完
了を検出し、レベルセンサ９は液量不足を検出して循環
ポンプを停止させる役目を果たす。なお、前記の各種レ
ベルセンサの検出動作は制御部（図示せず）で検知さ
れ、これに基づく制御部からの指令で薬液供給弁，薬液
払出弁の開閉、並びに循環ポンプの運転停止などの制御
が行われる。
ベルH2, 液量不足レベルH3, 空レベルH4を検出するレベ
ルセンサ（エア圧式レベルセンサ）７，８，９，１０を
装備し、一方の各秤量槽４Ａ，４Ｂ，４Ｃにはそれぞれ
上限レベルh1, 定量レベルh2, 空レベルh3を検出するレ
ベルセンサ（静電容量式レベルセンサ）１１，１２，１
３を備えている。ここで、特に前記した定量レベルH2
は、ウェーハなどの処理物が処理槽内で薬液中に十分に
浸漬するような位置に定めたレベルであって、薬液の総
容量は混合比率に関係なくこの定量レベルまで供給され
る。また、上限レベルセンサ７，１１は薬液の過剰供給
を検出し、空レベルセンサ１０，１３は薬液の払出し完
了を検出し、レベルセンサ９は液量不足を検出して循環
ポンプを停止させる役目を果たす。なお、前記の各種レ
ベルセンサの検出動作は制御部（図示せず）で検知さ
れ、これに基づく制御部からの指令で薬液供給弁，薬液
払出弁の開閉、並びに循環ポンプの運転停止などの制御
が行われる。
【０００５】そして、処理槽１に各成分の薬液を定量採
取して供給するには、まず、秤量槽４Ａ，４Ｂ，４Ｃで
定量レベルセンサ１２の検出レベルを所定の薬液混合比
率に合わせて設定した上で、図４で表すように各供給弁
５Ａ，５Ｂ，５Ｃを通じて超純水，過酸化水素，水酸化
アンモニウムを秤量槽に定量ずつ採取する。次に薬液払
出弁６Ａ，６Ｂ，６Ｃを開放して各秤量槽で秤量，定量
採取した薬液を処理槽１に供給する。また、処理槽１に
供給された薬液の総容量は処理槽に装備した定量レベル
センサ８で確認される。そしてウェーハなどの洗浄を行
うには、処理槽１の液中に処理物を浸漬し、循環ポンプ
２を運転して薬液を処理槽１とフィルタ３との間で循環
濾過しながら洗浄処理する。
取して供給するには、まず、秤量槽４Ａ，４Ｂ，４Ｃで
定量レベルセンサ１２の検出レベルを所定の薬液混合比
率に合わせて設定した上で、図４で表すように各供給弁
５Ａ，５Ｂ，５Ｃを通じて超純水，過酸化水素，水酸化
アンモニウムを秤量槽に定量ずつ採取する。次に薬液払
出弁６Ａ，６Ｂ，６Ｃを開放して各秤量槽で秤量，定量
採取した薬液を処理槽１に供給する。また、処理槽１に
供給された薬液の総容量は処理槽に装備した定量レベル
センサ８で確認される。そしてウェーハなどの洗浄を行
うには、処理槽１の液中に処理物を浸漬し、循環ポンプ
２を運転して薬液を処理槽１とフィルタ３との間で循環
濾過しながら洗浄処理する。
【０００６】なお、処理槽１に供給する薬液の混合比率
を変更する場合には、その都度、各秤量槽４Ａ，４Ｂ，
４Ｃに装備した定量レベルセンサ１２の検出レベルを新
たな混合比率に合わせて個々に調整する。
を変更する場合には、その都度、各秤量槽４Ａ，４Ｂ，
４Ｃに装備した定量レベルセンサ１２の検出レベルを新
たな混合比率に合わせて個々に調整する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記した従
来の薬液供給方法では、処理槽の付帯設備として各薬液
成分と１対１で対応する秤量槽を設置する必要があり、
このためにウェーハなどのプロセス処理を行うウエット
ステーションが大形化して設備費も高価となる。また、
薬液の混合比を変更する場合には各秤量槽ごとに定量レ
ベルセンサの調整が必要となるほか、各秤量槽での秤量
に誤差があると、個々の誤差分がそのまま累積して処理
槽に供給される薬液総容量のバラツキの原因となる。
来の薬液供給方法では、処理槽の付帯設備として各薬液
成分と１対１で対応する秤量槽を設置する必要があり、
このためにウェーハなどのプロセス処理を行うウエット
ステーションが大形化して設備費も高価となる。また、
薬液の混合比を変更する場合には各秤量槽ごとに定量レ
ベルセンサの調整が必要となるほか、各秤量槽での秤量
に誤差があると、個々の誤差分がそのまま累積して処理
槽に供給される薬液総容量のバラツキの原因となる。
【０００８】本発明は上記の点にかんがみなされたもの
であり、その目的は前記課題を解決し、各種薬液成分の
うち、少なくとも純水を定量採取する秤量槽を省略して
装置の簡略化を図るとともに、併せて薬液混合比の変更
にも簡単な調整で対応できるようにした処理槽への薬液
定量供給方法および装置を提供することにある。
であり、その目的は前記課題を解決し、各種薬液成分の
うち、少なくとも純水を定量採取する秤量槽を省略して
装置の簡略化を図るとともに、併せて薬液混合比の変更
にも簡単な調整で対応できるようにした処理槽への薬液
定量供給方法および装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の薬液定量供給方法は、薬液総容量に対応す
る定量レベル，および混合比可変範囲における純水最小
容量以下の液量に対応する下限レベルを設定した処理槽
に対して、前記下限レベルに合わせて処理槽に供給すべ
き純水容量の一部を処理槽に供給する第一の工程と、純
水以外の薬液を秤量槽で定量採取して処理槽に供給する
第二の工程と、前記定量レベルに合わせて純水の残り容
量を処理槽に供給する第三の工程との順で処理槽に薬液
を定量供給するものとする。
に、本発明の薬液定量供給方法は、薬液総容量に対応す
る定量レベル，および混合比可変範囲における純水最小
容量以下の液量に対応する下限レベルを設定した処理槽
に対して、前記下限レベルに合わせて処理槽に供給すべ
き純水容量の一部を処理槽に供給する第一の工程と、純
水以外の薬液を秤量槽で定量採取して処理槽に供給する
第二の工程と、前記定量レベルに合わせて純水の残り容
量を処理槽に供給する第三の工程との順で処理槽に薬液
を定量供給するものとする。
【００１０】また、薬液ミストの発生を考慮しない場合
の別な手段として、前記方法における第一の工程を省略
し、混合薬液の総容量に対応する定量レベルを設定した
処理槽に対して、純水以外の薬液を秤量槽で定量採取し
て処理槽に供給する第一の工程と、前記定量レベルに合
わせて純水を処理槽に供給する第二の工程との順で処理
槽へ薬液を定量供給する方法がある。
の別な手段として、前記方法における第一の工程を省略
し、混合薬液の総容量に対応する定量レベルを設定した
処理槽に対して、純水以外の薬液を秤量槽で定量採取し
て処理槽に供給する第一の工程と、前記定量レベルに合
わせて純水を処理槽に供給する第二の工程との順で処理
槽へ薬液を定量供給する方法がある。
【００１１】一方、前記した薬液定量供給方法の実施に
使用する本発明の薬液定量供給装置は、処理槽に対し
て、薬液総容量に対応する定量レベル，および混合比可
変範囲における純水最小容量以下の液量に対応する下限
レベルを検出するレベルセンサと、処理槽に純水を直接
供給する純水供給ラインと、純水以外の薬液を定量採取
する秤量槽とを装備して構成するものとする。
使用する本発明の薬液定量供給装置は、処理槽に対し
て、薬液総容量に対応する定量レベル，および混合比可
変範囲における純水最小容量以下の液量に対応する下限
レベルを検出するレベルセンサと、処理槽に純水を直接
供給する純水供給ラインと、純水以外の薬液を定量採取
する秤量槽とを装備して構成するものとする。
【００１２】
【作用】上記のように薬液総容量を規定する定量レベル
を設定した処理槽に対して、秤量槽で定量採取した薬液
（純水以外の薬液成分）を処理槽に供給した後、処理槽
の定量レベルに合わせて純水を供給することにより、処
理槽に供給すべき純水容量は処理槽の定量レベルから先
に供給した純水以外の薬液容量を差し引いた残り量とな
るので、純水の秤量槽が不要となる。しかも処理槽に供
給する各薬液成分の合計液量を処理槽の定量レベルで規
定することで、処理槽に供給された薬液の総容量は各秤
量槽の秤量誤差分の影響を受けることなく一定に保持さ
れる。また、この場合に処理槽に供給すべき純水の一部
を処理槽の下限レベルに合わせて他成分の薬液よりも先
に供給しておくことにより、次の工程で純水以外の薬液
を供給した際に薬液のミスト発生が防げて安全性の面か
らも有利となる。
を設定した処理槽に対して、秤量槽で定量採取した薬液
（純水以外の薬液成分）を処理槽に供給した後、処理槽
の定量レベルに合わせて純水を供給することにより、処
理槽に供給すべき純水容量は処理槽の定量レベルから先
に供給した純水以外の薬液容量を差し引いた残り量とな
るので、純水の秤量槽が不要となる。しかも処理槽に供
給する各薬液成分の合計液量を処理槽の定量レベルで規
定することで、処理槽に供給された薬液の総容量は各秤
量槽の秤量誤差分の影響を受けることなく一定に保持さ
れる。また、この場合に処理槽に供給すべき純水の一部
を処理槽の下限レベルに合わせて他成分の薬液よりも先
に供給しておくことにより、次の工程で純水以外の薬液
を供給した際に薬液のミスト発生が防げて安全性の面か
らも有利となる。
【００１３】一方、処理槽に供給する薬液の混合比率を
変更する場合でも、秤量槽で設定した純水以外の薬液採
取の定量レベルを新たな混合比率に合わせて調整するだ
けで、処理槽に対するレベルセンサは固定のままで薬液
の定量供給が行える。
変更する場合でも、秤量槽で設定した純水以外の薬液採
取の定量レベルを新たな混合比率に合わせて調整するだ
けで、処理槽に対するレベルセンサは固定のままで薬液
の定量供給が行える。
【００１４】
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。なお、実施例の図中で図３，図４に対応する同一部
材には同じ符号が付してある。まず、図２は本発明の薬
液定量供給方法の実施に使用する薬液定量供給装置の構
成図であり、図３に示した従来装置と比べて、純水を定
量採取する秤量槽（図３における秤量槽４Ａ）が無く、
超純水貯蔵タンク（図示せず）から引出した純水供給管
１４が薬液供給弁５Ａを介して処理槽１に上方に直接臨
むように配管されている。また、処理槽１の内槽１ａに
は下限レベルH5を検出するレベルセンサ１５が新たに装
備されている。この下限レベルH5は、薬液混合比の可変
範囲内で処理槽１に供給すべき超純水（ＤＩＷ）の最小
容量に対応したレベルよりも低いレベルに設定されてお
り、処理槽内に純水以外の薬液を供給する過程で薬液ミ
ストが発生するのを防止するために、他の薬液供給に先
立って処理槽内に供給する僅かな量の超純水を検出する
役目を果たす。
る。なお、実施例の図中で図３，図４に対応する同一部
材には同じ符号が付してある。まず、図２は本発明の薬
液定量供給方法の実施に使用する薬液定量供給装置の構
成図であり、図３に示した従来装置と比べて、純水を定
量採取する秤量槽（図３における秤量槽４Ａ）が無く、
超純水貯蔵タンク（図示せず）から引出した純水供給管
１４が薬液供給弁５Ａを介して処理槽１に上方に直接臨
むように配管されている。また、処理槽１の内槽１ａに
は下限レベルH5を検出するレベルセンサ１５が新たに装
備されている。この下限レベルH5は、薬液混合比の可変
範囲内で処理槽１に供給すべき超純水（ＤＩＷ）の最小
容量に対応したレベルよりも低いレベルに設定されてお
り、処理槽内に純水以外の薬液を供給する過程で薬液ミ
ストが発生するのを防止するために、他の薬液供給に先
立って処理槽内に供給する僅かな量の超純水を検出する
役目を果たす。
【００１５】次に上記した薬液定量供給装置を用いて行
う処理槽１への薬液定量供給方法を図１に基づいて説明
する。まず、第一の工程では薬液供給弁５Ａを開放し、
純水供給管１４を通じて処理槽１の下限レベルH5まで超
純水（ＤＩＷ）を直接供給する。一方、純水以外の薬液
成分である過酸化水素（Ｈ2 Ｏ2 ），水酸化アンモニウ
ム（ＮＨ4 ＯＨ）は、所定の混合比率に合わせて個々に
秤量槽４Ｂ，４Ｃで定量採取しておく。そして、処理槽
１に超純水の一部を供給（第一の工程）した後に、第二
の工程では薬液払出弁６Ｂ，６Ｃを開放して秤量槽４
Ｂ，４Ｃに定量採取しておいた薬液（過酸化水素，水酸
化アンモニウム）を同時または順に処理槽１に供給す
る。なお、この時点では先に処理槽１の底部に若干量の
純水が溜まっているので薬液ミストの発生が抑えられ
る。そして、最後の第三工程で再び純水供給管１４の薬
液供給弁５Ａを開いて超純水を処理槽１に供給し、先に
供給された薬液と合計した総容量が処理槽１の定量レベ
ルH5に達したところで定量レベルセンサ１５の検出信号
を基に薬液供給弁５Ａを閉じる。これにより、処理槽１
には所定の混合比率で採取した各成分の薬液が定量レベ
ルH5に合わせて定量供給されることになる。
う処理槽１への薬液定量供給方法を図１に基づいて説明
する。まず、第一の工程では薬液供給弁５Ａを開放し、
純水供給管１４を通じて処理槽１の下限レベルH5まで超
純水（ＤＩＷ）を直接供給する。一方、純水以外の薬液
成分である過酸化水素（Ｈ2 Ｏ2 ），水酸化アンモニウ
ム（ＮＨ4 ＯＨ）は、所定の混合比率に合わせて個々に
秤量槽４Ｂ，４Ｃで定量採取しておく。そして、処理槽
１に超純水の一部を供給（第一の工程）した後に、第二
の工程では薬液払出弁６Ｂ，６Ｃを開放して秤量槽４
Ｂ，４Ｃに定量採取しておいた薬液（過酸化水素，水酸
化アンモニウム）を同時または順に処理槽１に供給す
る。なお、この時点では先に処理槽１の底部に若干量の
純水が溜まっているので薬液ミストの発生が抑えられ
る。そして、最後の第三工程で再び純水供給管１４の薬
液供給弁５Ａを開いて超純水を処理槽１に供給し、先に
供給された薬液と合計した総容量が処理槽１の定量レベ
ルH5に達したところで定量レベルセンサ１５の検出信号
を基に薬液供給弁５Ａを閉じる。これにより、処理槽１
には所定の混合比率で採取した各成分の薬液が定量レベ
ルH5に合わせて定量供給されることになる。
【００１６】また、処理槽１に供給する薬液の混合比率
を変更する場合には、処理槽１の装備した各種レベルセ
ンサは固定のまま、秤量槽４Ｂ，４Ｃに設置した定量レ
ベルセンサ１２（図２参照）の検出レベルを新たな混合
比に合わせて調整し、処理槽１に供給する薬液総容量を
一定のまま純水以外の薬液（過酸化水素，水酸化アンモ
ニウム）を秤量槽４Ｂ，４Ｃで秤量した後に前記方法と
同様な順序で各成分の薬液を処理槽１に供給する。これ
により、処理槽１に供給すべき超純水容量は所定レベル
H5から先に供給した秤量済みの他の薬液量を差し引いた
残り量として自動的に決定されることになる。
を変更する場合には、処理槽１の装備した各種レベルセ
ンサは固定のまま、秤量槽４Ｂ，４Ｃに設置した定量レ
ベルセンサ１２（図２参照）の検出レベルを新たな混合
比に合わせて調整し、処理槽１に供給する薬液総容量を
一定のまま純水以外の薬液（過酸化水素，水酸化アンモ
ニウム）を秤量槽４Ｂ，４Ｃで秤量した後に前記方法と
同様な順序で各成分の薬液を処理槽１に供給する。これ
により、処理槽１に供給すべき超純水容量は所定レベル
H5から先に供給した秤量済みの他の薬液量を差し引いた
残り量として自動的に決定されることになる。
【００１７】一方、処理槽への薬液供給の過程で薬液ミ
ストの発生を考慮する必要のない場合、つまり薬液の供
給順序が問題とならない場合には、図２で述べた下限レ
ベルセンサ１５を省略し、薬液の供給順序として、第一
の工程では純水以外の薬液を秤量して先に処理槽に供給
し、しかる後に第二の工程で処理槽１で設定した定量レ
ベルH5に合わせて超純水を供給する方法で実施すること
もできる。
ストの発生を考慮する必要のない場合、つまり薬液の供
給順序が問題とならない場合には、図２で述べた下限レ
ベルセンサ１５を省略し、薬液の供給順序として、第一
の工程では純水以外の薬液を秤量して先に処理槽に供給
し、しかる後に第二の工程で処理槽１で設定した定量レ
ベルH5に合わせて超純水を供給する方法で実施すること
もできる。
【００１８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、処
理槽への薬液定量供給に際して、純水を秤量するための
秤量槽が不要となるほか、薬液の混合比率を変更する場
合でも処理槽に設置したレベルセンサを固定のまま秤量
量の定量レベルセンサを調整するだけで即対応できるな
ど、ウエットステーション設備の簡略化に加えてレベル
調整の簡易な薬液定量供給方法，および装置を提供する
ことができる。また、処理槽に下限レベルを設定して処
理槽に供給すべき純水の一部を最初の工程で供給するこ
とにより、あとから他の薬液を供給した際に処理槽内で
薬液ミストの発生を抑えることがでるので、これにより
作業環境に対する安全性が向上する。
理槽への薬液定量供給に際して、純水を秤量するための
秤量槽が不要となるほか、薬液の混合比率を変更する場
合でも処理槽に設置したレベルセンサを固定のまま秤量
量の定量レベルセンサを調整するだけで即対応できるな
ど、ウエットステーション設備の簡略化に加えてレベル
調整の簡易な薬液定量供給方法，および装置を提供する
ことができる。また、処理槽に下限レベルを設定して処
理槽に供給すべき純水の一部を最初の工程で供給するこ
とにより、あとから他の薬液を供給した際に処理槽内で
薬液ミストの発生を抑えることがでるので、これにより
作業環境に対する安全性が向上する。
【図１】本発明実施例の薬液定量供給方法の工程を表す
図
図
【図２】本発明実施例の薬液定量供給装置の構成図
【図３】従来における薬液定量供給装置の構成図
【図４】図３による薬液定量供給方法の工程を表す図
１ 処理槽 ４Ｂ 秤量槽 ４Ｃ 秤量槽 ８ 定量レベルセンサ １４ 純水供給管 １５ 下限レベルセンサ
Claims (3)
- 【請求項１】半導体ウェーハなどのプロセス処理工程
で、純水を含む２種類以上の薬液を所定の混合比率に定
量採取して処理槽へ供給する薬液定量供給方法であっ
て、薬液総容量に対応する定量レベル，および混合比可
変範囲における純水最小容量以下の液量に対応する下限
レベルを設定した処理槽に対して、前記下限レベルに合
わせて処理槽に供給すべき純水容量の一部を処理槽に供
給する第一の工程と、純水以外の薬液を秤量槽で定量採
取して処理槽に供給する第二の工程と、前記定量レベル
に合わせて純水の残り容量を処理槽に供給する第三の工
程とからなる処理槽への薬液定量供給方法。 - 【請求項２】半導体ウェーハなどのプロセス処理工程
で、純水を含む２種類以上の薬液を所定の混合比率に定
量採取して処理槽へ供給する薬液定量供給方法であっ
て、混合薬液の総容量に対応する定量レベルを設定した
処理槽に対して、純水以外の薬液を秤量槽で定量採取し
て処理槽に供給する第一の工程と、前記定量レベルに合
わせて純水を処理槽に供給する第二の工程とからなる処
理槽への薬液定量供給方法。 - 【請求項３】処理槽に対して薬液総容量に対応する定量
レベル，および混合比可変範囲における純水最小容量以
下に液量に対応する下限レベルを検出するレベルセンサ
と、処理槽に純水を直接供給する純水供給ラインと、純
水以外の薬液を定量採取する秤量槽とを装備したことを
特徴とする請求項１記載の薬液定量供給方法の実施に使
用する薬液定量供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10330792A JPH05299403A (ja) | 1992-04-23 | 1992-04-23 | 処理槽への薬液定量供給方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10330792A JPH05299403A (ja) | 1992-04-23 | 1992-04-23 | 処理槽への薬液定量供給方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05299403A true JPH05299403A (ja) | 1993-11-12 |
Family
ID=14350570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10330792A Pending JPH05299403A (ja) | 1992-04-23 | 1992-04-23 | 処理槽への薬液定量供給方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05299403A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010232520A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 処理液供給装置および処理液供給方法 |
-
1992
- 1992-04-23 JP JP10330792A patent/JPH05299403A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010232520A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 処理液供給装置および処理液供給方法 |
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