JPH10256217A - 薬液供給装置 - Google Patents
薬液供給装置Info
- Publication number
- JPH10256217A JPH10256217A JP5748997A JP5748997A JPH10256217A JP H10256217 A JPH10256217 A JP H10256217A JP 5748997 A JP5748997 A JP 5748997A JP 5748997 A JP5748997 A JP 5748997A JP H10256217 A JPH10256217 A JP H10256217A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chemical
- valve
- tank
- storage tank
- chemical solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理槽等にリークがあった場合確実にそれを
検出し薬液の供給を停止できる薬液供給装置を提供す
る。 【解決手段】 薬液の貯留槽11aと、前記貯留槽11
aから薬液の供給を受ける処理槽1と、前記貯留槽11
aと前記処理槽1の間に配置されたバルブ3aと、前記
バルブ3aの開閉を制御するための制御装置とを備えた
薬液供給装置において、前記制御装置に前記バルブ3a
の単位時間当たりの動作回数を計数するカウンタ16を
備え、前記カウンタ16のカウント値が所定値以上とな
るとき前記バルブ3aを閉め、処理槽1等にリークがあ
った場合確実にそれを検出し薬液の供給を停止する。
検出し薬液の供給を停止できる薬液供給装置を提供す
る。 【解決手段】 薬液の貯留槽11aと、前記貯留槽11
aから薬液の供給を受ける処理槽1と、前記貯留槽11
aと前記処理槽1の間に配置されたバルブ3aと、前記
バルブ3aの開閉を制御するための制御装置とを備えた
薬液供給装置において、前記制御装置に前記バルブ3a
の単位時間当たりの動作回数を計数するカウンタ16を
備え、前記カウンタ16のカウント値が所定値以上とな
るとき前記バルブ3aを閉め、処理槽1等にリークがあ
った場合確実にそれを検出し薬液の供給を停止する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は薬液供給装置に関
し、更に詳しくは半導体のウェハの洗浄槽等に薬液を重
力補充方式で供給する薬液供給装置に関する。
し、更に詳しくは半導体のウェハの洗浄槽等に薬液を重
力補充方式で供給する薬液供給装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の重力補充方式の薬液供給装置で
は、薬液が減少したら処理槽に設けられた液面センサと
連動して、減少した薬液を上方に位置する秤量槽から、
直接一定量補充する様になっているが、もし処理槽やジ
ョイント部等でリークが発生した場合、通常のリークで
はこれが検出され、補充液の供給が停止されるが、リー
クの状況が少量で連続して流出した場合、リークセンサ
が動作しない状況が生じていた。その時には、オペレー
ターが気付くまで延々と薬液が供給され続けることにな
り、薬液の大量流出が生じる可能性があった。
は、薬液が減少したら処理槽に設けられた液面センサと
連動して、減少した薬液を上方に位置する秤量槽から、
直接一定量補充する様になっているが、もし処理槽やジ
ョイント部等でリークが発生した場合、通常のリークで
はこれが検出され、補充液の供給が停止されるが、リー
クの状況が少量で連続して流出した場合、リークセンサ
が動作しない状況が生じていた。その時には、オペレー
ターが気付くまで延々と薬液が供給され続けることにな
り、薬液の大量流出が生じる可能性があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明が解決し
ようとする課題は処理槽等にリークがあった場合確実に
それを検出し薬液の供給を停止できる薬液供給装置を提
供することである。
ようとする課題は処理槽等にリークがあった場合確実に
それを検出し薬液の供給を停止できる薬液供給装置を提
供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の請求項1に係る本発明の薬液供給装置は薬液の貯留槽
と、前記貯留槽から薬液の供給を受ける処理槽と、前記
貯留槽と前記処理槽の間に配置されたバルブと、前記バ
ルブの開閉を制御するための制御装置とを備えた薬液供
給装置において、前記制御装置に前記バルブの単位時間
当たりの動作回数を計数するカウンタを備え、前記カウ
ンタのカウント値が所定値以上となるとき前記バルブを
閉めることを特徴とする構成とし、処理槽等にリークが
あった場合確実にそれを検出し薬液の供給を停止する。
の請求項1に係る本発明の薬液供給装置は薬液の貯留槽
と、前記貯留槽から薬液の供給を受ける処理槽と、前記
貯留槽と前記処理槽の間に配置されたバルブと、前記バ
ルブの開閉を制御するための制御装置とを備えた薬液供
給装置において、前記制御装置に前記バルブの単位時間
当たりの動作回数を計数するカウンタを備え、前記カウ
ンタのカウント値が所定値以上となるとき前記バルブを
閉めることを特徴とする構成とし、処理槽等にリークが
あった場合確実にそれを検出し薬液の供給を停止する。
【0005】
【発明の実施の形態】次に本発明の好適な実施の形態に
ついて、図1を参照しつつ説明する。図1は本発明に係
る薬液供給装置の概略の原理図であり、ここでは重力補
充方式による半導体ウェハの洗浄装置を例にしている。
処理槽1は、ここでは2種の薬液が満たされ、半導体ウ
ェハ等が浸漬されて洗浄処理を行うようになされてお
り、その外側は外槽2が囲むように配置されており、外
槽2には第1バルブ3a、第2バルブ3bを介して第1
薬液4a、第2薬液4bが供給されている。
ついて、図1を参照しつつ説明する。図1は本発明に係
る薬液供給装置の概略の原理図であり、ここでは重力補
充方式による半導体ウェハの洗浄装置を例にしている。
処理槽1は、ここでは2種の薬液が満たされ、半導体ウ
ェハ等が浸漬されて洗浄処理を行うようになされてお
り、その外側は外槽2が囲むように配置されており、外
槽2には第1バルブ3a、第2バルブ3bを介して第1
薬液4a、第2薬液4bが供給されている。
【0006】そして、外槽2の外部には外槽2から混合
した薬液5を取り出し、処理槽1にこれを供給するポン
プ6を備え、またポンプ6とフィルタ7の間には薬液の
リークを検出するためのリークセンサ8が設けられてい
る。そして処理槽1の上部には、第1の薬液4aが満た
された第1供給槽9aが配置され、第1の薬液4aは秤
量槽10a、第3バルブ3cを経て第1貯留槽11aに
供給される。第1貯留槽11aには薬液の液面を検知す
る上限センサ13aと下限センサ14aが備えられてい
る。
した薬液5を取り出し、処理槽1にこれを供給するポン
プ6を備え、またポンプ6とフィルタ7の間には薬液の
リークを検出するためのリークセンサ8が設けられてい
る。そして処理槽1の上部には、第1の薬液4aが満た
された第1供給槽9aが配置され、第1の薬液4aは秤
量槽10a、第3バルブ3cを経て第1貯留槽11aに
供給される。第1貯留槽11aには薬液の液面を検知す
る上限センサ13aと下限センサ14aが備えられてい
る。
【0007】また、処理槽1の上部には、第2の薬液4
bが満たされた第2供給槽9bが配置され、第2の薬液
4bは秤量槽10b、第4バルブ3dを経て第2貯留槽
11bに供給される。第2貯留槽11bには薬液の液面
を検知する上限センサ13bと下限センサ14bが備え
られている。
bが満たされた第2供給槽9bが配置され、第2の薬液
4bは秤量槽10b、第4バルブ3dを経て第2貯留槽
11bに供給される。第2貯留槽11bには薬液の液面
を検知する上限センサ13bと下限センサ14bが備え
られている。
【0008】そして第1バルブ3a、第2バルブ3b、
第3バルブ3c、第4バルブ3dは電気系統を介して制
御装置15に接続されている。また制御装置15には上
限センサ13a、13b、下限センサ14a、14bが
接続されその出力を受けるようになされている。
第3バルブ3c、第4バルブ3dは電気系統を介して制
御装置15に接続されている。また制御装置15には上
限センサ13a、13b、下限センサ14a、14bが
接続されその出力を受けるようになされている。
【0009】そして本発明では特に第1バルブ3a、第
2バルブ3bと制御装置15の間にバルブの単位時間当
たりの動作回数を計数するカウンタ16が設けてある。
このカウンタ16は制御装置15の中に含めて構成して
も良く、要はバルブの単位時間当たりの動作回数をカウ
ントできればどのような形でも良い。
2バルブ3bと制御装置15の間にバルブの単位時間当
たりの動作回数を計数するカウンタ16が設けてある。
このカウンタ16は制御装置15の中に含めて構成して
も良く、要はバルブの単位時間当たりの動作回数をカウ
ントできればどのような形でも良い。
【0010】以上のように構成された薬液供給装置は、
処理槽1の薬液5が減少したら第1バルブ3a、第2バ
ルブ3bが制御装置15の制御の下に開き、上部の第
1、第2の貯留槽11a、11bから薬液を外槽2へ供
給、ポンプ6、フィルタ7を介して処理槽1へ補充され
る様になっている。第1、第2の貯留槽11a、11b
の薬液は、減少した分だけ第1、第2供給槽9a、9b
から供給され補充される。
処理槽1の薬液5が減少したら第1バルブ3a、第2バ
ルブ3bが制御装置15の制御の下に開き、上部の第
1、第2の貯留槽11a、11bから薬液を外槽2へ供
給、ポンプ6、フィルタ7を介して処理槽1へ補充され
る様になっている。第1、第2の貯留槽11a、11b
の薬液は、減少した分だけ第1、第2供給槽9a、9b
から供給され補充される。
【0011】ここで図1のようにポンプ6やフィルタ7
のジョイント、処理槽1等でリークが発生した場合は、
リークセンサ8が働いて薬液の供給をストップする様に
なっているが、リークが少量の場合、あるいは何らかの
トラブルで、リークセンサ8が作動しない可能性があ
る。そうなると、リーク分の薬液が延々と補充され続
け、そのままにしておくと薬液の大量流出が生じるおそ
れがある。
のジョイント、処理槽1等でリークが発生した場合は、
リークセンサ8が働いて薬液の供給をストップする様に
なっているが、リークが少量の場合、あるいは何らかの
トラブルで、リークセンサ8が作動しない可能性があ
る。そうなると、リーク分の薬液が延々と補充され続
け、そのままにしておくと薬液の大量流出が生じるおそ
れがある。
【0012】そこで、薬液補充用の第1、第2バルブ3
a、3bの動作回数に時間制限を設定する。即ち第1、
第2貯留槽11a、11bから薬液を補充するときに第
1、第2バルブ3a、3bが開閉するが、この回数が一
定時間の間にある回数を超えたとき、薬液の補充をバル
ブを閉めることによって強制遮断することによって、少
量のリークが連続するときの上記トラブルを解消した。
このとき、同時に第3、第4バルブ3c、3dも閉めて
も良い。
a、3bの動作回数に時間制限を設定する。即ち第1、
第2貯留槽11a、11bから薬液を補充するときに第
1、第2バルブ3a、3bが開閉するが、この回数が一
定時間の間にある回数を超えたとき、薬液の補充をバル
ブを閉めることによって強制遮断することによって、少
量のリークが連続するときの上記トラブルを解消した。
このとき、同時に第3、第4バルブ3c、3dも閉めて
も良い。
【0013】
【発明の効果】薬液のリークがあった場合には確実にバ
ルブを閉塞し、薬液の不所望な流出を防ぐことができる
薬液供給装置を提供できる。
ルブを閉塞し、薬液の不所望な流出を防ぐことができる
薬液供給装置を提供できる。
【図1】 本発明の薬液供給装置の概略原理図。
1…処理槽、2…外槽、3a…第1バルブ、3b…第2
バルブ、3c…第3バルブ、3d…第4バルブ、4a…
第1の薬液、4b…第2の薬液、5…混合薬液、6…ポ
ンプ、7…フィルタ、8…リークセンサ、9a…第1供
給槽、9b…第2供給槽、10a…第1秤量槽、10b
…第2秤量槽、11a…第1貯留槽、11b…第2貯留
槽、13a,13b…上限センサ、14a,14b…下
限センサ、15…制御装置、16…カウンタ
バルブ、3c…第3バルブ、3d…第4バルブ、4a…
第1の薬液、4b…第2の薬液、5…混合薬液、6…ポ
ンプ、7…フィルタ、8…リークセンサ、9a…第1供
給槽、9b…第2供給槽、10a…第1秤量槽、10b
…第2秤量槽、11a…第1貯留槽、11b…第2貯留
槽、13a,13b…上限センサ、14a,14b…下
限センサ、15…制御装置、16…カウンタ
Claims (3)
- 【請求項1】 薬液の貯留槽と、 前記貯留槽から薬液の供給を受ける処理槽と、 前記貯留槽と前記処理槽の間に配置されたバルブと、 前記バルブの開閉を制御するための制御装置とを備えた
薬液供給装置において、 前記制御装置に前記バルブの単位時間当たりの動作回数
を計数するカウンタを備え、 前記カウンタのカウント値が所定値以上となるとき前記
バルブを閉めることを特徴とする薬液供給装置。 - 【請求項2】 前記処理槽の外側を外槽で囲み、 該外槽と処理槽の間に前記バルブを介して薬液を供給す
るごとくなした請求項1に記載の薬液供給装置。 - 【請求項3】 第1薬液貯留槽と、 第2薬液貯留槽と、 前記第1貯留槽と前記第2貯留槽から薬液の供給を受け
る処理槽と、 前記第1貯留槽と前記処理槽の間に配置された第1バル
ブと、 前記第2貯留槽と前記処理槽の間に配置された第2バル
ブと、前記第1、第2バルブの開閉を制御するための制
御装置とを備えた薬液供給装置において、 前記制御装置に前記バルブの単位時間当たりの動作回数
を計数するカウンタを備え、 前記カウンタのカウント値が所定値以上となるとき前記
第1、第2バルブを閉めることを特徴とする薬液供給装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5748997A JPH10256217A (ja) | 1997-03-12 | 1997-03-12 | 薬液供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5748997A JPH10256217A (ja) | 1997-03-12 | 1997-03-12 | 薬液供給装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10256217A true JPH10256217A (ja) | 1998-09-25 |
Family
ID=13057144
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5748997A Pending JPH10256217A (ja) | 1997-03-12 | 1997-03-12 | 薬液供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10256217A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014236079A (ja) * | 2013-05-31 | 2014-12-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 |
-
1997
- 1997-03-12 JP JP5748997A patent/JPH10256217A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014236079A (ja) * | 2013-05-31 | 2014-12-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 |
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