KR100926159B1 - 약액 공급 장치 - Google Patents

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KR100926159B1
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배정용
강병철
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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치는, 노즐, 약액이 저장되는 하나의 저장탱크, 상기 저장탱크의 약액을 상기 노즐에 공급하는 공급부, 둘 이상의 약액을 상기 저장탱크에 공급하는 제 1 공급라인, 및 상기 저장탱크 내 약액의 수위가 기준치 이하일 경우, 약액을 상기 저장탱크에 공급하여 보충하는 제 2 공급라인을 포함한다. 본 발명에 의하면, 저장탱크를 하나만 구비하고 저장탱크 내 약액의 수위가 기준치 이하일 경우 별도의 공급라인을 통해 약액을 저장탱크에 보충함으로써, 약액의 농도를 보정하고 노즐에 약액을 연속적으로 공급할 수 있다.
약액, 저장탱크, 혼합탱크, 노즐

Description

약액 공급 장치{CHEMICAL SUPPLY APPARATUS}
본 발명은 약액 공급 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 소자 제조시 웨이퍼 상에 소정의 약액을 토출하도록 노즐에 약액을 공급하는 약액 공급 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 소자는 웨이퍼 상에 소정의 막을 형성하고, 그 막을 전기적 특성을 갖는 패턴으로 형성함으로써 제조된다. 상기 패턴은 막 형성, 포토리소그래피, 식각, 이온 주입, 연마 등과 같은 단위 공정들의 순차적 또는 반복적인 수행에 의해 형성된다. 이러한 각 공정에 있어서, 약액이 사용될 때에는 별도의 약액 공급 장치를 통해 공정 처리 장치에 약액이 공급된다.
도 1은 일반적인 약액 공급 장치의 구성을 도시한 개략도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 일반적인 약액 공급 장치는 노즐(10)과, 약액이 저장되는 둘 이상의 저장탱크, 예를 들어, 제 1 및 제 2 저장탱크(21)(22)와, 제 1 및 제 2 저장탱크(21)(22)의 약액을 순환시키는 순환부(30)와, 제 1 및 제 2 저장탱크(21)(22)의 약액을 노즐(10)에 공급하는 공급부(30) 등을 구비한다.
상기와 같은 일반적인 약액 공급 장치는 둘 이상의 저장탱크(21)(22)를 구비 하고 초순수(Diw) 및 약액(Chemical)이 각각의 저장탱크에 공급되면 하나의 저장탱크에서 노즐(10)에 약액을 공급하는 동안에 다른 하나의 저장탱크에서는 약액 교환을 위해 항상 준비하게 된다.
즉, 종래에는 두 개의 저장탱크를 전환하여 사용하므로 하나의 저장탱크 내의 약액을 소모하고 전환시 약액 교환이 필요하며 약액 교환 시간에는 전환이 불가하다. 따라서, 노즐에 약액을 연속적으로 공급하지 못하는 문제가 있다.
또한, 약액 교환시 저장탱크 내에 잔류하는 약액을 드레인하게 되므로 약액의 소모량이 많다.
본 발명은 상기와 같은 점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 반도체 공정 처리 장치에 약액을 연속적으로 공급할 수 있는 약액 공급 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해되어질 수 있을 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치는, 노즐, 약액이 저장되는 하나의 저장탱크, 상기 저장탱크의 약액을 상기 노즐에 공급하는 공급부, 둘 이상의 약액을 상기 저장탱크에 공급하는 제 1 공급라인, 및 상기 저장탱크 내 약액의 수위가 기준치 이하일 경우 약액을 상기 저장탱크에 공급하여 보충하는 제 2 공급라인을 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
상기한 바와 같은 본 발명의 약액 공급 장치에 따르면 다음과 같은 효과가 하나 혹은 그 이상 있다.
첫째, 저장탱크를 하나만 구비하고 저장탱크 내 약액의 수위가 기준치 이하 일 경우 별도의 공급라인을 통해 약액을 저장탱크에 보충함으로써, 약액의 농도를 보정하고 노즐에 약액을 연속적으로 공급할 수 있다.
둘째, 저장탱크 내의 약액을 교환할 필요가 없으므로 잔류 약액의 소모 및 약액 교환에 따른 시간 소모 등을 방지할 수 있다.
본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 약액 공급 장치를 상세히 설명하기로 한다. 참고로 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치의 구성을 도시한 개략도 이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치는 노즐(100), 저장탱크(200), 혼합탱크(300), 공급부(400), 제 1 공급라인(500) 및 제 2 공급라인(600) 등을 구비한다.
노즐(100)은 반도체 소자 제조시 웨이퍼 상에 소정의 약액을 토출하기 위해 적어도 하나 이상 구비된다.
저장탱크(200)는 노즐(100)에 공급되는 약액을 저장할 수 있도록 소정의 체적을 갖는 탱크로서 하나만 구비된다.
저장탱크(200)는 후술할 혼합탱크(300)를 통해 유입되는 혼합 약액을 소정의 약액 조건, 예컨대 약액의 농도 및 온도 조건에 부합하도록 저장한다. 이를 위해, 도면에 도시된 바 없지만, 저장탱크에는 약액의 농도 및 온도를 체크하기 위한 농도 체크부 및 온도 체크부와, 상기 농도 체크부 및 온도 체크부에 의해 체크된 저장탱크 내의 약액 농도 및 온도를 보정하기 위한 농도 보정부 및 온도 보정부 등을 구비할 수 있다.
저장탱크(200)의 일측에는 저장탱크(200) 내의 잔류 약액을 필요에 따라 외부로 드레인하기 위한 드레인부(210)가 설치될 수 있다.
혼합탱크(300)는 후술할 제 1 공급라인(500) 상에 설치되며, 저장탱크(200)로 약액을 공급하기 이전 단계에서 둘 이상의 약액을 혼합하여 임시 저장하기 위한 탱크이다. 혼합탱크(300)는 저장탱크(200)에 비해 탱크의 체적이 작은 것이 바람직하다.
공급부(400)는 저장탱크(200)의 약액을 노즐에 공급하도록 배관, 펌프 및 밸브 등으로 구성될 수 있다.
제 1 공급라인(500)은 초순수(Diw)와 둘 이상의 약액(Chemical1)(Chemical2)을 저장탱크(200)에 공급하도록 초순수부(1) 및 약액부(2,3)와 저장탱크(200)를 연결한다.
제 1 공급라인(500) 상에는 둘 이상의 약액을 혼합하여 저장탱크(200)에 공급하도록 혼합밸브(510) 및 혼합탱크(300) 등이 설치될 수 있다.
제 1 공급라인(500) 상에는 초순수 및 약액의 유량을 제어하는 유량 제어부(520)가 설치될 수 있다. 보다 상세하게는, 유량 제어부(520)는 초순수(Diw)의 유량을 제어하기 위한 정압밸브(521)와, 둘 이상의 약액(Chemical1)(Chemical2)의 유량을 제어하기 위한 LFC(Liquid Flow controller)(523)를 포함할 수 있다.
제 1 공급라인(500) 상에는 일정한 량의 약액을 혼합탱크(300) 및 저장탱크(200)에 공급할 수 있도록 인젝터(Injector)(530)를 설치하는 것이 바람직하다.
제 2 공급라인(600)은 저장탱크(200) 내 약액의 수위가 기준치 이하일 경우, 즉 약액의 농도가 일정 레벨 이하일 경우 약액을 저장탱크(200)에 보충하여 저장탱크(200) 내 약액의 농도를 보정할 수 있도록 약액부(2)(3)와 저장탱크(200)를 연결한다.
제 2 공급라인(600)은 둘 이상의 약액을 각각 별개의 라인으로 동시에 공급하도록 적어도 2개 이상의 배관을 구비할 수 있다.
상기와 같이 구성된 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치는, 초순 수(Diw) 및 둘 이상의 약액(Chemical1)(Chemical2)이 제 1 공급라인(600)을 통해 혼합탱크(300) 내에서 혼합된 후 하나의 저장탱크(200)로 공급되어 저장되고, 공급부(400)의 작동에 의해 저장탱크(200) 내의 약액이 노즐(100)에 공급된다.
이때, 저장탱크(200)에서는 혼합탱크(300)를 통해 유입되는 혼합 약액을 소정의 약액 조건, 예컨대 약액의 농도 및 온도 조건에 부합하도록 저장한다. 예를 들어, 저장탱크(200)에서는 농도 체크부와 온도 체크부가 약액의 농도와 온도를 각각 체크하고, 상기 농도 체크부 및 온도 체크부에 의해 체크된 저장탱크(200) 내의 약액 농도 및 온도를 농도 보정부 및 온도 보정부에서 보정한다.
본 실시예에서는 하나의 저장탱크(200)를 구비하고 저장탱크(200) 내 약액의 농도 변화시 이를 보정할 수 있도록 약액부(2)(3)와 저장탱크(200)를 보조적으로 연결하는 제 2 공급라인(600)을 구비하고 제 2 공급라인(600)을 통해 둘 이상의 약액을 각각 별개의 라인으로 저장탱크(200)에 동시 공급한다.
따라서, 저장탱크(200) 내 약액의 수위가 기준치 이하일 경우, 즉 약액의 농도가 일정 레벨 이하일 경우 제 2 공급라인(600)을 통해 약액을 저장탱크(200)에 보충하여 약액의 농도를 보정함으로써, 노즐(100)에 약액을 연속적으로 공급할 수 있다. 즉, 저장탱크(200) 내의 약액을 교환할 필요가 없으므로 잔류 약액의 소모 및 약액 교환에 따른 시간 소모 등을 방지할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
도 1은 일반적인 약액 공급 장치의 구성을 도시한 개략도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치의 구성을 도시한 개략도.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
100 : 노즐 200 : 저장탱크
300 : 혼합탱크 400 : 공급부
500 : 제 1 공급라인 510 : 혼합밸브
520 : 유량 제어부 521 : 정압밸브
523 : LFC 600 : 제 2 공급라인

Claims (5)

  1. 노즐;
    약액이 저장되는 하나의 저장탱크;
    상기 저장탱크의 약액을 상기 노즐에 공급하는 공급부;
    둘 이상의 약액을 상기 저장탱크에 공급하는 제 1 공급라인; 및
    상기 저장탱크 내 약액의 농도가 기준치 이하일 경우, 약액의 농도를 보정하기 위해 상기 저장탱크에 약액을 보충 공급하는 제 2 공급라인을 포함하는 약액 공급 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 공급라인은 둘 이상의 약액을 각각 별개의 라인으로 동시에 공급하도록 적어도 2 개 이상의 배관을 구비하는 약액 공급 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 공급라인 상에 설치되며, 둘 이상의 약액을 혼합하여 임시 저장하는 혼합탱크를 더 포함하는 약액 공급 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 공급라인 상에 설치되며, 초순수 및 약액의 유량을 제어하는 유량 제어부를 더 포함하는 약액 공급 장치.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 유량 제어부는,
    초순수의 유량을 제어하는 정압밸브; 및
    약액의 유량을 제어하는 LFC(Liquid Flow controller)를 포함하는 약액 공급 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11684955B2 (en) 2019-12-31 2023-06-27 Semes Co., Ltd. Chemical supply unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002270562A (ja) 2001-03-06 2002-09-20 Sanken Electric Co Ltd 半導体ウエハ洗浄法及び洗浄装置
KR20060095640A (ko) * 2005-02-28 2006-09-01 세메스 주식회사 약액 혼합 공급 장치 및 방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002270562A (ja) 2001-03-06 2002-09-20 Sanken Electric Co Ltd 半導体ウエハ洗浄法及び洗浄装置
KR20060095640A (ko) * 2005-02-28 2006-09-01 세메스 주식회사 약액 혼합 공급 장치 및 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11684955B2 (en) 2019-12-31 2023-06-27 Semes Co., Ltd. Chemical supply unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

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