JPH08306654A - 薬液処理装置の中央管理装置 - Google Patents

薬液処理装置の中央管理装置

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JPH08306654A JP19225595A JP19225595A JPH08306654A JP H08306654 A JPH08306654 A JP H08306654A JP 19225595 A JP19225595 A JP 19225595A JP 19225595 A JP19225595 A JP 19225595A JP H08306654 A JPH08306654 A JP H08306654A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 薬液処理装置中央処理装置を提供する。 【解決手段】 薬液処理中央管理装置は、薬液漕、フィ
ルター、ポンプおよびこれらの工程変数を感知するため
の多数のセンサーを具備する薬液処理装置、前記センサ
ーから感知されたデータを表示、貯蔵および処理して前
記データを全体的に中央管理するように前記薬液処理装
置と連結された一つの主コンピューターを具備し、一つ
の主コンピューターを通じて洗浄工程を効率的に中央管
理できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子及び液晶
素子（ＬＣＤ）製造工程における洗浄工程に係り、特に
洗浄工程から発生される工程変数をさらに効率的に管理
しうる薬液処理装置の中央管理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子の高集積化により金属パーテ
ィクルの汚染のような微細汚染に対する管理基準はさら
に厳格になり、これにより、洗浄工程の効率化及び最適
化が要されている。
【０００３】このような洗浄工程の効率化及び最適化は
使用される水を含んだ化学溶液（以下、水を含んだ全て
の化学溶液を薬液と称する）の適切な選択及び開発、使
用温度と濃度の適切な管理と共に使用設備、即ち、薬液
処理装置の主要な工程変数の適切な選択と管理がなされ
なければ不可能である。また、量産ラインで薬液処理装
置の一日処理物量を考慮する時、設備の異常事態の早期
発見による深刻な問題の予防は強いて強調する必要がな
い。
【０００４】しかしながら、現在まで薬液処理装置の主
要な工程変数は全体的な管理でない、個別的、周期的な
管理がなされている実情である。薬液処理装置、特に薬
液漕の周期的、個別的な管理に対しては論文“Adopting
a particle monitoring program for hot-liquid bath
s: a case study ”( Microcontamination May, 1994p.
37参照）に開示されている。前記論文は薬液漕のパー
ティクル数を周期的に測定し、これを参照して薬液処理
装置の主要構成要素、例えばフィルター又はポンプの交
換時期を予測することに対して記述している。しかしな
がら、前記論文による方法は量産ライン内に設けられた
多数の薬液処理装置を周期的、個別的に管理すべきなの
で非効率的である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明は
薬液処理装置に使用される薬液及び主要な構成設備、例
えば、ポンプまたはフィルターなどの主要変数を全体的
に中央管理して多数の薬液処理装置を効率的に管理しう
る装置を提供することをその目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項１記載の薬液中央管理装置は、薬液漕、フィ
ルター、ポンプ及びこれらの工程変数を感知するための
多数のセンサーを具備する薬液処理装置と、前記センサ
ーから感知されたデータを表示、貯蔵及び処理して前記
データを全体的に中央管理するように前記薬液処理装置
と連結された一つの主コンピューターとを備えることを
特徴とするものである。
【０００７】請求項２記載の薬液中央管理装置は、前記
センサーが感知する工程変数は、薬液漕内のパーティク
ル数、薬液漕内の薬液の温度、薬液漕内の薬液の濃度、
フィルターの差動圧力、ポンプのストローク数、ポンプ
の薬液の流れ度及びポンプの圧力中から選ばれた少なく
とも一つであることを特徴とするものである。
【０００８】請求項３記載の薬液中央管理装置は、前記
感知されたデータが前記主コンピューターに実時間示さ
れることを特徴とするものである。
【０００９】請求項４記載の薬液処理装置の中央管理装
置は、前記薬液処理装置は直列、並列及び直並列混合方
式で連結されたことを特徴とするものである。
【００１０】請求項５記載の薬液処理装置の中央管理装
置は、前記薬液処理装置は感知された工程変数値のうち
いずれか一つが与えられた範囲を外れる場合警報がなる
警報装置を具備することを特徴とするものである。
【００１１】請求項６記載の薬液処理装置の中央管理装
置は、前記センサーは前記主コンピューターにより前記
センサーのオン／オフ等が遠隔調整が可能であることを
特徴とするものである。
【００１２】請求項７記載の薬液処理装置の中央管理装
置は、薬液漕、フィルター、ポンプ及びこれらの工程変
数を感知するための多数のセンサーを具備する薬液処理
装置と、前記センサーから感知されたデータを個別的に
管理するように一つの薬液処理装置と個別的に接続され
た多数個の補助コンピューターと、前記センサーから感
知されたデータを表示、貯蔵及び処理して前記データを
全体的に中央管理するように前記薬液処理装置及び補助
コンピューターと連結された一つの主コンピューターと
を具備することを特徴とするものである。
【００１３】請求項８記載の薬液処理装置の中央管理装
置は、半導体素子及び液晶素子の製造ライン内における
中央管理を可能とするように前記多数の補助コンピュー
ター及び一つの主コンピューターと連結された一つの追
加コンピューターをさらに備えることを特徴とする。
【００１４】請求項９記載の薬液処理装置の中央管理装
置は、多数個の前記補助コンピューターと一つの主コン
ピューターはＬＡＮで連結されたことを特徴とするもの
である。
【００１５】請求項１０記載の薬液処理装置の中央管理
装置は、前記センサーは感知された工程変数が与えられ
た範囲の値を外れる場合警報がなる警報装置を具備する
ことを特徴とするものである。
【００１６】請求項１１記載の薬液処理装置の中央管理
装置は、前記工程変数が前記主コンピューター及び補助
コンピューターに同時に実時間示されることを特徴とす
るものである。
【００１７】請求項１２記載の薬液処理装置の中央管理
装置は、前記補助コンピューターは直列、並列及び直並
列混合方式で連結されることを特徴とするものである。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面１、２に基づ
き本発明を詳細に説明する。
【００１９】図１は本発明の第１実施例による薬液処理
装置の中央管理装置の概略図である。
【００２０】図１を参照すれば、参照符号１０は半導体
素子及び液晶素子洗浄工程に使用され多数のセンサーを
具備する薬液処理装置を、２０は前記薬液処理装置のセ
ンサーから感知されたデータを表示、貯蔵および処理し
て前記データを中央管理するように前記薬液処理装置１
０と接続された主コンピューターを、３０は前記薬液処
理装置と連結されて必要時警報信号を発生する警報装置
をそれぞれ示す。
【００２１】ここで、前記薬液処理装置１０は直列にｎ
個（ｎ≧１）が連結されたり、並列にｍ個（ｍ≧１）が
連結されて前記主コンピューター２０のポートと接続さ
れ得るが、直列及び並列の混合形態にも連結され得る。
一方、必要により各薬液処理装置１０に一つの警報装置
を設けたり、一つのセンサーに一つの警報装置を設ける
こともできる。
【００２２】一方、前記薬液処理装置１０内に設けられ
たセンサーは洗浄工程の信頼性を決める主要工程変数を
感知するように設けられる。このような主要工程変数と
しては薬液漕内のパーティクル数、薬液の温度及び濃
度、フィルターの差動圧力、ポンプのストローク数、薬
液の流れ速度及びポンプの圧力等がある。
【００２３】即ち、前記主要工程変数を測定するように
前記薬液処理装置１０内に多数のセンサーが設けられ、
半導体素子および液晶素子の量産ライン内に備えられた
多数の薬液処理装置は前記主コンピューター２０と接続
されている。したがって、前記それぞれのセンサーによ
り感知された各薬液処理装置における主要工程変数に対
するデータは主コンピューターに伝送されて中央管理さ
れる。
【００２４】前記薬液処理装置における主要工程変数中
パーティクル数を計数するためのセンサーと、即ち、パ
ーティクルカウンタを例えて本発明の中央管理装置を簡
略に説明する。薬液漕内の前記パーティクル数はある水
準以上になると洗浄工程の信頼性を下げ、製造される半
導体素子の不良を誘発する場合もある。
【００２５】前記パーティクルカウンタは薬液漕内に設
けられて薬液漕内のパーティクルから発散される光を感
知してパーティクル数を計数し、感知されたパーティク
ルの数が電気的な信号に変わって前記主コンピューター
２０に伝送される。以後、各薬液処理装置１０から伝送
された前記パーティクル数は前記主コンピューター２０
に実時間表示、貯蔵及び処理される。この際、必要によ
っては前記感知されたパーティクル数が工程限界値より
多い場合警報がなるように警報装置３０を前記薬液処理
装置１０と連結して設けることができる。また、前記主
コンピュータ２０により前記センサーのオン／オフなど
が遠隔調整され得る。
【００２６】前記方法によれば、半導体素子及び液晶素
子の製造工程で使用される各薬液処理装置の薬液漕内の
パーティクル数を中央の主コンピュータにより管理でき
るので、多数の薬液処理装置を同時に効率的に管理し得
る。
【００２７】同様に、薬液漕内のパーティクル数の以外
に薬液処理装置において洗浄工程の信頼性を決める前記
主要な工程変数も、設けられたセンサーにより各薬液処
理装置から主コンピューターに伝送されて中央管理され
得る。
【００２８】本発明の前記第１実施例によれば、薬液処
理装置で使用される薬液および主要構成設備、例えばポ
ンプまたはフィルターなどの主要な工程変数を一つのコ
ンピューターを通じて全体的に中央管理することにより
半導体素子及び液晶素子の製造ライン内に設けられた多
数の薬液処理装置を効率的に管理することができる。図
２は本発明の第２実施例による薬液処理装置の中央管理
装置の概略図である。第２実施例は各薬液処理装置の個
別的な管理を可能とするように多数の補助コンピュータ
ーを設けたことを除いては前記第１実施例と同一であ
る。図２において、前記図１でと同一な参照符号は同一
な部材を示す。
【００２９】図２を参照すれば、参照符号１０は半導体
素子及び液晶素子洗浄工程に使用され多数のセンサーを
具備する薬液処理装置を、２０は前記薬液処理装置のセ
ンサーから感知されたデータを表示、貯蔵及び処理して
前記データを中央管理するように前記薬液処理装置と接
続された主コンピューターを、３０は前記薬液処理装置
と連結されて必要時警報信号を発生する警報装置を、４
０は前記薬液処理装置と連結されて各薬液処理装置内の
個別的なモニタリングのための補助コンピューターをそ
れぞれ示す。
【００３０】前記補助コンピューター４０は前記薬液処
理装置１０と同様に直列にｎ個（ｎ≧１）が連結された
り、並列にｍ個（ｍ≧１）が連結され得るが、直列およ
び並列の混合形態としても連結され得る。この際、多数
個の前記補助コンピューター４０と一つの前記主コンピ
ューター２０はＬＡＮに連結されることが望ましい。一
方、前記各薬液処理装置と連結された前記補助コンピュ
ーターの以外に半導体素子及び液晶素子製造、特に製造
ライン内に一つの追加コンピューターをさらに設けて製
造ライン内で前記薬液処理装置１０を管理することもで
きる。この際、前記主コンピューター２０を事務室に設
けて事務所における管理を可能とする。
【００３１】本発明の前記第２実施例によれば、薬液処
理装置で使用される薬液及び主要構成設備、例えばポン
プまたはフィルターなどの主要工程変数を一つの主コン
ピューターを通じて全体的に中央管理することにより、
管理の効率を高めるだけでなく、各薬液処理装置と連結
された補助コンピューターを通じて個別的に管理するこ
とができる。
【００３２】以上、本発明の一例として本発明の実施の
形態を限定的に説明したが、これに限定されず、本発明
の思想的範囲内における当該分野の通常の知識を持つ者
により本願発明に対する各種変形が可能なことは明白で
ある。
【００３３】
【発明の効果】前記本発明によれば、一つの主コンピュ
ーターを通じて薬液処理装置の主要工程変数を全体的に
中央管理して半導体素子及び液晶素子の洗浄工程を効率
的に管理することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施例による薬液処理装置の中央
管理装置の概略図である。
【図２】本発明の第２実施例による薬液処理装置の中央
管理装置の概略図である。
【符号の説明】
１０ 薬液処理装置 ２０ 主コンピューター ３０ 警報装置 ４０ 補助コンピューター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/02 7531−3Ｈ Ｇ０５Ｂ 15/02 Ｚ 21/306 Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｊ

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 薬液漕、フィルター、ポンプ及びこれら
    の工程変数を感知するための多数のセンサーを具備する
    薬液処理装置と、 前記センサーから感知されたデータを表示、貯蔵及び処
    理して前記データを全体的に中央管理するように前記薬
    液処理装置と連結された一つの主コンピューターとを備
    えることを特徴とする薬液処理装置の中央管理装置。
  2. 【請求項２】 前記センサーが感知する工程変数は薬液
    漕内のパーティクル数、薬液漕内の薬液温度、薬液漕内
    の薬液濃度、フィルターの差動圧力、ポンプのストロー
    ク数、ポンプの薬液の流れ度及びポンプの圧力中から選
    ばれた少なくとも一つであることを特徴とする請求項１
    記載の薬液処理装置の中央管理装置。
  3. 【請求項３】 前記感知されたデータが前記主コンピュ
    ーターに実時間示されることを特徴とする請求項１記載
    の薬液処理装置の中央管理装置。
  4. 【請求項４】 前記薬液処理装置は直列、並列及び直並
    列混合方式の連結方式中から選ばれた一つの方式で連結
    されたことを特徴とする請求項１記載の薬液処理装置の
    中央管理装置。
  5. 【請求項５】 前記各薬液処理装置は感知された工程変
    数値のうちいずれか一つが与えられた範囲を外れる場合
    警報がなる警報装置を具備することを特徴とする請求項
    １記載の薬液処理装置の中央管理装置。
  6. 【請求項６】 前記センサーは前記主コンピューターに
    よりオン／オフ等の遠隔調整が可能であることを特徴と
    する請求項１記載の薬液処理装置の中央管理装置。
  7. 【請求項７】 薬液漕、フィルター、ポンプ及びこれら
    の工程変数を感知するための多数のセンサーを具備する
    薬液処理装置と、 前記センサーから感知されたデータを個別に管理するよ
    うに一つの薬液処理装置と個別的に接続された多数個の
    補助コンピューターと、 前記センサーから感知されたデータを表示、貯蔵及び処
    理して前記データを全体的に中央管理するように前記薬
    液処理装置及び補助コンピュータと連結された一つの主
    コンピューターとを具備することを特徴とする薬液処理
    装置の中央管理装置。
  8. 【請求項８】 半導体素子及び液晶素子の製造ライン内
    における中央管理できるように前記多数の補助コンピュ
    ーター及び一つの主コンピュータと連結された一つの追
    加コンピューターをさらに備えることを特徴とする請求
    項７記載の薬液処理装置の中央管理装置。
  9. 【請求項９】 多数個の前記補助コンピューターと一つ
    の主コンピューターがＬＡＮに連結されたことを特徴と
    する請求項７記載の薬液処理装置の中央管理装置。
  10. 【請求項１０】 前記センサーは感知された工程変数が
    与えられた範囲の値を外れる場合警報がなる警報装置を
    具備することを特徴とする請求項７記載の薬液処理装置
    の中央管理装置。
  11. 【請求項１１】 前記工程変数が前記主コンピューター
    及び補助コンピューターに同時に実時間示されることを
    特徴とする請求項７記載の薬液処理装置の中央管理装
    置。
  12. 【請求項１２】 前記補助コンピューターは直列、並列
    及び直並列混合方式の連結方式中から選ばれた一つの方
    式で連結されたことを特徴とする請求項７記載の薬液処
    理装置の中央管理装置。
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