JP2506720Y2 - 配管内汚染監視装置 - Google Patents

配管内汚染監視装置

Info

Publication number
JP2506720Y2
JP2506720Y2 JP2844491U JP2844491U JP2506720Y2 JP 2506720 Y2 JP2506720 Y2 JP 2506720Y2 JP 2844491 U JP2844491 U JP 2844491U JP 2844491 U JP2844491 U JP 2844491U JP 2506720 Y2 JP2506720 Y2 JP 2506720Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pipe
contamination
degree
exhaust
limit level
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2844491U
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04120191U (ja
Inventor
民人 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamaha Corp
Original Assignee
Yamaha Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yamaha Corp filed Critical Yamaha Corp
Priority to JP2844491U priority Critical patent/JP2506720Y2/ja
Publication of JPH04120191U publication Critical patent/JPH04120191U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2506720Y2 publication Critical patent/JP2506720Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この考案は、流体配管内の汚染を
自動的に監視する装置に関し、定期的に管内の汚染度を
調べると共に汚染度が所定の限界レベルを越えたときは
警報を発生することにより配管つまりを防止するように
したものである。
【0002】
【従来の技術】従来、各種半導体装置の製造に用いられ
るCVD(ケミカル・ベーパー・デポジション)、PV
D、拡散、ドライエッチング、アッシング等の反応室を
備えた装置にあっては、反応室にて使用済みのガスを排
気配管を介して工場排気路に排出している。この場合、
排気配管が内部の汚染によりつまると、装置の故障や重
大事故を招くことがある。そこで、操作者は、排出ガス
の圧力や排出ガス希釈用のガスの流量等を監視すること
により管内汚染度を推測し、管内汚染度が大きいと判断
すると、排気配管を洗浄したり、新しいものと交換した
りしていた。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】上記した従来技術にお
いて、排出ガスの圧力を測定するのは、反応室の圧力が
一定か知るためであり、希釈用ガスの流量を測定するの
は、排出ガスに対する希釈用ガスの混入度が適正か知る
ためである。従って、排出ガスの圧力や希釈用ガスの流
量は、管内汚染度を忠実に反映したものとはいえず、こ
れらの圧力値や流量値から管内汚染度を正確に推測する
のは容易でなかった。
【0004】その上、(イ)圧力、流量等の測定条件が
曖昧であること、(ロ)人間による読取りには個人差が
あること、(ハ)測定条件の設定の手違いや測定忘れが
発生しやすいことなどの問題点もあった。
【0005】この考案の目的は、配管の内部汚染の監視
を自動化し、配管のつまりを未然に防止することにあ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】この考案による配管内汚
染監視装置は、 (a)被監視配管に対して配管流体に代えて測定流体を
定期的に供給する供給手段と、 (b)前記測定流体が供給されるたびにその流れ状態に
基づいて管内汚染度を検知する検知手段と、 (c)この検知手段で検知された管内汚染度が所定の限
界レベルを越えたか判定する判定手段と、 (d)この判定手段で越えたと判定されるのに応答して
警報を発生する報知手段とをそなえたものである。
【0007】
【作用】この考案の構成によれば、被監視配管には配管
流体の代りに測定流体を流し、その流れの状態(例えば
流量、流速等)に基づいて管内汚染度を検知するので、
正確な汚染度検知が可能である。このような検知動作
は、例えば1週間に1回というように定期的に且つ自動
的に遂行される。そして、管内汚染度が所定の限界レベ
ルを越えたときは、警報が発生される。従って、CVD
装置等の反応室を備えた装置の操作者は、管内汚染につ
いて常時注意を払う必要がなく、警報が発生されたとき
だけ配管の洗浄や交換を行なえばよい。
【0008】
【実施例】図1は、この考案をCVD装置の排気系に適
用した一実施例を示すものである。
【0009】CVD反応室10には、反応ガス源12か
ら各種の反応ガスが供給されている。コンピュータ14
は、反応室10との間で各種の情報Aを授受することに
より反応室10への半導体ウエハの出し入れ、反応室1
0内でのCVD処理等を制御するためのもので、後述の
ようにこの考案を実施するためにも使用される。
【0010】反応室で使用済みのガスEGは、エアー弁
16、排気管18、排気ユニット20及び排気管22を
介して工場排気路24に排出可能になっており、エアー
弁16は、コンピュータ14からの制御信号Bによって
開閉動作が制御される。また、排気ユニット20は、
ポンプ、インバータ等を含むもので、反応室10から
の制御信号Eによって動作の開始又は停止が制御される
ようになっている。
【0011】排気管18において、エアー弁16よりわ
ずかに下流側の部分には、測定ガス源26から減圧弁2
8、流量計30及びエアー弁32を介して例えば純窒素
等の測定ガスMGが導入可能になっている。減圧弁28
は、測定ガスMGを一定の圧力で送出するためのもので
ある。流量計30は、測定ガスMGの流量を測定するた
めのもので、その測定値を表わす流量信号Dはコンピュ
ータ14に供給され、管内汚染度を検知するのに使用さ
れる。エアー弁32は、コンピュータ14からの制御信
号Cによって制御される。
【0012】一例として1週間毎に管内汚染度を検知す
るように汚染監視プログラムを組んだ場合の動作を次に
説明する。
【0013】CVD装置を設置した後1週間経過しない
ときは、電源オンのたびに次のような動作が行なわれ
る。すなわち、コンピュータ14は、電源オンに応じて
制御信号Bによりエアー弁16を開状態とする。このと
き、制御信号Cには変化がなく、エアー弁32は閉じた
ままである。また、コンピュータ14は、電源オンに応
じて反応室10にスタート指令情報を与えて制御信号E
により排気ユニット20の動作を開始させる。この結
果、ガスEGは工場排気路24に排出可能となり、測定
ガスMGは導入されない状態となる。そして、反応室1
0は、CVD処理のための待機状態となり、この後は、
これまで通りCVD処理を行なうことができる。
【0014】次に、CVD装置を設置して1週間が経過
してから最初に電源をオンしたときは、コンピュータ1
4は、制御信号Cによりエアー弁32を開状態とする。
このとき、制御信号Bには変化がないので、エアー弁1
6は閉じたままである。また、反応室10にはスタート
指令情報が与えられないので、排気ユニット20は停止
状態を継続する。この結果、測定ガスMGは、ガスEG
の代りに排気配管を介して工場排気路24に排出され
る。このような測定ガス排出状態において、コンピュー
タ14は、汚染度検出処理、限界レベル判定処理、警報
発生処理等を実行する。
【0015】汚染度検知処理は、流量計30からの流量
信号Dに基づいて排気配管内の汚染度を検知してメモリ
等に記録する処理である。図2に示すように排気管18
等が清浄な状態では、測定ガスMGの流量は大であり、
図3に示すように排気管18等の内部に汚染物質Sが付
着した状態では、測定ガスMGの流量は小であるから、
汚染度情報としては、流量信号Dをそのまま使用できる
が、これを加工して使用してもよい。
【0016】次に、限界レベル判定処理は、汚染度検知
処理でメモリ等に記録された汚染度情報を読出して所定
の限界レベル情報と比較することにより汚染度が限界レ
ベルを越えたか判定する処理である。ここで、限界レベ
ル情報は、配管つまりが生じない範囲で予め定められた
汚染度に対応する限界レベルを表わすもので、ROM等
に記憶されている。
【0017】判定の結果、汚染度が限界レベルを越えて
いないときは、制御信号B及びCによりそれぞれエアー
弁16及び32を開及び閉の状態にすると共に反応室1
0にスタート指令情報を与えて制御信号Eにより排気ユ
ニット20の動作を開始させる。この後の動作は、1週
間が経過しない場合について前述したのと同様である。
【0018】一方、汚染度が限界レベルを越えていると
判定されたときは警報発生処理に移る。この処理では、
コンピュータ14のディスプレイ画面に警報表示するか
又は警報音を発生することにより限界レベルを越える汚
染がある旨報知する。このような警報に応じて排気配管
を洗浄又は交換すれば、配管つまりを未然に防止するこ
とができる。
【0019】なお、警報は、キーボード上でのキー操作
等により停止させることができる。そして、排気配管の
点検整備が終わった後、キー操作により、限界レベルを
越えない場合と同様の動作に移ることができる。
【0020】この後も、1週間を経過しないかしたかに
より上記のような動作が繰返される。そして、各動作毎
に検知した汚染度情報を記録しておき、操作者が希望す
るときにキー操作等により過去の複数回分の汚染度情報
をディスプレイ画面に表示するか又はプリンタでプリン
トアウトするようにしてもよい。
【0021】この考案は、上記実施例に限定されるもの
ではなく、ドライエッチャ、PVD装置、拡散炉、アッ
シング装置等の排気系、各種装置の排水系等にも応用可
能である。また、コンピュータは、CVD制御用のもの
とは別のものを用いてもよい。さらに、コンピュータを
用いずに、ディジタル又はアナログ回路を用いてこの考
案を実施することもできる。
【0022】
【考案の効果】以上のように、この考案によれば、被監
視配管に配管流体に代えて測定流体を定期的に流し、そ
の流れの状態に基づいて管内汚染度を検知し、管内汚染
度が所定の限界レベルを越えたときに警報を発生するよ
うにしたので、管内汚染を正確に且つ自動的に監視する
ことができ、このような監視のために従来必要であった
時間と労力を大幅に節約できる効果が得られるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この考案をCVD装置の排気系に適用した一
実施例を示すブロック図である。
【図2】 排気系清浄時の測定状態を示す配管図であ
る。
【図3】 排気系汚染時の測定状態を示す配管図であ
る。10…CVD反応室、12…反応ガス源、14…コ
ンピュータ、16,32…エアー弁、18,22…排気
管、20…排気ユニット、24…工場排気路、26…測
定ガス源、28…減圧弁、30…流量計。

Claims (1)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)被監視配管に対して配管流体に代え
    て測定流体を定期的に供給する供給手段と、 (b)前記測定流体が供給されるたびにその流れ状態に
    基づいて管内汚染度を検知する検知手段と、 (c)この検知手段で検知された管内汚染度が所定の限
    界レベルを越えたか判定する判定手段と、 (d)この判定手段で越えたと判定されるのに応答して
    警報を発生する報知手段とをそなえた配管内汚染監視装
    置。
JP2844491U 1991-03-30 1991-03-30 配管内汚染監視装置 Expired - Lifetime JP2506720Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2844491U JP2506720Y2 (ja) 1991-03-30 1991-03-30 配管内汚染監視装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2844491U JP2506720Y2 (ja) 1991-03-30 1991-03-30 配管内汚染監視装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04120191U JPH04120191U (ja) 1992-10-27
JP2506720Y2 true JP2506720Y2 (ja) 1996-08-14

Family

ID=31912540

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2844491U Expired - Lifetime JP2506720Y2 (ja) 1991-03-30 1991-03-30 配管内汚染監視装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2506720Y2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04120191U (ja) 1992-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100488127B1 (ko) 생산 장치의 고장 진단 방법 및 생산 장치의 고장 진단시스템
CA2345097C (en) Method of detecting abnormalities in flow rate in pressure-type flow controller
US5627328A (en) Gas sampling system and method
US6900439B2 (en) Gas leakage detection system, gas leakage detection method and semiconductor manufacturing apparatus
JP2007095042A (ja) 圧力センサを保有する流量制御装置を用いた流体供給系の異常検出方法
WO2000011531A1 (fr) Procede de detection d'obturation d'organe de commande de debit par pression et capteur utilise a cet effet
JP2002070584A (ja) ガスタービンプラント
JP2506720Y2 (ja) 配管内汚染監視装置
JPH0926100A (ja) 腐食性ガス配送システムの圧力レギュレータの動作条件確認する方法
JP3372840B2 (ja) ドライエッチング装置およびガス流量制御の検査方法
JP3584222B2 (ja) バルブの漏洩検知方法及び装置
JP2002310024A (ja) 発電装置の燃料漏れ検出方法
JP2865282B1 (ja) 導圧配管パージ装置
JPH04160319A (ja) 異常検出方法および装置
JP2003161168A (ja) ガスタービン燃焼器燃料系統
JP3151803B2 (ja) 羽口の破損診断方法
KR100792331B1 (ko) 반도체 제조공정의 화학약품 제어시스템
JPH1151383A (ja) ガス燃焼器具の安全装置
JP2002181653A (ja) ガス検知システム
JP2003054760A (ja) 灰処理装置と灰処理方法
KR100414303B1 (ko) 반도체웨이퍼제조장비의가스오염불량방지장치
JP2651324B2 (ja) 圧力センサ内蔵ガスメータ
JPH08327495A (ja) 漏洩検知装置
JPH04350705A (ja) マスフローコントローラの自己診断装置
JPH0882537A (ja) 流量計の異常検出装置

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term