JPH04120191U - 配管内汚染監視装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ＣＶＤ装置の排気配管等の内部汚染の監視を
自動化し、配管のつまりを未然に防止する。 【構成】 被監視配管１８，２２に対してコンピュータ
１４の制御の下に定期的に測定ガスＭＧを流す。このと
き、排出ガスＥＧの排出と排気ユニット２０の動作とを
停止する。測定ガスＭＧの流量を流量計３０で測定する
などして管内の汚染度を調べる処理と、調べた汚染度が
所定の限界レベルを越えたか判定する処理と、越えたと
の判定に応じて表示又は音で警報を発生する処理とをコ
ンピュータ１４に実行させる。警報発生に応じて配管を
洗浄又は交換することで配管つまりに基づく故障や事故
を防止できる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

この考案は、流体配管内の汚染を自動的に監視する装置に関し、定期的に管内 の汚染度を調べると共に汚染度が所定の限界レベルを越えたときは警報を発生す ることにより配管つまりを防止するようにしたものである。

【０００２】

【従来の技術】

従来、各種半導体装置の製造に用いられるＣＶＤ（ケミカル・ベーパー・デポ ジション）装置にあっては、反応室にて使用済みのガスを排気配管を介して工場 排気路に排出している。この場合、排気配管が内部の汚染によりつまると、装置 の故障や重大事故を招くことがある。そこで、操作者は、排出ガスの圧力や排出 ガス希釈用のガスの流量等を監視することにより管内汚染度を推測し、管内汚染 度が大きいと判断すると、排気配管を洗浄したり、新しいものと交換したりして いた。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

上記した従来技術において、排出ガスの圧力を測定するのは、反応室の圧力が 一定か知るためであり、希釈用ガスの流量を測定するのは、排出ガスに対する希 釈用ガスの混入度が適正か知るためである。従って、排出ガスの圧力や希釈用ガ スの流量は、管内汚染度を忠実に反映したものとはいえず、これらの圧力値や流 量値から管内汚染度を正確に推測するのは容易でなかった。

【０００４】 その上、（イ）圧力、流量等の測定条件が曖昧であること、（ロ）人間による 読取りには個人差があること、（ハ）測定条件の設定の手違いや測定忘れが発生 しやすいことなどの問題点もあった。

【０００５】 この考案の目的は、配管の内部汚染の監視を自動化し、配管のつまりを未然に 防止することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】

この考案による配管内汚染監視装置は、 （ａ）被監視配管に対して配管流体に代えて測定流体を定期的に供給する供給 手段と、 （ｂ）前記測定流体が供給されるたびにその流れ状態に基づいて管内汚染度を 検知する検知手段と、 （ｃ）この検知手段で検知された管内汚染度が所定の限界レベルを越えたか判 定する判定手段と、 （ｄ）この判定手段で越えたと判定されるのに応答して警報を発生する報知 手段と をそなえたものである。

【０００７】

【作用】

この考案の構成によれば、被監視配管には配管流体の代りに測定流体を流し、 その流れの状態（例えば流量、流速等）に基づいて管内汚染度を検知するので、 正確な汚染度検知が可能である。このような検知動作は、例えば１週間に１回と いうように定期的に且つ自動的に遂行される。そして、管内汚染度が所定の限界 レベルを越えたときは、警報が発生される。従って、ＣＶＤ装置等の操作者は、 管内汚染について常時注意を払う必要がなく、警報が発生されたときだけ配管の 洗浄や交換を行なえばよい。

【０００８】

【実施例】

図１は、この考案をＣＶＤ装置の排気系に適用した一実施例を示すものである 。

【０００９】 ＣＶＤ反応室１０には、反応ガス源１２から各種の反応ガスが供給されている 。コンピュータ１４は、反応室１０との間で各種の情報Ａを授受することにより 反応室１０への半導体ウエハの出し入れ、反応室１０内でのＣＶＤ処理等を制御 するためのもので、後述のようにこの考案を実施するためにも使用される。

【００１０】 反応室で使用済みのガスＥＧは、エアー弁１６、排気管１８、排気ユニット２ ０及び排気管２２を介して工場排気路２４に排出可能になっており、エアー弁１ ６は、コンピュータ１４からの制御信号Ｂによって開閉動作が制御される。また 、排気ユニット２０は、ロータリポンプ、インバータ等を含むもので、反応室１ ０からの制御信号Ｅによって動作の開始又は停止が制御されるようになっている 。

【００１１】 排気管１８において、エアー弁１６よりわずかに下流側の部分には、測定ガス 源２６から減圧弁２８、流量計３０及びエアー弁３２を介して例えば純窒素等の 測定ガスＭＧが導入可能になっている。減圧弁２８は、測定ガスＭＧを一定の圧 力で送出するためのものである。流量計３０は、測定ガスＭＧの流量を測定する ためのもので、その測定値を表わす流量信号Ｄはコンピュータ１４に供給され、 管内汚染度を検知するのに使用される。エアー弁３２は、コンピュータ１４から の制御信号Ｃによって制御される。

【００１２】 一例として１週間毎に管内汚染度を検知するように汚染監視プログラムを組ん だ場合の動作を次に説明する。

【００１３】 ＣＶＤ装置を設置した後１週間経過しないときは、電源オンのたびに次のよう な動作が行なわれる。すなわち、コンピュータ１４は、電源オンに応じて制御信 号Ｂによりエアー弁１６を開状態とする。このとき、制御信号Ｃには変化がなく 、エアー弁３２は閉じたままである。また、コンピュータ１４は、電源オンに応 じて反応室１０にスタート指令情報を与えて制御信号Ｅにより排気ユニット２０ の動作を開始させる。この結果、ガスＥＧは工場排気路２４に排出可能となり、 測定ガスＭＧは導入されない状態となる。そして、反応室１０は、ＣＶＤ処理の ための待機状態となり、この後は、これまで通りＣＶＤ処理を行なうことができ る。

【００１４】 次に、ＣＶＤ装置を設置して１週間が経過してから最初に電源をオンしたとき は、コンピュータ１４は、制御信号Ｃによりエアー弁３２を開状態とする。この とき、制御信号Ｂには変化がないので、エアー弁１６は閉じたままである。また 、反応室１０にはスタート指令情報が与えられないので、排気ユニット２０は停 止状態を継続する。この結果、測定ガスＭＧは、ガスＥＧの代りに排気配管を介 して工場排気路２４に排出される。このような測定ガス排出状態において、コン ピュータ１４は、汚染度検出処理、限界レベル判定処理、警報発生処理等を実行 する。

【００１５】 汚染度検知処理は、流量計３０からの流量信号Ｄに基づいて排気配管内の汚染 度を検知してメモリ等に記録する処理である。図２に示すように排気管１８等が 清浄な状態では、測定ガスＭＧの流量は大であり、図３に示すように排気管１８ 等の内部に汚染物質Ｓが付着した状態では、測定ガスＭＧの流量は小であるから 、汚染度情報としては、流量信号Ｄをそのまま使用できるが、これを加工して使 用してもよい。

【００１６】 次に、限界レベル判定処理は、汚染度検知処理でメモリ等に記録された汚染度 情報を読出して所定の限界レベル情報と比較することにより汚染度が限界レベル を越えたか判定する処理である。ここで、限界レベル情報は、配管つまりが生じ ない範囲で予め定められた汚染度に対応する限界レベルを表わすもので、ＲＯＭ 等に記憶されている。

【００１７】 判定の結果、汚染度が限界レベルを越えていないときは、制御信号Ｂ及びＣに よりそれぞれエアー弁１６及び３２を開及び閉の状態にすると共に反応室１０に スタート指令情報を与えて制御信号Ｅにより排気ユニット２０の動作を開始させ る。この後の動作は、１週間が経過しない場合について前述したのと同様である 。

【００１８】 一方、汚染度が限界レベルを越えていると判定されたときは警報発生処理に移 る。この処理では、コンピュータ１４のディスプレイ画面に警報表示するか又は 警報音を発生することにより限界レベルを越える汚染がある旨報知する。このよ うな警報に応じて排気配管を洗浄又は交換すれば、配管つまりを未然に防止する ことができる。

【００１９】 なお、警報は、キーボード上でのキー操作等により停止させることができる。 そして、排気配管の点検整備が終わった後、キー操作により、限界レベルを越え ない場合と同様の動作に移ることができる。

【００２０】 この後も、１週間を経過しないかしたかにより上記のような動作が繰返される 。そして、各動作毎に検知した汚染度情報を記録しておき、操作者が希望すると きにキー操作等により過去の複数回分の汚染度情報をディスプレイ画面に表示す るか又はプリンタでプリントアウトするようにしてもよい。

【００２１】 この考案は、上記実施例に限定されるものではなく、ドライエッチャの排気系 、各種装置の排水系等にも応用可能である。また、コンピュータは、ＣＶＤ制御 用のものとは別のものを用いてもよい。さらに、コンピュータを用いずに、ディ ジタル又はアナログ回路を用いてこの考案を実施することもできる。

【００２２】

【考案の効果】

以上のように、この考案によれば、被監視配管に配管流体に代えて測定流体を 定期的に流し、その流れの状態に基づいて管内汚染度を検知し、管内汚染度が所 定の限界レベルを越えたときに警報を発生するようにしたので、管内汚染を正確 に且つ自動的に監視することができ、このような監視のために従来必要であった 時間と労力を大幅に節約できる効果が得られるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この考案をＣＶＤ装置の排気系に適用した一
実施例を示すブロック図である。

【図２】 排気系清浄時の測定状態を示す配管図であ
る。

【図３】 排気系汚染時の測定状態を示す配管図であ
る。１０…ＣＶＤ反応室、１２…反応ガス源、１４…コ
ンピュータ、１６，３２…エアー弁、１８，２２…排気
管、２０…排気ユニット、２４…工場排気路、２６…測
定ガス源、２８…減圧弁、３０…流量計。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】（ａ）被監視配管に対して配管流体に代え
   て測定流体を定期的に供給する供給手段と、 （ｂ）前記測定流体が供給されるたびにその流れ状態に
   基づいて管内汚染度を検知する検知手段と、 （ｃ）この検知手段で検知された管内汚染度が所定の限
   界レベルを越えたか判定する判定手段と、 （ｄ）この判定手段で越えたと判定されるのに応答して
   警報を発生する報知手段とをそなえた配管内汚染監視装
   置。