JPH06176998A

JPH06176998A - 半導体製造装置

Info

Publication number: JPH06176998A
Application number: JP43A
Authority: JP
Inventors: Kazushi Nakano; 一志中野; Masao Kosugi; 雅夫小杉
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1992-12-10
Filing date: 1992-12-10
Publication date: 1994-06-24
Anticipated expiration: 2015-04-10
Also published as: JP3031790B2

Abstract

(57)【要約】【目的】チャンバにデッドスペースが生じることがな
く、チャンバを小型化することができる。【構成】チャンバ１内のレチクルライブラリ１１とレ
チクル搬送ロボット１２の上方のデッドスペース部には
第１フィルタボックス３が、ウエハキャリア１３とウエ
ハ搬送ロボット１４の上方のデッドスペース部には第２
フィルタボックス４がそれぞれ配設されており、第１ダ
クト５Ａおよび第２ダクト５Ｂによりそれぞれ機械室２
の送風機２Ｃの吹出側に連通されている。また、機械室
２内の送風機２Ｃの吸込側には再加熱器２Ｂおよび冷却
器２Ａを配設し、両者のうちの少くとも一方を温度コン
トローラ２Ｄによって制御することで雰囲気気体を所定
温度に空調して前記フィルタボックス３，４へ送る。前
記フィルタボックス３，４はそれぞれ傾斜する吹出し面
から清浄雰囲気気体を吹出す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、チャンバ内の雰囲気気
体が高精度に空調された半導体製造装置に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体素子の製造や検査に用いら
れる各種装置は、半導体素子の高集積化やパターンの微
細化にともなって、精度や歩留りのより一層の向上が要
請されている。

【０００３】上記要請に答えるには、半導体製造装置や
検査装置等を均一に空調された雰囲気気体中に配設する
必要があり、特に、歩留り向上の要請に答えるには、塵
埃等の微小異物が混在しない清浄な雰囲気気体中に配設
する必要がある。そこで、本出願人は次に説明する半導
体露光装置を提案した（特開平４−２２１１８号公報参
照）。

【０００４】図１０に示すように、チャンバ３０１内を
複数の空間Ａ₀ 〜Ｄ₀ に分割し、空間Ａ₀ ，Ｄ₀ を第１
の空調手段３０２、空間Ｃを第２の空調手段３１６に、
空間Ｂを第３の空調手段３１７にそれぞれ連通させたも
のである。

【０００５】空間Ａ₀ には、照明光学系３０７およびレ
チクルＲ₀ を支持するためのレチクルステージ３０８、
空間Ｃ₀ には投影レンズ系３０９、空間Ｂ₀ にはウエハ
Ｗ₀を支持するためのウエハステージ３１０、空間Ｄ₀
には、レチクルライブラリ３１１およびレチクル搬送ロ
ボット３１２、ウエハキャリア３１３およびウエハ搬送
ロボット３１４がそれぞれ配設されている。空間Ａ₀ と
空間Ｄ₀ の天井部にはフィルタボックス３０５が配設さ
れており、空間Ａ₀ にはフィルタ３０３、空間Ｄ₀ には
フィルタ３０４を通して、第１の空調手段３０２で空調
された雰囲気気体である空気を清浄化してダウンフロー
で吹出させ、空間Ｃ₀ にはフィルタ３１８を通して第２
の空調手段３１６で空調された空気を清浄化して吹出さ
せ、空間Ｂ₀ にはフィルタ３１９を通して第３の空調手
段３１７で空調された空気を清浄化して吹出させるよう
に構成されている。ここで、各空間Ａ₀ 〜Ｄ₀ へ吹出さ
せる空気の温度は、例えば、空間Ａ₀ および空間Ｂ₀ 内
にそれぞれ配設した温度センサ３１５Ａ，３１５Ｂの検
出温度に基いて、温度コントローラ３０２Ｄを介して各
空調手段３０２，３１６，３１７の各送風機３０２Ｃ，
３１６Ｃ，３１７Ｃの吸込側に配設された冷却器３０２
Ａ，３１６Ａ，３１７Ａまたは再加熱器３０２Ｂ，３１
６Ｂ，３１７Ｂをそれぞれ制御することにより調節でき
るように構成されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の技
術では、チャンバ内の複数に分割された空間にそれぞれ
平面状の吹出し面を有するフィルタボックスを配設して
いるため、チャンバに占めるフィルタボックスの容積が
大きく各空間毎にデッドスペースが生じ、チャンバが大
型化する。

【０００７】またチャンバ内には、照明光学系、レチク
ルステージ、投影レンズ系およびウエハステージを備え
たステッパ本体が一台設けられ、各一台ずつのウエハ搬
送ロボットやレチクル搬送ロボット等のステッパ本体に
付設される周辺機器類が設けられているが、これらの周
辺機器類もウエハサイズが大径化するにつれて大型化し
てチャンバ内に占める容積が増大し、イニシャルコスト
およびランニングコストを高騰させるという未解決の課
題があった。

【０００８】本発明は上記従来の技術の有する未解決の
課題に鑑みてなされたものであって、チャンバにデッド
スペースが生じることがなく、チャンバを小型化するこ
とができる半導体製造装置を実現することを目的とする
ものである。

【０００９】また、イニシャルコストおよびランニング
コストが低減できる半導体製造装置を実現することを他
の目的とするものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の半導体製造装置は、チャンバ内に、傾斜す
る吹出し面を有するフィルタボックスを備え、前記チャ
ンバ内の空間が前記フィルタボックスを介してチャンバ
外部に設けられた空調手段に連通されたことを特徴とす
るものであるまた、傾斜する吹出し面を有するフィルタ
ボックスにかえて、曲面状の吹出し面を有するフイルタ
ボックスとしたり、チャンバ内の複数の部位にそれぞれ
前記フィルタボックスを配設しておくこともできる。

【００１１】さらに、チャンバ内に、複数のステッパ本
体を配設するとともに、前記ステッパ本体に付設される
周辺機器類のうちの稼働率の低いものを少なくとも１組
共用できるように設けたものとすると効果的である。

【００１２】

【作用】空調手段により空調された雰囲気気体は、フィ
ルタによって濾過されて清浄化され、フィルタボックス
の傾斜する吹出し面または曲面状の吹出し面から吹出さ
れるので、傾斜する吹出し面の傾斜角度または曲面状の
吹出し面の曲率を適宜設定することにより、チャンバ内
に配設された各種機器に対応した方向の清浄化された雰
囲気気体の気流を発生させることができるとともに、従
来例ではデッドスペースとなるチャンバ内の部位にフィ
ルタボックスを配設することができる。

【００１３】また、請求項６に係る発明においては、複
数のステッパ本体に対して稼働率の低い周辺機器が少な
くとも１組共用できるように設けられているので、チャ
ンバ内で占める容積が減少する。

【００１４】

【実施例】本発明の実施例を図面に基いて説明する。

【００１５】図１は、本発明の空調装置の第１実施例の
説明図である。図１に示すように、チャンバ１内には、
照明光学系７から照射される照明光の光路に沿って、レ
チクルＲを支持するためのレチクルステージ８、投影レ
ンズ系９、およびウエハＷを支持するためのウエハステ
ージ１０が順次配設されており、その側傍の上方部位に
はレチクルライブラリ１１およびレチクル搬送装置であ
るレチクル搬送ロボット１２、下方部位にはウエハキャ
リア１３およびウエハ搬送装置であるウエハ搬送ロボッ
ト１４がそれぞれ配設されている。

【００１６】レチクルライブラリ１１とレチクル搬送ロ
ボット１２の上方のデッドスペース部には、レチクルラ
イブラリ１１の上方からレチクル搬送ロボット１２の上
方にかけて、その吹出し面が臨む大きさの傾斜する吹出
し面を有するフィルタボックスである、フィルタ３ａを
もつ第１フィルタボックス３が、ウエハキャリア１３と
ウエハ搬送ロボット１４の上方のデッドスペース部には
ウエハキャリア１３の上方からウエハ搬送ロボット１４
の上方にかけて、その吹出し面が臨む大きさの傾斜する
吹出し面を有するフィルタボックスである、フィルタ４
ａをもつ第２フィルタボックス４がそれぞれ配設されて
おり、これらに隣接したチャンバ１の側壁にはそれぞれ
機械室２へ雰囲気気体を回収するためのリターンダクト
６の第１分岐管６Ａおよび第２分岐管６Ｂが連通されて
いる。また、第１フィルタボックス３は第１ダクト５Ａ
により、第２フィルタボックス４は第２ダクト５Ｂによ
り、それぞれ機械室２の送風機２Ｃの吹出側に連通され
ている。前記フィルタ３ａ，４ａは、後述する第２実施
例のものと外形が異なるだけで実質的に同様であるの
で、その説明は省略する。

【００１７】ここで、第１のフィルタボックス３を例に
あげて、吹出された清浄雰囲気気体の流れについて説明
する。

【００１８】図２は図１に示すレチクルライブラリ近辺
の清浄雰囲気気体の流れを示す説明図である。

【００１９】図２に示すように、レチクルライブラリ１
１のレチクルＲを取出すための開放された取出し面ｎに
対し傾き角θをもたせ、レチクルライブラリ１１の上方
からレチクル搬送ロボット１２の上方にかけて、その吹
出し面が臨む大きさの傾斜する吹出し面をもつ第１のフ
ィルタボックス３が配設されている。第１のフィルタボ
ックス３の傾斜する吹出し面から吹出される空調された
清浄雰囲気気体は層流状態を保ちながらレチクルライブ
ラリ１１内の一定の間隔で積重ねられたレチクルＲに到
達する。レチクルＲはそのレチクル面が前記取出し面ｎ
に対して垂直となるように配置されているため、空調さ
れた清浄雰囲気気体はレチクルＲに到達しちのちレチク
ル面に沿って流れる。もちろん、第１のフィルタボック
ス３はレチクル搬送経路を覆うように配設されているた
め、レチクル搬送経路中のレチクルＲのまわりの空間も
清浄雰囲気気体で満たされている。

【００２０】ついで、傾斜する吹出し面の傾き角θにつ
いて説明する。

【００２１】図２において、レチクルライブラリ１１の
２枚のレチクルＲに挟まれた流路面積ｓ′の空間に流れ
る清浄雰囲気気体の流路Ｑ′は、この流路面積ｓ′の前
記吹出し面に投影した面積ｓから吹出される清浄雰囲気
気体の流量Ｑにほぼ等しい。すなわち、傾斜する吹出し
面から吹出される清浄雰囲気気体の平均流速をｖ、流路
面積ｓ′の空間を流れる清浄雰囲気気体の平均流速を
ｖ′とし、損失を無視すると次式が成り立つ。

【００２２】ｓｖ＝ｓ′ｖ′ （１）ｓとｓ′の幾何学的関係からｓｖ＝ｓ・ｃｏｓθ・ｖ′ （２）一般にクリーンルーム内の清浄雰囲気気体の平均流速が
０．２ｍ／ｓ〜０．５ｍ／ｓであることから、上述した
２枚のレチクル２に挟まれた空間の平均流速ｖ′は０．
２ｍ／ｓ以上であることが望ましい。またフィルタ３Ａ
を吹出し面とした場合、第１フィルタボックス３からの
吹出し流速は最大１ｍ／ｓが実用範囲といえる。すなわ
ち（２）式にｖ≧０．２ｍ／ｓ、ｖ′＝１ｍ／ｓを代入
すると（３）式となる。

【００２３】θ≧７８．５度（３）このことより第１フィルタボックス３の吹出し面の傾き
角θは８０度以下が望ましいことがわかる。このような
フィルタボックスは、複数の傾き角を持つ吹出し面で構
成しても良いことは自明である。

【００２４】また、チャンバの外部に設けられた空調手
段は、次のように構成されている。

【００２５】機械室２内の送風機２Ｃの吸込側には再加
熱器２Ｂおよび冷却器２Ａを配設し、チャンバ１内の第
１フィルタボックス３の近傍には温度センサ１５を配設
し、温度センサ１５の検出温度に基いて温度コントロー
ラ２Ｄにより再加熱器２Ｂの加熱温度または冷却器２Ａ
の冷却温度のうちの少くとも一方を制御することによっ
て第１フィルタボックス３および第２フィルタボックス
４よりチャンバ１内へ吹出す清浄雰囲気気体の温度を所
定温度に調節し、必要ならば湿度調節手段を併設して所
定の湿度に調節できるように構成されている。

【００２６】本実施例の動作について説明すると、分岐
管６Ａ，６Ｂを介してリターンダクト６により回収され
たチャンバ１内の雰囲気気体は、機械室２で所定の温度
に空調されたのち、第１ダクト５Ａおよび第２ダクト５
Ｂを通して第１フィルタボックス３および第２フィルタ
ボックス４へそれぞれ供給され、第１フィルタボックス
３のフィルタ３ａおよび第２フィルタボックス４のフィ
ルタ４ａによってそれぞれ濾過されて清浄化され、チャ
ンバ１内へ再び吹出される。このとき、チャンバ１内へ
吹出された清浄雰囲気気体は、傾斜する吹出し面に対し
て垂直方向の気流となって吹出され、チャンバ１内の各
種機器類はそれぞれ清浄雰囲気気体中に送ることができ
る。

【００２７】次に、本発明の第２実施例について説明す
る。

【００２８】本実施例は第１実施例における傾斜した吹
出し面をもつフィルタボックスにかえて曲面状の吹出し
面をもつフィルタボックスとした点以外は第１実施例と
同様であるので、第１実施例と同様の部分は同一符号を
付してその説明は省略し異なる部分のみについて説明す
る。

【００２９】図３に示すようにレチクルライブラリ１１
とレチクル搬送ロボット１２の上方のデッドスペース部
には、曲面状の吹出し面を有するフィルタボックスであ
る、フィルタ２３ａをもつ第１フィルタボックス２３
が、ウエハキャリア１３とウエハ搬送ロボット１４の上
方のデッドスペース部には曲面状の吹出し面を有するフ
ィルタボックスである、フイルタ２４ａをもつ第２フィ
ルタボックス２４がそれぞれ配設されており、これらに
隣接したチャンバ１の側壁にはそれぞれリターンダクト
６の第１分岐管６Ａおよび第２分岐管６Ｂが連通されて
いる。

【００３０】第１フィルタボックス２３は第１ダクト５
Ａにより、第２フィルタボックス２４は第２ダクト５Ｂ
により、それぞれ機械室２の送風２Ｃの吹出側に連通さ
れている。

【００３１】ここで、本実施例に係る曲面状の吹出し面
を有するフィルタボックスの変形例について説明する。

【００３２】図４は、第１変形例のフィルタボックスを
その一部を破断して示す斜視図である。

【００３３】フィルタボックス３３は、断面形状が略Ｌ
字形の本体３３ｃを有し、本体３３ｃの開放部に取付け
られたフィルタ３３ａの外面によって曲面状の吹出し面
３３ｂが形成された箱型のものであって、フィルタ３３
ａに対向する壁面には管状の連通部３３ｆが設けられて
いる。本変形例では、フィルタ３３ａは、ガラス繊維製
等の濾材を何重にも畳み折りし、その両端面および両側
面を枠３３ｄに接着剤を用いて接着しておき、枠３３ｄ
を前記本体３３ｃの開放部端縁３３ｅに嵌め込み図示し
ないボルト等により固着し、両者の隙間にはコーキング
剤を詰め込んで気密性を保ち、雰囲気気体がフィルタ３
３ａを迂回して吹出されることがないように構成されて
いる。

【００３４】図５は、第２変形例のフィルタボックスを
示す断面図である。

【００３５】フィルタボックス４３は、断面形状が略Ｌ
字形の本体４３ｃを有し、本体４３ｃの開放部に取付ら
れた網体４３ｅにより曲面状の吹出し面が形成された箱
型のものであって、網体４３ｅの周縁部に一体に設けら
れた取付枠４３ｇを本体３３ｃの開放部の端縁部４３ｈ
に嵌合させた上、図示しないねじ等を用いて固着し、前
記開放部の端縁部内面には前記網体４３ｅとの間に空間
部を設けた状態で平型フィルタ４３ａを配設し、平型フ
ィルタ４３ａに対向する壁面には管状の連通部４３ｆが
設けられている。

【００３６】本変形例においても、平型フィルタ４３ａ
は、ガラス繊維製等の濾材を何重にも畳み折りし、その
両端面および両側面を枠４３ｄに接着剤を用いて接着し
ておき、枠４３ｄを本体４３ｃの開放部の端縁部４３ｈ
に嵌め込み、この枠４３ｄを図示しないボルト等により
固着し、両者の隙間にはコーキング剤を詰め込んで気密
性を保つように構成されている。

【００３７】本変形例では、網体４３ｅと平型フィルタ
４３ａとの間の空間部が気体溜りとなるため、曲面状の
吹出し面から法線方向へ吹出される気流の風量分布が均
一となる。

【００３８】次に本実施例の動作について説明する。

【００３９】リターンダクト６により回収されたチャン
バ１内の雰囲気気体は、機械室２で所定の温度に空調さ
れたのち、第１ダクト５Ａおよび第２ダクト５Ｂを通し
て第１フィルタボックス２３および第２フィルタボック
ス２４へそれぞれ供給され、第１フィルタボックス２３
のフィルタ２３ａおよび第２フィルタボックス２４のフ
ィルタ２４ａによってそれぞれ濾過されて清浄化され、
チャンバ１内へ再び吹出される。このとき、チャンバ１
内へ吹出された清浄雰囲気気体は各フィルタボックス２
３，２４の曲面状の吹出し面に対して法線方向の気流と
なって吹出され、チャンバ１内の各種機器はそれぞれ清
浄雰囲気気体の気流中におくことができる。

【００４０】この場合、曲面状の吹出し面の曲率を適宜
設定することにより、チャンバ内に配設された各種機器
に対応した方向の清浄雰囲気気体の気流を発生させ、こ
れらを清浄に保つことができる。

【００４１】次に本発明の第３実施例について説明す
る。

【００４２】図６は、第３実施例の模式構成図である。
図６においては空調手段やフイルタボックスは図示して
いない。

【００４３】図６に示すように、チャンバ１０１内に
は、第１のステッパ本体Ｓ₁ と第２のステッパ本体Ｓ₂
とが間隔をおいて併設されている。第１のステッパ本体
Ｓ₁ と第２のステッパ本体Ｓ₂ は、それぞれ、照明光学
系１０７，２０７から照射される照明光の光路に沿って
順次配設された、レチクルＲ₁ ，Ｒ₂ を支持するための
レチクルステージ１０８，２０８，投影レンズ系１０
９，２０９，ウエハＷ₁ ，Ｗ₂ を支持するためのウエハ
ステージ１１０，２１０とを備えている。

【００４４】第１のステッパ本体Ｓ₁ と第２のステッパ
本体Ｓ₂ の間のチャンバ１０１の上方部位には第１のス
テッパＳ₁ 用の第１のレチクルライブラリ１１１と第２
のステッパＳ₂ 用の第２のレチクルライブラリ２１１が
配設されており、その下方部位には、第１のステッパ本
体Ｓ₁ 用のウエハキャリア１１３と第２のステッパＳ₂
用のウエハキャリア２１３が配設されている。第１のス
テッパ本体Ｓ₁ および第２のステッパ本体Ｓ₂ は、それ
ぞれ不図示の露光光源より照射された光束が、照明光学
系１０７，２０７を通ってレチクルステージ１０８，２
０８に支持されたレチクルＲ₁ ，Ｒ₂ を照明し、投影レ
ンズ系１０９，２０９によりレチクルＲ₁ ，Ｒ₂ 上のパ
ターンをウエハステージ１１０，２１０に真空吸着され
て位置決めされたウエハＷ₁ ，Ｗ₂ 上の感光層に転写す
るように構成されている。

【００４５】レチクルＲ₁ ，Ｒ₂ の上方に配設されたレ
チクル顕微鏡１１８，２１８は、レチクルＲ₁ ，Ｒ₂ 上
のターゲットマークをＣＣＤで観察することにより、レ
チクルＲ₁ ，Ｒ₂ の位置ずれ量を検出し、投影レンズ系
１０９，２０９に隣接して配設されたウエハ顕微鏡１１
９，２１９はその内部の基準マークとウエハＷ₁ ，Ｗ ₂
上のアライメントマークとの相対位置の検出を行う。

【００４６】制御装置１００は、第１のステッパ本体Ｓ
₁ と、第２のステッパ本体Ｓ₂ とを制御するとともに、
レチクル搬送ロボット１１２およびウエハ搬送ロボット
１１４等の周辺機器類を制御するものであって、ＣＰＵ
１００Ａは定められたシーケンスソフトにしたがって、
第１のステッパ本体Ｓ₁ および第２のステッパ本体Ｓ₂
を構成する各要素に指令を出し、また、各要素からのデ
ータを判断して次の手順を決める。

【００４７】演算回路１００Ｂは、主にステージ座標か
らレチクル顕微鏡１１４またはウエハ顕微鏡１１９，２
１９の検出結果などからレチクルＲ₁ ，Ｒ₂ とウエハＷ
₁ ，Ｗ₂ の相対位置を演算するなど高速性と高精度を要
求される演算処理を行い、メモリ１００Ｃはそれらの測
定データや演算データを記憶する。

【００４８】図７は、本実施例のウエハ搬送ロボットの
搬送経路を説明する模式平面図である。

【００４９】ウエハ搬送ロボット１１４は、ガイド１１
５に案内され、両ウエハキャリア１１３，２１３の間を
往復移動し、ウエハキャリア１１３，２１３に納められ
たウエハＷ₁ ，Ｗ₂ を交互にハンド１４Ａで保持してプ
リアライメントステージ１１６，２１６に搬送する。

【００５０】プリアライメントステージ１１６，２１６
では、ウエハＷ₁ ，Ｗ₂ のプリアライメントが交互に行
われ、その完了後、ウエハＷ₁ ，Ｗ₂ は供給ハンド１１
６Ａ，２１６Ａにより各ステッパ本体Ｓ₁ ，Ｓ₂ のウエ
ハステージ１１０，２１０に交互に供給され、一連の位
置合わせ露光工程が交互に行われる。つまり、２台のス
テッパ本体Ｓ₁ ，Ｓ₂ に対し１台のウエハ搬送ロボット
１１４によりウエハＷ₁ ，Ｗ₂ の供給、回収を交互に行
うことができる。

【００５１】図８は、上述した第１のステッパ本体Ｓ
₁ 、第２のステッパ本体Ｓ₂ およびウエハ搬送ロボット
１１４のシーケンスを横軸に時間をとって表わしたもの
である。

【００５２】図８より、各ステッパ本体Ｓ₁ ，Ｓ₂ の稼
働時間に対し、ウエハ搬送ロボット１１４の稼働時間は
短く、２台のステッパ本体Ｓ₁ ，Ｓ₂ に対して１台のウ
エハ搬送ロボット１１４でウエハＷ₁ ，Ｗ₂ を交互に供
給および回収を行うことができることがわかる。このこ
とは、後述するレチクル搬送ロボット１１２についても
同様に言えることである。

【００５３】上述したように、ウエハ搬送ロボット１１
４やレチクル搬送ロボット１１２は、ステッパ本体Ｓ
₁ ，Ｓ₂ それぞれの稼働率に比較してその稼働率が非常
に低いものである。つまり、ウエハ搬送ロボットやレチ
クル搬送ロボットは、ステッパ本体に付設される周辺機
器類のうち稼働率の低いものを代表するものである。

【００５４】図９は、本実施例のレチクル搬送ロボット
の搬送経路を説明する模式平面図である。

【００５５】レチクル搬送ロボット１１２はガイド１１
２Ａに案内され、両レチクルライブラリ１１１，２１１
の間を往復移動し、各レチクルライブラリ１１１，２１
１に納められたレチクルＲ₁ ，Ｒ₂ をハンド１１２Ａで
保持して、レチクルカセットステージ１１６と各レチク
ルライブラリ１１１，２１１との間での供給および回収
を交互に行う。レチクルカセットステージ１１６と、レ
チクルステージ１０８，２０８との間のレチクルＲ₁ ，
Ｒ₂ の供給および回収はレチクル用ハンド１１７によっ
て行われる。つまり、２台のステッパ本体Ｓ₁ ，Ｓ₂ に
対し１台のレチクル搬送ロボットによりレチクルＲ₁ ，
Ｒ₂ の供給および回収を交互に行うことができるように
構成されている。

【００５６】上述したように本実施例においては、２台
のステッパ本体Ｓ₁ ，Ｓ₂ に対し搬送ロボット１１４お
よびレチクル搬送ロボット１１２を共用できるように設
けたものであるため、設置面積が１０％〜１５％の省ス
ペースとなり、コスト面でも、制御装置を含めたコスト
でみると５％〜１０％のコストダウンとなる。

【００５７】本実施例では２台のステッパ本体に対し、
各１台の制御装置、ウエハ搬送ロボットおよびレチクル
搬送ロボットを設けたものを示したが、３台以上のステ
ッパ本体に対し、各１台の制御装置、ウエハ搬送ロボッ
トおよびレチクル搬送ロボットを設けることもできる。

【００５８】また、ステッパ本体に付設される稼働率の
低い周辺機器類としては、ウエハ搬送ロボットおよびレ
チクル搬送ロボットの他、次に挙げる機器がある。

【００５９】レチクル表面における付着塵埃の有無、
個数を計測する「レチクルゴミ検査装置」ステッパ全体のシーケンスであるジョブを制作、実行
する「制御装置」ウエハ表面に感光剤を塗布し、ステッパへそのウエハ
を供給する「コーター」ステッパから露光済のウエハを回収し現像処理を行な
う「デベロッパー」

【００６０】

【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。

【００６１】チャンバ内に配置された各種機器類のほぼ
全体を空調された清浄雰囲気気体にさらすことが可能と
なり、従来例に比較してより清浄に保つことができると
ともに、デッドスペースとならざるを得なかったチャン
バ内の空間にフィルタボックスを配設できるため、チャ
ンバの空間を有効活用することができて小型化すること
ができる。

【００６２】また、チャンバ内の複数の部位にそれぞれ
フィルタボックスを配設することにより、チャンバ内を
より清浄に保つことができる。

【００６３】さらに、複数のステッパ本体に対し、稼働
率の低いステッパ本体に付設される周辺機器類を少なく
とも１組共用できるように設けることにより、イニシャ
ルコストおよびランニングコストを低減することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の空調装置の第１実施例の説明図であ
る。

【図２】図１に示すレチクルライブラリ近辺の清浄空気
の流れを示す説明図である。

【図３】本発明の空調装置の第２実施例の説明図であ
る。

【図４】本発明の第２実施例に係るフィルタボックスの
第１変形例をその一部破断して示す斜視図である。

【図５】本発明の第２実施例に係るフィルタボックスの
第２変形例を示す断面図である。

【図６】本発明の第３実施例の説明図である。

【図７】図６に示す実施例のウエハ搬送ロボットの搬送
経路を説明する模式平面図である。

【図８】図６に示す実施例の第１のステッパ本体、第２
のステッパ本体およびウエハ搬送ロボットのシーケンス
図である。

【図９】図６に示す実施例のレチクル搬送ロボットの搬
送経路を説明する模式平面図である。

【図１０】従来の半導体露光装置の一例を示す説明図で
ある。

【符号の説明】

１，２１チャンバ２，２２機械室２Ａ，２２Ａ冷却器２Ｂ，２２Ｂ再加熱器２Ｃ，２２Ｃ送風機３，２３第１フィルタボックス３ａ，４ａ，２３ａ，２４ａフィルタ４，２４第２フィルタボックス７照明光学系８，１０８，２０８レチクルステージ９，１０９，２０９投影レンズ系１０，１１０，２１０ウエハステージ１１，１１１，２１１レチクルライブラリ１２，１１２レチクル搬送ロボット１３，１１３，２１３ウエハキャリア１４，１１４ウエハ搬送ロボット１５，２７温度センサ２４吸引口２６放出口

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】チャンバ内に、傾斜する吹出し面を有す
るフィルタボックスを備え、前記チャンバ内の空間が前
記フィルタボックスを介してチャンバ外部に設けられた
空調手段に連通されたことを特徴とする半導体製造装
置。
【請求項２】チャンバ内に曲面状の吹出し面を有する
フィルタボックスを備え、前記チャンバ内の空間が前記
フィルタボックスを介してチャンバ外部に設けた空調手
段に連通されたことを特徴とする半導体製造装置。
【請求項３】吹出し面が、フィルタによって形成され
たことを特徴とする請求項１または２記載の半導体製造
装置。
【請求項４】吹出し面が網体によって形成されてお
り、前記網体との間に空間部を設けた状態でフィルタが
配設されていることを特徴とする請求項１または２記載
の半導体製造装置。
【請求項５】チャンバ内の複数の部位にそれぞれフィ
ルタボックスが配設されたことを特徴とする請求項１乃
至４いずれか１項記載の半導体製造装置。
【請求項６】チャンバ内に、複数のステッパ本体を配
設するとともに、前記ステッパ本体に付設される周辺機
器類のうちの稼働率の低いものを少なくとも１組共用で
きるように設けたことを特徴とする請求項１乃至５いず
れか１項記載の半導体製造装置。