JPH06166519A - ジルコニアゾルの製造方法 - Google Patents
ジルコニアゾルの製造方法Info
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- JPH06166519A JPH06166519A JP31844492A JP31844492A JPH06166519A JP H06166519 A JPH06166519 A JP H06166519A JP 31844492 A JP31844492 A JP 31844492A JP 31844492 A JP31844492 A JP 31844492A JP H06166519 A JPH06166519 A JP H06166519A
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- zirconia sol
- zirconium salt
- aqueous solution
- exchange resin
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G25/00—Compounds of zirconium
- C01G25/02—Oxides
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Inorganic Chemistry (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 水溶性ジルコニウム塩を含む水溶液からジル
コニアゾルを製造するにあたり、その製造工程数と製造
時間を大幅に短縮する。 【構成】 水溶性ジルコニウム塩を含む水溶液を陰イオ
ン交換樹脂と接触させて、該ジルコニウム塩の陰イオン
を水酸基イオンとイオン交換することにより粘調なゲル
状物質を得、得られたゲル状物質を水に分散させると共
に有機酸を添加する。 【効果】 オキシ塩化ジルコニウム等の水溶性ジルコニ
ウム塩の陰イオン、即ち塩素イオン等を、加水分解させ
ることなく、陰イオン交換樹脂によるイオン交換で除去
し、得られたゲル状物質を水に分散させることにより容
易にジルコニアゾルを製造することができる。従来法の
欠点であった、長時間の加水分解工程を経ることなく、
また装置の腐食等の問題となる極低ｐＨ条件を経ること
なく、短時間で容易にジルコニアゾルを製造することが
できる。
コニアゾルを製造するにあたり、その製造工程数と製造
時間を大幅に短縮する。 【構成】 水溶性ジルコニウム塩を含む水溶液を陰イオ
ン交換樹脂と接触させて、該ジルコニウム塩の陰イオン
を水酸基イオンとイオン交換することにより粘調なゲル
状物質を得、得られたゲル状物質を水に分散させると共
に有機酸を添加する。 【効果】 オキシ塩化ジルコニウム等の水溶性ジルコニ
ウム塩の陰イオン、即ち塩素イオン等を、加水分解させ
ることなく、陰イオン交換樹脂によるイオン交換で除去
し、得られたゲル状物質を水に分散させることにより容
易にジルコニアゾルを製造することができる。従来法の
欠点であった、長時間の加水分解工程を経ることなく、
また装置の腐食等の問題となる極低ｐＨ条件を経ること
なく、短時間で容易にジルコニアゾルを製造することが
できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はジルコニアゾルの製造方
法に係り、特に、ジルコニア系セラミックスの製造原料
等として有用なジルコニアゾルを効率的に製造する方法
に関する。
法に係り、特に、ジルコニア系セラミックスの製造原料
等として有用なジルコニアゾルを効率的に製造する方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】ジルコニアゾルはジルコニア系セラミッ
クスの製造原料等として工業的に極めて有用である。例
えば、ジルコニア系セラミックスの焼結体は、ジルコニ
アゾルにアンモニア水を加えて沈澱させるか、或いは、
ジルコニアゾルを乾燥させることによりジルコニア微粉
末を得、このジルコニア微粉末を成形原料として用い
て、成形、焼成することにより製造されている。
クスの製造原料等として工業的に極めて有用である。例
えば、ジルコニア系セラミックスの焼結体は、ジルコニ
アゾルにアンモニア水を加えて沈澱させるか、或いは、
ジルコニアゾルを乾燥させることによりジルコニア微粉
末を得、このジルコニア微粉末を成形原料として用い
て、成形、焼成することにより製造されている。
【０００３】従来、ジルコニアゾルの製造方法として
は、オキシ塩化ジルコニウム等の水溶性ジルコニウム塩
を含む水溶液を加水分解させる方法が知られている。
は、オキシ塩化ジルコニウム等の水溶性ジルコニウム塩
を含む水溶液を加水分解させる方法が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、オキシ
塩化ジルコニウム等の水溶性ジルコニウム塩を含む水溶
液を加水分解させるには、１２０℃で２４時間以上もの
長時間還流させる必要がある。しかも、加水分解後のゾ
ルはｐＨが０．１と低いため、装置の腐食防止のために
ｐＨ調製が必要である。このため、従来、ジルコニアゾ
ルの製造には加水分解工程とｐＨ調製工程の２工程が必
要となり、その製造にはかなりの時間が費やされるとい
う問題がある。
塩化ジルコニウム等の水溶性ジルコニウム塩を含む水溶
液を加水分解させるには、１２０℃で２４時間以上もの
長時間還流させる必要がある。しかも、加水分解後のゾ
ルはｐＨが０．１と低いため、装置の腐食防止のために
ｐＨ調製が必要である。このため、従来、ジルコニアゾ
ルの製造には加水分解工程とｐＨ調製工程の２工程が必
要となり、その製造にはかなりの時間が費やされるとい
う問題がある。
【０００５】本発明は上記従来の問題点を解決し、水溶
性ジルコニウム塩を含む水溶液からジルコニアゾルを製
造するにあたり、その製造工程数と製造時間を大幅に短
縮させることができるジルコニアゾルの製造方法を提供
することを目的とする。
性ジルコニウム塩を含む水溶液からジルコニアゾルを製
造するにあたり、その製造工程数と製造時間を大幅に短
縮させることができるジルコニアゾルの製造方法を提供
することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のジルコニアゾル
の製造方法は、水溶性ジルコニウム塩を含む水溶液から
ジルコニアゾルを製造する方法において、該水溶性ジル
コニウム塩を含む水溶液を陰イオン交換樹脂と接触させ
て、該ジルコニウム塩の陰イオンを水酸基イオンとイオ
ン交換することにより粘調なゲル状物質を得、得られた
ゲル状物質を水に分散させると共に有機酸を添加するこ
とを特徴とする。
の製造方法は、水溶性ジルコニウム塩を含む水溶液から
ジルコニアゾルを製造する方法において、該水溶性ジル
コニウム塩を含む水溶液を陰イオン交換樹脂と接触させ
て、該ジルコニウム塩の陰イオンを水酸基イオンとイオ
ン交換することにより粘調なゲル状物質を得、得られた
ゲル状物質を水に分散させると共に有機酸を添加するこ
とを特徴とする。
【０００７】以下に本発明を詳細に説明する。
【０００８】本発明で用いられる水溶性ジルコニウム塩
としては、オキシ塩化ジルコニウム、オキシ酢酸ジルコ
ニウムなどが挙げられる。
としては、オキシ塩化ジルコニウム、オキシ酢酸ジルコ
ニウムなどが挙げられる。
【０００９】本発明方法においては、まず、オキシ塩化
ジルコニウム等の水溶性ジルコニウム塩を含む水溶液を
調製し、得られた水溶液を陰イオン交換樹脂と接触させ
る。ここで、水溶液は、好ましくは１モルのオキシ塩化
ジルコニウム等の水溶性ジルコニウム塩に対して、２５
〜８０モルの水を加えて調製される。
ジルコニウム等の水溶性ジルコニウム塩を含む水溶液を
調製し、得られた水溶液を陰イオン交換樹脂と接触させ
る。ここで、水溶液は、好ましくは１モルのオキシ塩化
ジルコニウム等の水溶性ジルコニウム塩に対して、２５
〜８０モルの水を加えて調製される。
【００１０】このような水溶液を陰イオン交換樹脂と接
触させるには、該水溶液に陰イオン交換樹脂を投入して
接触させれば良い。陰イオン交換樹脂の量は、ｐＨを測
定しながら調整すれば良い。
触させるには、該水溶液に陰イオン交換樹脂を投入して
接触させれば良い。陰イオン交換樹脂の量は、ｐＨを測
定しながら調整すれば良い。
【００１１】陰イオン交換樹脂との接触により、水溶液
中の水溶性ジルコニウム塩の陰イオンを水酸基イオンと
イオン交換する。このイオン交換処理は液のｐＨが５〜
９、特にｐＨが７程度となるように行なうのが好まし
い。
中の水溶性ジルコニウム塩の陰イオンを水酸基イオンと
イオン交換する。このイオン交換処理は液のｐＨが５〜
９、特にｐＨが７程度となるように行なうのが好まし
い。
【００１２】このようなイオン交換処理により粘調なゲ
ル状物質が得られる。本発明においては、このゲル状物
質を陰イオン交換樹脂と、濾過法などにより分離して回
収した後、水に分散させる。この分散にあたり、分散安
定化のために、酢酸等の有機酸を添加してｐＨ２〜４程
度とすることにより、安定なジルコニアゾルを得る。
ル状物質が得られる。本発明においては、このゲル状物
質を陰イオン交換樹脂と、濾過法などにより分離して回
収した後、水に分散させる。この分散にあたり、分散安
定化のために、酢酸等の有機酸を添加してｐＨ２〜４程
度とすることにより、安定なジルコニアゾルを得る。
【００１３】このようなジルコニアゾルを乾燥して得ら
れるジルコニア微粒子は、ジルコニア系セラミックス製
造用原料等として広く用いることができる。
れるジルコニア微粒子は、ジルコニア系セラミックス製
造用原料等として広く用いることができる。
【００１４】
【作用】本発明の方法によれば、オキシ塩化ジルコニウ
ム等の水溶性ジルコニウム塩の陰イオン、即ち塩素イオ
ン等を、加水分解させることなく、陰イオン交換樹脂に
よるイオン交換で除去し、得られたゲル状物質を水に分
散させることにより容易にジルコニアゾルを製造するこ
とができる。
ム等の水溶性ジルコニウム塩の陰イオン、即ち塩素イオ
ン等を、加水分解させることなく、陰イオン交換樹脂に
よるイオン交換で除去し、得られたゲル状物質を水に分
散させることにより容易にジルコニアゾルを製造するこ
とができる。
【００１５】従来法の欠点であった、長時間の加水分解
工程を経ることなく、また装置の腐食等の問題となる極
低ｐＨ条件を経ることなく、短時間で容易にジルコニア
ゾルを製造することができる。
工程を経ることなく、また装置の腐食等の問題となる極
低ｐＨ条件を経ることなく、短時間で容易にジルコニア
ゾルを製造することができる。
【００１６】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。
説明する。
【００１７】実施例１ オキシ塩化ジルコニウム１モルに対し５０モルの水を加
え、オキシ塩化ジルコニウム水溶液とし、この水溶液に
陰イオン交換樹脂（三菱化成（株）製「ＳＡ−２０」）
をｐＨを測定しながら少しずつ入れ、液中の塩素イオン
を液ｐＨが７になるようにイオン交換により除去した。
これによりゼリー状のゲル体が生成した。このゲル体を
イオン交換樹脂と濾過することにより分離して回収し
た。次いで、このゲル体を水に攪拌により分散させ、分
散の安定化のため酢酸を添加してｐＨを４とすることに
より、安定したゾルを得た。
え、オキシ塩化ジルコニウム水溶液とし、この水溶液に
陰イオン交換樹脂（三菱化成（株）製「ＳＡ−２０」）
をｐＨを測定しながら少しずつ入れ、液中の塩素イオン
を液ｐＨが７になるようにイオン交換により除去した。
これによりゼリー状のゲル体が生成した。このゲル体を
イオン交換樹脂と濾過することにより分離して回収し
た。次いで、このゲル体を水に攪拌により分散させ、分
散の安定化のため酢酸を添加してｐＨを４とすることに
より、安定したゾルを得た。
【００１８】このゾルを乾燥させた後、６００℃に加熱
し、析出物をＸ線回析したところ斜方晶ジルコニアであ
ることが確認された。
し、析出物をＸ線回析したところ斜方晶ジルコニアであ
ることが確認された。
【００１９】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明のジルコニア
ゾルの製造方法によれば、ジルコニア系セラミックスの
製造原料等として工業的に有用なジルコニアゾルを、短
時間で容易かつ効率的に製造することが可能とされる。
ゾルの製造方法によれば、ジルコニア系セラミックスの
製造原料等として工業的に有用なジルコニアゾルを、短
時間で容易かつ効率的に製造することが可能とされる。
Claims (1)
- 【請求項１】 水溶性ジルコニウム塩を含む水溶液から
ジルコニアゾルを製造する方法において、該水溶性ジル
コニウム塩を含む水溶液を陰イオン交換樹脂と接触させ
て、該ジルコニウム塩の陰イオンを水酸基イオンとイオ
ン交換することにより粘調なゲル状物質を得、得られた
ゲル状物質を水に分散させると共に有機酸を添加するこ
とを特徴とするジルコニアゾルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31844492A JPH06166519A (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | ジルコニアゾルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31844492A JPH06166519A (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | ジルコニアゾルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06166519A true JPH06166519A (ja) | 1994-06-14 |
Family
ID=18099203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31844492A Withdrawn JPH06166519A (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | ジルコニアゾルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06166519A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006143535A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | ジルコニアゾルの製造方法およびジルコニアゾル |
| JP2007238422A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Daiichi Kigensokagaku Kogyo Co Ltd | 有機溶媒分散ジルコニアゾル及びその製造方法 |
| JP2009270040A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-11-19 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 非晶質のＺｒ−Ｏ系粒子を分散質とするゾル、その製造方法、このゾルをバインダーとする光触媒体コーティング液、およびその光触媒体コーティング液を塗布した光触媒機能製品の製造方法 |
| JP2009298658A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Fujifilm Corp | 無機微粒子分散液、有機無機複合組成物、成形体および光学部品 |
| US9254651B2 (en) | 2012-03-27 | 2016-02-09 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, piezoelectric element, and methods of manufacturing liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and piezoelectric element |
-
1992
- 1992-11-27 JP JP31844492A patent/JPH06166519A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006143535A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | ジルコニアゾルの製造方法およびジルコニアゾル |
| JP2007238422A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Daiichi Kigensokagaku Kogyo Co Ltd | 有機溶媒分散ジルコニアゾル及びその製造方法 |
| JP2009270040A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-11-19 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 非晶質のＺｒ−Ｏ系粒子を分散質とするゾル、その製造方法、このゾルをバインダーとする光触媒体コーティング液、およびその光触媒体コーティング液を塗布した光触媒機能製品の製造方法 |
| JP2009298658A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Fujifilm Corp | 無機微粒子分散液、有機無機複合組成物、成形体および光学部品 |
| US9254651B2 (en) | 2012-03-27 | 2016-02-09 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, piezoelectric element, and methods of manufacturing liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and piezoelectric element |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000201 |