JPH06165695A - 光学活性２−ヒドロキシアリール酢酸およびその誘導体の製造方法 - Google Patents
光学活性２−ヒドロキシアリール酢酸およびその誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPH06165695A JPH06165695A JP9469091A JP9469091A JPH06165695A JP H06165695 A JPH06165695 A JP H06165695A JP 9469091 A JP9469091 A JP 9469091A JP 9469091 A JP9469091 A JP 9469091A JP H06165695 A JPH06165695 A JP H06165695A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- derivative
- hydroxyarylacetic
- formula
- isomer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 医薬品その他の合成中間体として有用な光学
活性２−ヒドロキシアリール酢酸およびその誘導体の製
造方法を提供する。 【構成】 式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは水素原子、低級アルキル基、またはアルカ
リあるいはアルカリ土類金属を表わし、Ｒ1 およびＲ2
は互いに独立して、各々水素原子、低級アルキル基また
はハロゲン原子を表わすか、またはＲ1 およびＲ2 は一
緒になって低級アルキレンジオキシ基を表わす。）で示
される（Ｒ，Ｓ）−２−ヒドロキシアリール酢酸、その
エステルおよびその金属塩類の（Ｓ）体にのみに特異的
に作用し２−オキソ体に変換するアルカリゲネス属に属
する微生物またはその処理物を作用させて、（Ｒ）体の
みを蓄積させ、これを単離精製する（Ｒ）−２−ヒドロ
キシアリール酢酸類の製造方法である。
活性２−ヒドロキシアリール酢酸およびその誘導体の製
造方法を提供する。 【構成】 式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは水素原子、低級アルキル基、またはアルカ
リあるいはアルカリ土類金属を表わし、Ｒ1 およびＲ2
は互いに独立して、各々水素原子、低級アルキル基また
はハロゲン原子を表わすか、またはＲ1 およびＲ2 は一
緒になって低級アルキレンジオキシ基を表わす。）で示
される（Ｒ，Ｓ）−２−ヒドロキシアリール酢酸、その
エステルおよびその金属塩類の（Ｓ）体にのみに特異的
に作用し２−オキソ体に変換するアルカリゲネス属に属
する微生物またはその処理物を作用させて、（Ｒ）体の
みを蓄積させ、これを単離精製する（Ｒ）−２−ヒドロ
キシアリール酢酸類の製造方法である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】（Ｒ）−２−ヒドロキシアリール
酢酸およびその誘導体は各種医薬品の原料あるいは合成
中間体として広く利用されている。例えば、（Ｒ）−２
−ヒドロキシフェニル酢酸はセファロスポリン系抗生物
質等の原料や合成中間体として用いられている。本発明
はこのように各種の合成中間体として有用な光学活性２
−ヒドロキシアリール酢酸およびその誘導体を微生物を
用いて工業的に有利に製造する方法に関する。
酢酸およびその誘導体は各種医薬品の原料あるいは合成
中間体として広く利用されている。例えば、（Ｒ）−２
−ヒドロキシフェニル酢酸はセファロスポリン系抗生物
質等の原料や合成中間体として用いられている。本発明
はこのように各種の合成中間体として有用な光学活性２
−ヒドロキシアリール酢酸およびその誘導体を微生物を
用いて工業的に有利に製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学活性な２−ヒドロキシアリール酢酸
の製造方法としては、エフェドリンあるいはα−メチル
ベンジルアミンなどの光学活性アミンを光学分割剤とし
て用いる光学分割法が知られている。しかし、この方法
は使用する光学分割剤が高価であること、操作が煩雑で
収率が低いこと、また生成物の光学純度が低い等の欠点
を有する。
の製造方法としては、エフェドリンあるいはα−メチル
ベンジルアミンなどの光学活性アミンを光学分割剤とし
て用いる光学分割法が知られている。しかし、この方法
は使用する光学分割剤が高価であること、操作が煩雑で
収率が低いこと、また生成物の光学純度が低い等の欠点
を有する。
【０００３】一方、このような光学分割法とは別に酵素
あるいは微生物菌体を利用する方法として、例えば微生
物を用いベンゾイルギ酸を不斉還元して（Ｒ）−２−ヒ
ドロキシフェニル酢酸を製造する方法が知られている。
この方法は光学分割法に比べて操作が簡便であるという
利点を有するが、原料のベンゾイルギ酸が非常に高価で
あり、また（Ｒ）−２−ヒドロキシフェニル酢酸の収率
が低いという難点を有している。
あるいは微生物菌体を利用する方法として、例えば微生
物を用いベンゾイルギ酸を不斉還元して（Ｒ）−２−ヒ
ドロキシフェニル酢酸を製造する方法が知られている。
この方法は光学分割法に比べて操作が簡便であるという
利点を有するが、原料のベンゾイルギ酸が非常に高価で
あり、また（Ｒ）−２−ヒドロキシフェニル酢酸の収率
が低いという難点を有している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明者らは
高価な光学分割剤やベンゾイルギ酸などを用いることな
く光学活性な２−ヒドロキシアリール酢酸、そのエステ
ルおよび金属塩（以下、これらを一括して２−ヒドロキ
シアリール酢酸類ということがある。）を工業的に有利
に製造する方法を提供することを課題として鋭意研究を
重ねた。
高価な光学分割剤やベンゾイルギ酸などを用いることな
く光学活性な２−ヒドロキシアリール酢酸、そのエステ
ルおよび金属塩（以下、これらを一括して２−ヒドロキ
シアリール酢酸類ということがある。）を工業的に有利
に製造する方法を提供することを課題として鋭意研究を
重ねた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】その結果、本発明者らは
アルカリゲネス属に属する微生物に（Ｒ，Ｓ）−２−ヒ
ドロキシアリール酢酸類を反応基質として与え培養する
と、（Ｓ）−２−ヒドロキシアリール酢酸類のみが特異
的に２−オキソアリール酢酸類に酸化され、（Ｒ）−２
−ヒドロキシアリール酢酸類が極めて高い光学純度で収
率よく蓄積されることを見出し、本発明を完成するに至
った。
アルカリゲネス属に属する微生物に（Ｒ，Ｓ）−２−ヒ
ドロキシアリール酢酸類を反応基質として与え培養する
と、（Ｓ）−２−ヒドロキシアリール酢酸類のみが特異
的に２−オキソアリール酢酸類に酸化され、（Ｒ）−２
−ヒドロキシアリール酢酸類が極めて高い光学純度で収
率よく蓄積されることを見出し、本発明を完成するに至
った。
【０００６】すなわち、本発明は、（１）式（Ｉ）
【化３】 （式中、Ｒは水素原子、低級アルキル基、またはアルカ
リあるいはアルカリ土類金属を表わし、Ｒ1 およびＲ2
は互いに独立して、各々水素原子、低級アルキル基また
はハロゲン原子を表わすか、またはＲ1 およびＲ2 は一
緒になって低級アルキレンジオキシ基を表わす。）で示
される（Ｒ，Ｓ）−２−ヒドロキシアリール酢酸または
その誘導体に、前記の（Ｓ）体を特異的に２−オキソア
リール酢酸またはその誘導体へ酸化する能力を有するア
ルカリゲネス属に属する微生物またはその処理物を作用
させて式（II）
リあるいはアルカリ土類金属を表わし、Ｒ1 およびＲ2
は互いに独立して、各々水素原子、低級アルキル基また
はハロゲン原子を表わすか、またはＲ1 およびＲ2 は一
緒になって低級アルキレンジオキシ基を表わす。）で示
される（Ｒ，Ｓ）−２−ヒドロキシアリール酢酸または
その誘導体に、前記の（Ｓ）体を特異的に２−オキソア
リール酢酸またはその誘導体へ酸化する能力を有するア
ルカリゲネス属に属する微生物またはその処理物を作用
させて式（II）
【化４】 （式中、Ｒ、Ｒ1 およびＲ2 は前記と同じ意味を表わ
す。）で示される（Ｒ）−２−ヒドロキシアリール酢酸
またはその誘導体を蓄積させた後、前記（Ｒ）体を単離
精製することを特徴とする（Ｒ）−２−ヒドロキシアリ
ール酢酸またはその誘導体の製造方法、および（２）ア
ルカリゲネス属に属する微生物がアルカリゲネス・ブロ
ンチセプティクスＫＵ1201株（微工研菌寄第11670 号）
である前記１に記載の（Ｒ）−２−ヒドロキシアリール
酢酸またはその誘導体の製造方法、を提供したものであ
る。
す。）で示される（Ｒ）−２−ヒドロキシアリール酢酸
またはその誘導体を蓄積させた後、前記（Ｒ）体を単離
精製することを特徴とする（Ｒ）−２−ヒドロキシアリ
ール酢酸またはその誘導体の製造方法、および（２）ア
ルカリゲネス属に属する微生物がアルカリゲネス・ブロ
ンチセプティクスＫＵ1201株（微工研菌寄第11670 号）
である前記１に記載の（Ｒ）−２−ヒドロキシアリール
酢酸またはその誘導体の製造方法、を提供したものであ
る。
【０００７】本発明においてはアルカリゲネス属に属す
る微生物またはその処理物が用いれれる。本発明におい
て用いる微生物は（Ｒ，Ｓ）−２−ヒドロキシアリール
酢酸類中の（Ｓ）−２−ヒドロキシアリール酢酸類のみ
を特異的に２−オキソアリール酢酸類に酸化する能力を
有するものであり、かかる能力を有したアルカリゲネス
属の微生物であればいずれも使用可能であるが、本発明
者らが土壌中より見出したＫＵ1201株が好ましく使用で
きる。また、この菌株を人工突然変異処理して得られる
変異株あるいは遺伝子工学的手法による類縁の菌株も利
用することができる。
る微生物またはその処理物が用いれれる。本発明におい
て用いる微生物は（Ｒ，Ｓ）−２−ヒドロキシアリール
酢酸類中の（Ｓ）−２−ヒドロキシアリール酢酸類のみ
を特異的に２−オキソアリール酢酸類に酸化する能力を
有するものであり、かかる能力を有したアルカリゲネス
属の微生物であればいずれも使用可能であるが、本発明
者らが土壌中より見出したＫＵ1201株が好ましく使用で
きる。また、この菌株を人工突然変異処理して得られる
変異株あるいは遺伝子工学的手法による類縁の菌株も利
用することができる。
【０００８】ＫＵ1201株ついて説明すると、この菌株は
表１に示すとおりの菌学的性質を有する。
表１に示すとおりの菌学的性質を有する。
【０００９】
【表１】
【００１０】以上の菌学的性質から、本発明者らは”Be
rgey's Manual of Determinative Bacteriology, 8th e
d.”を参照して本菌をアルカリゲネス・ブロンチセプテ
ィクス（Alkaligenes bron chisepticus）に属するもの
と同定し、工業技術院微生物工業技術研究所に微工研菌
寄第11670 号として寄託している。
rgey's Manual of Determinative Bacteriology, 8th e
d.”を参照して本菌をアルカリゲネス・ブロンチセプテ
ィクス（Alkaligenes bron chisepticus）に属するもの
と同定し、工業技術院微生物工業技術研究所に微工研菌
寄第11670 号として寄託している。
【００１１】本発明において（Ｒ，Ｓ）−２−ヒドロキ
シアリール酢酸類に作用させる微生物の培養は、微生物
が増殖可能な培地を用い、適当な培養条件下で行なわれ
る。培地成分としては微生物を資化し得る物質として公
知のものをいずれも利用することができる。実用上有利
なものを例示すれば、炭素源としては、例えばグルコー
ス、シュクロース等の糖類、グリセロール、エタノー
ル、酢酸等の合成炭素源、酵母エキス、糖蜜、ペプト
ン、肉エキス等の天然物、あるいはこれらの混合物等が
挙げられる。窒素源としては、例えばアンモニア、アン
モニウム塩、硝酸塩等の無機窒素化合物、あるいは尿
素、コーンスティープリカー、ガゼイン、ペプトン、酵
母エキス、肉エキス等の有機窒素源、またはこれらの混
合物が挙げられる。無機成分としては、例えばカルシウ
ム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩、リ
ン酸塩、マンガン塩、コバルト塩等の無機塩が挙げら
れ、微量金属塩等も用いることができる。
シアリール酢酸類に作用させる微生物の培養は、微生物
が増殖可能な培地を用い、適当な培養条件下で行なわれ
る。培地成分としては微生物を資化し得る物質として公
知のものをいずれも利用することができる。実用上有利
なものを例示すれば、炭素源としては、例えばグルコー
ス、シュクロース等の糖類、グリセロール、エタノー
ル、酢酸等の合成炭素源、酵母エキス、糖蜜、ペプト
ン、肉エキス等の天然物、あるいはこれらの混合物等が
挙げられる。窒素源としては、例えばアンモニア、アン
モニウム塩、硝酸塩等の無機窒素化合物、あるいは尿
素、コーンスティープリカー、ガゼイン、ペプトン、酵
母エキス、肉エキス等の有機窒素源、またはこれらの混
合物が挙げられる。無機成分としては、例えばカルシウ
ム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩、リ
ン酸塩、マンガン塩、コバルト塩等の無機塩が挙げら
れ、微量金属塩等も用いることができる。
【００１２】これらの一般的な栄養源以外にも、その他
必要に応じてビタミン類や、微生物の増殖を促進する因
子あるいは培地のｐＨ保持のための化合物等を適宜使用
することができる。さらには、（Ｓ）−２−ヒドロキシ
アリール酢酸類の酸化酵素の誘導を促進する物質、例え
ばフェニルマロン酸や２−ヒドロキシアリール酢酸等を
培地に添加することも可能である。
必要に応じてビタミン類や、微生物の増殖を促進する因
子あるいは培地のｐＨ保持のための化合物等を適宜使用
することができる。さらには、（Ｓ）−２−ヒドロキシ
アリール酢酸類の酸化酵素の誘導を促進する物質、例え
ばフェニルマロン酸や２−ヒドロキシアリール酢酸等を
培地に添加することも可能である。
【００１３】培養条件は特に制限されないが、通常は振
盪培養などの好気的条件下で行なう。培養温度としては
２０〜４５℃程度が好ましく、２５〜４０℃の範囲がよ
り望ましい。培養時のｐＨは５〜１０程度が好ましく、
望ましくはｐＨ5.5 〜９の範囲である。このような条件
下で好気的に１〜７日間培養するのが好ましい。
盪培養などの好気的条件下で行なう。培養温度としては
２０〜４５℃程度が好ましく、２５〜４０℃の範囲がよ
り望ましい。培養時のｐＨは５〜１０程度が好ましく、
望ましくはｐＨ5.5 〜９の範囲である。このような条件
下で好気的に１〜７日間培養するのが好ましい。
【００１４】本発明の方法では前記式（Ｉ）で表される
反応基質の（Ｒ，Ｓ）−２−ヒドロキシアリール酢酸類
としては、遊離の（Ｒ，Ｓ）−２−ヒドロキシアリール
酢酸、そのアルキルエステルおよびその金属塩類が使用
される。式（Ｉ）中、Ｒ1 およびＲ2 がそれぞれ表わす
置換基の具体例としては、臭素原子、塩素原子、弗素原
子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、炭素数が１から５
の分岐していても良い低級アルキル基が挙げられる。ま
た、Ｒ1 およびＲ2 が一緒になって表わす低級アルキレ
ンジオキシ基の具体例としては、メチレンジオキシ、エ
チレンジオキシ、トリメチレンジオキシ基が挙げられ
る。なお、Ｒ1 およびＲ2 の置換位置はフェニル基の
２、３、４、５、６位のいずれでもよい。式（Ｉ）中、
Ｒが表わす低級アルキル基の具体例としてはメチル、エ
チル、ｎ−あるいはｉ−プロピル、ｎ−、ｓｅｃ−ある
いはｔ−ブチル基などが挙げられる。さらに、式（Ｉ）
の化合物が金属塩を表す場合、すなわちＲが表わす金属
原子としては、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マ
グネシウムが挙げられる。
反応基質の（Ｒ，Ｓ）−２−ヒドロキシアリール酢酸類
としては、遊離の（Ｒ，Ｓ）−２−ヒドロキシアリール
酢酸、そのアルキルエステルおよびその金属塩類が使用
される。式（Ｉ）中、Ｒ1 およびＲ2 がそれぞれ表わす
置換基の具体例としては、臭素原子、塩素原子、弗素原
子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、炭素数が１から５
の分岐していても良い低級アルキル基が挙げられる。ま
た、Ｒ1 およびＲ2 が一緒になって表わす低級アルキレ
ンジオキシ基の具体例としては、メチレンジオキシ、エ
チレンジオキシ、トリメチレンジオキシ基が挙げられ
る。なお、Ｒ1 およびＲ2 の置換位置はフェニル基の
２、３、４、５、６位のいずれでもよい。式（Ｉ）中、
Ｒが表わす低級アルキル基の具体例としてはメチル、エ
チル、ｎ−あるいはｉ−プロピル、ｎ−、ｓｅｃ−ある
いはｔ−ブチル基などが挙げられる。さらに、式（Ｉ）
の化合物が金属塩を表す場合、すなわちＲが表わす金属
原子としては、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マ
グネシウムが挙げられる。
【００１５】本発明の方法は反応基質の（Ｒ，Ｓ）−２
−ヒドロキシアリール酢酸類に上記の微生物またはその
処理物を作用させ、目的とする（Ｒ）−２−ヒドロキシ
アリール酢酸類を得る。微生物またはその処理物と基質
との反応に際し、微生物の使用方法としては、培養液を
そのまま用いる方法、遠心分離等によって分離した菌体
をそのまま用いる方法、あるいは分離した菌体を洗浄し
た後、緩衝液や水等に再懸濁して得られるものを用いる
方法等が挙げられる。微生物の処理物の使用方法として
は、培養して得られた菌体を超音波処理、アセトン処
理、破砕処理あるいは凍結乾燥処理して用いる方法等が
挙げられる。これら微生物およびその処理物は一般的に
行なわれている固定化方法により担体に固定化して用い
ることもできる。
−ヒドロキシアリール酢酸類に上記の微生物またはその
処理物を作用させ、目的とする（Ｒ）−２−ヒドロキシ
アリール酢酸類を得る。微生物またはその処理物と基質
との反応に際し、微生物の使用方法としては、培養液を
そのまま用いる方法、遠心分離等によって分離した菌体
をそのまま用いる方法、あるいは分離した菌体を洗浄し
た後、緩衝液や水等に再懸濁して得られるものを用いる
方法等が挙げられる。微生物の処理物の使用方法として
は、培養して得られた菌体を超音波処理、アセトン処
理、破砕処理あるいは凍結乾燥処理して用いる方法等が
挙げられる。これら微生物およびその処理物は一般的に
行なわれている固定化方法により担体に固定化して用い
ることもできる。
【００１６】上記微生物またはその処理物と基質との反
応に際しては、エネルギー源を添加することにより目的
生成物の収率を一層向上させることができる。そのよう
なエネルギー源としてはグルコースやシュクロース等を
挙げることができる。
応に際しては、エネルギー源を添加することにより目的
生成物の収率を一層向上させることができる。そのよう
なエネルギー源としてはグルコースやシュクロース等を
挙げることができる。
【００１７】反応は比較的緩和な条件、すなわち、反応
温度２０〜４５℃程度でｐＨ４〜９程度で行なうのが好
ましい。反応時間は反応温度によって異なり一概には言
えないが、通常は１〜１２０時間で十分である。
温度２０〜４５℃程度でｐＨ４〜９程度で行なうのが好
ましい。反応時間は反応温度によって異なり一概には言
えないが、通常は１〜１２０時間で十分である。
【００１８】反応基質の（Ｒ，Ｓ）−２−ヒドロキシア
リール酢酸類は上記微生物またはその処理物を含む反応
液に0.1 〜１５％程度の濃度になるように添加するのが
好まい。基質の添加方法としては一括あるいは分割添加
のいずれをも採用することができる。
リール酢酸類は上記微生物またはその処理物を含む反応
液に0.1 〜１５％程度の濃度になるように添加するのが
好まい。基質の添加方法としては一括あるいは分割添加
のいずれをも採用することができる。
【００１９】反応によって生成した（Ｒ）−２−ヒドロ
キシアリール酢酸類を単離する方法は特に制限はなく、
一般的な分離精製法が採用できる。例えば、反応液をそ
のまま用いるか、あるいは反応液から菌体等の不溶物を
遠心分離などにより除去した後、反応液のｐＨを酸性に
して酢酸エチル等の有機溶媒で抽出し、しかる後にカラ
ムクロマトグラフィーや蒸留等の分離方法を実施するこ
とにより、目的物を容易に得ることができる。また、反
応時に同時に生成する２−オキソアリール酢酸類は、こ
れを一般的な方法にて単離回収した後、還元してラセミ
体に変換し、反応基質として再利用してもよい。
キシアリール酢酸類を単離する方法は特に制限はなく、
一般的な分離精製法が採用できる。例えば、反応液をそ
のまま用いるか、あるいは反応液から菌体等の不溶物を
遠心分離などにより除去した後、反応液のｐＨを酸性に
して酢酸エチル等の有機溶媒で抽出し、しかる後にカラ
ムクロマトグラフィーや蒸留等の分離方法を実施するこ
とにより、目的物を容易に得ることができる。また、反
応時に同時に生成する２−オキソアリール酢酸類は、こ
れを一般的な方法にて単離回収した後、還元してラセミ
体に変換し、反応基質として再利用してもよい。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、各種医薬品などの原料
あるいは合成中間体として有用な（Ｒ）−２−ヒドロキ
シアリール酢酸類を極めて高い光学純度で収率よく製造
することができる。
あるいは合成中間体として有用な（Ｒ）−２−ヒドロキ
シアリール酢酸類を極めて高い光学純度で収率よく製造
することができる。
【００２１】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【００２２】実施例１ リン酸二アンモニウム1.0 ％、リン酸二カリウム0.2
％、硫酸マグネシウム・７水和物0.03％、硫酸第一鉄・
７水和物１０ppm 、硫酸亜鉛・７水和物８ppm 、硫酸マ
ンガン・４水和物８ppm 、酵母エキス0.02％、ペプトン
0.1 ％からなる培地５０ml（ｐＨ7.2 ）を５００ml容フ
ラスコに入れ、１２０℃にて２０分間滅菌した後、フェ
ニルマロン酸２５０mgを加え、アルカリゲネス・ブロン
チセプティクスＫＵ1201株を一白金耳植菌し、３０℃に
て４日間振盪培養を行なった。その後、（Ｒ，Ｓ）−２
−ヒドロキシフェニル酢酸を250.9 mg添加し、さらに５
日間振盪し反応を行なった。
％、硫酸マグネシウム・７水和物0.03％、硫酸第一鉄・
７水和物１０ppm 、硫酸亜鉛・７水和物８ppm 、硫酸マ
ンガン・４水和物８ppm 、酵母エキス0.02％、ペプトン
0.1 ％からなる培地５０ml（ｐＨ7.2 ）を５００ml容フ
ラスコに入れ、１２０℃にて２０分間滅菌した後、フェ
ニルマロン酸２５０mgを加え、アルカリゲネス・ブロン
チセプティクスＫＵ1201株を一白金耳植菌し、３０℃に
て４日間振盪培養を行なった。その後、（Ｒ，Ｓ）−２
−ヒドロキシフェニル酢酸を250.9 mg添加し、さらに５
日間振盪し反応を行なった。
【００２３】反応終了後、反応液を２規定塩酸にてｐＨ
を２に調整し、塩化ナトリウムを飽和させた後、２００
mlジエチルエーテルにて抽出した。有機層を飽和食塩水
にて洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去し残査
を得た。
を２に調整し、塩化ナトリウムを飽和させた後、２００
mlジエチルエーテルにて抽出した。有機層を飽和食塩水
にて洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去し残査
を得た。
【００２４】この残査を過剰のジアゾメタンにてメチル
エステル化し、分取用薄層クロマトグラフィーにより精
製して（Ｒ）−２−ヒドロキシフェニル酢酸メチルエス
テル114.8 mg（収率：41.9％、光学純度：＞９９％、２
５℃における比旋光度（ｃ＝1.08，ＣＨ3 ＯＨ）＝−13
1.1 ゜）および２−オキソフェニル酢酸メチルエステル
42.9mg（収率：15.9％）を得た。
エステル化し、分取用薄層クロマトグラフィーにより精
製して（Ｒ）−２−ヒドロキシフェニル酢酸メチルエス
テル114.8 mg（収率：41.9％、光学純度：＞９９％、２
５℃における比旋光度（ｃ＝1.08，ＣＨ3 ＯＨ）＝−13
1.1 ゜）および２−オキソフェニル酢酸メチルエステル
42.9mg（収率：15.9％）を得た。
【００２５】実施例２ 実施例１において、基質として与えた（Ｒ，Ｓ）−２−
ヒドロキシフェニル酢酸250.9 mgの代わりに、（Ｒ，
Ｓ）−２−ヒドロキシ−パラメチルフェニル酢酸メチル
149.8 mgを用いた他は実施例１と同様の操作を行なっ
た。その結果、（Ｒ）−２−ヒドロキシ−パラメチルフ
ェニル酢酸メチル54.7mg（収率：36.5％、光学純度：＞
９９％、２２℃における比旋光度（ｃ＝0.975 ，ＣＨＣ
ｌ3 ）＝−169.2 ゜）および２−オキソ−パラメチルフ
ェニル酢酸メチル4.7 mg（収率：3.2 ％）を得た。
ヒドロキシフェニル酢酸250.9 mgの代わりに、（Ｒ，
Ｓ）−２−ヒドロキシ−パラメチルフェニル酢酸メチル
149.8 mgを用いた他は実施例１と同様の操作を行なっ
た。その結果、（Ｒ）−２−ヒドロキシ−パラメチルフ
ェニル酢酸メチル54.7mg（収率：36.5％、光学純度：＞
９９％、２２℃における比旋光度（ｃ＝0.975 ，ＣＨＣ
ｌ3 ）＝−169.2 ゜）および２−オキソ−パラメチルフ
ェニル酢酸メチル4.7 mg（収率：3.2 ％）を得た。
【００２６】実施例３ 実施例１において、基質として与えた（Ｒ，Ｓ）−２−
ヒドロキシフェニル酢酸250.9 mgの代わりに、（Ｒ，
Ｓ）−２−ヒドロキシ−パラフルオロフェニル酢酸メチ
ル99.6mgを用いた他は実施例１と同様の操作を行なっ
た。その結果、（Ｒ）−２−ヒドロキシ−パラフルオロ
フェニル酢酸メチル45.9mg（収率：46.1％、光学純度：
＞９９％、２６℃における比旋光度（ｃ＝1.12，ＣＨＣ
ｌ3 ）＝−155.6 ゜）および２−オキソ−パラフルオロ
フェニル酢酸メチル33.0mg（収率：39.6％）を得た。
ヒドロキシフェニル酢酸250.9 mgの代わりに、（Ｒ，
Ｓ）−２−ヒドロキシ−パラフルオロフェニル酢酸メチ
ル99.6mgを用いた他は実施例１と同様の操作を行なっ
た。その結果、（Ｒ）−２−ヒドロキシ−パラフルオロ
フェニル酢酸メチル45.9mg（収率：46.1％、光学純度：
＞９９％、２６℃における比旋光度（ｃ＝1.12，ＣＨＣ
ｌ3 ）＝−155.6 ゜）および２−オキソ−パラフルオロ
フェニル酢酸メチル33.0mg（収率：39.6％）を得た。
【００２７】実施例４ 実施例１において、基質として与えた（Ｒ，Ｓ）−２−
ヒドロキシフェニル酢酸250.9 mgの代わりに、（Ｒ，
Ｓ）−２−ヒドロキシ−オルトフルオロフェニル酢酸メ
チル100.3 mgを用いた他は実施例１と同様の操作を行な
った。その結果、（Ｒ）−２−ヒドロキシ−オルトフル
オロフェニル酢酸メチル36.9mg（収率：36.8％、光学純
度：＞９９％、２６℃における比旋光度（ｃ＝1.19，Ｃ
ＨＣｌ3 ）＝−150.4 ゜）および２−オキソ−オルトフ
ルオロフェニル酢酸メチル24.3mg（収率：24.2％）を得
た。
ヒドロキシフェニル酢酸250.9 mgの代わりに、（Ｒ，
Ｓ）−２−ヒドロキシ−オルトフルオロフェニル酢酸メ
チル100.3 mgを用いた他は実施例１と同様の操作を行な
った。その結果、（Ｒ）−２−ヒドロキシ−オルトフル
オロフェニル酢酸メチル36.9mg（収率：36.8％、光学純
度：＞９９％、２６℃における比旋光度（ｃ＝1.19，Ｃ
ＨＣｌ3 ）＝−150.4 ゜）および２−オキソ−オルトフ
ルオロフェニル酢酸メチル24.3mg（収率：24.2％）を得
た。
【００２８】実施例５ 実施例１において、基質として与えた（Ｒ，Ｓ）−２−
ヒドロキシフェニル酢酸250.9 mgの代わりに、（Ｒ，
Ｓ）−２−ヒドロキシ−パラクロロフェニル酢酸メチル
99.9mgを用いた他は実施例１と同様の操作を行なった。
その結果、（Ｒ）−２−ヒドロキシ−パラクロロフェニ
ル酢酸メチル47.9mg（収率：47.9％、光学純度：＞９９
％、２８℃における比旋光度（ｃ＝1.05，ＣＨＣｌ3 ）
＝−142.6 ゜）および２−オキソ−パラクロロフェニル
酢酸メチル8.7mg（収率：8.8 ％）を得た。
ヒドロキシフェニル酢酸250.9 mgの代わりに、（Ｒ，
Ｓ）−２−ヒドロキシ−パラクロロフェニル酢酸メチル
99.9mgを用いた他は実施例１と同様の操作を行なった。
その結果、（Ｒ）−２−ヒドロキシ−パラクロロフェニ
ル酢酸メチル47.9mg（収率：47.9％、光学純度：＞９９
％、２８℃における比旋光度（ｃ＝1.05，ＣＨＣｌ3 ）
＝−142.6 ゜）および２−オキソ−パラクロロフェニル
酢酸メチル8.7mg（収率：8.8 ％）を得た。
【００２９】実施例６ 実施例１において、基質として与えた（Ｒ，Ｓ）−２−
ヒドロキシフェニル酢酸250.9 mgの代わりに、（Ｒ，
Ｓ）−２−ヒドロキシ−オルトクロロフェニル酢酸メチ
ルエステル99.5mgを用いた他は実施例１と同様の操作を
行なった。その結果、（Ｒ）−２−ヒドロキシ−オルト
クロロフェニル酢酸メチル47.5mg（収率：47.7％、光学
純度：80.8％、２２℃における比旋光度（ｃ＝1.05，Ｃ
ＨＣｌ3 ）＝−146.3 ゜）および２−オキソ−オルトク
ロロフェニル酢酸メチル13.8mg（収率：14.0％）を得
た。
ヒドロキシフェニル酢酸250.9 mgの代わりに、（Ｒ，
Ｓ）−２−ヒドロキシ−オルトクロロフェニル酢酸メチ
ルエステル99.5mgを用いた他は実施例１と同様の操作を
行なった。その結果、（Ｒ）−２−ヒドロキシ−オルト
クロロフェニル酢酸メチル47.5mg（収率：47.7％、光学
純度：80.8％、２２℃における比旋光度（ｃ＝1.05，Ｃ
ＨＣｌ3 ）＝−146.3 ゜）および２−オキソ−オルトク
ロロフェニル酢酸メチル13.8mg（収率：14.0％）を得
た。
【００３０】実施例７ 実施例１において、基質として与えた（Ｒ，Ｓ）−２−
ヒドロキシフェニル酢酸250.9 mgの代わりに、（Ｒ，
Ｓ）−２−ヒドロキシ−（３，４−メチレンジオキシ）
フェニル酢酸メチル99.6mgを用いた他は実施例１と同様
の操作を行なった。 その結果、（Ｒ）−２−ヒドロキ
シ−（３，４−メチレンジオキシ）フェニル酢酸メチル
39.6mg（収率：39.8％、光学純度：87.3％、２６℃にお
ける比旋光度（ｃ＝0.89，ＣＨＣｌ3 ）＝−119.0 ゜）
および２−オキソ−（３，４−メチレンジオキシ）フェ
ニル酢酸メチル11.2mg（収率：11.4％）を得た。
ヒドロキシフェニル酢酸250.9 mgの代わりに、（Ｒ，
Ｓ）−２−ヒドロキシ−（３，４−メチレンジオキシ）
フェニル酢酸メチル99.6mgを用いた他は実施例１と同様
の操作を行なった。 その結果、（Ｒ）−２−ヒドロキ
シ−（３，４−メチレンジオキシ）フェニル酢酸メチル
39.6mg（収率：39.8％、光学純度：87.3％、２６℃にお
ける比旋光度（ｃ＝0.89，ＣＨＣｌ3 ）＝−119.0 ゜）
および２−オキソ−（３，４−メチレンジオキシ）フェ
ニル酢酸メチル11.2mg（収率：11.4％）を得た。
Claims (2)
- 【請求項１】 式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは水素原子、低級アルキル基、またはアルカ
リあるいはアルカリ土類金属を表わし、Ｒ1 およびＲ2
は互いに独立して、各々水素原子、低級アルキル基また
はハロゲン原子を表わすか、またはＲ1 およびＲ2 は一
緒になって低級アルキレンジオキシ基を表わす。）で示
される（Ｒ，Ｓ）−２−ヒドロキシアリール酢酸または
その誘導体に、前記の（Ｓ）体を特異的に２−オキソア
リール酢酸またはその誘導体へ酸化する能力を有するア
ルカリゲネス属に属する微生物またはその処理物を作用
させて式（II） 【化２】 （式中、Ｒ、Ｒ1 およびＲ2 は前記と同じ意味を表わ
す。）で示される（Ｒ）−２−ヒドロキシアリール酢酸
またはその誘導体を蓄積させた後、前記（Ｒ）体を単離
精製することを特徴とする（Ｒ）−２−ヒドロキシアリ
ール酢酸またはその誘導体の製造方法。 - 【請求項２】 アルカリゲネス属に属する微生物がアル
カリゲネス・ブロンチセプティクスＫＵ1201株（微工研
菌寄第11670 号）である請求項１記載の（Ｒ）−２−ヒ
ドロキシアリール酢酸またはその誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9469091A JPH06165695A (ja) | 1991-04-01 | 1991-04-01 | 光学活性２−ヒドロキシアリール酢酸およびその誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9469091A JPH06165695A (ja) | 1991-04-01 | 1991-04-01 | 光学活性２−ヒドロキシアリール酢酸およびその誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06165695A true JPH06165695A (ja) | 1994-06-14 |
Family
ID=14117192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9469091A Pending JPH06165695A (ja) | 1991-04-01 | 1991-04-01 | 光学活性２−ヒドロキシアリール酢酸およびその誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06165695A (ja) |
-
1991
- 1991-04-01 JP JP9469091A patent/JPH06165695A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0449648B1 (en) | Process for producing R(-)-mandelic acid and derivatives thereof | |
| JP2720140B2 (ja) | フェニル基を有する光学活性α−ヒドロキシカルボン酸の製造法 | |
| JP2676568B2 (ja) | Ｒ（−）−マンデル酸およびその誘導体の製造法 | |
| JP4394647B2 (ja) | 光学活性テトラヒドロチオフェン誘導体の製造方法、および、光学活性テトラヒドロチオフェン−３−オールの晶析方法 | |
| JP2003199595A (ja) | 光学活性マンデル酸誘導体の製造方法 | |
| JPH0775589A (ja) | プロトカテキュ酸の製造方法 | |
| FR2461753A1 (fr) | Procede de preparation d'une cephalosporine par fermentation et micro-organisme destine a la mise en oeuvre de ce procede | |
| US5441888A (en) | Process for producing D-mandelic acid from benzoylformic acid | |
| JP4197815B2 (ja) | 微生物による（ｓ）−３−ハロゲノ−１，２−プロパンジオールの製法 | |
| JPH06165695A (ja) | 光学活性２−ヒドロキシアリール酢酸およびその誘導体の製造方法 | |
| JPS6257313B2 (ja) | ||
| JPS58201992A (ja) | 微生物によるβ−置換プロピオン酸またはそのアミドの製造法 | |
| JP2624296B2 (ja) | γ−ハロ−β−ヒドロキシ酪酸エステルの製造法 | |
| JP4042557B2 (ja) | 光学活性テトラヒドロフラン−２−カルボン酸及びそのエステルの製法 | |
| JPH0632635B2 (ja) | 光学活性カルボン酸及びその対掌体エステルの製造法 | |
| JPH07213295A (ja) | 微生物を用いた４−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸の製造方法 | |
| JPH0947296A (ja) | 微生物によるクロロヒドリンの光学分割方法 | |
| JP2670302B2 (ja) | 微生物による光学分割法 | |
| JP2519980B2 (ja) | （ｓ）−２−ヒドロキシ−４−フェニル−３−ブテン酸の製造方法 | |
| JPH0576390A (ja) | 光学活性なカルボン酸の製造方法 | |
| JPH0515394A (ja) | 光学活性（ｓ）−３−フエニル−１，３−プロパンジオールの製造法 | |
| JPH0585160B2 (ja) | ||
| JPH04330297A (ja) | Ｌ−スレオ−３−（３，４−ジヒドロキシフェニル）セリン誘導体の製造法 | |
| JP2000093191A (ja) | 光学活性化合物の製造方法 | |
| JPS6142559B2 (ja) |