JPH06152005A - レーザ装置 - Google Patents
レーザ装置Info
- Publication number
- JPH06152005A JPH06152005A JP32854792A JP32854792A JPH06152005A JP H06152005 A JPH06152005 A JP H06152005A JP 32854792 A JP32854792 A JP 32854792A JP 32854792 A JP32854792 A JP 32854792A JP H06152005 A JPH06152005 A JP H06152005A
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- slit
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 放電励起レーザ装置において、レーザの発振
領域を放電方向に対して発振を制限する手段が設けられ
ておらず、出力レーザ光のビーム形状が特にレーザの放
電方向において不規則に変形するので、このような変形
のないビーム形状が得られるようにする。 【構成】 レーザの放電方向に対して同じ方向に発振を
制限するスリット１７を、フロント側とリア側の共振器
中に配設する。前記スリット幅をレーザ装置の主電極
３，４のギャップ間隔以下にすることにより、出力レー
ザ光のビーム形状を変形のない整った長方形とすること
ができる。そしてこのスリットを、たとえばレーザチャ
ンバ１内の光路口に取着することによって、電極とスリ
ットの位置関係を高精度に位置決めすることができる。
領域を放電方向に対して発振を制限する手段が設けられ
ておらず、出力レーザ光のビーム形状が特にレーザの放
電方向において不規則に変形するので、このような変形
のないビーム形状が得られるようにする。 【構成】 レーザの放電方向に対して同じ方向に発振を
制限するスリット１７を、フロント側とリア側の共振器
中に配設する。前記スリット幅をレーザ装置の主電極
３，４のギャップ間隔以下にすることにより、出力レー
ザ光のビーム形状を変形のない整った長方形とすること
ができる。そしてこのスリットを、たとえばレーザチャ
ンバ１内の光路口に取着することによって、電極とスリ
ットの位置関係を高精度に位置決めすることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体露光装置の光源
として使用されるエキシマレーザ装置に関する。
として使用されるエキシマレーザ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】自然発振の放電励起のエキシマレーザ装
置の概略構成は図７に示す通りである。このレーザ装置
ではレーザの発振領域を発振初期の状態から制限するよ
うなアパーチャまたはスリットは配設されていない。ま
た、グレーティングとプリズムとを配設した狭帯域エキ
シマレーザ装置の概略構成は図８に示す通りで、放電方
向の垂直方向に対して垂直方向に発振を制限するスリッ
トを配置し、このスリットによりビームの広がり角を制
限してスペクトル線幅を狭くしている。
置の概略構成は図７に示す通りである。このレーザ装置
ではレーザの発振領域を発振初期の状態から制限するよ
うなアパーチャまたはスリットは配設されていない。ま
た、グレーティングとプリズムとを配設した狭帯域エキ
シマレーザ装置の概略構成は図８に示す通りで、放電方
向の垂直方向に対して垂直方向に発振を制限するスリッ
トを配置し、このスリットによりビームの広がり角を制
限してスペクトル線幅を狭くしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図７に示した自然発振
の放電励起のエキシマレーザ装置または図８に示した狭
帯域エキシマレーザ装置の出力レーザ光のビーム形状
は、図９に示す通りであり、本来長方形であるべきビー
ム形状が特に電極近傍において不規則で、非常に悪い形
状となっている。本発明は上記従来の問題点に着目して
なされたもので、ビーム形状の整った出力レーザ光を発
振することができるようなレーザ装置を提供することを
目的としている。
の放電励起のエキシマレーザ装置または図８に示した狭
帯域エキシマレーザ装置の出力レーザ光のビーム形状
は、図９に示す通りであり、本来長方形であるべきビー
ム形状が特に電極近傍において不規則で、非常に悪い形
状となっている。本発明は上記従来の問題点に着目して
なされたもので、ビーム形状の整った出力レーザ光を発
振することができるようなレーザ装置を提供することを
目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明に係るレーザ装置は、放電励起レーザ装置におい
て、レーザの放電方向に対して同じ方向に発振を制限す
るスリットをフロント側およびリア側の共振器中に配設
し、前記スリット幅を前記レーザ装置の電極ギャップ間
隔以下にする構成とし、このような構成において、レー
ザの放電方向に対して同じ方向に発振を制限するスリッ
トを、レーザチャンバに設置するものとし、更に、レー
ザの放電方向に対して同じ方向に発振を制限するスリッ
トを、レーザチャンバ内のラビリンスに設置ししてもよ
く、あるいは、レーザの放電方向に対して同じ方向に発
振を制限するスリットを、レーザ装置のウインドウホル
ダに設置してもよい。また、少なくともプリズムまたは
エタロンもしくはグレーティングを配置した狭帯域レー
ザ装置において、レーザの放電方向に対して同じ方向に
発振を制限するスリットを上記の位置に設置してもよ
い。
本発明に係るレーザ装置は、放電励起レーザ装置におい
て、レーザの放電方向に対して同じ方向に発振を制限す
るスリットをフロント側およびリア側の共振器中に配設
し、前記スリット幅を前記レーザ装置の電極ギャップ間
隔以下にする構成とし、このような構成において、レー
ザの放電方向に対して同じ方向に発振を制限するスリッ
トを、レーザチャンバに設置するものとし、更に、レー
ザの放電方向に対して同じ方向に発振を制限するスリッ
トを、レーザチャンバ内のラビリンスに設置ししてもよ
く、あるいは、レーザの放電方向に対して同じ方向に発
振を制限するスリットを、レーザ装置のウインドウホル
ダに設置してもよい。また、少なくともプリズムまたは
エタロンもしくはグレーティングを配置した狭帯域レー
ザ装置において、レーザの放電方向に対して同じ方向に
発振を制限するスリットを上記の位置に設置してもよ
い。
【０００５】
【作用】上記構成によれば、放電励起レーザ装置のフロ
ント側およびリア側の共振器中に、レーザの放電方向に
対して同じ方向に発振を制限するスリットを設け、その
スリット幅を前記レーザ装置の電極ギャップ間隔以下に
したので、電極近傍に発生するビーム形状の不規則部分
は前記スリットによって遮断され、出力レーザ光のビー
ム形状を良くすることができる。
ント側およびリア側の共振器中に、レーザの放電方向に
対して同じ方向に発振を制限するスリットを設け、その
スリット幅を前記レーザ装置の電極ギャップ間隔以下に
したので、電極近傍に発生するビーム形状の不規則部分
は前記スリットによって遮断され、出力レーザ光のビー
ム形状を良くすることができる。
【０００６】
【実施例】以下に本発明に係るレーザ装置の実施例につ
いて、図面を参照して説明する。図１はエキシマレーザ
装置の概略構造を模式的に示す断面図である。同図にお
いて、１は所定のレーザガスを封入するレーザチャン
バ、２はクロスフローファン、３，４は主電極、５はフ
ァン駆動用モータ、６はウインドウ、７はウインドウホ
ルダ、８はラビリンスである。前記レーザチャンバ１に
はダストフィルタケース９が連結され、レーザチャンバ
１とダストフィルタケース９とは、光軸方向のほぼ中央
に設けられたダストフィルタ入口１０と、レーザチャン
バ１の両端の壁面内に設けられたガス導入路１１とダス
トフィルタケース９の両端に設けられたダストフィルタ
出口１２とによって連通している。前記ダストフィルタ
ケース９内には、フロント側ウインドウ用、リア側ウイ
ンドウ用のフィルタ１３がそれぞれ配設されている。
いて、図面を参照して説明する。図１はエキシマレーザ
装置の概略構造を模式的に示す断面図である。同図にお
いて、１は所定のレーザガスを封入するレーザチャン
バ、２はクロスフローファン、３，４は主電極、５はフ
ァン駆動用モータ、６はウインドウ、７はウインドウホ
ルダ、８はラビリンスである。前記レーザチャンバ１に
はダストフィルタケース９が連結され、レーザチャンバ
１とダストフィルタケース９とは、光軸方向のほぼ中央
に設けられたダストフィルタ入口１０と、レーザチャン
バ１の両端の壁面内に設けられたガス導入路１１とダス
トフィルタケース９の両端に設けられたダストフィルタ
出口１２とによって連通している。前記ダストフィルタ
ケース９内には、フロント側ウインドウ用、リア側ウイ
ンドウ用のフィルタ１３がそれぞれ配設されている。
【０００７】ＫｒＦエキシマレーザ装置の場合、レーザ
ガスはレアガスとしてＫｒガス、ハロゲンガスとしてフ
ッ素ガス、バッファガスとしてＮｅまたはＨｅあるいは
これらの混合ガスからなっている。前記レーザガスはク
ロスフローファン２によりレーザチャンバ１内を循環
し、主電極３，４間に常に新しいガスが流れ、主電極
３，４で安定したパルス放電がなされるようになってい
る。そして、この放電によって励起された光はフロント
ミラー１４とリアミラー１５の共振器によって増幅さ
れ、レーザ発振する。一方、内部循環しているレーザガ
スの一部はダストフィルタ入口１０からダストフィルタ
ケース９内に入り、フロント側とリア側のフィルタ１３
を透過してダストを含まない清浄なレーザガスとなる。
この清浄なレーザガスは、ダストフィルタ出口１２を経
てレーザチャンバ壁面内のガス導入路１１を通り、ラビ
リンス８を収納する副室１６に入る。副室１６はレーザ
光路上に設けられ、流入したガスの流れを静定させるバ
ッファ領域を形成している。ここで静圧に回復したレー
ザガスは、ウインドウ６の内面近傍に滞留する清浄なレ
ーザガスを動かすことなく、ラビリンス８を通過してレ
ーザチャンバ１内の主電極３，４の方向に流れる。従っ
て、塵を含む放電領域のレーザガスがウインドウ６に向
かって流入することを防止する。
ガスはレアガスとしてＫｒガス、ハロゲンガスとしてフ
ッ素ガス、バッファガスとしてＮｅまたはＨｅあるいは
これらの混合ガスからなっている。前記レーザガスはク
ロスフローファン２によりレーザチャンバ１内を循環
し、主電極３，４間に常に新しいガスが流れ、主電極
３，４で安定したパルス放電がなされるようになってい
る。そして、この放電によって励起された光はフロント
ミラー１４とリアミラー１５の共振器によって増幅さ
れ、レーザ発振する。一方、内部循環しているレーザガ
スの一部はダストフィルタ入口１０からダストフィルタ
ケース９内に入り、フロント側とリア側のフィルタ１３
を透過してダストを含まない清浄なレーザガスとなる。
この清浄なレーザガスは、ダストフィルタ出口１２を経
てレーザチャンバ壁面内のガス導入路１１を通り、ラビ
リンス８を収納する副室１６に入る。副室１６はレーザ
光路上に設けられ、流入したガスの流れを静定させるバ
ッファ領域を形成している。ここで静圧に回復したレー
ザガスは、ウインドウ６の内面近傍に滞留する清浄なレ
ーザガスを動かすことなく、ラビリンス８を通過してレ
ーザチャンバ１内の主電極３，４の方向に流れる。従っ
て、塵を含む放電領域のレーザガスがウインドウ６に向
かって流入することを防止する。
【０００８】本実施例ではレーザの放電方向に対して同
じ方向に発振を制限するスリット１７を、レーザチャン
バ１内のフロント側およびリア側の光路口に配設してい
る。前記スリットの幅は主電極３，４のギャップ間隔以
下となっている。図２〜図４はレーザチャンバ内にスリ
ットを配設した他の例を示したもので、図２は放電によ
り発生したダストの進入を防ぐためのラビリンスとスリ
ットの機能を兼用させた例を示す。（ａ）ではラビリン
ス８の対向部分をスリット１７としているが、（ｂ）に
示すようにラビリンス８の対向していない部分をスリッ
ト１７として光路を制限してもよい。図３および図４は
ウインドウホルダ７にスリットを取着した例を示し、図
３はウインドウ６の内側にスリット１７を取着した場
合、図４はウインドウ６の外側にスリット１７を取着し
た場合である。レーザチャンバにこのようなスリットを
取着することによって、主電極とスリットとの位置精度
が向上する。
じ方向に発振を制限するスリット１７を、レーザチャン
バ１内のフロント側およびリア側の光路口に配設してい
る。前記スリットの幅は主電極３，４のギャップ間隔以
下となっている。図２〜図４はレーザチャンバ内にスリ
ットを配設した他の例を示したもので、図２は放電によ
り発生したダストの進入を防ぐためのラビリンスとスリ
ットの機能を兼用させた例を示す。（ａ）ではラビリン
ス８の対向部分をスリット１７としているが、（ｂ）に
示すようにラビリンス８の対向していない部分をスリッ
ト１７として光路を制限してもよい。図３および図４は
ウインドウホルダ７にスリットを取着した例を示し、図
３はウインドウ６の内側にスリット１７を取着した場
合、図４はウインドウ６の外側にスリット１７を取着し
た場合である。レーザチャンバにこのようなスリットを
取着することによって、主電極とスリットとの位置精度
が向上する。
【０００９】図５はフロントミラーまたはリアミラーか
ら覗いた場合の主電極３，４の放電状態およびスリット
１７の位置関係を示したものである。実験結果では、ス
リット１７の幅Ｗを主電極３，４のギャップ間隔以下と
することによって、図６に示すように形の良い出力レー
ザ光のビーム形状が得られた。なお、本実施例ではスリ
ットをレーザチャンバに取着したが、これに限るもので
はなく、共振器中であればどこに配設してもよい。更
に、本実施例では自然発振の例のみを示したが、ビーム
エキスパンダ、グレーティング、エタロン等の波長選択
素子を配置した場合においても同様にビーム形状が良く
なる。
ら覗いた場合の主電極３，４の放電状態およびスリット
１７の位置関係を示したものである。実験結果では、ス
リット１７の幅Ｗを主電極３，４のギャップ間隔以下と
することによって、図６に示すように形の良い出力レー
ザ光のビーム形状が得られた。なお、本実施例ではスリ
ットをレーザチャンバに取着したが、これに限るもので
はなく、共振器中であればどこに配設してもよい。更
に、本実施例では自然発振の例のみを示したが、ビーム
エキスパンダ、グレーティング、エタロン等の波長選択
素子を配置した場合においても同様にビーム形状が良く
なる。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、放
電励起レーザ装置において、レーザの放電方向に対して
同じ方向に発振を制限するスリットをフロント側とリア
側の共振器中に配設し、前記スリット幅をレーザ装置の
電極ギャップ間隔以下としたので、出力レーザ光のビー
ム形状を綺麗な形にすることができる。そして、このス
リットをレーザチャンバに取着する構成としたことによ
って、電極とスリットの位置関係を高精度に位置決めす
ることができるので、半導体露光装置用の光源として最
適のレーザ装置とすることができる。
電励起レーザ装置において、レーザの放電方向に対して
同じ方向に発振を制限するスリットをフロント側とリア
側の共振器中に配設し、前記スリット幅をレーザ装置の
電極ギャップ間隔以下としたので、出力レーザ光のビー
ム形状を綺麗な形にすることができる。そして、このス
リットをレーザチャンバに取着する構成としたことによ
って、電極とスリットの位置関係を高精度に位置決めす
ることができるので、半導体露光装置用の光源として最
適のレーザ装置とすることができる。
【図１】エキシマレーザ装置の概略構造を模式的に示す
断面図である。
断面図である。
【図２】レーザチャンバ内にスリットを配設した場合の
例を示す図で、（ａ）はラビリンスの対向部分をスリッ
トとした場合、（ｂ）はラビリンスの対向しない部分を
スリットとした場合を示す。
例を示す図で、（ａ）はラビリンスの対向部分をスリッ
トとした場合、（ｂ）はラビリンスの対向しない部分を
スリットとした場合を示す。
【図３】レーザチャンバ内にスリットを配設した場合の
例を示す図で、ウインドウの内側にスリットを取着した
場合を示す。
例を示す図で、ウインドウの内側にスリットを取着した
場合を示す。
【図４】レーザチャンバ内にスリットを配設した場合の
例を示す図で、ウインドウの外側にスリットを取着した
場合を示す。
例を示す図で、ウインドウの外側にスリットを取着した
場合を示す。
【図５】フロントミラーまたはリアミラーから覗いた場
合の主電極の放電状態および主電極とスリットとの位置
関係を示す図である。
合の主電極の放電状態および主電極とスリットとの位置
関係を示す図である。
【図６】出力レーザ光のビーム形状を示す図である。
【図７】自然発振の放電励起のエキシマレーザ装置の概
略構成を模式的に示す図である。
略構成を模式的に示す図である。
【図８】グレーティングとプリズムとを配設した狭帯域
エキシマレーザ装置の概略構成を模式的に示す図であ
る。
エキシマレーザ装置の概略構成を模式的に示す図であ
る。
【図９】従来のエキシマレーザ装置における出力レーザ
光のビーム形状を示す図である。
光のビーム形状を示す図である。
１ レーザチャンバ ３，４ 主電極 ７ ウインドウホルダ ８ ラビリンス １７ スリット
Claims (5)
- 【請求項１】 放電励起レーザ装置において、レーザの
放電方向に対して同じ方向に発振を制限するスリットを
フロント側およびリア側の共振器中に配設し、前記スリ
ット幅を前記レーザ装置の電極ギャップ間隔以下にした
ことを特徴とするレーザ装置。 - 【請求項２】 レーザの放電方向に対して同じ方向に発
振を制限するスリットを、レーザチャンバに設置したこ
とを特徴とする請求項１のレーザ装置。 - 【請求項３】 レーザの放電方向に対して同じ方向に発
振を制限するスリットを、レーザチャンバ内のラビリン
スに設置したことを特徴とする請求項２のレーザ装置。 - 【請求項４】 レーザの放電方向に対して同じ方向に発
振を制限するスリットを、レーザ装置のウインドウホル
ダに設置したことを特徴とする請求項１のレーザ装置。 - 【請求項５】 少なくともプリズムまたはエタロンもし
くはグレーティングを配置した請求項１、請求項２、請
求項３または請求項４の狭帯域レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4328547A JP2997606B2 (ja) | 1992-11-13 | 1992-11-13 | 狭帯域化エキシマレーザー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4328547A JP2997606B2 (ja) | 1992-11-13 | 1992-11-13 | 狭帯域化エキシマレーザー装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06152005A true JPH06152005A (ja) | 1994-05-31 |
| JP2997606B2 JP2997606B2 (ja) | 2000-01-11 |
Family
ID=18211503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4328547A Expired - Lifetime JP2997606B2 (ja) | 1992-11-13 | 1992-11-13 | 狭帯域化エキシマレーザー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2997606B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010010551A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Gigaphoton Inc | 高繰返しパルスガスレーザ装置 |
| WO2014045889A1 (ja) * | 2012-09-18 | 2014-03-27 | ギガフォトン株式会社 | スラブ型増幅器、それを含むレーザ装置および極短紫外光生成装置 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6345875A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-26 | Komatsu Ltd | マルチモ−ド狭帯域発振エキシマレ−ザ |
| JPS6442188A (en) * | 1987-08-10 | 1989-02-14 | Mitsubishi Electric Corp | Excimer laser apparatus |
| JPH022188A (ja) * | 1988-06-13 | 1990-01-08 | Shimadzu Corp | エキシマレーザ装置 |
| JPH0212979A (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-17 | Toshiba Corp | 狭帯域ガスレーザ発振装置 |
| JPH02174177A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-05 | Okuma Mach Works Ltd | Ｃｏ↓２ガスレーザの光軸確認方法及びレーザ発振器 |
| JPH02276234A (ja) * | 1989-04-18 | 1990-11-13 | Toshiba Corp | レーザ露光装置 |
| JPH04186684A (ja) * | 1990-11-16 | 1992-07-03 | Nec Corp | 狭帯域エキシマレーザ装置 |
-
1992
- 1992-11-13 JP JP4328547A patent/JP2997606B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
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| JPH04186684A (ja) * | 1990-11-16 | 1992-07-03 | Nec Corp | 狭帯域エキシマレーザ装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2014045889A1 (ja) * | 2012-09-18 | 2014-03-27 | ギガフォトン株式会社 | スラブ型増幅器、それを含むレーザ装置および極短紫外光生成装置 |
| JPWO2014045889A1 (ja) * | 2012-09-18 | 2016-08-18 | ギガフォトン株式会社 | スラブ型増幅器、それを含むレーザ装置および極短紫外光生成装置 |
| US9680277B2 (en) | 2012-09-18 | 2017-06-13 | Gigaphoton Inc. | Slab amplifier, and laser apparatus and extreme ultraviolet light generation apparatus including slab amplifier |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2997606B2 (ja) | 2000-01-11 |
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