JP2696285B2 - 狭帯域発振エキシマレーザ装置およびそのパージ方法 - Google Patents
狭帯域発振エキシマレーザ装置およびそのパージ方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、狭帯域発振エキシマレ
ーザ装置およびそのパージ方法に係わり、特には、縮小
投影露光装置用の光源として用いられる狭帯域発振エキ
シマレーザ装置およびそのパージ方法の改良に関する。
ーザ装置およびそのパージ方法に係わり、特には、縮小
投影露光装置用の光源として用いられる狭帯域発振エキ
シマレーザ装置およびそのパージ方法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、特願平１−１２９３９２号、特開
平１ー１２３２３８号公報、特開平１ー１４３３７２号
公報等に開示されている技術では、複数個のエタロン又
はビームエキスパンダとグレーティングによって狭帯域
化を行っている。狭帯域化素子の熱負荷が大きかった
り、また、長期的に狭帯域レーザを運転する場合には、
空気中のダストや酸素等によって狭帯域化素子が損傷し
素子寿命を短くしているので、熱負荷を低減したり、狭
帯域素子寿命を延ばすために清浄なパージ気体を図８の
ように光学素子に直接吹き付けている。
平１ー１２３２３８号公報、特開平１ー１４３３７２号
公報等に開示されている技術では、複数個のエタロン又
はビームエキスパンダとグレーティングによって狭帯域
化を行っている。狭帯域化素子の熱負荷が大きかった
り、また、長期的に狭帯域レーザを運転する場合には、
空気中のダストや酸素等によって狭帯域化素子が損傷し
素子寿命を短くしているので、熱負荷を低減したり、狭
帯域素子寿命を延ばすために清浄なパージ気体を図８の
ように光学素子に直接吹き付けている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、グレー
ティングを狭帯域化素子として使用し、グレーティング
の溝表面に清浄気体を吹き付けるとグレーティングの溝
表面の気体屈折率が変化するためにレーザの発振波長及
びビームプロフィルに、図９、図１０に示すように揺ら
ぎが発生することを発見した。この発振波長の揺らぎは
ランダムに発生するため、揺らぎ以下に発振波長を安定
化することは出来なかった。また、ビームが揺らぐと露
光するときに均一に露光が出来なくなるためステッパ用
の光源としては不適当であった。
ティングを狭帯域化素子として使用し、グレーティング
の溝表面に清浄気体を吹き付けるとグレーティングの溝
表面の気体屈折率が変化するためにレーザの発振波長及
びビームプロフィルに、図９、図１０に示すように揺ら
ぎが発生することを発見した。この発振波長の揺らぎは
ランダムに発生するため、揺らぎ以下に発振波長を安定
化することは出来なかった。また、ビームが揺らぐと露
光するときに均一に露光が出来なくなるためステッパ用
の光源としては不適当であった。
【０００４】本発明は上記従来の問題点に着目し、狭帯
域発振エキシマレーザ装置およびそのパージ方法に係わ
り、特には、縮小投影露光装置用の光源として用いられ
る狭帯域発振エキシマレーザ装置およびそのパージ方法
の提供を目的としている。
域発振エキシマレーザ装置およびそのパージ方法に係わ
り、特には、縮小投影露光装置用の光源として用いられ
る狭帯域発振エキシマレーザ装置およびそのパージ方法
の提供を目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的達成のため、
本発明に係る狭帶域発振エキシマレーザ装置の発明で
は、狭帶域化素子として少なくともグレーディングを配
置した狭帶域発振エキシマレーザ装置において、狭帶域
化素子を囲う筐体と、清浄気体で筐体内を連続パージす
る手段と、グレーディングの溝表面へパージ気体が直接
に流入することを防止する手段と、パージガスが存在す
る筐体はパージガスが連続的に漏れ続けるための排出口
とからなる。また、グレーディングの溝表面へパージ気
体が直接に流入することを防止する手段は、清浄気体の
導入口をグレーディングの溝表面の反対の裏面側に配置
している。または、グレーディングの溝表面へパージ気
体が直接に流入することを防止する手段は、グレーディ
ングと光学素子の間に光路を妨げない壁を配設し、壁の
光路側の反対側に清浄気体の導入口を配設している。ま
たは、グレーディングの溝表面へパージ気体が直接に流
入することを防止する手段は、グレーディングと光学素
子の間に光路を妨げないように壁で囲い、壁で囲われた
光路以外の場所に清浄気体の導入口を配設している。ま
たは、グレーディングの溝表面へパージ気体が直接に流
入することを防止する手段は、筐体内をグレーディング
を含む部屋とその他の光学素子の部屋に分ける壁を配設
し、その他の光学素子の部屋に清浄気体の導入口を配設
している。また、レーザチャンバとグレーディングとの
間にビームエキスパンダを配設し、このビームエキスパ
ンダの表面に清浄気体を流す手段を備えている。また、
ビームエキスパンダとしてプリズムを使用し、このプリ
ズムの表面の第１面あるいは第２面、または、第１面お
よび第２面の両面に、清浄気体を吹き付ける手段を備え
ている。
本発明に係る狭帶域発振エキシマレーザ装置の発明で
は、狭帶域化素子として少なくともグレーディングを配
置した狭帶域発振エキシマレーザ装置において、狭帶域
化素子を囲う筐体と、清浄気体で筐体内を連続パージす
る手段と、グレーディングの溝表面へパージ気体が直接
に流入することを防止する手段と、パージガスが存在す
る筐体はパージガスが連続的に漏れ続けるための排出口
とからなる。また、グレーディングの溝表面へパージ気
体が直接に流入することを防止する手段は、清浄気体の
導入口をグレーディングの溝表面の反対の裏面側に配置
している。または、グレーディングの溝表面へパージ気
体が直接に流入することを防止する手段は、グレーディ
ングと光学素子の間に光路を妨げない壁を配設し、壁の
光路側の反対側に清浄気体の導入口を配設している。ま
たは、グレーディングの溝表面へパージ気体が直接に流
入することを防止する手段は、グレーディングと光学素
子の間に光路を妨げないように壁で囲い、壁で囲われた
光路以外の場所に清浄気体の導入口を配設している。ま
たは、グレーディングの溝表面へパージ気体が直接に流
入することを防止する手段は、筐体内をグレーディング
を含む部屋とその他の光学素子の部屋に分ける壁を配設
し、その他の光学素子の部屋に清浄気体の導入口を配設
している。また、レーザチャンバとグレーディングとの
間にビームエキスパンダを配設し、このビームエキスパ
ンダの表面に清浄気体を流す手段を備えている。また、
ビームエキスパンダとしてプリズムを使用し、このプリ
ズムの表面の第１面あるいは第２面、または、第１面お
よび第２面の両面に、清浄気体を吹き付ける手段を備え
ている。
【０００６】また、本発明に係る狭帶域発振エキシマレ
ーザ装置のパージ方法の発明では、筐体内に狭帶域化素
子として少なくともグレーディングを配置するととも
に、筐体内に清浄気体が供給されて、筐体内の気体をパ
ージする狭帶域発振エキシマレーザ装置のパージ方法に
おいて、窒素あるいはヘリウム等の不活性ガス、また
は、空気等のレーザ光により反応または吸収しない気体
を、フィルタを透過させて清浄気体とし、その清浄気体
をレーザの発振波長およびビームプロフィルの揺らぎを
なくすために、グレーディングの溝表面の反対の裏面
側、グレーディングを囲う壁の外側、あるいは、グレー
ディングを有しない部屋、のいずれかの筐体内に連続し
て供給するとともに排出し、筐体内の気体を清浄にす
る。
ーザ装置のパージ方法の発明では、筐体内に狭帶域化素
子として少なくともグレーディングを配置するととも
に、筐体内に清浄気体が供給されて、筐体内の気体をパ
ージする狭帶域発振エキシマレーザ装置のパージ方法に
おいて、窒素あるいはヘリウム等の不活性ガス、また
は、空気等のレーザ光により反応または吸収しない気体
を、フィルタを透過させて清浄気体とし、その清浄気体
をレーザの発振波長およびビームプロフィルの揺らぎを
なくすために、グレーディングの溝表面の反対の裏面
側、グレーディングを囲う壁の外側、あるいは、グレー
ディングを有しない部屋、のいずれかの筐体内に連続し
て供給するとともに排出し、筐体内の気体を清浄にす
る。
【０００７】
【作用】上記構成によれば、グレーティングの溝表面に
清浄気体の流れを起こさないようにしているためにグレ
ーティング表面の気体の屈折率の変化がなくなり、出力
レーザ光の発振波長の揺らぎ及びビームプロフィルの揺
らぎがなくなる。また、熱負荷が大きな光学素子の表面
に清浄気体を吹き付けることにより光学素子の発熱を抑
えることができる。
清浄気体の流れを起こさないようにしているためにグレ
ーティング表面の気体の屈折率の変化がなくなり、出力
レーザ光の発振波長の揺らぎ及びビームプロフィルの揺
らぎがなくなる。また、熱負荷が大きな光学素子の表面
に清浄気体を吹き付けることにより光学素子の発熱を抑
えることができる。
【０００８】
【実施例】以下に、本発明に係わる狭帯域発振エキシマ
レーザ装置の実施例につき、図面を参照して詳細に説明
する。図１は本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の
第１実施例を示す全体構成図である。図１において、狭
帯域発振エキシマレーザ装置はフロントミラー１と、レ
ーザを起振するレーザチャンバ１０と、レーザを狭帯域
化する狭帯域化装置２０とからなっている。レーザチャ
ンバ１０は、図示しない電極とウインド１１とチヤンバ
ー１２とからなっている。狭帯域化装置２０は、プリズ
ムビームエキスパンダ２５とグレーティング３０と筺体
３５と、清浄気体供給装置４０からなっている。プリズ
ムビームエキスパンダ２５とグレーティング３０は筺体
３５で囲われている。プリズムビームエキスパンダ２５
は第１プリズム２７および第２プリズム２９よりなって
いる。筺体３５は狭帯域ボックスで形成されている。グ
レーティング３０の溝表面３０ａの裏側３０ｂに清浄気
体装置４０からの清浄気体の導入口４２が配設されてい
る。
レーザ装置の実施例につき、図面を参照して詳細に説明
する。図１は本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の
第１実施例を示す全体構成図である。図１において、狭
帯域発振エキシマレーザ装置はフロントミラー１と、レ
ーザを起振するレーザチャンバ１０と、レーザを狭帯域
化する狭帯域化装置２０とからなっている。レーザチャ
ンバ１０は、図示しない電極とウインド１１とチヤンバ
ー１２とからなっている。狭帯域化装置２０は、プリズ
ムビームエキスパンダ２５とグレーティング３０と筺体
３５と、清浄気体供給装置４０からなっている。プリズ
ムビームエキスパンダ２５とグレーティング３０は筺体
３５で囲われている。プリズムビームエキスパンダ２５
は第１プリズム２７および第２プリズム２９よりなって
いる。筺体３５は狭帯域ボックスで形成されている。グ
レーティング３０の溝表面３０ａの裏側３０ｂに清浄気
体装置４０からの清浄気体の導入口４２が配設されてい
る。
【０００９】本実施例の狭帯域化方式はプリズムビーム
エキスパンダ２５とグレーティング３０を組み合わせた
方式であり、グレーティング３０はリトロー配置になっ
ている。第１プリズム２７、第２プリズム２９およびグ
レーティング３０は狭帯域化ボックス３５で覆われてお
り、管３７によりレーザチャンバー１０と接続されてい
る。清浄気体装置４０は、清浄気体ガスボンベ４４から
流量計４６を介して清浄気体は清浄気体の導入口４２か
ら吹き出される。清浄気体の導入口４２はグレーティン
グ３０の裏側３０ｂに配設されており、グレーティング
３０の溝表面３０ａには気体の流れが起こさずに狭帯域
化ボックス３５内および管３７内（狭帯域化ボックスと
ウインドウの間の光路）が清浄気体で満たされる。
エキスパンダ２５とグレーティング３０を組み合わせた
方式であり、グレーティング３０はリトロー配置になっ
ている。第１プリズム２７、第２プリズム２９およびグ
レーティング３０は狭帯域化ボックス３５で覆われてお
り、管３７によりレーザチャンバー１０と接続されてい
る。清浄気体装置４０は、清浄気体ガスボンベ４４から
流量計４６を介して清浄気体は清浄気体の導入口４２か
ら吹き出される。清浄気体の導入口４２はグレーティン
グ３０の裏側３０ｂに配設されており、グレーティング
３０の溝表面３０ａには気体の流れが起こさずに狭帯域
化ボックス３５内および管３７内（狭帯域化ボックスと
ウインドウの間の光路）が清浄気体で満たされる。
【００１０】次に上記実施例において、作動について説
明する。レーザチャンバ１０内および狭帯域化装置２０
がレーザに反応しない気体の清浄気体で満たされると、
次に、レーザチャンバ１０内で放電励起され、狭帯域化
装置２０でレーザが狭帯域化された後にフロントミラー
１より出力される。このとき、グレーティング３０の溝
表面３０ａに気体の流れが起きないので出力光の中心波
長及びビームプロフィルの揺らぎがなくなる。また、ウ
インドウ１１、プリズム２７、２９、およびグレーティ
ング３０の周囲が清浄気体でみたされているため、狭帯
域化素子のプリズムビームエキスパンダ２５とグレーテ
ィング３０およびウインドウ１１の寿命は飛躍的に延び
る。
明する。レーザチャンバ１０内および狭帯域化装置２０
がレーザに反応しない気体の清浄気体で満たされると、
次に、レーザチャンバ１０内で放電励起され、狭帯域化
装置２０でレーザが狭帯域化された後にフロントミラー
１より出力される。このとき、グレーティング３０の溝
表面３０ａに気体の流れが起きないので出力光の中心波
長及びビームプロフィルの揺らぎがなくなる。また、ウ
インドウ１１、プリズム２７、２９、およびグレーティ
ング３０の周囲が清浄気体でみたされているため、狭帯
域化素子のプリズムビームエキスパンダ２５とグレーテ
ィング３０およびウインドウ１１の寿命は飛躍的に延び
る。
【００１１】なお、この狭帯域化ボックス３５または管
３７の密閉度はその内部が清浄気体で満たされる程度で
良い。もし、狭帯域化ボックス３５と管３７の密閉度を
高くした場合には清浄気体の小さな排出口を設置すれば
良い。この例では、清浄気体の導入口４２はグレーティ
ング３０の背面３０ｂに対向する筺体３５の側壁に設置
しているが、それに限定されるものでは無く、グレーテ
ィング３０ａの背面側であれば狭帯域化ボックスの底板
３５ａあるいは上板３５ｂに設置しても良い。 清浄気
体の例として、窒素ガスやヘリウム等の不活性ガスがあ
る。また、酸素が光学素子と反応したり、レーザ光を吸
収したりしない場合は、ＨＥＰＡフィルターを通過した
空気でパージしても良い。
３７の密閉度はその内部が清浄気体で満たされる程度で
良い。もし、狭帯域化ボックス３５と管３７の密閉度を
高くした場合には清浄気体の小さな排出口を設置すれば
良い。この例では、清浄気体の導入口４２はグレーティ
ング３０の背面３０ｂに対向する筺体３５の側壁に設置
しているが、それに限定されるものでは無く、グレーテ
ィング３０ａの背面側であれば狭帯域化ボックスの底板
３５ａあるいは上板３５ｂに設置しても良い。 清浄気
体の例として、窒素ガスやヘリウム等の不活性ガスがあ
る。また、酸素が光学素子と反応したり、レーザ光を吸
収したりしない場合は、ＨＥＰＡフィルターを通過した
空気でパージしても良い。
【００１２】図２は本発明の狭帯域発振エキシマレーザ
装置の第２実施例を示す全体構成図であり、狭帯域化素
子５０としてプリズム２７、２９とエタロン５１および
グレーティング３０を用いている。この場合も、第１実
施例と同様にグレーティング３０の溝表面３０ａに気体
の流れが起きないので出力光の中心波長及びビームプロ
フィルの揺らぎがなくなる。このように狭帯域化方式と
しては上記実施例に囚われることなくグレーティングを
少なくとも配置した狭帯域化方式であれば何でも良い。
また、グレーティングは斜入射配置でも良い。
装置の第２実施例を示す全体構成図であり、狭帯域化素
子５０としてプリズム２７、２９とエタロン５１および
グレーティング３０を用いている。この場合も、第１実
施例と同様にグレーティング３０の溝表面３０ａに気体
の流れが起きないので出力光の中心波長及びビームプロ
フィルの揺らぎがなくなる。このように狭帯域化方式と
しては上記実施例に囚われることなくグレーティングを
少なくとも配置した狭帯域化方式であれば何でも良い。
また、グレーティングは斜入射配置でも良い。
【００１３】図３は本発明の狭帯域発振エキシマレーザ
装置の第３実施例を示す全体構成図であり、第１実施例
とは、清浄気体の導入口５５の位置の変更と、壁５６、
５７を追加した実施例を示している。清浄気体の導入口
５５の位置はグレーティング３０の溝表面３０ａ側に配
置しており、また、壁５６はプリズムビームエキスパン
ダ２５とグレーティング３０との間で光路を妨げない位
置に配設している。このように、光路を囲うように壁５
６、５７を配設すれば清浄気体の導入口５５の位置はそ
の外側であれば何処に配置しても良い。この場合も、第
１実施例と同様にグレーティング３０の溝表面３０ａに
気体の流れが起きないので出力光の中心波長及びビーム
プロフィルの揺らぎがなくなる。
装置の第３実施例を示す全体構成図であり、第１実施例
とは、清浄気体の導入口５５の位置の変更と、壁５６、
５７を追加した実施例を示している。清浄気体の導入口
５５の位置はグレーティング３０の溝表面３０ａ側に配
置しており、また、壁５６はプリズムビームエキスパン
ダ２５とグレーティング３０との間で光路を妨げない位
置に配設している。このように、光路を囲うように壁５
６、５７を配設すれば清浄気体の導入口５５の位置はそ
の外側であれば何処に配置しても良い。この場合も、第
１実施例と同様にグレーティング３０の溝表面３０ａに
気体の流れが起きないので出力光の中心波長及びビーム
プロフィルの揺らぎがなくなる。
【００１４】図４は本発明の狭帯域発振エキシマレーザ
装置の第４実施例を示す全体構成図であり、第３実施例
と同様に狭帯域化方式にプリズム２５、２７とエタロン
５１およびグレーティング３０を用いている。この場合
も、光路を囲うように壁５６、５７を配設すれば清浄気
体の導入口５５の位置はその外側であれば何処に配置し
ても良い。
装置の第４実施例を示す全体構成図であり、第３実施例
と同様に狭帯域化方式にプリズム２５、２７とエタロン
５１およびグレーティング３０を用いている。この場合
も、光路を囲うように壁５６、５７を配設すれば清浄気
体の導入口５５の位置はその外側であれば何処に配置し
ても良い。
【００１５】図５は本発明の狭帯域発振エキシマレーザ
装置の第５実施例を示す全体構成図であり、第３実施例
とは、壁６１、６２の位置が変更した実施例を示してい
る。壁６１によりグレーティング３０を含む部屋６３
と、プリズムビームエキスパンダ２７、２９を含む部屋
６５とに分割し、清浄気体の導入口６４の位置はプリズ
ムビームエキスパンダ２５を含む部屋６５側に配置して
いる。この場合も、第１実施例と同様にグレーティング
３０の溝表面３０ａに気体の流れが起きないので出力光
の中心波長及びビームプロフィルの揺らぎがなくなる。
しかし、この場合もグレーティング３０を含む部屋６３
は不活性ガスで満たされることは言うまでもない。
装置の第５実施例を示す全体構成図であり、第３実施例
とは、壁６１、６２の位置が変更した実施例を示してい
る。壁６１によりグレーティング３０を含む部屋６３
と、プリズムビームエキスパンダ２７、２９を含む部屋
６５とに分割し、清浄気体の導入口６４の位置はプリズ
ムビームエキスパンダ２５を含む部屋６５側に配置して
いる。この場合も、第１実施例と同様にグレーティング
３０の溝表面３０ａに気体の流れが起きないので出力光
の中心波長及びビームプロフィルの揺らぎがなくなる。
しかし、この場合もグレーティング３０を含む部屋６３
は不活性ガスで満たされることは言うまでもない。
【００１６】図６は本発明の狭帯域発振エキシマレーザ
装置の第６実施例を示す全体構成図であり、第１実施例
とは、清浄気体の導入口７１の位置が変更されている。
この場合は、清浄気体の導入口７１の位置は第１プリズ
ム２７の第２の表面２７ｂに清浄気体を吹き付ける位置
にしている。また、このとき第１プリズム２７を冷却す
るために第１プリズム２７の第１面２７ａまたは両面２
７ａ、２７ｂを冷却するように清浄気体を吹き付ける位
置にしても良い。このようにすることにより、熱負荷の
一番大きい第１プリズム２７を冷却することができるた
め出力レーザ光のスペクトル線幅やビーム幅の変化を抑
えることができるとともに、寿命を飛躍的に延ばすこと
ができる。
装置の第６実施例を示す全体構成図であり、第１実施例
とは、清浄気体の導入口７１の位置が変更されている。
この場合は、清浄気体の導入口７１の位置は第１プリズ
ム２７の第２の表面２７ｂに清浄気体を吹き付ける位置
にしている。また、このとき第１プリズム２７を冷却す
るために第１プリズム２７の第１面２７ａまたは両面２
７ａ、２７ｂを冷却するように清浄気体を吹き付ける位
置にしても良い。このようにすることにより、熱負荷の
一番大きい第１プリズム２７を冷却することができるた
め出力レーザ光のスペクトル線幅やビーム幅の変化を抑
えることができるとともに、寿命を飛躍的に延ばすこと
ができる。
【００１７】なお、第１実施例、第２実施例において、
清浄気体の流量を変化させて波長およびビームプロフィ
ルの揺らぎを測定した結果、流量５l/min以下であれば
波長およびビームプロフィルの揺らぎが起こらなかっ
た。また、狭帯域化ボックス３５の清浄度をパーティク
ルカウンタで測定した結果、０．２l/min以上であれば
狭帯域化ボックス３５内は十分清浄であることが判明し
た。さらに、実施例３、４、５、６では流量５l/min以
上でも波長およびビームプロフィルの揺らぎは起こらな
かった。
清浄気体の流量を変化させて波長およびビームプロフィ
ルの揺らぎを測定した結果、流量５l/min以下であれば
波長およびビームプロフィルの揺らぎが起こらなかっ
た。また、狭帯域化ボックス３５の清浄度をパーティク
ルカウンタで測定した結果、０．２l/min以上であれば
狭帯域化ボックス３５内は十分清浄であることが判明し
た。さらに、実施例３、４、５、６では流量５l/min以
上でも波長およびビームプロフィルの揺らぎは起こらな
かった。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
狭帯域化素子を筺体で囲い、清浄気体で前記筺体をパー
ジすることによりダストや酸素等により生ずる狭帯域化
素子の損傷がなくなり、狭帯域化素子の寿命が飛躍的に
のびる。また、グレーティングの溝表面に清浄気体の流
れを起こさないようにするために発振波長およびビーム
の揺らぎがなくなり、そのため発振波長の安定が向上
し、ステッパの光源として使用した場合に露光ムラがな
くなる。さらに、熱負荷の大きな光学素子の発熱を抑え
ることができるため、スペクトル線幅の変化やビームプ
ロフィルの変化を抑えることができ、光学素子寿命も向
上する。このためステッパ用の光源として最適なレーザ
が得られる。
狭帯域化素子を筺体で囲い、清浄気体で前記筺体をパー
ジすることによりダストや酸素等により生ずる狭帯域化
素子の損傷がなくなり、狭帯域化素子の寿命が飛躍的に
のびる。また、グレーティングの溝表面に清浄気体の流
れを起こさないようにするために発振波長およびビーム
の揺らぎがなくなり、そのため発振波長の安定が向上
し、ステッパの光源として使用した場合に露光ムラがな
くなる。さらに、熱負荷の大きな光学素子の発熱を抑え
ることができるため、スペクトル線幅の変化やビームプ
ロフィルの変化を抑えることができ、光学素子寿命も向
上する。このためステッパ用の光源として最適なレーザ
が得られる。
【図１】本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第１
実施例を示す全体構成図。
実施例を示す全体構成図。
【図２】本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第２
実施例を示す全体構成図。
実施例を示す全体構成図。
【図３】本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第３
実施例を示す全体構成図。
実施例を示す全体構成図。
【図４】本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第４
実施例を示す全体構成図。
実施例を示す全体構成図。
【図５】本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第５
実施例を示す全体構成図。
実施例を示す全体構成図。
【図６】本発明の狭帯域発振エキシマレーザ装置の第６
実施例を示す全体構成図。
実施例を示す全体構成図。
【図７】本発明のビームプロフィルを示す図。
【図８】従来のクリーンなパージ気体を光学素子に直接
吹き付けている図。
吹き付けている図。
【図９】従来の発振波長の揺らぎを示す図。
【図１０】従来のビームプロフィルの揺らぎを示す図。
１ フロントミラー １０ レーザチャンバ １１ ウインド １２ チヤンバー ２０ 狭帯域化装置 ２５、４０、５０ プリズムビームエキスパンダ ２７ 第１プリズム ２９ 第２プリズム ３０ グレーティング ３５ 狭帯域化ボックス（筺体） ３７ 管 ４０ 清浄気体供給装置 ４２、５５、６４、７１ 清浄気体の導入口 ４４ 清浄気体ガスボンベ ５１ エタロン ５６、５７、６１、６２ 壁 ６３、６５ 部屋
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−84767（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−43787（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−302884（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−96619（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−154390（ＪＰ，Ａ) 実開 平１−135756（ＪＰ，Ｕ)
Claims (8)
- 【請求項１】 狭帶域化素子として少なくともグレーデ
ィングを配置した狭帶域発振エキシマレーザ装置におい
て、狭帶域化素子を囲う筐体と、清浄気体で筐体内を連
続パージする手段と、グレーディングの溝表面へパージ
気体が直接に流入することを防止する手段と、パージガ
スが存在する筐体はパージガスが連続的に漏れ続けるた
めの排出口とからなることを特徴とする狭帶域発振エキ
シマレーザ装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の狭帶域発振エキシマレー
ザ装置において、グレーディングの溝表面へパージ気体
が直接に流入することを防止する手段は、清浄気体の導
入口をグレーディングの溝表面の反対の裏面側に配置し
たことを特徴とする狭帶域発振エキシマレーザ装置。 - 【請求項３】 請求項１記載の狭帶域発振エキシマレー
ザ装置において、グレーディングの溝表面へパージ気体
が直接に流入することを防止する手段は、グレーディン
グと光学素子の間に光路を妨げない壁を配設し、壁の光
路側の反対側に清浄気体の導入口を配設したことを特徴
とする狭帶域発振エキシマレーザ装置。 - 【請求項４】 請求項１記載の狭帶域発振エキシマレー
ザ装置において、グレーディングの溝表面へパージ気体
が直接に流入することを防止する手段は、グレーディン
グと光学素子の間に光路を妨げないように壁で囲い、壁
で囲われた光路以外の場所に清浄気体の導入口を配設し
たことを特徴とする狭帶域発振エキシマレーザ装置。 - 【請求項５】 請求項１記載の狭帶域発振エキシマレー
ザ装置において、グレーディングの溝表面へパージ気体
が直接に流入することを防止する手段は、筐体内をグレ
ーディングを含む部屋とその他の光学素子の部屋に分け
る壁を配設し、その他の光学素子の部屋に清浄気体の導
入口を配設したことを特徴とする狭帶域発振エキシマレ
ーザ装置。 - 【請求項６】 レーザチャンバとグレーディングとの間
にビームエキスパンダを配設し、このビームエキスパン
ダの表面に清浄気体を流す手段を備えたことを特徴とす
る請求項１、請求項３、請求項４、あるいは請求項５記
載のいずれかの狭帶域発振エキシマレーザ装置。 - 【請求項７】 ビームエキスパンダとしてプリズムを使
用し、このプリズムの表面の第１面あるいは第２面、ま
たは、第１面および第２面の両面に、清浄気体を吹き付
ける手段を備えたことを特徴とする請求項１、請求項
３、請求項４、請求項５、あるいは請求項６記載のいず
れかの狭帶域発振エキシマレーザ装置。 - 【請求項８】 筐体内に狭帶域化素子として少なくとも
グレーディングを配置するとともに、筐体内に清浄気体
が供給されて、筐体内の気体をパージする狭帶域発振エ
キシマレーザ装置のパージ方法において、窒素あるいは
ヘリウム等の不活性ガス、または、空気等のレーザ光に
より反応または吸収しない気体を、フィルタを透過させ
て清浄気体とし、その清浄気体をレーザの発振波長およ
びビームプロフィルの揺らぎをなくすために、グレーデ
ィングの溝表面の反対の裏面側、グレーディングを囲う
壁の外側、あるいは、グレーディングを有しない部屋、
のいずれかの筐体内に連続して供給するとともに排出
し、筐体内の気体を清浄にすることを特徴とする狭帶域
発振エキシマレーザ装置のパージ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35281291A JP2696285B2 (ja) | 1991-12-16 | 1991-12-16 | 狭帯域発振エキシマレーザ装置およびそのパージ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35281291A JP2696285B2 (ja) | 1991-12-16 | 1991-12-16 | 狭帯域発振エキシマレーザ装置およびそのパージ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05167172A JPH05167172A (ja) | 1993-07-02 |
| JP2696285B2 true JP2696285B2 (ja) | 1998-01-14 |
Family
ID=18426609
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35281291A Expired - Lifetime JP2696285B2 (ja) | 1991-12-16 | 1991-12-16 | 狭帯域発振エキシマレーザ装置およびそのパージ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2696285B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2001018923A1 (en) | 1999-09-03 | 2001-03-15 | Cymer, Inc. | High power gas discharge laser with line narrowing unit |
| WO2001041268A1 (en) | 1999-11-30 | 2001-06-07 | Cymer, Inc. | High power gas discharge laser with helium purged line narrowing unit |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6778584B1 (en) * | 1999-11-30 | 2004-08-17 | Cymer, Inc. | High power gas discharge laser with helium purged line narrowing unit |
| US6785319B1 (en) | 1999-01-06 | 2004-08-31 | Komatsu Ltd. | Ultraviolet laser device |
| US6795474B2 (en) | 2000-11-17 | 2004-09-21 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser with improved beam path |
| JP2000347233A (ja) * | 1999-06-08 | 2000-12-15 | Sony Corp | 紫外線光学装置 |
| US6496528B2 (en) | 1999-09-03 | 2002-12-17 | Cymer, Inc. | Line narrowing unit with flexural grating mount |
| JP2003518757A (ja) | 1999-12-22 | 2003-06-10 | サイマー， インコーポレイテッド | 二方向ビーム拡大を用いた狭線化レーザ |
| US6504860B2 (en) | 2001-01-29 | 2003-01-07 | Cymer, Inc. | Purge monitoring system for gas discharge laser |
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| US6839372B2 (en) | 2000-11-17 | 2005-01-04 | Cymer, Inc. | Gas discharge ultraviolet laser with enclosed beam path with added oxidizer |
| US8379687B2 (en) | 2005-06-30 | 2013-02-19 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser line narrowing module |
| US7321607B2 (en) | 2005-11-01 | 2008-01-22 | Cymer, Inc. | External optics and chamber support system |
| JP4818871B2 (ja) * | 2006-10-20 | 2011-11-16 | 株式会社小松製作所 | レーザ装置 |
| WO2016189722A1 (ja) | 2015-05-28 | 2016-12-01 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置及び狭帯域化光学系 |
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1991
- 1991-12-16 JP JP35281291A patent/JP2696285B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05167172A (ja) | 1993-07-02 |
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