JPH11233437A - 露光装置用光学系および露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 筐体内をガス置換時間を短縮することがで
き、また、簡単に置換作業を行うことができる露光装置
用光学系の提供。 【解決手段】 筐体４１に複数の独立した部屋４２ａ〜
４２ｇを形成するとともに、部屋４２ａ〜４２ｇの各々
に蓋４４ａ〜４４ｇと、配管Ｌ1a〜Ｌ1hと、配管Ｌ2a〜
Ｌ2gと、バルブ４５ａ〜４５ｇ，４６ａ〜４６ｇと、酸
素濃度センサ４７ａ〜４７ｇの値に応じて開閉するバル
ブ４８ａ〜４８ｇとを設け、ビーム整形レンズ２，ミラ
ー３，ビームエキスパンダーレンズ４，ミラー５，フラ
イアイレンズ６，第１リレーレンズ７とレチクルブライ
ンド８と第２リレーレンズ９との一群，ミラー１０とメ
インコンデンサレンズ１１との一群とに分けられた７つ
の光学部品群毎に、筐体４１の異なる部屋４２ａ〜４２
ｇに収納した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造等のリ
ソグラフィ工程に用いられる露光装置の光学系および露
光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子または液晶基板を製造するた
めのリソグラフィ工程において、レチクル（フォトマス
ク等）のパターン像を投影光学系を介して感光基板上に
露光する露光装置が使用されている。近年、半導体集積
回路は微細化の方向で開発が進み、リソグラフィ工程に
おいては、より微細化を求める手段としてリソグラフィ
光源の露光波長を短波長化する方法が考えられている。

【０００３】現在、波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレ
ーザを光源として採用した露光装置がすでに開発されて
いる。また、波長２２０ｎｍ近傍または１８４ｎｍの水
銀ランプや、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ等
が短波長光源の候補として注目されている。

【０００４】従来のｇ線（波長＝４３６ｎｍ）、ｉ線
（波長＝３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザあるいは
波長２５０ｎｍ近傍の光を射出する水銀ランプを光源と
した露光装置では、これらの光の波長は酸素の吸収スペ
クトル領域とは重ならず、光路中の酸素分子に吸収され
ることによる光利用効率の低下や、酸素分子の光吸収に
伴うオゾンの発生による不都合がなかった。

【０００５】しかし、ＡｒＦエキシマレーザのような光
源では発光スペクトルが酸素の吸収スペクトル領域と重
なるために、上述したような酸素分子の光吸収による光
利用率の低下やオゾンの発生という不都合が生じる。例
えば、真空中または窒素，ヘリウムのような不活性ガス
中でのＡｒＦエキシマレーザ光の透過率を１００％／ｍ
とすれば、フリーラン状態（自然発光状態）すなわちＡ
ｒＦ広域レーザでは約９０％／ｍであり、酸素の吸収線
を避けてスペクトル幅を狭めたＡｒＦ狭帯レーザを使用
した場合でも約９８％／ｍと透過率が低下する。

【０００６】透過率の低下は、酸素分子による光の吸収
および発生したオゾンの影響によるものと考えられる。
オゾンの発生は透過率（光利用効率）に悪影響を及ぼす
ばかりでなく、光学材料表面や他の部品との反応による
装置性能の劣化等を引き起こす。

【０００７】そのため、このような露光装置では、光路
中の酸素濃度を下げて光の透過率の低下やオゾンの発生
を回避するために、光路全体を不活性ガス等で満たす必
要があることは良く知られている（例えば、特開平６−
２６０３８５号公報）。

【０００８】図８は露光装置の概略構成を示す図で、主
に照明および結像に関係する光学系を示したものであ
り、その他の部分は省略した。ＡｒＦエキシマレーザ光
源ユニット１からの光はビーム整形レンズ２により所定
の形状に整形された後、ミラー３で反射されてビームエ
キスパンダーレンズ４に入射する。ビームエキスパンダ
ーレンズ４に入射した光束は所定の大きさに拡大された
後、ミラー５により反射されてオプチカルインテグレー
タとしてのフライアイレンズ６に導かれ、照度が均一化
されるとともに照明範囲が決定される。フライアイレン
ズ６からの光は第１リレーレンズ７によりレチクル共役
面に結像される。そのレチクル共役面には、露光範囲を
制限するためのレチクルブラインド８が配設される。レ
チクルブラインド８を通過した光は第２リレーレンズ
９，ミラー１０およびメインコンデンサレンズ１１を介
してレチクル１２に照射される。レチクル１２を透過し
た光は投影レンズ１３によりウェハ１４に照射され、レ
チクル１２の像がウェハ１４上に結像される。

【０００９】図９は露光装置の照明光学系の構造を示す
断面図であり、ＡｒＦエキシマレーザ光源ユニット１か
らメインコンデンサレンズ１１までを示したものであ
る。２１はビーム整形レンズ２等の照明光学系を構成す
る光学部品が収納される筐体であり、蛇腹２３を介して
ＡｒＦエキシマレーザ光源ユニット１が取り付けられ
る。２４は窒素ガス供給源であり、窒素ガスは配管Ｌ1a
を介して筐体２１の一方の側から（図９ではレーザ光源
ユニット１の取り付け側から）供給され、筐体２１の他
方の側から排気装置２５により排出される。

【００１０】図９では各光学部品を簡略化して示してい
るが、実際には図１０（詳細は後述する）に示す例のよ
うに複数のレンズ等により構成され、それらは支持ブロ
ック３７によって筐体２１に一体に固定される。図９で
は、反射ミラー１０およびメインコンデンサレンズ１１
は同一の支持ブロック３７ｈを用いて筐体２１に固定さ
れるが、その他の光学部品については各々個別の支持ブ
ロック３７ａ〜３７ｇにて固定されている。

【００１１】筐体２１に固定される各光学部品は支持ブ
ロック３７ａ〜３７ｈ毎に一つの光学ブロックを形成し
ており、メンテナンス等の際には光学ブロック単位に交
換等が行われる。２２ａ，２２ｂ，２２ｃはそれぞれ筐
体２１に設けられた開口（筐体２１内に各光学ブロック
を着脱する際に、それらを搬入・搬出するための開口）
を塞ぐための蓋であり、蓋２２ａ，２２ｂ，２２ｃによ
り筐体２１内は密封される。なお、図示していないが、
筐体２１と蓋２２ａ，２２ｂ，２２ｃとの間にはＯリン
グやパッキンを挿入して密封度を向上させている。

【００１２】図１０は光学部品の一例を示したものであ
るが、鏡筒３１内にレンズ３２ａ，３２ｂ，３２ｃを順
に挿入し、押え環３４にて固定する。なお、３３ａおよ
び３３ｂはレンズ間隔を所定の値に保つための分離環で
ある。鏡筒３１および分離環３３ａ，３３ｂに設けられ
た通気孔３５ａ，３５ｂ，３６ａ，３６ｂはレンズ間に
不活性ガスを導入するための孔であり、筐体２１内部に
窒素ガスが供給されるとこれらの通気孔３５ａ，３５
ｂ，３６ａ，３６ｂを通って窒素ガスが鏡筒３１内部に
も流入し、レンズ間の空気が窒素ガスに置換される。鏡
筒３１はセットビス３８により支持ブロック３７に固定
される。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図９に
示した露光装置の照明光学系では、筐体２１内の部品の
一部をメンテナンスする場合でも筐体２１内全体が大気
に暴露されることになる。そのため、筐体２１内を満た
していた大量の窒素ガスが筐体２１外へ漏れ出てしま
い、メンテナンス終了後に筐体２１内の空気を窒素ガス
で置換するのに長時間を要する、という欠点があった。
また、筐体２１内の窒素ガス置換が露光に影響が無い程
度まで十分に行われたか否か、見極めが難しかった。

【００１４】本発明の目的は、メンテナンス等において
筐体内を不活性ガス置換する際の置換時間を短縮するこ
とができ、また、簡単に置換作業を行うことができる露
光装置用光学系および露光装置を提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】発明の実施の形態を示す
図１，図４，図６および図７に対応付けて説明する。 （１）図１に対応付けて説明すると、請求項１の発明
は、複数の光学部品群（２，３，４，５，６，１０と１
１および７〜９）を筐体４１に収納した露光装置用光学
系に適用され、筐体４１に複数の部屋４２ａ〜４２ｇを
形成し、光学部品群を筐体４１の異なる部屋に各々収納
するとともに、各部屋４２ａ〜４２ｇのガスをそれぞれ
置換するガス置換手段２４，４８ａ〜４８ｇ，Ｌ2a〜Ｌ
2gを設けたことにより上述の目的を達成する。 （２）請求項２の発明は、複数の光学部品群（２，３，
４，５，６，１０と１１および７〜９）を筐体４１に収
納した露光装置用光学系に適用され、接続通路Ｌ1b〜Ｌ
1gを介して接続された複数の部屋４２ａ〜４２ｇを筐体
４１に形成し、光学部品群を筐体４１の異なる部屋４２
ａ〜４２ｇに各々収納するとともに、接続された複数の
部屋４２ａ〜４２ｇの一端に位置する部屋４１ａに特定
ガスを供給するガス供給手段２４，Ｌ1aと、接続された
複数の部屋４２ａ〜４２ｇの他端に位置する部屋４２ｇ
のガスを排出するための排出通路Ｌ1hとを設け、かつ、
部屋４２ａ〜４２ｇの少なくとも一つに、部屋４２ａ〜
４２ｇを開閉する蓋４４ａ〜４４ｇと、その蓋４４ａ〜
４４ｇが開状態の場合には接続通路Ｌ1b〜Ｌ1gを介した
隣の部屋との通気を遮断し、蓋４４ａ〜４４ｇが閉状態
の場合には通気を許すバルブ４５ａ〜４５ｇ，４６ａ〜
４６ｇとを設けたことにより上述の目的を達成する。 （３）請求項３の発明は、請求項２に記載の露光装置用
光学系において、蓋４４ａ〜４４ｇが設けられた部屋４
２ａ〜４２ｇ内の酸素濃度をそれぞれ検出する酸素濃度
センサ４７ａ〜４７ｇと、酸素濃度センサ４７ａ〜４７
ｇにより検出された酸素濃度が所定値以下の場合には他
端に位置する部屋側の接続通路Ｌ1b〜Ｌ1gを介した隣の
部屋へのガス排気を許し、酸素濃度が所定値より大きい
場合には部屋４２ａ〜４２ｇ内のガスを筐体４１外へ排
出する排出切換手段（４８ａ，Ｌ2a），（４８ｂ，Ｌ2
b），（４８ｃ，Ｌ2c），（４８ｄ，Ｌ2d），（４８
ｅ，Ｌ2e），（４８ｆ，Ｌ2f），（４８ｇ，Ｌ2g）と、
を設けた。 （４）請求項４の発明は、請求項３に記載の露光装置用
光学系を用いる露光装置であって、排出通路Ｌ1hから排
出されるガスの流量を検出する流量センサ４９と、流量
センサ４９により検出される流量が所定値以下の場合に
は露光装置の光源がオフとなるように制御する制御装置
とを備えて上述の目的を達成する。 （５）図４に対応付けて説明すると、請求項５の発明
は、複数の光学部品群（６，７〜９，１０および１１）
を筐体４１に収納した露光装置用光学系に適用され、筐
体４１に複数の部屋４２ｅ〜４２ｇを形成し、光学部品
群（６，７〜９，１０および１１）を筐体４１の異なる
部屋に各々収納するとともに、各部屋４２ｅ〜４２ｇに
特定ガスをそれぞれ供給するガス供給手段２４，Ｌ４
と、各部屋４２ｅ〜４２ｇ内のガスを部屋外へ排出する
第１の排出手段２５，Ｌ３とを設け、かつ、部屋４２ｅ
〜４２ｇの少なくとも一つに、部屋４２ｅ〜４２ｇを開
閉する蓋４４ｅ〜４４ｇと、部屋４２ｅ〜４２ｇ内のガ
スを部屋４２ｅ〜４２ｇ外へ排出するための第２の排出
手段Ｌ2e〜Ｌ2gと、蓋４４ｅ〜４４ｇが開状態の場合に
はガス供給手段２４，Ｌ４からの特定ガス供給を遮断
し、蓋４４ｅ〜４４ｇが閉状態の場合にはガス供給手段
２４，Ｌ４からの特定ガス供給を許すバルブ４５ｅ〜４
５ｇと、部屋４２ｅ〜４２ｇ内の酸素濃度を検出する酸
素濃度センサ４７ｅ〜４７ｇと、酸素濃度センサ４７ｅ
〜４７ｇにより検出された酸素濃度が所定値以下の場合
には第１の排出手段２５，Ｌ３によるガスの排出を許
し、酸素濃度が所定値より大きい場合には第２の排出手
段Ｌ2e〜Ｌ2gによるガスの排出を許す切換手段４８ｅ〜
４８ｇとを設けたことにより上述の目的を達成する。 （６）請求項６の発明による露光装置は、請求項１〜３
および請求項５のいずれか一つの露光装置用光学系を備
える。 （７）図６に対応付けて説明すると、請求項７の発明
は、請求項４または請求項６に記載の露光装置におい
て、複数の部屋の一つである部屋４２ａに接続され、露
光光を出射する光源が１ａが収容される光源ユニット１
と、露光光の光路上に設けられ、光源ユニット１が接続
された部屋４２ａの空間と光源ユニット１内の空間Ｓ２
とを分離し、かつ、光源１ａの露光光を透過する窓部材
５４とを設けた。 （８）図１および図６に対応付けて説明すると、請求項
８の発明による露光装置は、複数の光学部品（２，３，
４，５，６，１０と１１および７〜９）を特定ガスで満
たされた筐体４１内に収納して成る光学系と、光学系に
露光光を出射する光源１ａとを備える露光装置に適用さ
れ、筐体４１に接続され、光源１ａを収容する光源ユニ
ット１と、露光光の光路上に設けられ、筐体４１内の空
間と光源ユニット１内の空間Ｓ２とを分離し、かつ、光
源１ａの露光光を透過する窓部材５４とを設けたことに
より上述の目的を達成する。 （９）図７に対応付けて説明すると、請求項９の発明
は、請求項７または請求項８に記載の露光装置におい
て、窓部材５４は光源１ａからの露光光を光学系に導く
伝送光学系の一部であり、窓部材５４の面を伝送光学系
の光軸Ｘに垂直な面に対して傾けて配設したことを特徴
とする露光装置。

【００１６】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が発明の実施の形態に限定されるものではない。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、図１〜図７を参照して本発
明の実施の形態を説明する。 −第１の実施の形態− 図１は本発明による露光装置の第１の実施の形態を示す
図であり、照明光学系の構造を詳細に示す断面図であ
る。なお、照明光学系を構成する光学部品は図９に示し
た露光装置と同様であり、図９と同一の部分には同一の
符号を付した。また、１２，１３，１４は図８と同様に
レチクル，投影レンズ，ウェハである。各光学部品は光
学ブロック毎に筐体４１内部に取り付けられる。筐体４
１内は７つの部屋４２ａ〜４２ｇに分れており、部屋と
部屋との間に設けられた仕切りの光路部分には光学部品
からなる窓４３ａ〜４３ｆが設けられている。なお、照
明光学系を設計する際には、これらの窓４３ａ〜４３ｆ
の特性も考慮して設計する。各部屋４２ａ〜４２ｇに
は、部屋の開口部を覆ってそれらをそれぞれ密封する蓋
４４ａ〜４４ｇが着脱可能に設けられている。なお、図
示していないが、筐体４１と蓋４４ａ〜４４ｇとの間に
はＯリングやパッキンを挿入して密封度を向上させてい
る。

【００１８】Ｌ1a〜Ｌ1gは窒素ガス供給源２４からの窒
素ガスを各部屋４２ａ〜４２ｇへ供給するための配管で
あり、各配管Ｌ1a〜Ｌ1gにはバルブ４５ａ〜４５ｇが設
けられている。また、Ｌ2a〜Ｌ2gは各部屋４２ａ〜４２
ｇ内のガスを筐体４１外へ排出するための配管であり、
バルブ４８ａ〜４８ｇにより各部屋４２ａ〜４２ｇ内の
ガスを配管Ｌ1b〜Ｌ1gにより隣の部屋に通気するか配管
Ｌ2a〜Ｌ2gにより筐体外へ排気するかを切り換えること
ができる。バルブ４８ａ〜４８ｇの入口側にはバルブ４
６ａ〜４６ｇが設けられる。各バルブ４８ａ〜４８ｇ
は、各部屋４２ａ〜４２ｇ内の酸素濃度を検出する酸素
濃度センサ４７ａ〜４７ｇの信号に基づいて通気を切り
換える。４９は部屋４２ｇおよび排気装置２５間の配管
Ｌ1hに設けられる流量センサである。なお、配管Ｌ2a〜
Ｌ2gは露光装置本体を収容するチャンバ（不図示）外に
ガスを排出する。また、窒素ガス供給源２４および排気
装置２５は各部屋毎に設けても良い。

【００１９】バルブ４５ａ〜４５ｇおよび４６ａ〜４６
ｇは、蓋４４ａ〜４４ｇが閉じられると開状態となり、
逆に蓋４４ａ〜４４ｇが開かれると閉状態となる。蓋４
４ａ〜４４ｇの開閉に連動してオンオフするスイッチを
設けてバルブ制御をしたり、あるいは、機械的にバルブ
制御をしても良い。また、バルブ４８ａ〜４８ｇの切り
換えは、一例として、次のように行われる。酸素濃度セ
ンサ４７ａ〜４７ｇが所定の酸素濃度（露光光の吸収や
オゾン発生を起こさない程度の酸素濃度、例えば、１
％）より大きい場合には配管Ｌ2a〜Ｌ2gへ通気して酸素
濃度を低くし、所定酸素濃度以下となったならば配管Ｌ
1a〜Ｌ1gへ通気する。図１では全ての蓋４４ａ〜４４ｇ
が閉じられ、各部屋４２ａ〜４２ｇの酸素濃度が所定値
以下の場合を示したものであり、図中の矢印は窒素ガス
の流れを示している。

【００２０】以下では、各部屋４２ａ〜４２ｇ内のガス
置換作業に伴う上述したバルブや酸素濃度センサの動作
を、以下の２つの場合を例に説明する。 照明光学系組立時のガス置換 メンテンナンス時のガス置換

【００２１】−照明光学系組立時− 図２（ａ）は図１の部屋４２ａおよび４２ｂの部分の断
面図であって、筐体４１内に光学部品を全て取り付け終
った状態を示しており、部屋４２ａ，４２ｂの蓋４４
ａ，４４ｂは開状態にある（図２（ａ）では、蓋４４
ａ，４４ｂを省略して示した）。蓋４４ａ，４４ｂが開
状態の場合には、上述したようにバルブ４５ａ，４５
ｂ，４６ａ，４６ｂは閉状態である。また、酸素濃度セ
ンサ４７ａ，４７ｂで検出される酸素濃度は所定値を越
えるため、バルブ４８ａの通気方向は配管Ｌ2aとなり、
バルブ４８ｂの通気方向は配管Ｌ2bとなる。図２（ａ）
〜において、バルブ４５ａ〜４５ｃ，４６ａ，４６ｂの
矢印はバルブが開状態であることを表し、バルブ４８
ａ，４８ｂに示した矢印はバルブ４８ａ，４８ｂの通気
方向を表している。その他の矢印は窒素ガスの流れを示
している。また、酸素濃度センサ４７ａ，４７ｂに示し
た矢印は検出された酸素濃度が所定値より高いか否かを
表しており、所定値より高い場合には矢印が右斜上を指
示し、所定値より低い場合には左斜上を指示する。

【００２２】全ての部屋４２ａ〜４２ｇの蓋４４ａ〜４
４ｇが閉じられると、バルブ４５ａ〜４５ｇ，４６ａ〜
４６ｇは開状態になり、図２（ｂ）のように配管Ｌ1aを
通して窒素ガスが部屋４２ａ内に供給される。このと
き、部屋４２ａ内の酸素濃度が所定値になるまではバル
ブ４８ａの通気方向は配管Ｌ2aであるため、部屋４２ａ
内に窒素ガスが供給されるとともに配管Ｌ2aから部屋４
２ａ内の空気が筐体４１外へ排出される。その結果、部
屋４２ａ内は徐々に窒素ガスに置換され、それに伴って
酸素濃度が減少する。

【００２３】部屋４２ａ内の酸素濃度が減少して所定値
以下になると、図２（ｃ）に示すようにバルブ４８の通
気方向が配管Ｌ2aから配管Ｌ1bへ切り換わり、部屋４２
ｂ内に窒素ガスが供給される。そして、部屋４２ａの場
合と同様に、酸素濃度が所定値以下となるまでは部屋４
２ｂ内のガスは配管Ｌ2bから筐体４１外へ排出され、酸
素濃度が所定値以下となったならばバルブ４８ｂの通気
方向が配管Ｌ2bから配管Ｌ1cへ切り換わり部屋４２ｃ内
に窒素ガスが供給される。同様にして、図１に示した部
屋４２ｃ〜４２ｇ内の空気が順に窒素ガスに置換される
ことになる。

【００２４】ところで、部屋４２ｇ内の酸素濃度が所定
値より大きい場合にはバルブ４８ｇの通気方向は配管Ｌ
2gであるため、流量センサ４９（図１）はガスの流れを
検出しない。一方、部屋４２ｇ内の酸素濃度が所定値以
下になるとバルブ４８ｇの通気方向が配管Ｌ2gから配管
Ｌ1hに切り換わるため、部屋４２ｇ内のガスは排気装置
２５へ流れて流量センサ４９により検出される。そのた
め、流量センサ４９の出力を利用することにより組み付
け後のガス置換が終了したことを知ることができる。

【００２５】−メンテナンス時− 次にメンテナンスの場合、例えば、レチクルブラインド
８やレチクルブラインド８を駆動するモータのメンテナ
ンス等を行う場合について、図３を用いて説明する。な
お、図３では部屋４２ｆおよびその前後の部屋を示し、
他の部屋は省略した。まず、図３（ａ）のようにレチク
ルブラインド８が固定されている部屋４２ｆの蓋４４ｆ
を開けると、バルブ４５ｆ，４６ｆが閉状態となる。こ
のとき、部屋４２ｆ内は大気開放となるため酸素濃度が
所定値以上となり、バルブ４８ｆの通気方向は配管Ｌ2f
方向となる。その結果、部屋４２ｆおよび４２ｅ間、部
屋４２ｆおよび４２ｇ間の通気は遮断され、部屋４２ｆ
以外の部屋は窒素ガスで満たされたままになる。ただ
し、部屋４２ｇは排気装置２５によって排気されるた
め、大気圧より低い圧力に保たれることになる。そのた
め、部屋４２ｇの圧力がほぼ一定になるまでは流量セン
サ４９で検出される流量は非常に小さく、圧力がほぼ一
定にになった後には、流量センサ４９は流量を検出しな
い。なお、流量センサ４９の矢印は流量の大小を表して
おり、図１に示すような状態では右斜上を指示する矢印
で窒素ガスが定常的に流れていることを表し、図３のよ
うに部屋４２ｆがメンテナンス中で窒素ガスがほとんど
流れていない場合には左斜上の矢印でその状態を表し
た。

【００２６】メンテナンス作業が終了して図３（ｂ）の
ように蓋４４ｆを閉じると、バルブ４５ｆ，４６ｆが開
状態になって部屋４２ｅから部屋４２ｆへ窒素ガスが流
れ込む。ただし、蓋４４ｆを閉じた直後は部屋４２ｆ内
の酸素濃度は所定値より大きいため、バルブ４８ｆの通
気方向は配管Ｌ2f方向のままで、部屋４２ｆのガスは配
管Ｌ2fから筐体４１外へ排出される。その後、部屋４２
ｆ内の酸素濃度が所定値以下となったならばバルブ４８
ｆの通気方向が配管Ｌ1g方向となり、部屋４２ｆの窒素
ガスが部屋４２ｇに流れ込むとともに排気装置２５によ
り排気される。

【００２７】排気装置２５によって窒素ガスが排気され
ると流量センサ４９によりその流れが検出されるので、
流量センサ４９の出力を利用することによりメンテナン
ス終了を知ることができる。また、ＡｒＦエキシマレー
ザ光源ユニット１のインターロックにこの出力を用いる
ような場合、メンテナンス中やメンテナンス終了後の窒
素置換が不十分な状態のときには、レーザ発光を止める
ように露光装置の制御回路で制御することができる。さ
らに、窒素ガス供給源２４の供給停止や流量低下が起こ
った場合も、それらを検知することができ、その場合に
もレーザ発光を止めるようにすれば良い。

【００２８】上述した本実施の形態では、次のような利
点がある。 （１）照明系の筐体４１を光学ブロック毎の部屋に分割
しているので、メンテナンス時にはメンテナンスが必要
な光学ブロックの部屋だけ大気開放すればよく、メンテ
ナンス時のガスの漏れ量を低減することができるととも
に、メンテナンス後の窒素ガス置換に要する時間の短縮
も図ることができる。 （２）蓋４４ａ〜４４ｇの開閉に連動して開閉動作を行
うバルブ４５ａ〜４５ｇ，４６ａ〜４６ｇと、部屋４２
ａ〜４２ｇ内の酸素濃度に応じて通気方向が切り換わる
ようにしたバルブ４８ａ〜４８ｇとを設けることによっ
て、蓋４４ａ〜４４ｇの開閉に応じて部屋４２ａ〜４
２ｇへの窒素ガスの供給・停止、および、部屋４２ａ
〜４２ｇ内のガス置換が自動的に行われる。そのため、
メンテナンス作業の簡易化および時間短縮を図ることが
できる。 （３）流量センサ４９を用いて排気されるガスの流量を
モニタすることにより、メンテナンス終了を自動的に判
定したり、ＡｒＦエキシマレーザ光源ユニット１のイン
ターロックに用いることができる。そのため、窒素ガス
置換終了以前に誤ってレーザ光が照射されるということ
を防止することができる。

【００２９】なお、上述したようにインターロック等に
流量センサ４９の信号を用いる代りに、酸素濃度センサ
４７ａ〜４７ｇの信号を用いてもよい。すなわち、全て
の酸素濃度センサ４７ａ〜４７ｇのいずれかが所定値よ
り大きい酸素濃度を検出している場合にはメンテナンス
中と判定し、全てが所定値以下を検出した場合にはメン
テナンス終了と判定する。ただし、この場合には、流量
センサ４９を用いる場合のように窒素ガス流量の変化を
検出するようなことはできない。

【００３０】（変形例）図４は図１に示した装置の変形
例であり、各部屋への窒素ガス供給を並列に行う場合を
示した。なお、図４は装置の一部分（部屋４２ｅ，４２
ｆ，４２ｇに関する部分）を示したものであり、図１と
同一部分には同一符号を付し、異なる部分を中心に説明
する。光学部品が設けられた各部屋４２ｅ，４２ｆ，４
２ｇには、それぞれ配管Ｌ4を介して窒素ガス供給装置
２４から窒素ガスが供給される。一方、各部屋４２ｅ，
４２ｆ，４２ｇ内のガスは、配管Ｌ3を介して排気装置
２５により直に排気される。そのため、蓋４４ｅ〜４４
ｇを開いた際に、開いた部屋から隣の部屋に大気が流れ
込むおそれがないので、図１の装置で用いたバルブ４６
ａ〜４６ｇは省略した。なお、この変形例の装置では、
蓋４４ｅ〜４４ｇが閉じている部屋は常に窒素ガスパー
ジされることになる。

【００３１】次に、レチクルブラインド８をメンテナン
スする場合の各バルブ動作について説明する。図５
（ａ）のように蓋４４ｆを開いて部屋４２ｆを大気開放
すると、バルブ４５ｆが閉状態となるとともに、部屋４
２ｆ内の酸素濃度が所定値より大となってバルブ４８ｆ
の通気方向が配管Ｌ3から配管Ｌ2fへ切り換わる。この
とき、他の部屋４２ｅ，４２ｇの窒素ガスパージは引続
き行われている。メンテナンス作業が終了して図５
（ｂ）のように蓋４４ｆが閉じられると、バルブ４５ｆ
が開状態となって部屋４２ｆ内に窒素ガスが供給され
る。しかし、蓋４４ｆが閉じられた直後は部屋４２ｆ内
の酸素濃度はまだ所定値より大きいためバルブ４８ｆの
通気方向が配管Ｌ2f方向となり、部屋４２ｆ内のガスは
配管Ｌ2fから排出される。

【００３２】その後、部屋４２ｆ内のガス置換が進行し
て酸素濃度が所定値以下となったならば、バルブ４８ｆ
の通気方向が配管Ｌ2fから配管Ｌ3に切り換わり、部屋
４２ｆ内のガスは排気装置２５によって排気される。こ
の変形例の装置では、メンテナンス終了の判定は酸素濃
度センサ４７ｅ〜４７ｇの信号に基づいて行われる。す
なわち、全ての酸素濃度センサ４７ａ〜４７ｇのいずれ
かが所定値より大きな濃度を検出している場合にはメン
テナンス中と判定し、全てが所定値以下を検出した場合
にはメンテナンス終了と判定する。

【００３３】ところで、図１に示した装置では、図３
（ａ）のように部屋４２ｆ内の酸素濃度が所定値より大
きくてバルブ４８ｆの通気方向が配管Ｌ2fとなっている
場合には、ガスパージに関して部屋４２ｆより下流にあ
る部屋４２ｇは、上述したようにその圧力が大気圧より
低くなることがある。そのため外からの大気圧に耐えら
れる程度の強度に各部屋を設計する必要がある。しか
し、変形例の装置では蓋の開いていない部屋は常にガス
パージが行われるため、図１の装置ほど強度を必要とし
ないという長所を持っている。

【００３４】なお、上述した実施の形態において、部屋
に光学部品群を収納するとは、部屋と部屋との境界に光
学部品群を配置することも含まれる。すなわち、部屋と
部屋との仕切りの光路部分に設けられる窓の代りに、光
学部品群を配置してもよい。

【００３５】−第２の実施の形態− 図６は本発明による露光装置の第２の実施の形態を説明
する図であり、照明光学系のＡｒＦエキシマレーザ光源
ユニット１側の部屋４２ａとレーザ光源ユニット１の部
分を詳細に示す図である。一般的に、レーザ光源ユニッ
ト１の内部には２つの空間Ｓ１，Ｓ２が形成されてお
り、空間Ｓ１側にレーザ光発生部１ａが収納されてい
る。空間Ｓ１にはガス供給装置５０および排気装置５１
が接続されており、ガス供給装置５０から空間Ｓ１内に
供給されたガス（一般的には不活性ガス）は空間Ｓ１内
を循環して排気装置５１により排出される。一方、空間
Ｓ２は図のように蛇腹２３で形成される空間Ｓ３に連通
しており、空間Ｓ２内には配管Ｌ10を介してガス供給源
５０からガスが供給される。なお、５２はハーフミラー
であり、ハーフミラー５２からの反射光を検出器５３で
検出してレーザ光の強度を検出する。

【００３６】一般的に、空間Ｓ１内の圧力は、空間Ｓ２
内の圧力および大気圧よりも低く設定されている。その
ため、矢印Ａのように空間Ｓ２内から空間Ｓ１内へのガ
スの流れが生じるとともに、大気側から空間Ｓ１内へ空
気が侵入することはあっても、空間Ｓ１内から大気側へ
ガスが漏れることはない。レーザ光源ユニット１がこの
ような構造となっている理由は、レーザ発生部１ａに用
いられているＡｒＦガスが漏洩した場合でも、露光装置
が設置されている部屋内がＡｒＦガスにより汚染されな
いようにするためである。例えば、空間Ｓ１内にＡｒＦ
ガスが漏洩した場合、そのＡｒＦガスは空間Ｓ１から大
気側へ漏れること無く全て排気装置５１により排気され
る。一方、空間Ｓ２内にＡｒＦガスが漏洩した場合に
は、そのＡｒＦガスは空間Ｓ２から空間Ｓ１へと流れ込
んで排気装置５１によって排気されるので、この場合も
ＡｒＦガスが大気側へ漏れることがない。。

【００３７】ところで、上述した第１の実施の形態で
は、ビーム整形レンズ２が収納される部屋４２ａと蛇腹
２３とは連通していたが、本実施の形態では部屋４２ａ
と蛇腹２３で形成される空間Ｓ３とを仕切る窓（仕切部
材）５４（材料としては、石英もしくは蛍石が用いられ
る）を設けた。これにより、レーザ光源ユニット１の空
間Ｓ２と部屋４２ａとが窓５４によって分離され、第１
の実施の形態の効果に加えて次のような効果が得られ
る。 光学部品が収納されている筐体４１内の置換ガスがレ
ーザ光源ユニット１側へ流れ込むのを防止する。上述し
たように筐体４１内の圧力はレーザ光源ユニット１の空
間Ｓ１内の圧力より高いため、図６の窓５４が無い場合
には筐体４１→空間Ｓ３→空間Ｓ２→空間Ｓ１というガ
スの流れが生じるが、本実施の形態の場合には窓５４に
よってこれを防止することができる。その結果、筐体４
１側の置換ガスがレーザ光源ユニット１側の置換領域
（空間Ｓ１およびＳ２）に流れることが無く、レーザ光
源ユニット１側の置換領域が保護される。 また、ビーム整形レンズ２のメンテナンスの際に部屋
４２ａを大気開放した場合に、レーザ光源ユニット１の
空間Ｓ２が大気開放されるのを防止することができる。 事故等によってＡｒＦガスの漏洩が蛇腹２３側に流れ
込んだ場合でも、漏洩したＡｒＦガスが蛇腹２３側から
筐体４１内に侵入することが無いので、筐体４１内の光
学部品が保護される。

【００３８】図７は図６の装置の変形例を説明する図で
ある。この変形例では、窓５４の面を光軸Ｘに垂直な軸
Ｙに対してθだけ傾けて配設した。その他の構成につい
ては図６の装置と同様である。図７において、Ｂは窓５
４の面を光軸Ｘに対して垂直に配設した場合に窓５４の
表面で反射されるレーザ光の光路を示したものである。
反射光Ｂはハーフミラー５２により図示下方向反射さ
れ、レーザ光源ユニット１の内壁１ｄで反射されて再び
ハーフミラー５２に入射し、ハーフミラー５２を透過し
たレーザ光が検出器５３に入射する。そのため、レーザ
光の強度測定に悪影響を及ぼす。

【００３９】それに対して、図７に示す装置のように窓
５４の面を軸Ｙに対してθだけ傾けた場合には、レーザ
光は反射光Ｃのように右下方向に反射されるため、反射
光Ｂのよな検出器５３への入射を防止することができ
る。このときの角度θは反射光が検出器５３に入射しな
い程度の角度に設定され、１０（deg）程度にすれば良
い。なお、窓５４が照明光学系の光学部品を兼用してい
ても良い。

【００４０】本実施の形態では、筐体４１の部屋４２ａ
とレーザ光源ユニット１とを蛇腹２３で直接接続した構
成としたが、部屋４２ａとレーザ光源ユニット１との間
に伝送光学系を備える構成にしてもよい。この伝送光学
系は、光軸上に沿って配置されたミラー、プリズム、レ
ンズ等の光学素子と、これら光学素子を密封するカバー
とから構成される。本実施の形態で、このような伝送光
学系を備える場合、伝送光学系のカバーの一端部と前記
部屋４２ａとを接続すると共に、伝送光学系のカバーの
他端部とレーザ光源ユニット１に取り付けられた蛇腹２
３とを接続すればよい。

【００４１】また、本実施の形態では、筐体４１側の部
屋４２ａと蛇腹２３で形成された空間Ｓ３との間に仕切
り窓５４を設ける構成としたが、レーザ光源ユニット１
側の空間Ｓ２と蛇腹２３で形成された空間Ｓ３との間を
仕切るように窓５４を設けても良い。さらに、筐体４１
側の部屋４２ａと蛇腹２３で形成された空間Ｓ３との
間、およびレーザ光源ユニット１側の空間Ｓ２と蛇腹２
３で形成された空間Ｓ３との間の両方に窓５４を設けて
も良い。窓５４は、上記伝送光学系を構成する光学素子
の一つで構成しても良い。また、窓５４が露光光の照射
により汚染（曇りが生じる）される可能性があるので、
両方の窓５４を交換可能に構成することが望ましい。

【００４２】以上説明した実施の形態では、いずれの場
合も筐体４１内にパージされる特定ガスとして窒素ガス
を用いる場合について説明したが、他のガス、例えばヘ
リウム，ネオン，アルゴン，クリプトン，キセノン，ラ
ドン等の不活性ガスを用いても良い。また、ＡｒＦエキ
シマレーザ光源が用いられて酸素分子による光吸収等が
問題となる露光装置に本発明を適用したが、光源にＹａ
ｇレーザの高調波，ＫｒＦエキシマレーザ，ｉ線および
ｇ線水銀ランプ等を用いる露光装置で光学部品の曇り防
止対策として不活性ガスパージを行う装置にも適用する
ことができる。また、Ｆ2レーザ（波長１５７ｎｍ）を
用いた場合には、ヘリウムガスを用いればよい。さら
に、光の波長が１９０ｎｍ以下の場合、ヘリウム，ネオ
ン，アルゴン，クリプトン等の不活性ガスを用いること
が好ましい。さらにまた、ＫｒＦエキシマレーザを用い
る場合、各部屋にパージするガスとして化学的にクリー
ンなドライエア（レンズの曇りの原因となる物質、例え
ばクリーンルーム内を浮遊するアンモニウムイオン等が
除去されたエア）を用いてもよい。

【００４３】また、ＤＦＢ半導体レーザやファイバーレ
ーザから発振される赤外域または可視域の単一波長レー
ザを、例えばエルビウム（またはエルビウムとイットリ
ビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅
し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調
波を用いても良い。例えば、単一波長レーザの発振波長
を１．５１〜１．５９μｍの範囲内とすると、発生波長
が１８９〜１９９nmの範囲内である８倍高調波、または
発生波長が１５１〜１５９nmの範囲内である１０倍高調
波が出力される。特に、発振波長を１．５４４〜１．５
５３μｍの範囲内とすると、１９３〜１９４nmの範囲内
の８倍高調波、すなわちＡｒＦエキシマレーザとほぼ同
一波長となる紫外光が得られ、発振波長を１．５７〜
１．５８μｍの範囲内とすると、１５７〜１５８nmの範
囲内の１０倍高調波、すなわちＦ２レーザとほぼ同一波
長となる紫外光が得られる。また、発振波長を１．０３
〜１．１２μｍの範囲内とすると、発生波長が１４７〜
１６０nmの範囲内である７倍高調波が出力され、特に発
振波長を１．０９９〜１．１０６μｍの範囲内とする
と、発生波長が１５７〜１５８nmの範囲内の７倍高調
波、すなわちＦ２レーザとほぼ同一波長となる紫外光が
得られる。なお、単一波長発振レーザとしてはイットリ
ビウム・ドープ・ファイバーレーザを用いる。

【００４４】Ｆ２レーザを光源とする場合は、上記実施
の形態のように投影光学系として反射屈折光学系が採用
されるとともに、照明光学系や投影光学系に使われる屈
折光学部材（レンズエレメント）は全て蛍石となり、か
つＦ２レーザ光源、照明光学系および投影光学系内の空
気はヘリウムガスで置換されるとともに、照明光学系と
投影光学系との間、および投影光学系とウエハとの間な
どもヘリウムガスで満たされる。また、Ｆ２レーザを用
いる露光装置では、蛍石、フッ素がドープされた合成石
英、フッ化マグネシウムおよび水晶などのいずれか一つ
で作られたレチクルが使用される。なお、投影光学系に
用いられる屈折光学部材としては、蛍石のみならず、フ
ッ素がドープされた合成石英、フッ化マグネシウムおよ
び水晶のうち少なくとも一種類の材料を用いることがで
きる。

【００４５】ところで、投影光学系は縮小系だけでなく
等倍系、または拡大系（例えば、液晶ディスプレイ製造
用露光装置など）を用いても良い。さらに、半導体素子
の製造に用いられる露光装置だけでなく、液晶表示素子
などを含むディスプレイの製造に用いられるデバイスパ
ターンをガラスプレート上に転写する露光装置、薄膜磁
気ヘッドの製造に用いられるデバイスパターンをセラミ
ックウエハ上に転写する露光装置、撮像素子（ＣＣＤな
ど）の製造に用いられる露光装置などにも本発明を適用
することができる。また、レチクルまたはマスクを製造
するために、ガラス基板またはシリコンウエハなどに回
路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用でき
る。

【００４６】複数のレンズから構成される照明光学系、
投影光学系を露光装置本体に組み込み光学調整するとと
もに、多数の機械部品からなるレチクルステージやウエ
ハステージを露光装置本体に取り付けて配線や配管を接
続し、さらに総合調整（電気調整、動作確認等）をする
ことにより本実施の形態の露光装置を製造することがで
きる。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等
が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

【００４７】半導体デバイスは、デバイスの機能・性能
設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチ
クルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製
作するステップ、前述した実施の形態の露光装置により
レチクルのパターンをウエハに露光するステップ、デバ
イス組立ステップ（ダイシング行程、ボンディング行
程、パッケージング行程を含む）、検査ステップ等を経
て製造される。以上の通り、本発明は上述の実施の形態
に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々
の構成を取り得ることは勿論である。

【００４８】以上説明した実施の形態と特許請求の範囲
の要素との対応において、（バルブ４８ａ，通路Ｌ2a）
〜（バルブ４８ｇ，通路Ｌ2g）のそれぞれの組が排出切
換手段を、ガス供給装置２４，バルブ４８ａ〜４８ｇお
よび配管Ｌ2a〜Ｌ2gがガス置換手段を、配管Ｌ1hが排出
通路を、ガス供給装置２４および配管Ｌ1aが請求項２の
ガス供給手段を、ガス供給装置２４および配管Ｌ4が請
求項５のガス供給手段を、排気装置２５および配管Ｌ３
が第１の排出手段を、配管Ｌ2a〜Ｌ2gが第２の排出手段
を、レーザ発生部１ａが請求項７〜９の光源を、バルブ
４８ａ〜４８ｇが切替手段をそれぞれ構成し、ミラー１
０とメインコンデンサレンズ１１の組、第１リレーレン
ズ７とレチクルブラインド８と第２リレーレンズ９との
組、およびビーム整形レンズ２，ミラー３，ビームエキ
スパンダーレンズ４，ミラー５，フライアイレンズ６が
７つの光学部品群を構成する。

【００４９】

【発明の効果】（１）以上説明したように、請求項１〜
７の発明によれば、独立した部屋毎に光学部品群を収納
するようにしたので、例えばメンテナンス時には、メン
テナンスが必要な部屋だけを大気開放すれば良く、不活
性ガスの無駄を減らすことができメンテナンスの立上げ
時間の短縮を図ることができる。 （２）請求項２の発明によれば、蓋の開閉に応じて各部
屋内への不活性ガスの供給および停止が自動的に行われ
るので、メンテナンス作業の簡素化を図ることができ
る。 （３）請求項３の発明によれば、蓋を開けて大気開放し
た部屋のみのガス置換を自動的に、かつ、確実に行うこ
とができる。 （４）請求項４の発明によれば、部屋の蓋が閉じられて
部屋内の酸素濃度が所定値以下となって流量センサが流
量を検出するまで露光装置の光源はオフとなるようにさ
れるため、メンテナンス中や部屋内のガス置換が不十分
な状態のときに誤って光源がオンとなるようなことがな
い。 （５）請求項５の発明によれば、蓋の開閉に応じた各部
屋内への不活性ガスの供給，停止およびガス置換が自動
的に行われるので、メンテナンス作業の簡素化を図るこ
とができる。 （６）請求項７および請求項８の発明では、光源が接続
される筐体や部屋の気相空間と光源側の気相空間とを窓
部材で分離したので、筐体や部屋側が大気汚染された場
合の光源側への影響や、逆に、光源側に光源用ガスの漏
洩があった場合の筐体や部屋側への影響を防止すること
ができる。 （７）また、請求項９の発明のように、窓部材の面を光
軸に垂直な面に対して傾けることにより、窓部材によっ
て反射された光源光の光源側への悪影響（例えば、光源
側に設けられた光量検出器による光量測定への影響）を
防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による露光装置の一実施の形態を示す図
であり、照明光学系の断面図。

【図２】照明光学系組立時のガス置換を説明する図であ
り、（ａ）は光学部品の取り付け完了時を示す図、
（ｂ）は部屋４２ａのガス置換を示す図、（ｃ）は部屋
４２ｂのガス置換を示す図。

【図３】メンテナンス時のガス置換を説明する図であ
り、（ａ）は部屋４２ｆの蓋４４ｆが開いている状態を
示す図、（ｂ）は蓋４４ｆが閉じられた後の部屋４２ｆ
のガス置換を示す図。

【図４】変形例を説明する図。

【図５】図４の装置のメンテナンス時のガス置換を説明
する図であり、（ａ）は部屋４２ｆの蓋４４ｆを開けた
ときの図、（ｂ）は蓋４４ｆが閉じられた後の部屋４２
ｆのガス置換を示す図。

【図６】第２の実施の形態を説明する図。

【図７】窓部材５４の面を傾けた場合を説明する図。

【図８】露光装置の概略構成を示す図。

【図９】図８に示す露光装置の照明光学系の構造を示す
断面図。

【図１０】光学部品の一例を示す図。

【符号の説明】

１ ＡｒＦエキシマレーザ光源ユニット １ａ レーザ光発生部 ２４ 窒素ガス供給源 ２５ 排気装置 ４１ 筐体 ４２ａ〜４２ｇ 部屋 ４４ａ〜４４ｇ 蓋 ４５ａ〜４５ｇ，４６ａ〜４６ｇ，４８ａ〜４８ｇ バ
ルブ ４７ａ〜４７ｇ 酸素濃度センサ ４９ 流量センサ ５４ 窓部材 Ｌ1a〜Ｌ1h，Ｌ2a〜Ｌ2g，Ｌ3，Ｌ4 配管

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の光学部品群を筐体に収納した露光
   装置用光学系において、 前記筐体に複数の部屋を形成し、前記光学部品群を前記
   筐体の異なる部屋に各々収納するとともに、前記各部屋
   のガスをそれぞれ置換するガス置換手段を設けたことを
   特徴とする露光装置用光学系。
2. 【請求項２】 複数の光学部品群を筐体に収納した露光
   装置用光学系において、 接続通路を介して接続された複数の部屋を前記筐体に形
   成し、前記光学部品群を前記筐体の異なる部屋に各々収
   納するとともに、 前記接続された複数の部屋の一端に位置する部屋に特定
   ガスを供給するガス供給手段と、前記接続された複数の
   部屋の他端に位置する部屋のガスを排出するための排出
   通路とを設け、 かつ、前記複数の部屋の少なくとも一つに、前記部屋を
   開閉する蓋と、その蓋が開状態の場合には前記接続通路
   を介した隣の部屋との通気を遮断し、前記蓋が閉状態の
   場合には前記通気を許すバルブとを設けたことを特徴と
   する露光装置用光学系。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の露光装置用光学系にお
   いて、 前記蓋が設けられた部屋内の酸素濃度を検出する酸素濃
   度センサと、 前記酸素濃度センサにより検出された酸素濃度が所定値
   以下の場合には前記他端に位置する部屋側の接続通路を
   介した隣の部屋へのガス排気を許し、酸素濃度が所定値
   より大きい場合には前記蓋が設けられた部屋内のガスを
   前記筐体外へ排出する排出切換手段と、を設けたことを
   特徴とする露光装置用光学系。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の露光装置用光学系を用
   いる露光装置であって、 前記排出通路から排出されるガスの流量を検出する流量
   センサと、 前記流量センサにより検出される流量が所定値以下の場
   合には露光装置の光源がオフとなるように制御する制御
   装置とを備えることを特徴とする露光装置。
5. 【請求項５】 複数の光学部品群を筐体に収納した露光
   装置用光学系において、 前記筐体に複数の部屋を形成し、前記光学部品群を前記
   筐体の異なる部屋に各々収納するとともに、 前記各部屋に特定ガスをそれぞれ供給するガス供給手段
   と、前記各部屋内のガスを部屋外へ排出する第１の排出
   手段とを設け、 かつ、前記複数の部屋の少なくとも一つに、前記部屋を
   開閉する蓋と、前記部屋内のガスを前記部屋外へ排出す
   るための第２の排出手段と、前記蓋が開状態の場合には
   前記ガス供給手段からの特定ガス供給を遮断し、前記蓋
   が閉状態の場合には前記ガス供給手段からの特定ガス供
   給を許すバルブと、前記部屋内の酸素濃度を検出する酸
   素濃度センサと、前記酸素濃度センサにより検出された
   酸素濃度が所定値以下の場合には前記第１の排出手段に
   よるガスの排出を許し、前記酸素濃度が所定値より大き
   い場合には前記第２の排出手段によるガスの排出を許す
   切換手段とを設けたことを特徴とする露光装置用光学
   系。
6. 【請求項６】 請求項１〜３および請求項５のいずれか
   一つの露光装置用光学系を備える露光装置。
7. 【請求項７】 請求項４または請求項６に記載の露光装
   置において、 前記複数の部屋のいずれか一つに接続され、露光光を出
   射する光源が収容される光源ユニットと、 前記露光光の光路上に設けられ、前記光源ユニットが接
   続された部屋の空間と前記光源ユニット内の空間とを分
   離し、かつ、前記光源の露光光を透過する窓部材とを設
   けたことを特徴とする露光装置。
8. 【請求項８】 複数の光学部品を特定ガスで満たされた
   筐体内に収納して成る光学系と、前記光学系に露光光を
   出射する光源とを備える露光装置において、 前記筐体に接続され、前記光源を収容する光源ユニット
   と、 前記露光光の光路上に設けられ、前記筐体内の空間と前
   記光源ユニット内の空間とを分離し、かつ、前記光源の
   露光光を透過する窓部材とを設けたことを特徴とする露
   光装置。
9. 【請求項９】 請求項７または請求項８に記載の露光装
   置において、 前記窓部材は前記光源からの露光光を前記光学系に導く
   伝送光学系の一部であり、 前記窓部材の面を前記伝送光学系の光軸に垂直な面に対
   して傾けて配設したことを特徴とする露光装置。