JPH06148881A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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- JPH06148881A JPH06148881A JP4315979A JP31597992A JPH06148881A JP H06148881 A JPH06148881 A JP H06148881A JP 4315979 A JP4315979 A JP 4315979A JP 31597992 A JP31597992 A JP 31597992A JP H06148881 A JPH06148881 A JP H06148881A
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- photosensitive resin
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- resin composition
- meth
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高感度でパターン形成性が良好で、めっき法
においてめっき浴を汚染することなく、かつめっきもぐ
り現象もない優れた感光性樹脂組成物を提供すること。 【構成】 ベースポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化
合物（Ｂ）、Ｎ−フェニルグリシン（Ｃ）、４，４−ジ
アルキルアミノベンゾフェノン（Ｄ）、ｐＫａが２〜４
の有機カルボン酸（Ｅ）、ベンゾトリアゾール誘導体
（Ｆ）及びトリアジン誘導体（Ｇ）を含んでなる樹脂組
成物において（Ｃ）ないし（Ｇ）の含有量が、（Ａ）と
（Ｂ）の合計量１００重量部に対して、（Ｃ）が０．０
１〜５重量部、（Ｄ）が０．００５〜１．０重量部、
（Ｅ）が０．０５〜５重量部、（Ｆ）が０．０３〜１．
０重量部、（Ｇ）が０．０１〜１．０重量部よりなる。
においてめっき浴を汚染することなく、かつめっきもぐ
り現象もない優れた感光性樹脂組成物を提供すること。 【構成】 ベースポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化
合物（Ｂ）、Ｎ−フェニルグリシン（Ｃ）、４，４−ジ
アルキルアミノベンゾフェノン（Ｄ）、ｐＫａが２〜４
の有機カルボン酸（Ｅ）、ベンゾトリアゾール誘導体
（Ｆ）及びトリアジン誘導体（Ｇ）を含んでなる樹脂組
成物において（Ｃ）ないし（Ｇ）の含有量が、（Ａ）と
（Ｂ）の合計量１００重量部に対して、（Ｃ）が０．０
１〜５重量部、（Ｄ）が０．００５〜１．０重量部、
（Ｅ）が０．０５〜５重量部、（Ｆ）が０．０３〜１．
０重量部、（Ｇ）が０．０１〜１．０重量部よりなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高感度でパターン形成
性が良好な感光性樹脂組成物に関し、更に詳しくは、め
っき法においてめっき浴を汚染することなくかつめっき
もぐり現象のない感光性樹脂組成物に関する。
性が良好な感光性樹脂組成物に関し、更に詳しくは、め
っき法においてめっき浴を汚染することなくかつめっき
もぐり現象のない感光性樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリエステルフィルムなどのベースフィ
ルム上に感光性樹脂組成物を層状に塗布乾燥成層し、そ
の上からポリエステルフィルム、ポリビニルアルコール
フィルムなどの保護フィルムを積層したラミネートフィ
ルムは、一般にドライフィルムと称され、プリント配線
板の製造用、金属の精密加工用等に広く利用されてい
る。その使用にあたっては、まずドライフィルムからベ
ースフィルムまたは保護フィルムのうち接着力の小さい
ほうのフィルムを剥離除去して感光性樹脂組成物層の側
を銅張基板の銅面に張り付けた後、パターンマスクを他
方のフィルム上に当接させた状態で露光し（当該他方の
ベースフィルムを剥離除去してから露光する場合もあ
る）、ついでその他方のフィルムを剥離除去して現像に
供する。露光後の現像方式としては、溶剤現像型のもの
と稀アルカリ現像型のものとがある。
ルム上に感光性樹脂組成物を層状に塗布乾燥成層し、そ
の上からポリエステルフィルム、ポリビニルアルコール
フィルムなどの保護フィルムを積層したラミネートフィ
ルムは、一般にドライフィルムと称され、プリント配線
板の製造用、金属の精密加工用等に広く利用されてい
る。その使用にあたっては、まずドライフィルムからベ
ースフィルムまたは保護フィルムのうち接着力の小さい
ほうのフィルムを剥離除去して感光性樹脂組成物層の側
を銅張基板の銅面に張り付けた後、パターンマスクを他
方のフィルム上に当接させた状態で露光し（当該他方の
ベースフィルムを剥離除去してから露光する場合もあ
る）、ついでその他方のフィルムを剥離除去して現像に
供する。露光後の現像方式としては、溶剤現像型のもの
と稀アルカリ現像型のものとがある。
【０００３】ドライフィルムのほか、金属面に直接感光
性樹脂組成物を塗布成層し、その上に積層したポリエス
テルフィルムなどのフィルムを介してパターンマスクを
密着させ、露光を行う方法も良く知られている。上述の
感光性樹脂組成物中には、感度を向上させるべく、Ｎ−
フェニルグリシンまたはその誘導体を光重合開始剤とし
て添加することが知られているが、その反面未露光状態
で保存するとベース染料が変色するという欠点もある。
この欠点を解決すべく、本出願人は、特定のｐＫａ値を
もつカルボン酸との併用を提案した。（特願平４−１５
８６６４号公報） かかる方法により、高感度でかつ未露光状態で変色のな
い安定性に優れた感光性樹脂組成物を得ることができ
た。
性樹脂組成物を塗布成層し、その上に積層したポリエス
テルフィルムなどのフィルムを介してパターンマスクを
密着させ、露光を行う方法も良く知られている。上述の
感光性樹脂組成物中には、感度を向上させるべく、Ｎ−
フェニルグリシンまたはその誘導体を光重合開始剤とし
て添加することが知られているが、その反面未露光状態
で保存するとベース染料が変色するという欠点もある。
この欠点を解決すべく、本出願人は、特定のｐＫａ値を
もつカルボン酸との併用を提案した。（特願平４−１５
８６６４号公報） かかる方法により、高感度でかつ未露光状態で変色のな
い安定性に優れた感光性樹脂組成物を得ることができ
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法は、通常のエッチング法において問題はないものの、
電気めっきによってスルーホールに銅を析出させ、はん
だめっきで保護し、レジスト剥離、エッチングによって
電気回路の形成を行う、いわゆるパターンめっき法にお
いては、めっき浴の汚染性やめっきもぐり現象等におい
てまだまだ改善の余地があった。
法は、通常のエッチング法において問題はないものの、
電気めっきによってスルーホールに銅を析出させ、はん
だめっきで保護し、レジスト剥離、エッチングによって
電気回路の形成を行う、いわゆるパターンめっき法にお
いては、めっき浴の汚染性やめっきもぐり現象等におい
てまだまだ改善の余地があった。
【０００５】
【問題を解決するための手段】本発明者等は、かかる事
情に鑑み、鋭意研究をした結果、ベースポリマー
（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、Ｎ−フェニル
グリシン（Ｃ）、４，４−ジアルキルアミノベンゾフェ
ノン（Ｄ）、ｐＫａが２〜４の有機カルボン酸（Ｅ）、
ベンゾトリアゾール誘導体（Ｆ）及びトリアジン誘導体
（Ｇ）を含んでなる樹脂組成物において（Ｃ）ないし
（Ｇ）の含有量が、（Ａ）と（Ｂ）の合計量１００重量
部に対して、（Ｃ）が０．０１〜５重量部、（Ｄ）が
０．００５〜１．０重量部、（Ｅ）が０．０５〜５重量
部、（Ｆ）が０．０３〜１．０重量部、（Ｇ）が０．０
１〜１．０重量部であることを特徴とする感光性樹脂組
成物が、高感度でめっき浴汚染性に優れかつ、めっきも
ぐりも少ないことを見いだし、本発明を完成するに至っ
た。以下に、本発明を詳細に述べる。
情に鑑み、鋭意研究をした結果、ベースポリマー
（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、Ｎ−フェニル
グリシン（Ｃ）、４，４−ジアルキルアミノベンゾフェ
ノン（Ｄ）、ｐＫａが２〜４の有機カルボン酸（Ｅ）、
ベンゾトリアゾール誘導体（Ｆ）及びトリアジン誘導体
（Ｇ）を含んでなる樹脂組成物において（Ｃ）ないし
（Ｇ）の含有量が、（Ａ）と（Ｂ）の合計量１００重量
部に対して、（Ｃ）が０．０１〜５重量部、（Ｄ）が
０．００５〜１．０重量部、（Ｅ）が０．０５〜５重量
部、（Ｆ）が０．０３〜１．０重量部、（Ｇ）が０．０
１〜１．０重量部であることを特徴とする感光性樹脂組
成物が、高感度でめっき浴汚染性に優れかつ、めっきも
ぐりも少ないことを見いだし、本発明を完成するに至っ
た。以下に、本発明を詳細に述べる。
【０００６】本発明に用いるベースポリマー（Ａ）とし
ては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミ
ド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂などが
用いられる。これらの中では、（メタ）アクリレートを
主成分とし、必要に応じてエチレン性不飽和カルボン酸
や他の共重合可能なモノマーを共重合したアクリル系共
重合体が重要である。アセトアセチル基含有アクリル系
共重合体を用いることもできる。
ては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミ
ド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂などが
用いられる。これらの中では、（メタ）アクリレートを
主成分とし、必要に応じてエチレン性不飽和カルボン酸
や他の共重合可能なモノマーを共重合したアクリル系共
重合体が重要である。アセトアセチル基含有アクリル系
共重合体を用いることもできる。
【０００７】ここで（メタ）アクリル酸エステルとして
は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アク
リレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシ
ル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレ
ートなどが例示される。
は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アク
リレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシ
ル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレ
ートなどが例示される。
【０００８】エチレン性不飽和カルボン酸としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボ
ン酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、フマー
ル酸、イタコン酸などのジカルボン酸、あるいはそれら
の無水物やハーフエステルも用いることができる。これ
らの中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好まし
い。
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボ
ン酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、フマー
ル酸、イタコン酸などのジカルボン酸、あるいはそれら
の無水物やハーフエステルも用いることができる。これ
らの中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好まし
い。
【０００９】稀アルカリ現像型とするときは、エチレン
性不飽和カルボン酸を１５〜３０重量％程度（酸価で１
００〜２００ｍｇKOH／ｇ程度）共重合することが必要
である。他の共重合可能モノマーとしては、アクリルア
ミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニ
ル、アルキルビニルエーテルなどが例示できる。
性不飽和カルボン酸を１５〜３０重量％程度（酸価で１
００〜２００ｍｇKOH／ｇ程度）共重合することが必要
である。他の共重合可能モノマーとしては、アクリルア
ミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニ
ル、アルキルビニルエーテルなどが例示できる。
【００１０】エチレン性不飽和化合物（Ｂ）としては、
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、２，２−ビス
（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス−（４−（メタ）アクリロキシポリ
エトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−
（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジ
ルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリンポリグ
リシジルエーテルポリ（メタ）アクリレートなどの多官
能モノマーがあげられる。これらの多官能モノマーと共
に、単官能モノマーを適当量併用することもできる。
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、２，２−ビス
（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス−（４−（メタ）アクリロキシポリ
エトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−
（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジ
ルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリンポリグ
リシジルエーテルポリ（メタ）アクリレートなどの多官
能モノマーがあげられる。これらの多官能モノマーと共
に、単官能モノマーを適当量併用することもできる。
【００１１】単官能モノマーの例としては、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−ク
ロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）ア
クリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、フタル
酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロー
ル（メタ）アクリルアミドなどがあげられる。
キシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−ク
ロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）ア
クリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、フタル
酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロー
ル（メタ）アクリルアミドなどがあげられる。
【００１２】ベースポリマー（Ａ）１００重量部に対す
るエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の割合は、１０〜２０
０重量部、特に４０〜１００重量部の範囲から選ぶこと
が望ましい。エチレン性不飽和化合物（Ｂ）の過少は硬
化不良、可撓性の低下、現像速度の遅延を招き、エチレ
ン性不飽和化合物（Ｂ）の過多は粘着性の増大、コール
ドフロー、硬化レジストの剥離速度低下を招く。
るエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の割合は、１０〜２０
０重量部、特に４０〜１００重量部の範囲から選ぶこと
が望ましい。エチレン性不飽和化合物（Ｂ）の過少は硬
化不良、可撓性の低下、現像速度の遅延を招き、エチレ
ン性不飽和化合物（Ｂ）の過多は粘着性の増大、コール
ドフロー、硬化レジストの剥離速度低下を招く。
【００１３】光重合開始剤としては、Ｎ−フェニルグリ
シン（Ｃ）及び４，４−ジアルキルアミノベンゾフェノ
ン（Ｄ）が、ベースポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和
化合物（Ｂ）の合計量１００部に対して、（Ｃ）は０．
０１〜５重量部、好ましくは０．０５〜０．５重量部、
（Ｄ）は０．００５〜１．０重量部、好ましくは０．０
１〜０．０５重量部含まれていることが必須であり、
（Ｃ）が上記含有量よりも少ないと十分に硬化させるた
めに多大な露光量を要し、逆に上記含有量よりも多い
と、未露光状態でベース染料の変色を起こし、不適であ
る。また、（Ｄ）も上記含有量よりも少ないと（Ｃ）と
同様十分に硬化させるために多大な露光量を要し、逆に
上記含有量よりも多いと、紫外線透過率が著しく低下し
十分な内部硬化が期待できず、不適である。
シン（Ｃ）及び４，４−ジアルキルアミノベンゾフェノ
ン（Ｄ）が、ベースポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和
化合物（Ｂ）の合計量１００部に対して、（Ｃ）は０．
０１〜５重量部、好ましくは０．０５〜０．５重量部、
（Ｄ）は０．００５〜１．０重量部、好ましくは０．０
１〜０．０５重量部含まれていることが必須であり、
（Ｃ）が上記含有量よりも少ないと十分に硬化させるた
めに多大な露光量を要し、逆に上記含有量よりも多い
と、未露光状態でベース染料の変色を起こし、不適であ
る。また、（Ｄ）も上記含有量よりも少ないと（Ｃ）と
同様十分に硬化させるために多大な露光量を要し、逆に
上記含有量よりも多いと、紫外線透過率が著しく低下し
十分な内部硬化が期待できず、不適である。
【００１４】更に、本発明で、併用することができる光
重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル、ベン
ゾインフェニルエーテル、ベンジルジフェニルジスルフ
ィド、ベンジルジメチルケタール、ジベンジル、ジアセ
チル、アントラキノン、ナフトキノン、３，３’−ジメ
チル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェノン、
ｐ，ｐ’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、
ｐ，ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ピ
バロインエチルエーテル、１，１−ジクロロアセトフェ
ノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ヘキサ
アリールイミダゾール二量体、２−クロロチオキサント
ン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオ
キサントン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，
２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２
−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、フェニル
グリオキシレート、α−ヒドロキシイソブチルフェノ
ン、ジベゾスパロン、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパノン、
２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モ
ルフォリノ−１−プロパノン、トリブロモフェニルスル
ホン、トリブロモメチルフェニルスルホン、などが例示
される。このときの、光重合開始剤の総配合割合は、ベ
ースポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）と
の合計量１００重量部に対し１〜２０重量部程度とする
のが適当である。
重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル、ベン
ゾインフェニルエーテル、ベンジルジフェニルジスルフ
ィド、ベンジルジメチルケタール、ジベンジル、ジアセ
チル、アントラキノン、ナフトキノン、３，３’−ジメ
チル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェノン、
ｐ，ｐ’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、
ｐ，ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ピ
バロインエチルエーテル、１，１−ジクロロアセトフェ
ノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ヘキサ
アリールイミダゾール二量体、２−クロロチオキサント
ン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオ
キサントン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，
２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２
−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、フェニル
グリオキシレート、α−ヒドロキシイソブチルフェノ
ン、ジベゾスパロン、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパノン、
２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モ
ルフォリノ−１−プロパノン、トリブロモフェニルスル
ホン、トリブロモメチルフェニルスルホン、などが例示
される。このときの、光重合開始剤の総配合割合は、ベ
ースポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）と
の合計量１００重量部に対し１〜２０重量部程度とする
のが適当である。
【００１５】本発明においては、２５℃にけるｐＫａが
２〜４、好ましくは２．８〜３の有機カルボン酸（Ｅ）
も併用する。このようなカルボン酸の例は、サリチル
酸、モノクロル酢酸、モノブロム酢酸、マロン酸、ｏ−
フタル酸、２−クロロプロピオン酸、クロロ安息香酸、
３，４または３，５−ジニトロ安息香酸、ブロモ安息香
酸、ヨード安息香酸などである。上記カルボン酸の配合
量は、ベースポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物
（Ｂ）との合計量１００重量部に対して０．０５〜５重
量部、好ましくは０．１〜１．５重量部であり、カルボ
ン酸の過少はドライフィルムの変色（褐色）を招き、カ
ルボン酸の過多は露光前の発色を招く。
２〜４、好ましくは２．８〜３の有機カルボン酸（Ｅ）
も併用する。このようなカルボン酸の例は、サリチル
酸、モノクロル酢酸、モノブロム酢酸、マロン酸、ｏ−
フタル酸、２−クロロプロピオン酸、クロロ安息香酸、
３，４または３，５−ジニトロ安息香酸、ブロモ安息香
酸、ヨード安息香酸などである。上記カルボン酸の配合
量は、ベースポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物
（Ｂ）との合計量１００重量部に対して０．０５〜５重
量部、好ましくは０．１〜１．５重量部であり、カルボ
ン酸の過少はドライフィルムの変色（褐色）を招き、カ
ルボン酸の過多は露光前の発色を招く。
【００１６】更に、本発明では、ベンゾトリアゾール誘
導体（Ｆ）及びトリアジン誘導体（Ｇ）をも配合するこ
とが必須であり、ベンゾトリアゾール誘導体（Ｆ）とし
ては、例えば、１，２，３−ベンゾトリアゾール、１−
クロロ−１，２，３−ベンゾトリアゾール、４−カルボ
キシ−１，２，３−ベンゾトリアゾール、５−カルボキ
シ−１，２，３−ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ−２−
エチルヘキシル）アミノメチレン−１，２，３−ベンゾ
トリアゾール、ビス（Ｎ−２−エチルヘキシル）アミノ
メチレン−１，２，３−トリルトリアゾール、ビス（Ｎ
−２−ヒドロキシエチル）アミノメチレン−１，２，３
−ベンゾトリアゾールなどが用いられ、トリアジン誘導
体（Ｇ）としては、例えば、２，４，６−トリクロロマ
チル−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−
４’−メトキシフェニル−ｓ−トリアジン、２−（４−
メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリク
ロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナ
フト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−
ｓ−トリアジン、２−［４−（２−エトキシエチル）−
ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル
−ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト
−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−
トリアジン、２−（アセナフト−５−イル）−４，６−
ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−
（２’，４’−ジクロロフェニル）−４，６−ビス−
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｎ−ノニ
ル−４，６−ビス−（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６
−ビス−（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
スチリル−４，６−ビス−（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−ｐ−メチルスチリル−４，６−ビス−
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｐ−メト
キシスチリル−４，６−ビス−（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジンなどが用いられる。
導体（Ｆ）及びトリアジン誘導体（Ｇ）をも配合するこ
とが必須であり、ベンゾトリアゾール誘導体（Ｆ）とし
ては、例えば、１，２，３−ベンゾトリアゾール、１−
クロロ−１，２，３−ベンゾトリアゾール、４−カルボ
キシ−１，２，３−ベンゾトリアゾール、５−カルボキ
シ−１，２，３−ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ−２−
エチルヘキシル）アミノメチレン−１，２，３−ベンゾ
トリアゾール、ビス（Ｎ−２−エチルヘキシル）アミノ
メチレン−１，２，３−トリルトリアゾール、ビス（Ｎ
−２−ヒドロキシエチル）アミノメチレン−１，２，３
−ベンゾトリアゾールなどが用いられ、トリアジン誘導
体（Ｇ）としては、例えば、２，４，６−トリクロロマ
チル−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−
４’−メトキシフェニル−ｓ−トリアジン、２−（４−
メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリク
ロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナ
フト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−
ｓ−トリアジン、２−［４−（２−エトキシエチル）−
ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル
−ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト
−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−
トリアジン、２−（アセナフト−５−イル）−４，６−
ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−
（２’，４’−ジクロロフェニル）−４，６−ビス−
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｎ−ノニ
ル−４，６−ビス−（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６
−ビス−（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
スチリル−４，６−ビス−（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−ｐ−メチルスチリル−４，６−ビス−
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｐ−メト
キシスチリル−４，６−ビス−（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジンなどが用いられる。
【００１７】ベンゾトリアゾール誘導体（Ｆ）及びトリ
アジン誘導体（Ｇ）の配合量は、ベースポリマー（Ａ）
とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計量１００部に対
して、（Ｆ）が０．０３〜１．０重量部、好ましくは
０．１〜０．７重量部、（Ｇ）が０．０１〜１．０重量
部、好ましくは０．０５〜０．３重量部である。ベンゾ
トリアゾール誘導体（Ｆ）の過少は、銅面へのラミネー
ト後の放置安定性の改良効果の不足を招き、その過多
は、めっき前処理のソフトエッチング性を損なう。又、
トリアジン誘導体（Ｇ）の過少は、露光部と未露光部の
コントラスト差及び耐ホウフッ酸性の不足を招き、その
過多は、めっき前処理のソフトエッチング性を損なう。
この場合、ベンゾトリアゾール誘導体（Ｆ）とトリアジ
ン誘導体（Ｇ）との配合モル比は、１：３〜３：１、殊
に１：２〜２：１にあることが好ましく、両者のモル比
が許容限度を越えて相違すると、両者の併用効果が充分
に発揮されない。
アジン誘導体（Ｇ）の配合量は、ベースポリマー（Ａ）
とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計量１００部に対
して、（Ｆ）が０．０３〜１．０重量部、好ましくは
０．１〜０．７重量部、（Ｇ）が０．０１〜１．０重量
部、好ましくは０．０５〜０．３重量部である。ベンゾ
トリアゾール誘導体（Ｆ）の過少は、銅面へのラミネー
ト後の放置安定性の改良効果の不足を招き、その過多
は、めっき前処理のソフトエッチング性を損なう。又、
トリアジン誘導体（Ｇ）の過少は、露光部と未露光部の
コントラスト差及び耐ホウフッ酸性の不足を招き、その
過多は、めっき前処理のソフトエッチング性を損なう。
この場合、ベンゾトリアゾール誘導体（Ｆ）とトリアジ
ン誘導体（Ｇ）との配合モル比は、１：３〜３：１、殊
に１：２〜２：１にあることが好ましく、両者のモル比
が許容限度を越えて相違すると、両者の併用効果が充分
に発揮されない。
【００１８】本発明の感光性樹脂組成物には、そのほ
か、染料（着色、発色）、密着性付与剤、可塑剤、酸化
防止剤、熱重合禁止剤、溶剤、表面張力改質材、安定
剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃剤、などの添加剤を適宜
添加することができる。本発明の感光性樹脂組成物を用
いたドライフィルムレジスト用積層体の製造及びそれを
用いるプリント配線基板の製法について説明する。
か、染料（着色、発色）、密着性付与剤、可塑剤、酸化
防止剤、熱重合禁止剤、溶剤、表面張力改質材、安定
剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃剤、などの添加剤を適宜
添加することができる。本発明の感光性樹脂組成物を用
いたドライフィルムレジスト用積層体の製造及びそれを
用いるプリント配線基板の製法について説明する。
【００１９】（成層方法）上記の感光性樹脂組成物は、
これをポリエステルフイルム、ポリプロピレンフイル
ム、ポリスチレンフイルムなどのベースフイルム面に塗
工した後、その塗工面の上からポリエチレンフイルム、
ポリビニルアルコール系フイルムなどの保護フイルムを
被覆してドライフイルムレジスト用積層体とする。ドラ
イフィルムレジスト以外の用途としては、本発明の感光
性樹脂組成物を、ディップコート法、フローコート法、
スクリーン印刷法等の常法により、加工すべき（銅）基
板上に直接塗工し、厚さ１０〜１５０μの感光層を容易
に形成することもできる。塗工時に、メチルエチルケト
ン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブア
セテート、シクロヘキサン、メチルセルソルブ、塩化メ
チレン、１，１，１−トリクロルエタン等の溶剤を添加
することもできる。
これをポリエステルフイルム、ポリプロピレンフイル
ム、ポリスチレンフイルムなどのベースフイルム面に塗
工した後、その塗工面の上からポリエチレンフイルム、
ポリビニルアルコール系フイルムなどの保護フイルムを
被覆してドライフイルムレジスト用積層体とする。ドラ
イフィルムレジスト以外の用途としては、本発明の感光
性樹脂組成物を、ディップコート法、フローコート法、
スクリーン印刷法等の常法により、加工すべき（銅）基
板上に直接塗工し、厚さ１０〜１５０μの感光層を容易
に形成することもできる。塗工時に、メチルエチルケト
ン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブア
セテート、シクロヘキサン、メチルセルソルブ、塩化メ
チレン、１，１，１−トリクロルエタン等の溶剤を添加
することもできる。
【００２０】（露光）ドライフイルムレジストによって
画像を形成させるにはベースフイルムと感光性樹脂組成
物層との接着力及び保護フイルムと感光性樹脂組成物層
との接着力を比較し、接着力の低い方のフイルムを剥離
してから感光性樹脂組成物層の側を銅張基板の銅面など
の金属面に貼り付けた後、他方のフイルム上にパターン
マスクを密着させて露光する。感光性樹脂組成物が粘着
性を有しないときは、前記他方のフイルムを剥離してか
らパターンマスクを感光性樹脂組成物層に直接接触させ
て露光することもできる。金属面に直接塗工した場合
は、その塗工面に直接またはポリエステルフイルムなど
を介してパターンマスクを接触させ、露光に供する。露
光は通常紫外線照射により行い、その際の光源として
は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キ
セノン灯、メタルハライドランプ、ケミカルランプなど
が用いられる。紫外線照射後は、必要に応じ加熱を行っ
て、硬化の完全を図ることもできる。
画像を形成させるにはベースフイルムと感光性樹脂組成
物層との接着力及び保護フイルムと感光性樹脂組成物層
との接着力を比較し、接着力の低い方のフイルムを剥離
してから感光性樹脂組成物層の側を銅張基板の銅面など
の金属面に貼り付けた後、他方のフイルム上にパターン
マスクを密着させて露光する。感光性樹脂組成物が粘着
性を有しないときは、前記他方のフイルムを剥離してか
らパターンマスクを感光性樹脂組成物層に直接接触させ
て露光することもできる。金属面に直接塗工した場合
は、その塗工面に直接またはポリエステルフイルムなど
を介してパターンマスクを接触させ、露光に供する。露
光は通常紫外線照射により行い、その際の光源として
は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キ
セノン灯、メタルハライドランプ、ケミカルランプなど
が用いられる。紫外線照射後は、必要に応じ加熱を行っ
て、硬化の完全を図ることもできる。
【００２１】（現像）露光後は、レジスト上のフイルム
を剥離除去してから現像を行う。本発明の感光性樹脂組
成物は稀アルカリ現像型であるので、露光後の現像は、
炭酸ソーダ、炭酸カリウムなどのアルカリ１〜２重量％
程度の稀薄水溶液を用いて行う。 （パターン銅めっき）上記処理後の銅張基板を硫酸銅の
めっき浴（硫酸銅濃度６０〜１２０ｇ／ｌ）に入れ、常
温、１〜３Ａ／ｄｍ2で約１時間程度銅めっきを行う。
このときに、感光性樹脂組成物の種類によっては、該組
成物の硬化レジストと銅張基板の間に隙間が生じ、その
部分に銅が析出して、いわゆるめっきもぐり現象を起こ
すことがある。これは、パターンの形成不良の原因にな
り、最終的には、パターン形成基板の絶縁不良にもつな
がる。
を剥離除去してから現像を行う。本発明の感光性樹脂組
成物は稀アルカリ現像型であるので、露光後の現像は、
炭酸ソーダ、炭酸カリウムなどのアルカリ１〜２重量％
程度の稀薄水溶液を用いて行う。 （パターン銅めっき）上記処理後の銅張基板を硫酸銅の
めっき浴（硫酸銅濃度６０〜１２０ｇ／ｌ）に入れ、常
温、１〜３Ａ／ｄｍ2で約１時間程度銅めっきを行う。
このときに、感光性樹脂組成物の種類によっては、該組
成物の硬化レジストと銅張基板の間に隙間が生じ、その
部分に銅が析出して、いわゆるめっきもぐり現象を起こ
すことがある。これは、パターンの形成不良の原因にな
り、最終的には、パターン形成基板の絶縁不良にもつな
がる。
【００２２】（はんだめっき）銅めっき後、水洗した銅
張基板を１０％ホウフッ化水素酸水溶液に１分間程度浸
漬した後、はんだめっき浴（４５％ホウフッ化錫６４ｍ
ｌ／ｌ、４５％ホウフッ化鉛２２ｍｌ／ｌ）に入れ、常
温、１〜３Ａ／ｄｍ2で１０〜３０分間程度めっき処理
を行う。このときに、感光性樹脂組成物の種類によって
は、該組成物の硬化レジストの一部がめっき浴に溶出
し、めっき浴を汚染することがある。これが、めっき浴
汚染と言われるもので、めっき液が汚染されるとめっき
液の再調製が必要となり作業性が低下するばかりか、良
好な、はんだめっき層の形成も不可能となりパターンの
形成の不良につながる。また、はんだめっき浴を汚染し
ない感光性樹脂組成物の硬化レジストは、上記の銅めっ
き浴も汚染するすることはない。
張基板を１０％ホウフッ化水素酸水溶液に１分間程度浸
漬した後、はんだめっき浴（４５％ホウフッ化錫６４ｍ
ｌ／ｌ、４５％ホウフッ化鉛２２ｍｌ／ｌ）に入れ、常
温、１〜３Ａ／ｄｍ2で１０〜３０分間程度めっき処理
を行う。このときに、感光性樹脂組成物の種類によって
は、該組成物の硬化レジストの一部がめっき浴に溶出
し、めっき浴を汚染することがある。これが、めっき浴
汚染と言われるもので、めっき液が汚染されるとめっき
液の再調製が必要となり作業性が低下するばかりか、良
好な、はんだめっき層の形成も不可能となりパターンの
形成の不良につながる。また、はんだめっき浴を汚染し
ない感光性樹脂組成物の硬化レジストは、上記の銅めっ
き浴も汚染するすることはない。
【００２３】（硬化レジストの剥離除去）硬化レジスト
の剥離除去は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
の１〜５重量％程度の濃度のアルカリ水溶液からなるア
ルカリ剥離液を用いて行う。 （エッチング）エッチングは、アンモニア水を含有する
アルカリエッチング液にて、レジスト剥離後露出した銅
をエッチングする。本発明の感光性樹脂組成物及び該組
成物のドライフィルムレジスト用積層体は、印刷配線板
の製造、金属の精密加工等に用いられるパターンめっき
レジストとして特に有用である。
の剥離除去は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
の１〜５重量％程度の濃度のアルカリ水溶液からなるア
ルカリ剥離液を用いて行う。 （エッチング）エッチングは、アンモニア水を含有する
アルカリエッチング液にて、レジスト剥離後露出した銅
をエッチングする。本発明の感光性樹脂組成物及び該組
成物のドライフィルムレジスト用積層体は、印刷配線板
の製造、金属の精密加工等に用いられるパターンめっき
レジストとして特に有用である。
【００２４】
【作用】本発明の感光性樹脂組成物は、特定量のＮ−フ
ェニルグリシン、４，４−ジアルキルアミノベンゾフェ
ノン、ｐＫａが２〜４の有機カルボン酸、ベンゾトリア
ゾール誘導体及びトリアジン誘導体を含有したアクリル
系共重合体を使用しているため高感度でパターン形成性
が良好で、めっき法においてめっき浴を汚染することな
くかつめっきもぐり現象もなく耐めっき性に優れてい
る。
ェニルグリシン、４，４−ジアルキルアミノベンゾフェ
ノン、ｐＫａが２〜４の有機カルボン酸、ベンゾトリア
ゾール誘導体及びトリアジン誘導体を含有したアクリル
系共重合体を使用しているため高感度でパターン形成性
が良好で、めっき法においてめっき浴を汚染することな
くかつめっきもぐり現象もなく耐めっき性に優れてい
る。
【００２５】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。なお、実施例中「％」とあるのは、断りのない限
り重量基準を意味する。 実施例１〜７及び比較例１〜１４ （ドープの調整）下記のベースポリマー（Ａ）６０部、
下記のエチレン性不飽和化合物（Ｂ）４０部及び下記処
方の染料０．８５部を混合し樹脂組成物を調整した。ベースポリマー（Ａ） メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／２
−エチルヘキシルアクリレート／メタクリル酸の共重合
割合が重量基準で５５／８／１５／２２である共重合体
（酸価１４３．３、ガラス転移点６６．３℃、重量平均
分子量８万）
する。なお、実施例中「％」とあるのは、断りのない限
り重量基準を意味する。 実施例１〜７及び比較例１〜１４ （ドープの調整）下記のベースポリマー（Ａ）６０部、
下記のエチレン性不飽和化合物（Ｂ）４０部及び下記処
方の染料０．８５部を混合し樹脂組成物を調整した。ベースポリマー（Ａ） メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／２
−エチルヘキシルアクリレート／メタクリル酸の共重合
割合が重量基準で５５／８／１５／２２である共重合体
（酸価１４３．３、ガラス転移点６６．３℃、重量平均
分子量８万）
【００２６】エチレン性不飽和化合物（Ｂ） トリメチロールプロパントリアクリレート／ポリエチレ
ングリコール（６００）ジメタクリレート／エチレンオ
キサイド変性フタル酸アクリレート（共栄社油脂工業株
式会社製）の重量比２３／１０／１７の混合物染 料 ロイコクリスタルバイオレット／マラカイトグリーンの
重量比０．８／０．０５の混合物 上記の（Ａ）、（Ｂ）及び染料よりなる樹脂組成物１０
０．８５部にＮ−フェニルグリシン（Ｃ）、４，４−ジ
アルキルアミノベンゾフェノン（Ｄ）及び下記のｐＫａ
が２〜４の有機カルボン酸（Ｅ）、ベンゾトリアゾール
誘導体（Ｆ）、トリアジン誘導体（Ｇ）を表１の処方で
配合してよく混合し、ドープを調整した。
ングリコール（６００）ジメタクリレート／エチレンオ
キサイド変性フタル酸アクリレート（共栄社油脂工業株
式会社製）の重量比２３／１０／１７の混合物染 料 ロイコクリスタルバイオレット／マラカイトグリーンの
重量比０．８／０．０５の混合物 上記の（Ａ）、（Ｂ）及び染料よりなる樹脂組成物１０
０．８５部にＮ−フェニルグリシン（Ｃ）、４，４−ジ
アルキルアミノベンゾフェノン（Ｄ）及び下記のｐＫａ
が２〜４の有機カルボン酸（Ｅ）、ベンゾトリアゾール
誘導体（Ｆ）、トリアジン誘導体（Ｇ）を表１の処方で
配合してよく混合し、ドープを調整した。
【００２７】ｐＫａが２〜４の有機カルボン酸（Ｅ） Ｅ１；サリチル酸（ｐＫａ＝３．００） Ｅ２；モノクロル酢酸（ｐＫａ＝２．８７） Ｅ３；マロン酸（ｐＫａ＝２．８６） Ｅ４；ｏ−フタル酸（ｐＫａ＝２．８９） 尚、比較のため以下のカルボン酸も用意した。 Ｅ５；コハク酸（ｐＫａ＝４．２１） Ｅ６；マレイン酸（ｐＫａ＝１．９２）
【００２８】ベンゾトリアゾール誘導体（Ｆ） Ｆ１；１，２，３−ベンゾトリアゾール（分子量１１
９） Ｆ２；ビス（Ｎ−２−エチルヘキシル）アミノメチレン
−１，２，３−ベンゾトリアゾール（分子量３７１） Ｆ３；５−カルボキシ−１，２，３−ベンゾトリアゾー
ル（分子量１６３） トリアジン誘導体（Ｇ） Ｇ１；２，４，６−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン
（分子量４３３.５） Ｇ２；２，４−ビス（トリクロロメチル）−４’−メト
キシフェニル−ｓ−トリアジン（分子量４２２） Ｇ３；２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，
６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン（分子量４
７２）
９） Ｆ２；ビス（Ｎ−２−エチルヘキシル）アミノメチレン
−１，２，３−ベンゾトリアゾール（分子量３７１） Ｆ３；５−カルボキシ−１，２，３−ベンゾトリアゾー
ル（分子量１６３） トリアジン誘導体（Ｇ） Ｇ１；２，４，６−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン
（分子量４３３.５） Ｇ２；２，４−ビス（トリクロロメチル）−４’−メト
キシフェニル−ｓ−トリアジン（分子量４２２） Ｇ３；２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，
６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン（分子量４
７２）
【００２９】（ドライフィルムの作製）次にそれぞれの
ドープを、ギャップ１０ミルのアプリケーターを用いて
厚さ２０μｍのポリエステルフイルム上に塗工し、室温
で１分３０秒放置した後、６０℃、９０℃、１１０℃の
オーブンでそれぞれ３分間乾燥して、レジスト厚５０μ
ｍのドライフイルムとなした（ただし保護フイルムは設
けていない）。 （銅張積層板へのラミネート）このドライフイルムを、
オーブンで６０℃に予熱した銅張積層板上に、ラミネー
トロール温度１００℃、同ロール圧３ｋｇ／ｃｍ2、ラ
ミネート速度１．５ｍ／ｓｅｃにてラミネートした。以
下に、評価内容とその評価基準を示す。
ドープを、ギャップ１０ミルのアプリケーターを用いて
厚さ２０μｍのポリエステルフイルム上に塗工し、室温
で１分３０秒放置した後、６０℃、９０℃、１１０℃の
オーブンでそれぞれ３分間乾燥して、レジスト厚５０μ
ｍのドライフイルムとなした（ただし保護フイルムは設
けていない）。 （銅張積層板へのラミネート）このドライフイルムを、
オーブンで６０℃に予熱した銅張積層板上に、ラミネー
トロール温度１００℃、同ロール圧３ｋｇ／ｃｍ2、ラ
ミネート速度１．５ｍ／ｓｅｃにてラミネートした。以
下に、評価内容とその評価基準を示す。
【００３０】Ａ．ドープ安定性 上記（ドープの調整）で得られた各ドープを遮光下４０
℃の恒温槽中に２日間浸漬した後、それぞれのドープ
を、ギャップ１０ミルのアプリケーターを用いて厚さ２
０μｍのポリエステルフイルム上に塗工しドープの塗工
性を調べた。 ○；塗工・乾燥性良好。 ×；ドープがゲル化し、均一塗工不可。Ｂ．ドライフィルムの保存安定性 上記（ドライフィルムの作製）で得られたドライフィル
ムのレジスト面にポリエチレンフィルム（３０μｍ）を
積層し４０℃，６０％ＲＨの遮光下で１カ月放置し、ド
ライフィルムの変色を調べた。 ○；ドライフィルムの変色は、認められなかった。 ×；ドライフィルムに変色（脱色あるいは発色）が発生
した。
℃の恒温槽中に２日間浸漬した後、それぞれのドープ
を、ギャップ１０ミルのアプリケーターを用いて厚さ２
０μｍのポリエステルフイルム上に塗工しドープの塗工
性を調べた。 ○；塗工・乾燥性良好。 ×；ドープがゲル化し、均一塗工不可。Ｂ．ドライフィルムの保存安定性 上記（ドライフィルムの作製）で得られたドライフィル
ムのレジスト面にポリエチレンフィルム（３０μｍ）を
積層し４０℃，６０％ＲＨの遮光下で１カ月放置し、ド
ライフィルムの変色を調べた。 ○；ドライフィルムの変色は、認められなかった。 ×；ドライフィルムに変色（脱色あるいは発色）が発生
した。
【００３１】Ｃ．感度 上記（銅張積層板へのラミネート）後、ストウファ２１
段ステップタブレットを用い、オーク製作所製の露光機
ＨＭＷ−５３２Ｄにて３ｋｗ超高圧水銀灯で２０ｍｊ毎
に露光した。露光後１５分間のホールドタイムを取った
後、１％Ｎａ2ＣＯ3水溶液、３０℃で、最少現像時間の
１．５倍の時間で現像した。各露光量と現像後に残った
段数よりストウファ２１段ステップタブレットにて８段
を与えるに足る露光量（ｍｊ／ｃｍ2）を調べた。Ｄ．ラミネート後の放置安定性 上記感度評価において、銅張積層板にラミネート後、２
０℃，６０％ＲＨのクリーンルームに３日間放置処理を
行ったものの感度を測定し、未処理のものとの感度を比
較した。 ○；感度変化が±５ｍｊ／ｃｍ2以下のもの。 ×；感度変化が±１０ｍｊ／ｃｍ2以上のもの。
段ステップタブレットを用い、オーク製作所製の露光機
ＨＭＷ−５３２Ｄにて３ｋｗ超高圧水銀灯で２０ｍｊ毎
に露光した。露光後１５分間のホールドタイムを取った
後、１％Ｎａ2ＣＯ3水溶液、３０℃で、最少現像時間の
１．５倍の時間で現像した。各露光量と現像後に残った
段数よりストウファ２１段ステップタブレットにて８段
を与えるに足る露光量（ｍｊ／ｃｍ2）を調べた。Ｄ．ラミネート後の放置安定性 上記感度評価において、銅張積層板にラミネート後、２
０℃，６０％ＲＨのクリーンルームに３日間放置処理を
行ったものの感度を測定し、未処理のものとの感度を比
較した。 ○；感度変化が±５ｍｊ／ｃｍ2以下のもの。 ×；感度変化が±１０ｍｊ／ｃｍ2以上のもの。
【００３２】Ｅ．解像性 上記（銅張積層板へのラミネート）後、ライン／スペー
ス＝１／１、１０〜３００μｍで１０μｍ毎に設計した
パターンマスクを載せてストウファ２１段ステップタブ
レットの８段相当量の露光量で露光し、感度評価（Ｃ）
と同様に現像し、８０μｍにおける解像性を調べた。 ○；８０μｍが解像しているもの。 ×；８０μｍが解像していないもの。Ｆ．細線密着性 解像性（Ｅ）評価において、現像時間を最少現像時間の
３倍の時間で現像し、８０μｍ細線の密着性を調べた。 ○；８０μｍ細線の密着性良好。 ×；８０μｍ細線が剥離あるいは欠損部が認められたも
の。
ス＝１／１、１０〜３００μｍで１０μｍ毎に設計した
パターンマスクを載せてストウファ２１段ステップタブ
レットの８段相当量の露光量で露光し、感度評価（Ｃ）
と同様に現像し、８０μｍにおける解像性を調べた。 ○；８０μｍが解像しているもの。 ×；８０μｍが解像していないもの。Ｆ．細線密着性 解像性（Ｅ）評価において、現像時間を最少現像時間の
３倍の時間で現像し、８０μｍ細線の密着性を調べた。 ○；８０μｍ細線の密着性良好。 ×；８０μｍ細線が剥離あるいは欠損部が認められたも
の。
【００３３】Ｇ．めっきもぐり性 感度（Ｃ）評価後の現像処理積層板を脱脂後、流水水洗
を１分間行い、過硫酸ナトリウム（１１０ｇ／ｌ）／硫
酸（１０ｍｌ／ｌ）の水溶液中に２分間浸漬した。更に
流水水洗を１分間行った後、１０％硫酸水溶液浴に１分
間浸漬し再び流水水洗を１分間行った。次いで硫酸銅め
っき浴［硫酸銅７５ｇ／ｌ、硫酸１９０ｇ／ｌ、塩素イ
オン７５ｐｐｍ、カパーグリームＰＣＭ（メルテックス
社製、商品名）５ｍｌ／ｌ］に入れ硫酸銅めっきを２５
℃、２．５Ａ／ｄｍ2で４５分間行った。硫酸銅めっき
終了後直ちに水洗し、続いて１０％ホウフッ化水素酸水
溶液に１分間浸漬し、はんだめっき浴［４５％ホウフッ
化錫６４ｍｌ／ｌ、４５％ホウフッ化鉛２２ｍｌ／ｌ、
４２％ホウフッ化水素酸２００ｍｌ／ｌ、プルティンＬ
Ａコンダクティビティソルト（メルテックス社商品名）
２０ｇ／ｌ、プルティンＬＡスターター（メルテックス
社商品名）４０ｍｌ／ｌ］に入れ２５℃、２Ａ／ｄｍ2
で１５分間めっき処理を行った。はんだめっき終了後水
洗を行い乾燥した。その後上方から光学顕微鏡ではんだ
めっきのもぐりの有無を観察した。（はんだめっきのも
ぐりを生じた場合は透明なレジストを介してその下部に
観察される。） ○；めっきもぐり認められず。 ×；めっきもぐり発生。Ｈ．めっき析出性 めっきもぐり性（Ｇ）評価の際、めっきの析出状況を目
視にて調べた。 ○；析出部に異状無し。 ×；未析出部が認められる。
を１分間行い、過硫酸ナトリウム（１１０ｇ／ｌ）／硫
酸（１０ｍｌ／ｌ）の水溶液中に２分間浸漬した。更に
流水水洗を１分間行った後、１０％硫酸水溶液浴に１分
間浸漬し再び流水水洗を１分間行った。次いで硫酸銅め
っき浴［硫酸銅７５ｇ／ｌ、硫酸１９０ｇ／ｌ、塩素イ
オン７５ｐｐｍ、カパーグリームＰＣＭ（メルテックス
社製、商品名）５ｍｌ／ｌ］に入れ硫酸銅めっきを２５
℃、２．５Ａ／ｄｍ2で４５分間行った。硫酸銅めっき
終了後直ちに水洗し、続いて１０％ホウフッ化水素酸水
溶液に１分間浸漬し、はんだめっき浴［４５％ホウフッ
化錫６４ｍｌ／ｌ、４５％ホウフッ化鉛２２ｍｌ／ｌ、
４２％ホウフッ化水素酸２００ｍｌ／ｌ、プルティンＬ
Ａコンダクティビティソルト（メルテックス社商品名）
２０ｇ／ｌ、プルティンＬＡスターター（メルテックス
社商品名）４０ｍｌ／ｌ］に入れ２５℃、２Ａ／ｄｍ2
で１５分間めっき処理を行った。はんだめっき終了後水
洗を行い乾燥した。その後上方から光学顕微鏡ではんだ
めっきのもぐりの有無を観察した。（はんだめっきのも
ぐりを生じた場合は透明なレジストを介してその下部に
観察される。） ○；めっきもぐり認められず。 ×；めっきもぐり発生。Ｈ．めっき析出性 めっきもぐり性（Ｇ）評価の際、めっきの析出状況を目
視にて調べた。 ○；析出部に異状無し。 ×；未析出部が認められる。
【００３４】
【表１】 配 合 成 分 ［重量部］ （Ｃ） （Ｄ） （Ｅ） （Ｆ） （Ｇ） (F)/(G)モル比 実施例１ ０.１５ ０.１５ ０.２ ０.１ ０.０５ ０.５６ （Ｅ１） （Ｆ２） （Ｇ１） 実施例２ ０.１５ ０.１５ ０.１ ０.５ ０.１５ ０.９３ （Ｅ２） （Ｆ２） （Ｇ１） 実施例３ ０.１５ ０.１５ ０.１２ ０.１５ ０.１５ ０.８８ （Ｅ３） （Ｆ２） （Ｇ２） 実施例４ ０.１５ ０.１５ ０.２ ０.６ ０.３ １.６７ （Ｅ４） （Ｆ２） （Ｇ２） 実施例５ ０.１ ０.２５ ０.１ ０.２ ０.１５ １.１４ （Ｅ１） （Ｆ１） （Ｇ２） 実施例６ ０.４ ０.０１ ０.４ ０.２ ０.２ １.００ （Ｅ１） （Ｆ３） （Ｇ２） 実施例７ ０.２ ０.０１ ０.１５ ０.１５ ０.０６ ０.９６ （Ｅ２） （Ｆ２） （Ｇ３）
【００３５】
【表２】 配 合 成 分 ［重量部］ （Ｃ） （Ｄ） （Ｅ） （Ｆ） （Ｇ） (F)/(G)モル比 比較例１ ０.005 ０.１５ ０.２ ０.１ ０.０５ ０.５６ （Ｅ１） （Ｆ２） （Ｇ１） 比較例２ ７.０ ０.１５ ０.２ ０.１ ０.０５ ０.５６ （Ｅ１） （Ｆ２） （Ｇ１） 比較例３ ０.１５ ０.005 ０.２ ０.１ ０.０５ ０.５６ （Ｅ１） （Ｆ２） （Ｇ１） 比較例４ ０.１５ １.２ ０.２ ０.１ ０.０５ ０.５６ （Ｅ１） （Ｆ２） （Ｇ１） 比較例５ ０.１５ ０.１５ ０.０１ ０.１ ０.０５ ０.５６ （Ｅ１） （Ｆ２） （Ｇ１） 比較例６ ０.１５ ０.１５ ７.０ ０.１ ０.０５ ０.５６ （Ｅ１） （Ｆ２） （Ｇ１） 比較例７ ０.１５ ０.１５ ０.２ ０.１ ０.０５ ０.５６ （Ｅ５） （Ｆ２） （Ｇ１） 比較例８ ０.１５ ０.１５ ０.２ ０.１ ０.０５ ０.５６ （Ｅ６） （Ｆ２） （Ｇ１） 比較例９ ０.１５ ０.１５ ０.２ ０.０１ ０.０５ ０.２３ （Ｅ１） （Ｆ２） （Ｇ１） 比較例10 ０.１５ ０.１５ ０.２ １.５ ０.０５ ３５.０５ （Ｅ１） （Ｆ２） （Ｇ１） 比較例11 ０.１５ ０.１５ ０.２ ０.１ ０.０１ １１.６８ （Ｅ１） （Ｆ２） （Ｇ１） 比較例12 ０.１５ ０.１５ ０.２ ０.１ １.５ ０.０８ （Ｅ１） （Ｆ２） （Ｇ１）
【００３６】実施例および比較例で得られた感光性樹脂
組成物の前記Ａ〜Ｈの評価結果を表３に示す。
組成物の前記Ａ〜Ｈの評価結果を表３に示す。
【表３】 評 価 項 目 Ａ Ｂ Ｃ Ｄ Ｅ Ｆ Ｇ Ｈ 実施例１ ○ ○ ８０ ○ ○ ○ ○ ○ 実施例２ ○ ○ ８０ ○ ○ ○ ○ ○ 実施例３ ○ ○ ８０ ○ ○ ○ ○ ○ 実施例４ ○ ○ ８０ ○ ○ ○ ○ ○ 実施例５ ○ ○ １４０ ○ ○ ○ ○ ○ 実施例６ ○ ○ ４０ ○ ○ ○ ○ ○実施例７ ○ ○ ９０ ○ ○ ○ ○ ○ 比較例１ ○ ○ ＞２００ ○ × ○ × ○ 比較例２ ○ × ２０ ○ ○ ○ ○ ○ 比較例３ ○ ○ ８０ ○ × ○ ○ ○ 比較例４ ○ ○ ８０ ○ ○ × × ○ 比較例５ ○ × ８０ ○ ○ ○ ○ ○ 比較例６ ○ × ８０ ○ ○ ○ ○ ○ 比較例７ ○ × ８０ ○ ○ ○ ○ ○ 比較例８ × × ８０ ○ ○ ○ ○ ○ 比較例９ ○ ○ ８０ × ○ ○ ○ ○ 比較例10 ○ ○ ８０ ○ ○ ○ ○ × 比較例11 ○ ○ ８０ ○ ○ ○ × ○比較例12 ○ ○ ８０ × ○ ○ ○ ○
【００３７】
【発明の効果】本発明で得られた感光性樹脂組成物は、
特定量のＮ−フェニルグリシン、４，４−ジアルキルア
ミノベンゾフェノン、ｐＫａが２〜４の有機カルボン
酸、ベンゾトリアゾール誘導体及びトリアジン誘導体を
含有したアクリル系共重合体を使用しているため高感度
でパターン形成性が良好で、めっき法においてめっき浴
を汚染することなくかつめっきもぐり現象もなく耐めっ
き性に優れており、印刷配線板の製造、金属の精密加工
等に用いられるエッチングレジスト又はめっきレジスト
として有用である。
特定量のＮ−フェニルグリシン、４，４−ジアルキルア
ミノベンゾフェノン、ｐＫａが２〜４の有機カルボン
酸、ベンゾトリアゾール誘導体及びトリアジン誘導体を
含有したアクリル系共重合体を使用しているため高感度
でパターン形成性が良好で、めっき法においてめっき浴
を汚染することなくかつめっきもぐり現象もなく耐めっ
き性に優れており、印刷配線板の製造、金属の精密加工
等に用いられるエッチングレジスト又はめっきレジスト
として有用である。
Claims (3)
- 【請求項１】 ベースポリマー（Ａ）、エチレン性不飽
和化合物（Ｂ）、Ｎ−フェニルグリシン（Ｃ）、４，４
−ジアルキルアミノベンゾフェノン（Ｄ）、ｐＫａが２
〜４の有機カルボン酸（Ｅ）、ベンゾトリアゾール誘導
体（Ｆ）及びトリアジン誘導体（Ｇ）を含んでなる樹脂
組成物において（Ｃ）ないし（Ｇ）の含有量が、（Ａ）
と（Ｂ）の合計量１００重量部に対して、（Ｃ）が０．
０１〜５重量部、（Ｄ）が０．００５〜１．０重量部、
（Ｅ）が０．０５〜５重量部、（Ｆ）が０．０３〜１．
０重量部、（Ｇ）が０．０１〜１．０重量部であること
を特徴とする感光性樹脂組成物。 - 【請求項２】 ベンゾトリアゾール誘導体（Ｆ）とトリ
アジン誘導体（Ｇ）とのモル比が１：３〜３：１である
ことを特徴とする請求項１記載の感光性樹脂組成物。 - 【請求項３】 ドライフィルム用の感光性樹脂組成物で
あることを特徴とする請求項１記載の感光性樹脂組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4315979A JP2767174B2 (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4315979A JP2767174B2 (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | 感光性樹脂組成物 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06148881A true JPH06148881A (ja) | 1994-05-27 |
| JP2767174B2 JP2767174B2 (ja) | 1998-06-18 |
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ID=18071885
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4315979A Expired - Fee Related JP2767174B2 (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2767174B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1989005000A1 (en) * | 1987-11-27 | 1989-06-01 | Mitsubishi Petrochemical Company Ltd. | Blade for electrophotographic apparatus |
| EP0384354A2 (en) * | 1989-02-20 | 1990-08-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Cleaning blade and electrophotographic apparatus making use of it |
| JP2000347391A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-12-15 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
| JP2011219623A (ja) * | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 活性エネルギー線硬化性被覆材組成物及び積層体 |
| JP4883537B2 (ja) * | 2006-08-04 | 2012-02-22 | 千代田ケミカル株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS61173242A (ja) * | 1985-01-28 | 1986-08-04 | Hitachi Chem Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JPS62288603A (ja) * | 1986-06-06 | 1987-12-15 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 高感度光重合性組成物 |
| JPH01163734A (ja) * | 1987-12-21 | 1989-06-28 | Tokuyama Soda Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JPH01164937A (ja) * | 1987-10-23 | 1989-06-29 | Hoechst Celanese Corp | 光重合性組成物および写真要素 |
| JPH0233148A (ja) * | 1988-07-22 | 1990-02-02 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| JPH02311846A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-27 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性積層体 |
| JPH04122935A (ja) * | 1990-09-13 | 1992-04-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
-
1992
- 1992-10-30 JP JP4315979A patent/JP2767174B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2767174B2 (ja) | 1998-06-18 |
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