JPH06142403A - 仕上液と親水性溶液の分離装置 - Google Patents
仕上液と親水性溶液の分離装置Info
- Publication number
- JPH06142403A JPH06142403A JP4322451A JP32245192A JPH06142403A JP H06142403 A JPH06142403 A JP H06142403A JP 4322451 A JP4322451 A JP 4322451A JP 32245192 A JP32245192 A JP 32245192A JP H06142403 A JPH06142403 A JP H06142403A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- separation
- liquid
- water
- finishing liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
る。 【構成】 洗浄の仕上液を水と接触させて仕上液に混入
した親水性溶液を水に吸収させ分離する分離槽12a
と、仕上液が沿いながら上昇するように分離槽12a内
に傾斜して設けられた分離板1と、分離槽12aからの
仕上液から水を比重差で分離する槽12b,12cとを
備える。
Description
浄において、洗浄物の乾燥を行う仕上液を再生して使用
するため、混入している親水性溶液を分離する分離装置
に関する。
トリクロロエタンなどの塩素系有機溶剤が使用されてい
たが、これらの塩素系有機溶剤はオゾン層を破壊する環
境問題があるため、その使用が世界的に禁止される傾向
となっている。このため、塩素系有機溶剤の代替品が数
多く開発されている。なお、塩素系有機溶剤を用いた洗
浄方法としては、「精密洗浄装置と最新応用技術」(1
991年11月8日、(株)工業資料センター発行)の
570〜574頁に記載されるように、洗剤による洗浄
→水によるリンス→IPAなどの親水性溶液による脱水
→フロンベーパーによる乾燥の順でなされている。
いて、フロンに代えてシリコン化合物を主成分とした仕
上液を使用すると、フロンと同等な効果が得られること
を発明者らは見出している。この場合のシリコン化合物
としては、オクタメチルシクロテトラシロキサン,オク
タメチルトリシロキサンなどの低分子シリコン化合物が
ある。
ような仕上液を用いた場合においては、乾燥の前工程で
洗浄物に付着したIPAなどの親水性溶液が仕上液中に
混入して仕上液の純度が低下する。そして、この低下に
より、乾燥力が劣化したり、シミが残る原因となってい
た。
であり、親水性溶液の混入で純度が低下した仕上液を再
生して循環使用可能とした仕上液と親水性溶液の分離装
置を提供することを目的とする。
成する本発明は、洗浄の仕上液を水と接触させて仕上液
に混入した親水性溶液を水に吸収させ分離する分離槽
と、仕上液が沿いながら上昇するように前記分離槽内に
傾斜して設けられた分離板と、分離槽からの仕上液から
水を比重差で分離する槽とを備えていることを特徴とす
る。
水性溶剤は分離槽内の中を分離板にそって上昇して行く
課程で水との接触時間および接触面積が大きくなり、仕
上液に混入した親水性溶液のみが水との溶解作用により
水に吸収される。その後、す水分を沈澱させることによ
り純度の高い仕上液を再生することができる。このと
き、比重差により異物も分離することができる。
す。洗浄物の乾燥に使用する仕上液が充填された乾燥槽
11に溢出槽20が設けられ、この溢出槽20に分離槽
12がパイプを介して連結されている。分離槽12は仕
切板3,4によって仕切られることにより第1槽12
a,第2槽12bおよび第3槽12cからなる3槽構造
となっている。これらの槽は第1槽12a,第2槽12
b,第3槽12cの順で段階的に低くなっており、低い
槽は高い槽から溢出した仕上液を受け入れるようになっ
ている。第1槽12aは仕上液を仕上液内に混入してい
る親水性溶液との分離を行うものであり、その内部には
純水7が充填されている。溢出槽20からの仕上液はこ
の第1槽20aの下部々分に設けた液入口2から第1槽
12a内に供給される。かかる第1槽12aの内部には
分離板1が複数設けられている。複数の分離板1は交互
に対向すると共に、傾斜した状態で第1槽の内部に設け
られており、液入口2から供給された仕上液8は純水と
の比重差により分離板1に沿いながら上昇し、第1槽1
2aの上部に貯まった後、溢出して第2槽12bに流入
する。
3槽12cには、各槽に流入する仕上液と各槽から流出
する仕上液とが混合しないように分画する分画板21,
22がそれぞれ垂直状に設けられている。これらの第2
槽12bおよび第3槽12cは仕上液8と仕上液内の水
分とを比重差により分離する槽である。この場合、第3
槽12cには同槽12c内の上限および下限の液面高さ
を検出する液面センサ6が設けられており、仕上液が所
定量よりも多いか、少ないかを検出するようになってい
る。なお、各槽12a,12b,12cにはそれぞれの
槽内の液体を抜き取って入れ換えを行うドレンバルブ1
3が設けられると共に(図2参照)、第1槽12aの下
面には排水バルブ19が設けられている。図2におい
て、14は分離槽12上部を覆う蓋体である。
5と連結されたポンプであり、、装置内における液体の
循環を行う。このポンプ10にはフィルタ9を介して乾
燥槽11が連結される。17は新たな仕上液を補給する
補給タンクであり、補給バルブ18を介して分離槽12
の第3槽12cにおける液出口5に連結されている。ま
た16は液面センサ6からの信号により新たな仕上液を
供給するか否かを制御するコントローラであり、補給バ
ルブ18の開閉を行う。
℃)の単一組成分からなるシリコンオイル(商品名EE
3110,オリンパス光学工業(株)製)、親水性溶液
としてIPA(以下アルコールと記する。)を用いた本
実施例の作動を説明する。この場合、補給タンク17に
は純度99.8%の新たなシリコンオイルが貯留されて
いる。洗浄物としては芯取り加工が行われることにより
芯取り油(ユシロン化合(株)製)が付着した両凸ガラ
スレンズを用い、このレンズを洗剤による洗浄→水によ
るリンス→アルコーンによる脱水の後、乾燥槽11内の
シリコンオイルで乾燥し、仕上げする。
ルコール混入のシリコンオイルは純度99.0%となっ
ており、パイプを通って液入口2から分離槽12の第1
槽12aに入る。このアルコールの混入したシリコンオ
イル11は第1槽12a内にあらかじめ充填されている
純水7の中で比重差により分離し浮上する。この浮上す
るアルコールの混入したシリコンオイル11は第1槽1
2a内に斜めに取り付けられた分離板1に沿って純水7
の中を上昇する。この上昇課程でアルコールの混入した
シリコンオイル11中のアルコール分が純水7に吸収さ
れる。
入したシリコンオイル11中のアルコールが除去されて
高い純度のシリコンオイル8が浮上してくる。このとき
の成分をガスクロマトグラフィーおよびカールフィッシ
ャー水分計によりシリコンオイルの純度を測定したとこ
ろ、99.3%であった。浮上してきたシリコンオイル
8が過度に溜まると第1槽12aを越えてオーバーフロ
ーし、第2槽12bに流れ込んだシリコンオイル8は溜
まって行く課程でさらに水分が比重差により分離され、
水分が槽底に溜まる。
まると、第2槽12bを越えて第3槽12cに流れ込
む。第2槽から出るときは99.5%の純度であった。
こうして第3槽には純度の高い(純度99.8%)シリ
コンオイル8が溜まる。これにより、シリコンオイル8
の再生が行われ、再生されたシリコンオイルは液出口5
からポンプに吸い上げられて再び乾燥槽11に送り込ま
れる。
ールが除去されたシリコンオイル8を貯留することがで
きる。なお、蒸発によってシリコンオイルの量が減少し
た場合は、液面センサ6が検知し、コントローラ16に
よって液補給タンク17の補給バルブ18が開き純度9
9.8%のシリコンオイルが補給される。また、乾燥槽
への親水性溶剤の持ち込みが増えて全体の液量が増えて
くると液面センサ6が検知しコントローラ16によって
ドレンバルブ19が開き、水が排水されて適正な液量と
なる。
し、実施例1と同一の要素は同一の符号で対応させてあ
る。図3において、分離槽12の第1槽12a内に分離
板15が複数設けられるが、複数の分離板15は同一方
向に傾斜している。この分離板15は図4に示すよう
に、多数の孔15aが開口された多孔板が使用されてい
る。
を経たガラスレンズを乾燥槽11に入れ、この乾燥槽1
1からオーバーフローしたシリコンオイルの純度を測定
したところ、99.0%であった。アルコールが混入し
たシリコンオイルはパイプを通って液入口2から分離槽
12の第1槽12aに入る。このシリコンオイルは第1
槽12a内に充填されている純水7の中で比重差により
分離し浮上する。浮上するシリコンオイルは、分離板1
5に当たって穴を通過して行く課程でシリコンオイル中
のアルコールが純水に吸収される。第1槽12a上部の
シリコンオイルを測定すると、純度は99.2%であっ
た。これを繰り返していくと、シリコンオイル中のアル
コールが除去されて、第2槽では99.4%、第3槽で
は約99.8%となって高い純度のシリコンオイル8が
浮上する。すなわち、浮上してきたシリコンオイル8が
溜まると第1槽12aを越えてオーバーフローし、第2
槽12bに流れ込む。第2槽12bに流れ込んだシリコ
ンオイル8は分画板21で分離され、槽右側(図3参
照)に溜まっていく内にさらに水分が比重差で分離され
て水分が底に溜まる。ここで分離浮上したシリコンオイ
ルは約99.4%の純度であり、このシリコンオイル8
が溜まってくると仕切り板4を越えて第3槽12cに流
れ込む。こうして、第3槽には分画板22で分離されて
さらに純度の高くなったシリコンオイル8が溜まる。こ
のときの純度は、約99.8%である。このシリコンオ
イル8は液出口からポンプに吸い上げられて再び乾燥槽
11に送りこまれる。従って乾燥槽11には常に純度の
高いシリコンオイル8を貯めておくことができる。
St(25℃)のシリコンオイルで説明したが粘度2.
2CSt(25℃)の単一成分(商品名FRW−1;東
芝(株))でも同様の効果を奏することができる。ま
た、親水性溶液として、IPAを用いたが、エタノー
ル、メタノール、ブタノール等の低級アルコールであっ
てもよい。さら、水は水の単体に代えて、水を分散媒と
する混合溶液例えば水に少量の界面活性剤および/また
は親水性溶剤を加えたものを使用してもよい。
合した親水性溶液を効果的に除去でき、常に混入量を複
数槽によって0.5%以下に保つことができる。このた
め仕上液の劣化が少なくなり洗浄物にシミが残る等の不
良が減少する。
Claims (2)
- 【請求項1】 洗浄の仕上液を水と接触させて仕上液に
混入した親水性溶液を水に吸収させ分離する分離槽と、
仕上液が沿いながら上昇するように前記分離槽内に傾斜
して設けられた分離板と、分離槽からの仕上液から水を
比重差で分離する槽とを備えていることを特徴とする仕
上液と親水性溶液の分離装置。 - 【請求項2】 前記分離板は多孔板であることを特徴と
する請求項1記載の仕上液と親水性溶液の分離装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32245192A JP3304143B2 (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 仕上液と親水性溶液の分離装置および分離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32245192A JP3304143B2 (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 仕上液と親水性溶液の分離装置および分離方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06142403A true JPH06142403A (ja) | 1994-05-24 |
JP3304143B2 JP3304143B2 (ja) | 2002-07-22 |
Family
ID=18143813
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32245192A Expired - Fee Related JP3304143B2 (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 仕上液と親水性溶液の分離装置および分離方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3304143B2 (ja) |
-
1992
- 1992-11-06 JP JP32245192A patent/JP3304143B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3304143B2 (ja) | 2002-07-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100471543C (zh) | 脱水方法以及脱水装置 | |
US5282923A (en) | Liquid agitation and purification system | |
TW200946254A (en) | Cleaning method and cleaning system for electronic part | |
TW200946253A (en) | Method for cleaning electronic parts and cleaning system | |
JPH06103686B2 (ja) | 表面乾燥処理方法および装置 | |
JPH06142403A (ja) | 仕上液と親水性溶液の分離装置 | |
JP2541525B2 (ja) | 半導体基板処理装置 | |
WO2004091749A1 (ja) | 洗浄に用いる非水系溶剤の再生方法および装置 | |
JP2000354704A (ja) | 汚染洗浄液の処理方法及び装置 | |
JPH06142404A (ja) | 乾燥液の再生方法と再生装置 | |
JPS62156659A (ja) | 洗浄方法及び装置 | |
JPH06124934A (ja) | ウエット洗浄装置 | |
JPH10290901A (ja) | 水切り乾燥装置 | |
US3949601A (en) | Open-loop water-washable inspection penetrant process | |
JP3272400B2 (ja) | 乾燥液の再生装置 | |
US5799676A (en) | Nonaqueous solvent regenerating apparatus for use in cleaning | |
JPS5834182A (ja) | 脱脂液の再生使用装置 | |
JPH10202209A (ja) | 洗浄装置 | |
JPH08155208A (ja) | 油膜除去装置 | |
JP5494263B2 (ja) | 水切り乾燥方法および水切り乾燥システム | |
JPH06154714A (ja) | 洗浄装置 | |
KR20040022091A (ko) | 증기 건조 방식의 반도체 웨이퍼 건조 장치 | |
JP2003159501A (ja) | 分離再生装置 | |
JPH08283971A (ja) | 水系洗浄装置 | |
JPS6227003A (ja) | 水切り洗浄方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20020416 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080510 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090510 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100510 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100510 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110510 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |