JPS6227003A - 水切り洗浄方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ５　上の手１ 本発明は被洗浄物の表面に付着した水を水切り除去し、
該洗浄物を乾燥する水切り洗浄方法及び該方法に用いる
洗浄装置に関し、更に詳述すると水切りと同時に水と共
存する有機物の汚染物をも除去することのできる塩化メ
チレン−メタノール系洗浄剤による洗浄効果に優れた水
切り洗浄方法及びその′！Ａ置に関する。

従来技術及び　　が　ンしようとする　　−シリコンウ
エハー、アルミディスク、セラミックなどの電子工業部
品やレンズ、プリズム、石英ガラスなどの光学工業部品
、更にはベアリング。

カメラなどの精密工業部品等は種々表面処理がなされた
後に水洗されるが、これら水洗πれた部品の表面には水
が付着しているため、その水を速やかに水切りし、乾燥
させる必要がある。この場合従来より行なわれている水
切り乾燥方法としての温風乾燥法は、部品表面にシミや
酸化被膜が発生したり、熱による変調が生じたり、また
加熱エネルギーが大きい等の問題があり、電子工業部品
、光学工業部品、精密工業部品等の精密洗浄には適して
いない。

このため、これら部品の水切り乾燥洗浄法としては下記
のような３つの方法が採用されている。

即ち、その第１の方法は洗浄剤としてインプロパツール
（ＩＰＡ）、エタノール、アセトンなどの親水性溶剤を
用い、この溶剤中に水洗後の部品を浸漬し、部品の付着
水を溶剤に溶解させて水切り乾燥させる方法である。し
かし、この方法では溶剤自体が可燃性であり、また被洗
浄物に付着している水などの汚染物質が溶剤中に溶解混
入するため、被洗浄物の汚染の程度にもよるが、洗浄剤
としての溶剤の寿命が比較的短かく、頻繁に洗浄溶剤を
交換しなければならないという問題点を有している。ま
た、第２の方法（よ洗浄剤としてトリクロルトリフルオ
ルエタンや塩化メチレンなどの疎水性溶剤に特殊界面活
性剤を加えた洗浄剤を用い、水洗後の被洗浄物の表面に
付着している水を脱離、分離させる方法である。この方
法はトリクロルトリフルオルエタンや塩化メチレン中に
少Ｍ加えられた特殊界面活性剤の働きにより、被洗浄物
の表面から水が脱離、分離でるものであるが、被洗浄物
を洗浄剤より引き上げた後ｔこ、洗浄剤中に溶解してい
る界面活性剤がその表面に残り、再汚染するという問題
点を有している。更に第３の方法は洗浄剤としてトリク
ロルトリフルオルエタンにエタノール、メタノール及び
ＩＰＡなどの親水性溶剤の１種又は２種以上を混合した
ものを用い、水洗後の被洗浄物の表面に付着している水
を水切り乾燥洗浄する方法である。この方法は疎水性溶
剤のトリクロルトリフルオルエタンに親水性の溶剤のメ
タノール等を４〜１０重最％加えて調製した洗浄剤を用
いるものであり、この洗浄剤中に水が付着している被洗
浄物を浸漬づ′ると、付着水は洗浄剤中の親木性溶剤に
溶解移行し、同時に溶解した水は洗浄剤との液比重着に
より洗浄剤の液面上に浮上し、水層を形成して分ＩＩｉ
！ｌ′Ｔする。この洗浄剤液面上に浮上した水層（水と
親水性溶剤に少量のトリクロルトリフルオルエタンが溶
解）は分離して蒸留装置に導入し、親水性溶剤を回収す
る。この方法は電子工業部品、光学工業品部品、精密工
業部品等の水切り乾燥洗浄には適した方法と考えられる
が、単蒸留装置を用いて分離した水層より水を除き、連
続的に親水性溶剤を回収しようとしても、回収溶剤中に
水が１０〜３０重最％含有され、このためこの回収親水
性溶剤を再使用のために水切り槽の洗浄剤中に戻すと、
親水性溶剤中に溶解している水が洗浄剤液面に水切をな
して再分離する。この上層に水層を有する洗浄剤中に水
が付着した被洗浄物を浸漬して水切りを行なっても、被
洗浄物を引上げる際に、被洗浄物の表面には水切からの
水が再付着してしまう。従って、単蒸留ではこのように
同伴する水が多くなるため洗浄剤としてトリクロルトリ
フルオルエタンと親水性溶剤との混合溶剤を使用して被
洗浄物の付着水の水切り洗浄する場合には、親水性溶剤
の回収装置としては精密蒸留装置が必要となり、回収の
ためのコストの」１昇をもたらずこととなる。しかも、
精密蒸留装置を設置しても被洗浄物が持ち込む水分量は
変動ザることが多く、蒸留装置の溶剤回収能力とのバラ
ンスをとることが困難であり、洗浄剤の液管理に種々難
点を有し、洗浄剤の回収と洗浄とを円滑に行なうには多
くの問題を有している。

本発明は上記問題点を解決したもので、電子工業部品、
光学工業部品、精密工業部品等に付着した水の水切り洗
浄を精密よくしかも洗浄剤の液寿命を長期間保持させな
がら使用できる上、水切り洗浄のみでなく、水と共存し
ている油などの有機？！Ｉ質の汚染物質も同時に除去す
ることができ、しかも洗浄剤の液管理が比較的簡単であ
り、洗浄液の回収再使用が容易な水切り洗浄方法及びそ
の装置を提供することを目的とする。

問題点を解決するための手　　び 即ち、本発明者らは被洗浄物に付着した水を確実に水切
り洗浄乾燥すると共に、洗浄剤を簡単に回収、再使用す
る洗浄方法及びその装置について鋭意検討を行なった結
果、洗浄剤として塩化メチレンにメタノールを添加した
混合溶剤、特に塩化メチレン７５〜９５重量％とメタノ
ール２５〜５ｆｌ　Ｍ１％との混合溶剤が被洗浄物の付
着水の水切り洗浄に優れた効果を有し、この混合溶剤を
用いて被洗浄物の水切り洗浄を行なった場合、被洗浄物
の付着水が洗浄剤中に溶けて除去されること、また洗浄
剤上層に水−メタノールー塩化メチレンから成る水層が
形成され、この上ｍ＜水Ｈ）を怖浄剤より分離して水と
溶剤との分離を行なった場合、この上層（水層）中に含
まれている塩化メチレン及びメタノールが簡単にしかも
効率よく回収され、これを有効に再使用し得ることを知
見し、本発明をなすに至ったものである。

従って、本発明は水の付着している物品を塩化メチレン
とメタノールとからなる混合溶剤中に浸漬し、前記物品
に付着している水をこの混合溶剤中に移行させて水切り
を行なった侵、塩化メチレンとメタノールとからなる混
合溶剤の蒸気で前記物品を処理し、乾燥することを特徴
とする水切り洗浄方法を提供するものである。

本発明によれば、このように洗浄剤として塩化メチレン
とメタノールとからなる混合溶剤を用いたことにより、
水が付着した物品（被洗浄物）より水が確実に水切り除
去され、水の再付着を防止して乾燥される。この場合、
水の再付着をより確実に防止する点からは、水切り操作
を少なくとも２回行なうことが好ましく、水の付着して
いる物品を塩化メチレンとメタノールとからなる第１の
混合溶剤に浸漬して水切りを行なった後、更に塩化メチ
レンとメタノールとからなる第２の混合溶剤に浸漬して
水切りを行ない、次いで塩化メチレンとメタノールとか
らなる混合溶剤の蒸気で物品を処理するようにすること
が好適である。

本発明においては洗浄剤として塩化メチレン−メタノー
ル系の混合溶剤を使用するしのであるが、他の溶剤系の
洗浄剤として塩化メチレンにメタノール以外の他の親水
性溶剤、例えばＩ　ＰＡ、エタノール、アビトン等を添
加した混合液、或いは塩化メチレンの代りにトリクロル
トリフルオルエタン、１，１．１−トリクロルエタンを
用い、それらに親水性溶剤のメタノール、ＩＰＡ、エタ
ノール、アセトン等を添加した混合液もある程度の水切
り能力を有している。しかしながら、水の付着した被洗
浄物を水切り洗浄した際に、これらの洗浄剤は水層と洗
浄剤層の二層に分ｌｌ１ｌｌするものであるが、この分
離した水層を蒸留装置に導びさ、水を除去して親水性溶
剤を連続的に回収して再使用する場合、回収親水性溶剤
には水が同伴してくる。ものである。この場合、この水
の邑が少ないことが水切り洗浄剤として好ましいもので
あるが、通常親水性溶剤中に水が溶解している液から単
蒸留等によって親水性溶剤だけを純度よく回収すること
は困難で、ある程度の閣の水が含まれることは避けられ
ない。従って、このようにある程度の闇の水を含有する
回収親水性溶剤を水切り槽に戻しても、これにより洗浄
剤が再度液の分離を起さない相溶性のある洗浄剤が水切
り洗浄剤としての良否を決める条件となるものであり、
本発明者らは水切り洗浄を連続的に行なう上で洗浄剤の
主剤と添加剤である親水性溶剤との相溶性が重要である
ことを知見したものであるが、後述する実験例に示すよ
うに主剤として塩化メヂレン、トリクロルトリフルオル
エタン、トリクロルエチレン、１，１．１−トリクロル
エタンなどを用い、また親水性溶剤としてメタノール、
１．Ｐ、Ａ、エタノール、アセトンなどを用い、水との
間の三成分系の飽和溶解点を調べた結果より、塩化メチ
レンにメタノールを添加した洗浄剤が水との相溶性が最
も高く、水切り処理を連続的に行なうための水切り洗浄
剤として最も好適であり、他のものは水の溶解度が低く
、本発明の目的を達成する洗浄剤とはなり得ないしので
ある。

本発明に使用する塩化メチレン−メタノール系の洗浄剤
において、塩化メチレンに対するメタノールの添加ｈ′
１は５〜２５％（重量％、以下同じ）が望ましく、より
好ましくは１０〜２０％である。

この範囲において後述する実験例に示したように分離速
度（水切り速度）が早く、良好な水切り処理が行なわれ
ると共に、洗浄剤が可燃性とならず、操作性の点で好ま
しいものである。これに対し、洗浄剤中のメタノールの
濃度が５％より少ないと付着水がメタノールと溶は合う
速度が遅く、２５％より多いと可燃性が増加し、好まし
くない場合が生じる。

本発明の水切り洗浄方法によれば、塩化メチレンにメタ
ノールを加えて成る洗浄剤中に水の付着している被洗浄
物を浸漬すると、洗浄剤のメタノールと付着水が溶は合
うと共に、液比ｍ差により水−メタノールー塩化メヂレ
ンからなる水層が洗浄剤の液面に浮上し、洗浄剤の上層
を形成する。

この場合、付着水の一部は同時に洗浄剤の中に溶解する
。従って、洗浄剤の交換も補給ちすることなく連続して
水切り洗浄を続けると、本発明に用いる洗う剤は他の洗
浄ｌＶＩに比べて水の溶ｗＩ吊は多いものであるが、そ
れでもやがて洗浄剤中に溶解する水の市は飽和となり、
洗浄剤は白濁する。この時点で洗浄剤の水切り洗浄能力
は失なわれるので、実用上は洗浄剤が水切り能力の限界
点に到ｊヱしないように管理し、水の洗浄剤中への蓄積
が起らないようにすることが好ましい。即ち、実際の装
置では、水切り洗浄と同時に洗浄剤の蒸留回収も並９＋
１　して行なうことが好ましく、被洗浄物に付着した水
等の汚染物は水切り槽内において水切り洗浄することで
洗浄剤の上層として水層を形成して浮上し、洗浄剤から
分離するが、この上層を液分離槽に導入して主としてメ
タノールと水とから成る層（水層液）と、主として塩化
メヂレンから成るｍ＜溶剤層ｌとに分離し、主としてメ
タノールと水とから成る層（水層液）は回収器に導びき
、ここでメタノールと水とに分離し、この分離したメタ
ノール及び前記の主として塩化メチレンからなる層（溶
剤層１を循環再使用することにより、洗浄剤は水切り能
力を失わずに連続的に長期間使用することが可能となる
。

従って、本発明の好適な実施態様によれば、水の付着し
ている物品を水切り洗浄した混合溶剤の上層を取り出し
、この上層を水層液と溶剤Ｆ！液とに分離すると共に、
１１０記水層液を更に水と溶剤とに分離し、この溶剤を
物品を水切りする混合溶剤に及び前記溶剤層液を物品を
蒸気洗浄する蒸気を形成する混合溶剤に戻す溶剤回収循
環操作を行ないながら、物品の水切り及び蒸気洗浄を行
なうようにした方法が提供され６つ またこの場合、物品を洗浄する蒸気を凝縮すると一１ｔ
に、この瀧縮液を水と溶剤とに分離し、かつこの溶剤を
物品を水切りする混合溶剤に戻す操作を行ないながら、
物品の水切り及び蒸気洗浄を行なうようにすることも好
ましい。

そして本発明によれば、このような洗浄剤の回収循環を
行ないながら水切り、乾燥を行なう装置として、塩化メ
チレンとメタノールとからなる混合溶剤を収容し、この
混合溶剤中に水の付着した物品を浸漬して水切りを行な
う水切り槽と、塩化メブレンとメタノールとからなる混
合溶剤の蒸気を発生させ、この蒸気で前記水切りした物
品の処理を行なう蒸気槽と、前記水切り槽中の混合溶剤
の上層が送られ、この上層を水層液と溶剤層液とに分ｍ
する液分１１１１と、この液分離器中の水層液が送られ
、この水層液を水と溶剤とに分離する回収器と、この回
収器で分離された溶剤を前記水切り槽に戻す手段及び前
記液分離器で分離された溶剤層液を前記蒸気槽に戻す手
段とをそれぞれ具備１ノたことを特徴とする水切り洗ｌ
？＋装置が提供される。

ここで、この装置には蒸気槽で発生した蒸気を凝縮する
凝縮器と、この凝縮器にて凝縮された凝縮液を水と溶剤
とに分離する水分離器と、この水分＃ｌ器で分離された
溶剤を水切り槽に戻す手段とを付設することが好ましく
、また水切り槽として水の付着した物品が最初に水切り
処理される第１水切り槽とこの第１水切り槽で水切り処
理された物品が再度水切り処理される第２水切り槽との
２基を設け、第２水切り槽中の混合溶剤の上層を第１水
切り槽内に流入させると共に、第１水切り槽中の混合溶
剤の上層を液分離器内に流入させ、かつ回収器で回収し
た溶剤第２水切り槽内に戻でように循環回収操作を行な
うようにすることが好適である。

本発明の装置によれば、水の付着した被洗浄物を良好に
水切り、乾燥し得ると共に、洗浄剤を効率よく回収、再
利用し得るものである。

以下、本発明の一実施例につき第１図を参照して説明す
る。

え１１ 第１図は水弁明装Ｕの一実施例を示すもので、図中１は
第１水切り槽、２は第２水切り檜、３は蒸気槽であり、
第１水切り槽１．第２水切り槽２内にはそれぞれ塩化メ
チレンとメタノールとからなる混合溶剤４が満たされて
いると共に、前記第１水切り槽１と第２水切り槽２との
間はオーバーフロー管５によって連結され、眞記第２水
切り槽２内の混合溶剤４の上層がこのオーバーフロー管
５を通って第１水切り槽１内に溢流するようになってい
る。また、前記蒸気槽３内の下部にも混合溶剤４が入れ
られていると共に、この混合溶剤４中に加熱管６が配設
され、これにより混合溶剤４が加熱されて、混合溶剤４
の蒸気４′が発生せしめられると共に、この蒸気４′は
蒸気槽３内よりその上方に流れ、更に第２水切り１２及
び第１水切り１ｆ１１の上方に移行し、従ってこれによ
り第２水切り槽２及び第１水切り槽１の混合溶剤４の上
方はこの蒸気４′により充満されている。なお、蒸気４
′は第１水切り槽１．第２水切りＷ４２．蒸気槽３を取
り囲むように配設された隔壁７に妨げられてその外側に
は流出しないようになっている。

８は第１水切り槽１とオーバーフロー管９を介して連結
された液分離器で、第１水切り槽１内の混合溶剤４の上
層がこのオーバーフロー管９を通って液分離器８内に溢
流されると共に、この溢流した混合溶剤４の上層がこの
液分１１Ｌｓ８において比小差により水層液１０と溶剤
層液１１とに分離されるようになっている。

更に、１２は回収器で、この回収器１２は、水層送出管
１３を介して液分１ｉｆｔ器８と）や結され、液分離器
８で分離された水層液１０が水層液送出管１３内を通っ
て送られ、この水層液１０で満された第１槽１４と、こ
の第１槽１４内の水層液１０がオーバーフローして流入
される第２槽１５と、これら両槽１４．１５の上方にこ
れらを取り囲んで一体に配設された密封壁１６とから構
成されている。そして、前記第１４１１４．第２槽１５
内の水層液１０中にはそれぞれ加熱管１７．１８が配設
され、これにより水層液１０中の溶剤（主としてメタノ
ール）が蒸発せしめられ、この溶剤蒸気１０　ａ　７＋
（密封壁１６内に充満されるようになっている。また、
この密封壁１６の内周部に近接した上部には冷却管１９
が配設されていると共に、この冷却管１９の下側には凝
縮溶剤回収１２０が配設され、これにより前記溶剤蒸気
１０ａが冷却管１つにより凝縮せしめられると共に、こ
の凝縮溶剤が凝縮溶剤回収樋２０より溶剤循環バイブ２
１を通って第２水切り槽２内に戻されるようになってい
る。なお、前記回収器１２の第２槽１５には排出管２２
が連結され、第２槽１５内の水の多い水Ｆｆ７Ｊ液１０
が系外に排出されるようになっている。

更に、前記液分離器８は液循環バイブ２３を介して蒸気
槽３と連結され、液分離器８で分離された溶剤層液１１
が溶剤層液循環パイプ２３を通って蒸気［３内の混合溶
剤４に戻されるようになっている。

前記蒸気槽３には、更にその下部に混合溶剤送出管２４
の一端が連結されていると共に、この混合溶剤送出管２
４の他端は前記回収器１２の第１ＭＪ１４に連通し、こ
れより蒸気槽３内の混合溶剤４の上層がこの混合溶剤送
出管２４内を通って第１ＷＪ１４内に送出されるように
なっている。

また、前記隔壁７の内周面に近接した上部には、冷却管
２５が配設されていると共に、この冷却管２５の下側に
は凝縮液回収１ｉ１２６が設けられ、これにＪ：り第１
水切り槽１．第２水切り槽２．蒸気槽３の上方を充満す
る蒸気４′が冷ｔＪＩ管２５により凝縮ゼしめられ、こ
の凝縮液が凝縮液回収樋２６を通り、水分離器２７内に
流入し、この水分離器２７で溶剤と水とに分離され、分
離された溶剤は溶剤循環パイプ２８により第２水切り槽
２内に戻され、かつ分離された水は混合溶剤退出管２４
と連結された排出管２９を通り、混合溶剤送出管２４よ
り前記回収器筒１槽１４内に送出されるようになってい
る。なお、この排出管２９には分岐管３０が連結され、
前記水は必要により排出管２つから分岐管３０を通って
系外に排出される。

この装置を用いて水切り、乾燥処理を行なう場合は、ま
ず第１水切り槽１の混合溶剤４中に水で汚染された被洗
浄物を浸漬し、この被洗浄物に付着している水を混合溶
剤４中に移行させて水切りを行なった後、８合溶剤４か
ら引上げ、更に第２水切り槽２の混合溶剤４中に被洗浄
物を浸漬して再度水切り処理を行ない、最後に被洗浄物
を蒸気槽３内の蒸気４′中に移して蒸気洗浄した侵、被
洗浄物を槽外に持ち出し、乾燥するもので、これによっ
て清浄な製品が得られる。

ここで、水切り処理は混合溶剤４中に浸漬するだけで水
切り効果は十分であるが、必要に応じ、混合溶剤４に超
音波照ＤＩをしたり又は被洗浄物を１ｆｆｉ動さゼるこ
とで水切り効果を加速することができる。また、上記実
施例によれば、被洗浄物を第１水切り槽１の混合溶剤４
に浸漬した１支、第２水切り槽２の混合溶剤４に浸漬し
て２回の水切り処理を行なうようにしたので、確実な水
切り処理が行なわれる。即ち、被洗浄物は第１水切り槽
１内の混合溶剤４に？２泊することにより通常はぼ完全
に水切り洗浄が行なわれるが、この第１水切り槽１内の
混合溶剤４中に水等の汚染物が少量溶解しているため、
第１水切りＭ！１より被洗浄物を引き上げた際、被洗浄
物の表面に微量の水等の汚染物が付着することがある。

そのため、更に第２水切り槽２を設け、その混合溶剤中
に浸漬することで被洗浄物の表面に付着している微量な
水等の汚染物を除去することができるものである。なお
、必要により水切り槽をそれ以上設け、水切り処理をそ
れ以上繰り返すことができる。

このようにして被洗浄物の水切り、乾燥処理が行なわれ
る場合、まず第１水切り４ｆｆ１内の混合溶剤４中に水
で汚染された被洗浄物を浸漬すると、混合溶剤４（洗浄
剤）の液面上で前述した分離現象が起き、混合溶剤４の
上層として水層が分離形成されるが、上記装置を連続稼
働させることにより、この上層即ち水層（水−メタノー
ルに少量の塩化メチレンの溶解した液）はオーバーフロ
ー管９内を溢流して液分離器８内に導かれる。この液分
離器８で前記上層は水層液１０と溶剤層液１１とに比重
差により分離され、水層液１Ｑは回収器１２に導かれる
。ここで水層液１０は加熱されることにより溶剤（主と
してメタノール）が蒸発され、この蒸発溶剤は冷ＩＪ管
１つにより凝縮され、この凝縮溶剤は回収樋２０より溶
剤′＠環バイブ２１を通って第２水切り槽２内に循環さ
れる。なお、加熱により溶剤が蒸発され、水等の汚染物
が濃縮した水層液は適時回収器１２の第２（曹１５Ｊ：
り排出管２２を経て系外に排出される。一方、液分離器
８で分離された溶剤層液１１は溶剤層液循環バイブ２３
を杼て蒸気槽３内に導入されると共に、蒸気槽３内の混
合溶剤４は混合溶剤送出管２４を通って前記回１５！器
１２内に導入され、ここで上記のような溶剤の蒸気回収
と水の排出が行なわれ、従って蒸気槽３内の混合溶剤４
上層が水リッヂとなることが防止される。また、混合溶
剤４の蒸気４′は冷ｕｌ管２５により凝縮され、その凝
縮液（主として塩化メチレン）が凝縮液回収樋２６を経
て水分１’ｌｌｔ器２７内に尋人され、ここで水と溶剤
とに分離され、溶剤は溶剤循環パイプ２８を通って第２
水切り槽２内に導入される。従って、以上のような溶剤
の循環により、第２水切り槽２から第１水切り［１への
混合溶剤４１層のｌｉ！Ａ流及び第１水切り槽１から液
分離器８への混合溶剤４上層の溢流がスムーズに進行し
、第１水切り槽１内の混合溶剤４のＬ層（水層）を確実
に液分離器８内に流入させ、溶剤の回収と循環、水の分
離、排出が良好に行なわれる。

また、液分離器８で分離された溶剤層液１１が混入され
た蒸気槽３内の混合溶剤４を蒸発させた場合、溶剤層液
１１中にはあるｆ！ｉ！度の水が含まれているので、こ
の蒸気４′は塩化メチレン−メタノール−水よりなる共
沸組成であり、蒸気槽３に導入された水は洗浄剤蒸気の
共沸組成（塩化メチレン９５．３％、メタ／−ル４．Ｏ
％、水０．７％）の範囲で蒸気中に移行する。この蒸気
は冷却管２５で冷却され、凝縮液となるが、この凝縮液
中の水は水分Ｍ器２７で分離され、排出管２９より混合
溶剤送出管２４を通るが、又は排出管２９より分岐管３
０を経て系外に排出され、一方水分＃ｌ器２７で分離さ
れた溶剤は第２水切り槽２内へ導入されるので、上記循
環系統において水が確実に除去排出され、循環する混合
溶剤を長期間廃棄することなく使用することができる。

以上、第１図の実施例に基ずき、水切り洗浄装置及びこ
の装置を用いた水リリ洗浄方法を説明したが、この装置
を用いて水切り洗浄を連続的に行ない、かつ水切り限界
点（洗浄剤の水の飽和溶解点）に到達させないようにす
るためには、洗浄剤の液管Ｉｆｆ！が必要であり、その
ためには、回収器１２と蒸気槽３を連続的に稼動させる
と共に、両水切り槽１，２及び蒸気槽３の各槽と回収器
１２の液面レベルを一定に保持しながら洗浄剤を液循環
系路内を通してスムーズにＩＩｉ！ｉ環させることが必
要である。

、即ち、被洗浄物に付着した水等の汚染物は第１水切り
槽１中に収容された洗浄剤４に浸漬することで水切りさ
れて水位が分離する。分離した水位の酪は付着していた
水分間と洗浄剤中のメタノール１１度によってほぼ一定
量に定まる。従って、回収器１２で蒸留回収する洗浄剤
の回収５１を分離した水ＦＶ４液吊とほぼ同じ程度に回
収器ることで水切り洗浄を連続的に行なうことができる
。

また、系内へ持ち込まれた水等の汚染物を回収器１２の
加熱管１８で濃縮捕集するように運転することで洗浄剤
の寿命を長期間に亘って安定に保つことができる。なお
、水等の汚染物が濃縮してくると、洗浄剤の沸１！！ｍ
度が上界するので、回収器１２の第２槽１５の液温度が
８５℃以上になった場合、排出管２２より系外へ溌縮物
を排出する。

この排出液中にはメタノールが約１０〜２０％稈度含ま
れており、メタノールが損失となるので、新規の洗浄剤
を補給して各槽、回収器の液面レベルを一定に保持し、
装置を稼動するようにすれば、水切り洗浄を連続的に精
度よく行なうことができる。

なお、本発明の洗浄方法及び装置によれば、被洗浄物に
付着している汚染物が水又は水と共存する水溶性油や水
溶性洗剤等の有機物であっても、水切り洗浄乾燥を良好
に行なうことができるものである。

次に、本発明方法の効果を説明するため実験例を示す。

〔実験例１〕 第１表に示す各種の洗浄剤組成物を調製し、主剤−親水
性溶剤一水の三成分系での飽和溶解点を調べた。

第１表の結果Ｊ：す、塩化メチレンにメタノールを溶解
した洗浄剤が水に対する相溶性が高く、連続的に行なう
水切り洗浄剤として最適であることが知見される。

（実験例２） メタノールの濃度が５．１０，１５．２０申吊％になる
ようにメタノールを塩化メチレン中に溶解させた。この
溶液をそれぞれ３００　ｘｉのガラス製の透明ビーカー
に満たした。次に、７．６ＣＴｌｌＸ２．６１のガラス
板に水を付着させて、前記のビーカー中に浸漬してガラ
ス板の表面より付着水のｍ脱する時間を測定し、第２図
の如き結果を得た。

第２図の結果より、メタノールの濃度が５重量％より少
ないと付着水が溶けてガラス表面より離脱する時間が長
くかかり、実用性に乏しいが、５重（至）％以上にする
と付着水が急速に塩化メチレン液中に溶け、ｌ１ｌｌｔ
脱時間は短縮する。

几」し１力」ξ 以上説明したように、本発明に係る水切り洗浄方法及び
装置によれば、被洗浄物を水切り洗浄するに際し、洗浄
剤として塩化メチレン−メタノール系の溶剤を用いて洗
浄するようにしたので、水切り洗浄が精度よ〈実施でき
、しかも液寿命を長期間安定に保持できると共に、水の
みならず水と共存している油等の有礪物の汚染物質も同
時に除去できるものである。また、この方法は液管理が
簡Ｉｌｌであり、容易にしか−ｂ確実に水切り洗浄乾燥
を行ない得るので、Ｎ密工衆部品等を良好に処理でるこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の水切り洗浄装置の一実施例を示す概略
図、第２図は塩化メチレン中のメタノール潤度とガラス
板付着水の離脱時間との関係を示すグラフである。 １・・・第１水切り槽、２・・・第２水切り槽、３・・
・蒸気槽、４・・・混合溶剤、 ４′・・・混合溶剤蒸気、 ５．９・・・オーバーフロー管、

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、水の付着している物品を塩化メチレンとメタノール
   とからなる混合溶剤中に浸漬し、前記物品に付着してい
   る水をこの混合溶剤中に移行させて水切りを行なつた後
   、塩化メチレンとメタノールとからなる混合溶剤の蒸気
   で前記物品を処理し、乾燥することを特徴とする水切り
   洗浄方法。 ２、水の付着している物品を塩化メチレンとメタノール
   とからなる第１の混合溶剤に浸漬して水切りを行なった
   後、更に塩化メチレンとメタノールとからなる第２の混
   合溶剤に浸漬して水切りを行ない、次いで塩化メチレン
   とメタノールとからなる混合溶剤の蒸気で物品を処理す
   るようにした特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３、混合溶剤として塩化メチレンが７５〜９５重量％、
   メタノールが５〜２５重量％とからなるものを用いた特
   許請求の範囲第１項又は第２項記載の方法。 ４、水の付着している物品を水切り洗浄した混合溶剤の
   上層を取り出し、この上層を水層液と溶剤層液とに分離
   すると共に、前記水層液を更に水と溶剤とに分離し、こ
   の溶剤を物品を水切りする混合溶剤に及び前記溶剤層液
   を物品を蒸気洗浄する蒸気を形成する混合溶剤に戻す溶
   剤回収循環操作を行ないながら、物品の水切り及び蒸気
   洗浄を行なうようにした特許請求の範囲第１項、第２項
   又は第３項記載の方法。 ５、塩化メチレンとメタノールとからなる混合溶剤を収
   容し、この混合溶剤中に水の付着した物品を浸漬して水
   切りを行なう水切り槽と、塩化メチレンとメタノールと
   からなる混合溶剤の蒸気を発生させ、この蒸気で前記水
   切りした物品の処理を行なう蒸気槽と、前記水切り槽中
   の混合溶剤の上層を水層液と溶剤層液とに分離する液分
   離器と、この液分離器中の水層液を水と溶剤とに分離す
   る回収器とを具備し、この回収器で分離された溶剤を前
   記水切り槽に戻すと共に、前記液分離器で分離された溶
   剤層液を前記蒸気槽に戻すよう構成したことを特徴とす
   る水切り洗浄装置。 ６、蒸気槽で発生した蒸気を凝縮する凝縮器と、この凝
   縮器にて凝縮された凝縮液を水と溶剤とに分離する水分
   離器とを付設し、この水分離器で分離された溶剤を水切
   り槽に戻すようにした特許請求の範囲第５項記載の装置
   。 ７、水切り槽として水の付着した物品が最初に水切り処
   理される第１水切り槽とこの第１水切り槽で水切り処理
   された物品が再度水切り処理される第２水切り槽との２
   基を設け、第２水切り槽中の混合溶剤の上層を第１水切
   り槽内に流入させると共に、第１水切り槽中の混合溶剤
   の上層を液分離器内に流入させ、かつ回収器で分離され
   た溶剤を第２水切り槽に戻すようにした特許請求の範囲
   第５項又は第６項記載の装置。