JPH06139615A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPH06139615A JPH06139615A JP4290286A JP29028692A JPH06139615A JP H06139615 A JPH06139615 A JP H06139615A JP 4290286 A JP4290286 A JP 4290286A JP 29028692 A JP29028692 A JP 29028692A JP H06139615 A JPH06139615 A JP H06139615A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 記録・消去の繰り返し回数を多くすることが
できる書換え型光記録媒体を提供する。 【構成】 基板上に直接又は間接的に設けられた保護層
と反射層との間及び／又は保護層と記録層との間に接着
層を設けたことを特徴とする光記録媒体。
できる書換え型光記録媒体を提供する。 【構成】 基板上に直接又は間接的に設けられた保護層
と反射層との間及び／又は保護層と記録層との間に接着
層を設けたことを特徴とする光記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体に係り、詳し
くは光学的に情報の記録、再生及び消去を行うことの出
来る、いわゆる書換え型光情報記録媒体に関する。
くは光学的に情報の記録、再生及び消去を行うことの出
来る、いわゆる書換え型光情報記録媒体に関する。
【０００２】
【背景技術】光照射、主にレーザー光の照射によって生
じた物質の非晶質状態と結晶質状態の間の可逆的な構造
変化（相変化）を積極的に情報の記録に利用した相変化
型光記録媒体は情報の高速処理能力に加えて記録容量が
大きく、将来の情報蓄積装置として期待されている。
じた物質の非晶質状態と結晶質状態の間の可逆的な構造
変化（相変化）を積極的に情報の記録に利用した相変化
型光記録媒体は情報の高速処理能力に加えて記録容量が
大きく、将来の情報蓄積装置として期待されている。
【０００３】この光記録媒体には情報処理の高速化が一
段と厳しくなる中で、高速記録した情報をより高速で消
去する性能が求められている。ここでは、一旦記録した
情報を消去し、さらにその上に別の情報を記録する、い
わゆる記録・消去の繰り返しの安定動作が必要不可欠と
なる。
段と厳しくなる中で、高速記録した情報をより高速で消
去する性能が求められている。ここでは、一旦記録した
情報を消去し、さらにその上に別の情報を記録する、い
わゆる記録・消去の繰り返しの安定動作が必要不可欠と
なる。
【０００４】この記録・消去の繰り返し回数は多いこと
が好ましい。記録・消去の繰り返し特性には記録層材料
や保護層材料等の各種の物性が影響を与えることが知ら
れ、種々の記録層材料や保護層材料が研究開発され、所
定の成果が得られている。
が好ましい。記録・消去の繰り返し特性には記録層材料
や保護層材料等の各種の物性が影響を与えることが知ら
れ、種々の記録層材料や保護層材料が研究開発され、所
定の成果が得られている。
【０００５】ところで、書換え型光記録媒体は、基板と
記録層とを必須の構成要素とするものであるが、本発明
者は、基板上に、下地の保護層、記録層、上地の保護
層、金属からなる反射層が順次形成された新規な構造を
有する光記録媒体を発明し、特許出願している（特願平
３−３３８７５７号）。
記録層とを必須の構成要素とするものであるが、本発明
者は、基板上に、下地の保護層、記録層、上地の保護
層、金属からなる反射層が順次形成された新規な構造を
有する光記録媒体を発明し、特許出願している（特願平
３−３３８７５７号）。
【０００６】この特願平３−３３８７５７号明細書に記
載の光記録媒体において、保護層、特に上地の保護層
は、記録時の記録層材料のレーザー溶融に伴なう流動又
は飛散を抑制し、記録・消去の繰り返し特性の向上に寄
与する。特に保護層材料として、Ｙ2 Ｏ3 を含むものを
用いると、コントラスト比が大きくなるとともに、記録
・消去の繰り返しを多数回にわたって安定に行うことが
可能となり、Ｙ2 Ｏ3 とＺｎＳとの混合物を用いると、
上記効果とともに記録感度が向上するという効果も得ら
れる。
載の光記録媒体において、保護層、特に上地の保護層
は、記録時の記録層材料のレーザー溶融に伴なう流動又
は飛散を抑制し、記録・消去の繰り返し特性の向上に寄
与する。特に保護層材料として、Ｙ2 Ｏ3 を含むものを
用いると、コントラスト比が大きくなるとともに、記録
・消去の繰り返しを多数回にわたって安定に行うことが
可能となり、Ｙ2 Ｏ3 とＺｎＳとの混合物を用いると、
上記効果とともに記録感度が向上するという効果も得ら
れる。
【０００７】また、前記反射層は、第一に金属は熱伝導
性に優れていることから記録層の冷却速度の制御が容易
となり記録（非晶質）状態及び消去（晶質）状態を良好
にするという効果があり、第二に金属は記録層を透過し
たレーザー光を反射させることからレーザー光を記録層
に有効に取り入れることを可能とするという効果があ
る。
性に優れていることから記録層の冷却速度の制御が容易
となり記録（非晶質）状態及び消去（晶質）状態を良好
にするという効果があり、第二に金属は記録層を透過し
たレーザー光を反射させることからレーザー光を記録層
に有効に取り入れることを可能とするという効果があ
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】前記のような構成を有
する特願平３−３３８７５７号明細書に記載の光記録媒
体は、それまで公知の光記録媒体よりも記録・消去の繰
り返し特性を大幅に改善したものであるが、この特性を
更に改善することが望まれていた。従って本発明の目的
は、より一層記録・消去の繰り返しの回数を多くするこ
とのできる書換え型光記録媒体を提供することにある。
する特願平３−３３８７５７号明細書に記載の光記録媒
体は、それまで公知の光記録媒体よりも記録・消去の繰
り返し特性を大幅に改善したものであるが、この特性を
更に改善することが望まれていた。従って本発明の目的
は、より一層記録・消去の繰り返しの回数を多くするこ
とのできる書換え型光記録媒体を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的達成のため、本
発明者は、種々の検討を加えた結果、記録・消去の繰り
返し回数が多くならない理由が、保護層と反射層との間
の付着力、さらには保護層と記録層との間の付着力が低
いことにあることを見い出した。
発明者は、種々の検討を加えた結果、記録・消去の繰り
返し回数が多くならない理由が、保護層と反射層との間
の付着力、さらには保護層と記録層との間の付着力が低
いことにあることを見い出した。
【００１０】先ず、保護層と反射層との付着力及び保護
層と記録層との付着力について測定した結果を説明す
る。表１は、石英ガラス基板上に保護層（膜厚０．１５
μｍ）、Ａｌ反射層（膜厚０．１μｍ）を順次高周波マ
グネトロンスパッタ法で成膜してなる試料における各種
保護層とＡｌ反射層との付着力を剥離荷重（ｇｆ）によ
って示したものである。
層と記録層との付着力について測定した結果を説明す
る。表１は、石英ガラス基板上に保護層（膜厚０．１５
μｍ）、Ａｌ反射層（膜厚０．１μｍ）を順次高周波マ
グネトロンスパッタ法で成膜してなる試料における各種
保護層とＡｌ反射層との付着力を剥離荷重（ｇｆ）によ
って示したものである。
【００１１】
【表１】 表１より、Ｙ2 Ｏ3 単独からなる保護層とＡｌ反射層と
の剥離荷重は２１．５ｇｆと高く良好な付着力を示し
た。しかし、特願平３−３３８７５７号明細書に記載の
ように保護層として特に好ましいとされるＹ2 Ｏ3 とＺ
ｎＳとの混合物の場合、ＺｎＳの含量が増えるに従って
次第に剥離荷重は低下し（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝５／５
（ｍｏｌ／ｍｏｌ）のとき１９．５ｇｆ、Ｙ2 Ｏ3 ／Ｚ
ｎＳ＝３／７（ｍｏｌ／ｍｏｌ）のとき１７．２ｇ
ｆ）、Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍｏｌ）の
とき剥離荷重は１６．４ｇｆにまで低下した。そして、
Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝１／９（ｍｏｌ／ｍｏｌ）にすると
一旦剥離荷重は１９．１ｇｆとわずかに増加するが、さ
らにＺｎＳの含量を増やすと剥離荷重は低下し、ＺｎＳ
単独の場合の剥離荷重は２．８ｇｆと極めて低かった。
このように、保護層として特に好ましいとされるＹ2 Ｏ
3 とＺｎＳとの混合物は、Ａｌ反射層との付着力が弱い
ものであった。
の剥離荷重は２１．５ｇｆと高く良好な付着力を示し
た。しかし、特願平３−３３８７５７号明細書に記載の
ように保護層として特に好ましいとされるＹ2 Ｏ3 とＺ
ｎＳとの混合物の場合、ＺｎＳの含量が増えるに従って
次第に剥離荷重は低下し（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝５／５
（ｍｏｌ／ｍｏｌ）のとき１９．５ｇｆ、Ｙ2 Ｏ3 ／Ｚ
ｎＳ＝３／７（ｍｏｌ／ｍｏｌ）のとき１７．２ｇ
ｆ）、Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍｏｌ）の
とき剥離荷重は１６．４ｇｆにまで低下した。そして、
Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝１／９（ｍｏｌ／ｍｏｌ）にすると
一旦剥離荷重は１９．１ｇｆとわずかに増加するが、さ
らにＺｎＳの含量を増やすと剥離荷重は低下し、ＺｎＳ
単独の場合の剥離荷重は２．８ｇｆと極めて低かった。
このように、保護層として特に好ましいとされるＹ2 Ｏ
3 とＺｎＳとの混合物は、Ａｌ反射層との付着力が弱い
ものであった。
【００１２】表２は、石英ガラス基板上に保護層（膜厚
０．１５μｍ）、記録層（膜厚０．１μｍ）を順次高周
波マグネトロンスパッタ法で成膜してなる試料における
各種保護層とＧｅＴｅＳｂ系記録層との付着力を剥離荷
重によって示したものである。
０．１５μｍ）、記録層（膜厚０．１μｍ）を順次高周
波マグネトロンスパッタ法で成膜してなる試料における
各種保護層とＧｅＴｅＳｂ系記録層との付着力を剥離荷
重によって示したものである。
【００１３】
【表２】 表２より、保護層がＹ2 Ｏ3 又はＹ2 Ｏ3 とＺｎＳとの
混合物の場合、剥離荷重が略２０ｇｆ以上であり、記録
層との付着力が強いものであったが、保護層がＺｎＳの
場合は剥離荷重が６．２ｇｆと付着力が非常に弱いもの
であった。
混合物の場合、剥離荷重が略２０ｇｆ以上であり、記録
層との付着力が強いものであったが、保護層がＺｎＳの
場合は剥離荷重が６．２ｇｆと付着力が非常に弱いもの
であった。
【００１４】そして本発明者は、更に検討した結果、保
護層と反射層との間の付着力及び／又は保護層と記録層
との間の付着力を高めるために、使用される保護層の材
料よりも反射層の材料との付着力の高い材料からなる接
着層を保護層と反射層との間に設けることにより、及び
／又は使用される保護層の材料よりも記録層の材料との
付着力の高い材料からなる接着層を保護層と記録層との
間に設けることにより、記録・消去の繰り返し回数が著
るしく増加した光記録媒体を得ることができることを見
い出した。
護層と反射層との間の付着力及び／又は保護層と記録層
との間の付着力を高めるために、使用される保護層の材
料よりも反射層の材料との付着力の高い材料からなる接
着層を保護層と反射層との間に設けることにより、及び
／又は使用される保護層の材料よりも記録層の材料との
付着力の高い材料からなる接着層を保護層と記録層との
間に設けることにより、記録・消去の繰り返し回数が著
るしく増加した光記録媒体を得ることができることを見
い出した。
【００１５】本発明はこのような知見に基づきなされた
ものであり、本発明の光記録媒体は、基板上に直接又は
間接的に設けられた保護層と反射層との間及び／又は保
護層と記録層との間に接着層を設けたことを特徴とす
る。
ものであり、本発明の光記録媒体は、基板上に直接又は
間接的に設けられた保護層と反射層との間及び／又は保
護層と記録層との間に接着層を設けたことを特徴とす
る。
【００１６】本発明の光記録媒体は、基板上に直接又は
間接的に設けられた保護層と反射層との間及び／又は保
護層と記録層との間に接着層を設けた全ての光記録媒体
を包含するものであるが、その好ましい態様として、基
板と記録層と保護層とを有し、保護層と記録層との間に
接着層を設けた光記録媒体（Ａ）および基板と記録層と
保護層と反射層とを有し、保護層と反射層との間及び／
又は保護層と記録層との間に接着層を設けた光記録媒体
（Ｂ）が挙げられる。
間接的に設けられた保護層と反射層との間及び／又は保
護層と記録層との間に接着層を設けた全ての光記録媒体
を包含するものであるが、その好ましい態様として、基
板と記録層と保護層とを有し、保護層と記録層との間に
接着層を設けた光記録媒体（Ａ）および基板と記録層と
保護層と反射層とを有し、保護層と反射層との間及び／
又は保護層と記録層との間に接着層を設けた光記録媒体
（Ｂ）が挙げられる。
【００１７】先ず光記録媒体（Ａ）について説明する。
光記録媒体（Ａ）は、上記のように基板と記録層と保護
層とを有し、保護層と記録層との間に接着層を設けたも
のであるが、具体的な層構成を示すと以下のとおりであ
る。 （ｉ）基板／記録層／接着層／保護層 （ii）基板／保護層／接着層／記録層／保護層 （iii ）基板／保護層／記録層／接着層／保護層 （iV）基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層 上記基板としては、特に限定されないが、石英ガラスな
どのガラス、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）樹
脂やＰＣ（ポリカーボネート）樹脂などの樹脂、Ａｌ，
Ｃｕなどの金属、ＳｉＡｌＯＮなどのセラミックスなど
が好ましく用いられる。
光記録媒体（Ａ）は、上記のように基板と記録層と保護
層とを有し、保護層と記録層との間に接着層を設けたも
のであるが、具体的な層構成を示すと以下のとおりであ
る。 （ｉ）基板／記録層／接着層／保護層 （ii）基板／保護層／接着層／記録層／保護層 （iii ）基板／保護層／記録層／接着層／保護層 （iV）基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層 上記基板としては、特に限定されないが、石英ガラスな
どのガラス、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）樹
脂やＰＣ（ポリカーボネート）樹脂などの樹脂、Ａｌ，
Ｃｕなどの金属、ＳｉＡｌＯＮなどのセラミックスなど
が好ましく用いられる。
【００１８】また記録層としては、特に限定されない
が、必須成分としてＧｅ，Ｔｅ，Ｓｂを含み、さらに追
加成分としてＢｉ，Ｓｅを含有するものが、記録・消去
の繰り返し回数を多くする上で好ましく用いられる。
が、必須成分としてＧｅ，Ｔｅ，Ｓｂを含み、さらに追
加成分としてＢｉ，Ｓｅを含有するものが、記録・消去
の繰り返し回数を多くする上で好ましく用いられる。
【００１９】また、保護層としては、特に限定されない
が、Ｙ2 Ｏ3 を含有するもの（特にＹ2 Ｏ3 とともにＺ
ｎＳも含有するもの）が好ましい。その理由は、Ｙ2 Ｏ
3 を含有する誘電体物質からなる保護層を記録層の少な
くとも上面に設けると、非晶質（記録）状態と結晶質
（消去）状態との間のコントラスト比を大きくするとと
もに、記録・消去の繰り返しを長期間にわたって安定に
行うことができるためである。コントラスト比が改善さ
れた理由は、上記保護層の熱伝導率が高いため、記録層
の冷却速度が十分大きくなり、非晶質化（記録）が容易
となるためと考えられる。また、繰り返し特性が改善さ
れた理由は、上記保護層が前記記録層に対して比較的付
着力が高いこと、融点が高く熱的に安定であること、及
び保護層を形成した後の残留応力が小さいためと考えら
れる。さらに、Ｙ2 Ｏ3 とともにＺｎＳを含むと、前記
Ｙ2 Ｏ3 保護層の効果を損なうことなく、記録の際にお
けるレーザーのパワーを削減させること（換言すれば、
記録感度を良くすること）が可能となる。この効果を発
揮させるためにはＺｎＳを保護層中１０ｍｏｌ％以上
（望ましくは２０ｍｏｌ％以上、さらに望ましくは３０
ｍｏｌ％以上）含有させることが好ましい。しかしなが
らＺｎＳを保護層中に９０ｍｏｌ％を超えて含有させる
と、記録・消去の繰り返し精度が悪化するためＺｎＳの
保護層中の含有量は９０ｍｏｌ％以下（望ましくは８５
ｍｏｌ％以下）とすることが好ましい。さらに、上記の
保護層は、記録・消去の繰り返しによる基板の劣化や記
録層の湿気による劣化を防ぐ効果も有する。
が、Ｙ2 Ｏ3 を含有するもの（特にＹ2 Ｏ3 とともにＺ
ｎＳも含有するもの）が好ましい。その理由は、Ｙ2 Ｏ
3 を含有する誘電体物質からなる保護層を記録層の少な
くとも上面に設けると、非晶質（記録）状態と結晶質
（消去）状態との間のコントラスト比を大きくするとと
もに、記録・消去の繰り返しを長期間にわたって安定に
行うことができるためである。コントラスト比が改善さ
れた理由は、上記保護層の熱伝導率が高いため、記録層
の冷却速度が十分大きくなり、非晶質化（記録）が容易
となるためと考えられる。また、繰り返し特性が改善さ
れた理由は、上記保護層が前記記録層に対して比較的付
着力が高いこと、融点が高く熱的に安定であること、及
び保護層を形成した後の残留応力が小さいためと考えら
れる。さらに、Ｙ2 Ｏ3 とともにＺｎＳを含むと、前記
Ｙ2 Ｏ3 保護層の効果を損なうことなく、記録の際にお
けるレーザーのパワーを削減させること（換言すれば、
記録感度を良くすること）が可能となる。この効果を発
揮させるためにはＺｎＳを保護層中１０ｍｏｌ％以上
（望ましくは２０ｍｏｌ％以上、さらに望ましくは３０
ｍｏｌ％以上）含有させることが好ましい。しかしなが
らＺｎＳを保護層中に９０ｍｏｌ％を超えて含有させる
と、記録・消去の繰り返し精度が悪化するためＺｎＳの
保護層中の含有量は９０ｍｏｌ％以下（望ましくは８５
ｍｏｌ％以下）とすることが好ましい。さらに、上記の
保護層は、記録・消去の繰り返しによる基板の劣化や記
録層の湿気による劣化を防ぐ効果も有する。
【００２０】保護層の材料としては、他にＡｌＮ，Ｓｉ
3 Ｎ4 ，ＳｉＡｌＯＮ，ＺｎＳｅ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＧｅＯ
2 ，ＳｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ2 なども用いられ
る。上記保護層と記録層との間に設けられる接着層の材
料は、使用される保護層の材料よりも記録層の材料との
付着力の高い材料であればその種類を問わないが、Ａｌ
2 Ｏ3 ，ＧｅＯ2 ，ＳｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ2 及
びＹ2 Ｏ3 から選ばれる少なくとも１種を用いるのが好
ましい。
3 Ｎ4 ，ＳｉＡｌＯＮ，ＺｎＳｅ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＧｅＯ
2 ，ＳｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ2 なども用いられ
る。上記保護層と記録層との間に設けられる接着層の材
料は、使用される保護層の材料よりも記録層の材料との
付着力の高い材料であればその種類を問わないが、Ａｌ
2 Ｏ3 ，ＧｅＯ2 ，ＳｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ2 及
びＹ2 Ｏ3 から選ばれる少なくとも１種を用いるのが好
ましい。
【００２１】この接着層の膜厚は、２ｎｍ〜１５ｎｍと
することが好ましい。その理由は、２ｎｍ未満である
と、保護層と記録層との付着力を大きくならず、記録・
消去の繰り返し特性を改善する効果が小さくなり、ま
た、１５ｎｍを超えると、記録・消去の繰り返し特性又
は記録層の反射率等の光学特性等が悪化する傾向がある
ためである。
することが好ましい。その理由は、２ｎｍ未満である
と、保護層と記録層との付着力を大きくならず、記録・
消去の繰り返し特性を改善する効果が小さくなり、ま
た、１５ｎｍを超えると、記録・消去の繰り返し特性又
は記録層の反射率等の光学特性等が悪化する傾向がある
ためである。
【００２２】光記録媒体（Ａ）は、上述のように保護層
と記録層との間に接着層を設けたことを特徴とするもの
であり、この接着層は、保護層及び記録層のそれぞれの
性質を損なわずに、保護層と記録層との付着力を向上さ
せ、これにより記録・消去の繰り返し動作を多数回にわ
たって安定に行なうことが可能となる。
と記録層との間に接着層を設けたことを特徴とするもの
であり、この接着層は、保護層及び記録層のそれぞれの
性質を損なわずに、保護層と記録層との付着力を向上さ
せ、これにより記録・消去の繰り返し動作を多数回にわ
たって安定に行なうことが可能となる。
【００２３】次に光記録媒体（Ｂ）について説明する。
光記録媒体（Ｂ）は、光記録媒体（Ａ）と異なり、基
板、記録層、保護層とともにさらに反射層を有し、保護
層と反射層との間及び／又は保護層と記録層との間に接
着層が設けられたものであるが、その具体的構成を示す
と以下のとおりである。 （イ）基板／記録層／保護層／接着層／反射層 （ロ）基板／記録層／接着層／保護層／反射層 （ハ）基板／保護層／記録層／保護層／接着層／反射層 （ニ）基板／反射層／接着層／保護層／記録層／保護層 （ホ）基板／保護層／接着層／記録層／保護層／反射層 （ヘ）基板／保護層／記録層／接着層／保護層／反射層 （ト）基板／反射層／保護層／接着層／記録層／保護層 （チ）基板／反射層／保護層／記録層／接着層／保護層 （リ）基板／記録層／接着層／保護層／接着層／反射層 （ヌ）基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層
／反射層 （ル）基板／反射層／保護層／接着層／記録層／接着層
／保護層 （ヲ）基板／保護層／接着層／記録層／保護層／接着層
／反射層 （ワ）基板／保護層／記録層／接着層／保護層／接着層
／反射層 （カ）基板／反射層／接着層／保護層／接着層／記録層
／保護層 （ヨ）基板／反射層／接着層／保護層／記録層／接着層
／保護層 （タ）基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層
／接着層／反射層 （レ）基板／反射層／接着層／保護層／接着層／記録層
／接着層／保護層 上記構成からなる光記録媒体（Ｂ）において基板、記録
層、保護層の材料は、前記光記録媒体（Ａ）において記
載したものと同様のものが用いられる。
光記録媒体（Ｂ）は、光記録媒体（Ａ）と異なり、基
板、記録層、保護層とともにさらに反射層を有し、保護
層と反射層との間及び／又は保護層と記録層との間に接
着層が設けられたものであるが、その具体的構成を示す
と以下のとおりである。 （イ）基板／記録層／保護層／接着層／反射層 （ロ）基板／記録層／接着層／保護層／反射層 （ハ）基板／保護層／記録層／保護層／接着層／反射層 （ニ）基板／反射層／接着層／保護層／記録層／保護層 （ホ）基板／保護層／接着層／記録層／保護層／反射層 （ヘ）基板／保護層／記録層／接着層／保護層／反射層 （ト）基板／反射層／保護層／接着層／記録層／保護層 （チ）基板／反射層／保護層／記録層／接着層／保護層 （リ）基板／記録層／接着層／保護層／接着層／反射層 （ヌ）基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層
／反射層 （ル）基板／反射層／保護層／接着層／記録層／接着層
／保護層 （ヲ）基板／保護層／接着層／記録層／保護層／接着層
／反射層 （ワ）基板／保護層／記録層／接着層／保護層／接着層
／反射層 （カ）基板／反射層／接着層／保護層／接着層／記録層
／保護層 （ヨ）基板／反射層／接着層／保護層／記録層／接着層
／保護層 （タ）基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層
／接着層／反射層 （レ）基板／反射層／接着層／保護層／接着層／記録層
／接着層／保護層 上記構成からなる光記録媒体（Ｂ）において基板、記録
層、保護層の材料は、前記光記録媒体（Ａ）において記
載したものと同様のものが用いられる。
【００２４】光記録媒体（Ｂ）における反射層は、光記
録媒体における反射層としての機能を有するものであれ
ば、その種類は問わないが、Ａｌ，Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，
Ｐｔ，Ｃｒ，Ｎｉ及びＴｉから選ばれる少なくとも１種
の金属を用いるのが好ましい。
録媒体における反射層としての機能を有するものであれ
ば、その種類は問わないが、Ａｌ，Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，
Ｐｔ，Ｃｒ，Ｎｉ及びＴｉから選ばれる少なくとも１種
の金属を用いるのが好ましい。
【００２５】光記録媒体（Ｂ）において、保護層と反射
層との間及び／又は保護層と記録層との間に設けられる
接着層の材料および膜厚は、前記光記録媒体（Ａ）にお
いて記載したものと同一である。
層との間及び／又は保護層と記録層との間に設けられる
接着層の材料および膜厚は、前記光記録媒体（Ａ）にお
いて記載したものと同一である。
【００２６】光記録媒体（Ｂ）は、上述のように保護層
と反射層との間及び／又は保護層と記録層との間に接着
層を設けたことを特徴とするものであり、この接着層
は、保護層、記録層及び反射層のそれぞれの性質を損わ
ずに、保護層と反射層との付着力及び／又は保護層と記
録層との付着力を向上させ、これにより記録・消去の繰
り返し動作を多数回にわたって安定に行なうことが可能
になる。
と反射層との間及び／又は保護層と記録層との間に接着
層を設けたことを特徴とするものであり、この接着層
は、保護層、記録層及び反射層のそれぞれの性質を損わ
ずに、保護層と反射層との付着力及び／又は保護層と記
録層との付着力を向上させ、これにより記録・消去の繰
り返し動作を多数回にわたって安定に行なうことが可能
になる。
【００２７】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に説明する。 （実施例１） （１）本発明の光記録媒体の構成の一例を図１に示す。
本発明の光記録媒体の構成は透明基板１１上に保護層１
２、記録層１３、保護層１４、接着層１５及び反射層１
６を順次積層したものである。透明基板１１には十分洗
浄を施した石英ガラス基板を用いた。保護層１２及び保
護層１４にはＹ2 Ｏ3 （試料Ｎｏ．１），Ｙ2 Ｏ3 −Ｚ
ｎＳ混合物（試料Ｎｏ．２〜５）又はＺｎＳ（試料Ｎ
ｏ．６）を用いた。接着層１５にはＡｌ2 Ｏ3 （試料Ｎ
ｏ．１）又はＹ2 Ｏ3 （試料Ｎｏ．２〜６）を用いた。
そして反射層１６にはＡｌを用いた。なお基板材料はガ
ラスに限定されるものではなく、利用可能なものであれ
ばよく、例えばポリカーボネートやＰＭＭＡといった樹
脂等を用いることもできる。保護層１２、保護層１４、
接着層１５及び反射層１６の膜厚はそれぞれ１８０ｎ
ｍ、２５ｎｍ、５ｎｍ及び１００ｎｍ程度とした。記録
層１３には、式Ｇｅ2 Ｓｂ2 Ｔｅ5 を基本構造式とし、
かつ上式におけるＳｂの２ａｔ．％をＢｉに、そしてＴ
ｅの５ａｔ．％をＳｅに置き換えたＧｅ，Ｓｂ，Ｔｅ，
Ｂｉ及びＳｅの５元素からなる合金を用いた。記録層１
３の膜厚は２０ｎｍであった。
本発明の光記録媒体の構成は透明基板１１上に保護層１
２、記録層１３、保護層１４、接着層１５及び反射層１
６を順次積層したものである。透明基板１１には十分洗
浄を施した石英ガラス基板を用いた。保護層１２及び保
護層１４にはＹ2 Ｏ3 （試料Ｎｏ．１），Ｙ2 Ｏ3 −Ｚ
ｎＳ混合物（試料Ｎｏ．２〜５）又はＺｎＳ（試料Ｎ
ｏ．６）を用いた。接着層１５にはＡｌ2 Ｏ3 （試料Ｎ
ｏ．１）又はＹ2 Ｏ3 （試料Ｎｏ．２〜６）を用いた。
そして反射層１６にはＡｌを用いた。なお基板材料はガ
ラスに限定されるものではなく、利用可能なものであれ
ばよく、例えばポリカーボネートやＰＭＭＡといった樹
脂等を用いることもできる。保護層１２、保護層１４、
接着層１５及び反射層１６の膜厚はそれぞれ１８０ｎ
ｍ、２５ｎｍ、５ｎｍ及び１００ｎｍ程度とした。記録
層１３には、式Ｇｅ2 Ｓｂ2 Ｔｅ5 を基本構造式とし、
かつ上式におけるＳｂの２ａｔ．％をＢｉに、そしてＴ
ｅの５ａｔ．％をＳｅに置き換えたＧｅ，Ｓｂ，Ｔｅ，
Ｂｉ及びＳｅの５元素からなる合金を用いた。記録層１
３の膜厚は２０ｎｍであった。
【００２８】試料Ｎｏ．２〜５において、Ｙ2 Ｏ3 −Ｚ
ｎＳ混合物からなる前記保護層１２および１４は、Ｙ2
Ｏ3 とＺｎＳの混合ターゲットを用意して成膜するか、
あるいはＹ2 Ｏ3 ターゲットとＺｎＳターゲットをそれ
ぞれ個別に用意し、２元同時スパッタ法により成膜し
た。ここで、成膜方法は高周波マグネトロン・スパッタ
法に限定されるものではなく、例えば、直流スパッタ
法、真空蒸着法、スピンコート法そしてプラズマＣＶＤ
法等のいかなる方法であっても差し支えない。記録膜の
組成は光電子分光分析法そして保護膜の組成はＥＤＡＸ
によりそれぞれ確認した。
ｎＳ混合物からなる前記保護層１２および１４は、Ｙ2
Ｏ3 とＺｎＳの混合ターゲットを用意して成膜するか、
あるいはＹ2 Ｏ3 ターゲットとＺｎＳターゲットをそれ
ぞれ個別に用意し、２元同時スパッタ法により成膜し
た。ここで、成膜方法は高周波マグネトロン・スパッタ
法に限定されるものではなく、例えば、直流スパッタ
法、真空蒸着法、スピンコート法そしてプラズマＣＶＤ
法等のいかなる方法であっても差し支えない。記録膜の
組成は光電子分光分析法そして保護膜の組成はＥＤＡＸ
によりそれぞれ確認した。
【００２９】静止状態における記録・消去繰り返し特性
は図２に示すように８３０ｎｍの波長のレーザーを有す
る光源２１と開口数がおよそ０．５２の対物レンズ２２
よりなる光ヘッド２３よりレーザー光線２４を光記録媒
体１０（詳しくは図１のガラス基板１１側より記録層１
３）に集光、照射することにより調べた。記録・消去繰
り返し特性の測定に先立って、レーザーアニールあるい
は加熱処理によって記録層１３に初期結晶化を施した。
加熱処理を施す際には反射層１６の表面をさらに保護層
（約１００ｎｍ）で覆うようにした。成膜後の反射率を
１０％前後そして初期化後の媒体の反射率を３０〜３２
％程度に設定した。記録条件は信号コントラスト、Ｃを
は図２に示すように８３０ｎｍの波長のレーザーを有す
る光源２１と開口数がおよそ０．５２の対物レンズ２２
よりなる光ヘッド２３よりレーザー光線２４を光記録媒
体１０（詳しくは図１のガラス基板１１側より記録層１
３）に集光、照射することにより調べた。記録・消去繰
り返し特性の測定に先立って、レーザーアニールあるい
は加熱処理によって記録層１３に初期結晶化を施した。
加熱処理を施す際には反射層１６の表面をさらに保護層
（約１００ｎｍ）で覆うようにした。成膜後の反射率を
１０％前後そして初期化後の媒体の反射率を３０〜３２
％程度に設定した。記録条件は信号コントラスト、Ｃを
【数１】 ＶC ：結晶状態の光電変換素子出力電圧（消去信号） ＶA ：非晶質状態の光電変換素子出力電圧（記録信号） と定義し、記録は記録パルス幅を５０ｎｓ、そして消去
は消去パルス幅を１００ｎｓ一定として行った。
は消去パルス幅を１００ｎｓ一定として行った。
【００３０】また、記録・消去の繰り返し特性に関して
は、コントラスト比が２５％まで低下したところまでの
回数をもって繰り返し回数とした。結果を表３に示す。
は、コントラスト比が２５％まで低下したところまでの
回数をもって繰り返し回数とした。結果を表３に示す。
【００３１】
【表３】 表３に示すように、保護層１４と反射層１６との間に接
着層１５を設けることにより、試料Ｎｏ．１〜６のいず
れにおいても記録・消去の繰り返し回数が増加している
ことが分かる。
着層１５を設けることにより、試料Ｎｏ．１〜６のいず
れにおいても記録・消去の繰り返し回数が増加している
ことが分かる。
【００３２】特に、前述したように、保護層がＹ2 Ｏ3
単独（試料Ｎｏ．１）又はＹ2 Ｏ3とＺｎＳとの混合物
（試料Ｎｏ．２〜５）からなる場合は、ＺｎＳ単独（試
料Ｎｏ．６）からなる場合に比べ、記録・消去の繰り返
し動作の安定性は改善されているが、反射層との付着力
のより高い接着層を設けることにより、さらに繰り返し
動作は改善される。例えば、保護層材料がＹ2 Ｏ3 の場
合（試料Ｎｏ．１）、表１に示したようにそもそもＡｌ
反射層との付着力が強く、記録・消去の繰り返し回数も
１．５×１０6 回と多いが、Ｙ2 Ｏ3 よりもさらにＡｌ
反射層との付着力の大きなＡｌ2 Ｏ3 を接着層に用いる
ことによって、記録・消去の繰り返し回数はさらに多く
することができ、２×１０6 回に達するものであった。
単独（試料Ｎｏ．１）又はＹ2 Ｏ3とＺｎＳとの混合物
（試料Ｎｏ．２〜５）からなる場合は、ＺｎＳ単独（試
料Ｎｏ．６）からなる場合に比べ、記録・消去の繰り返
し動作の安定性は改善されているが、反射層との付着力
のより高い接着層を設けることにより、さらに繰り返し
動作は改善される。例えば、保護層材料がＹ2 Ｏ3 の場
合（試料Ｎｏ．１）、表１に示したようにそもそもＡｌ
反射層との付着力が強く、記録・消去の繰り返し回数も
１．５×１０6 回と多いが、Ｙ2 Ｏ3 よりもさらにＡｌ
反射層との付着力の大きなＡｌ2 Ｏ3 を接着層に用いる
ことによって、記録・消去の繰り返し回数はさらに多く
することができ、２×１０6 回に達するものであった。
【００３３】また、前述したように、保護層としてＹ2
Ｏ3 とＺｎＳとの混合物を用いた場合、記録の際におけ
るレーザーのパワーＰｗを削減させることができるが、
本実施例においても、表１に示したように、試料Ｎｏ．
２〜５では、レーザーパワーＰｗが接着層の導入前と導
入後で変わらず１４〜１９ｍＷと小さいままであり、記
録感度に優れていた。
Ｏ3 とＺｎＳとの混合物を用いた場合、記録の際におけ
るレーザーのパワーＰｗを削減させることができるが、
本実施例においても、表１に示したように、試料Ｎｏ．
２〜５では、レーザーパワーＰｗが接着層の導入前と導
入後で変わらず１４〜１９ｍＷと小さいままであり、記
録感度に優れていた。
【００３４】このように、保護層と反射層との間に接着
層を設けると、単に保護層材料を接着層材料に置換した
だけの効果が表れるのではなく、Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合
物系保護層の特徴を損なわないで、保護層と反射層との
密着性が改善され、記録・消去の繰り返し回数を増加さ
せることができるものである。
層を設けると、単に保護層材料を接着層材料に置換した
だけの効果が表れるのではなく、Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合
物系保護層の特徴を損なわないで、保護層と反射層との
密着性が改善され、記録・消去の繰り返し回数を増加さ
せることができるものである。
【００３５】このように接着層の導入により、効果的に
記録・消去の繰り返し動作の安定性が改善されるが、実
用的には、保護層としてＺｎＳの含有量が９０ｍｏｌ％
以下のものを用いたもの（試料Ｎｏ．１〜５）が、記録
・消去の繰り返し回数が１×１０6 回に達するものであ
り、好ましいものである。
記録・消去の繰り返し動作の安定性が改善されるが、実
用的には、保護層としてＺｎＳの含有量が９０ｍｏｌ％
以下のものを用いたもの（試料Ｎｏ．１〜５）が、記録
・消去の繰り返し回数が１×１０6 回に達するものであ
り、好ましいものである。
【００３６】（２）次に基板として、直径１３０ｍｍφ
のフォーマット付きのガラスディスクを用いた以外は上
記試料Ｎｏ．４と同様にして保護層、記録層、保護層、
接着層及び反射層を順次積層して光ディスクを製造し、
この光ディスクについて、線速度を９ｍ／ｓ、キャリア
周波数ｆ1 （記録）／ｆ2 （消去）を５．１／１．９
（ＭＨＳ）、記録パルス幅６６ｎｓ、記録パワー２０ｍ
Ｗ、バイアスパワー１１ｍＷとして、１ビームオーバー
ライト繰返し特性の測定をランド部で行った。その結
果、２０万回以上にわたって繰返し動作は安定に行わ
れ、Ｃ／Ｎは約５４ｄＢ程度、消去率２４ｄＢ以上の良
好な状態が維持出来るものであった。一方接着層のない
光ディスクの場合、繰返し動作は１０万回程度に止まる
ものであった。ここに繰返し動作の回数はＣ／Ｎが３ｄ
Ｂに低下した時点までの回数である。
のフォーマット付きのガラスディスクを用いた以外は上
記試料Ｎｏ．４と同様にして保護層、記録層、保護層、
接着層及び反射層を順次積層して光ディスクを製造し、
この光ディスクについて、線速度を９ｍ／ｓ、キャリア
周波数ｆ1 （記録）／ｆ2 （消去）を５．１／１．９
（ＭＨＳ）、記録パルス幅６６ｎｓ、記録パワー２０ｍ
Ｗ、バイアスパワー１１ｍＷとして、１ビームオーバー
ライト繰返し特性の測定をランド部で行った。その結
果、２０万回以上にわたって繰返し動作は安定に行わ
れ、Ｃ／Ｎは約５４ｄＢ程度、消去率２４ｄＢ以上の良
好な状態が維持出来るものであった。一方接着層のない
光ディスクの場合、繰返し動作は１０万回程度に止まる
ものであった。ここに繰返し動作の回数はＣ／Ｎが３ｄ
Ｂに低下した時点までの回数である。
【００３７】（３）なお、Ｙ2 Ｏ3 接着層の膜厚は上記
の５ｎｍに限定されるものではなく、２−１５ｎｍ程度
の範囲にあれば、同様の効果を得ることが可能である。
しかし２ｎｍ未満の薄膜になると、接着層の効果は認め
られなくなり、１５ｎｍを超えると媒体の記録・消去特
性、感度等が変化するので、好ましくない。接着層材料
としてＹ2 Ｏ3 に代わってＳｉＯ2 あるいはＡｌ2 Ｏ3
を用いても記録・消去繰返し動作を２〜３×１０6 回に
わたって安定に行うことが出来る。さらに、ＧｅＯ2 ，
Ｔａ2 Ｏ5 あるいはＴｉＯ2 等の酸化物を接着層として
も同様の良好な特性を得ることが出来る。記録層材料は
前記記録層材料に限定されるものではなく、Ｇｅ2 （Ｓ
ｂ／Ｂｉ）2 Ｔｅ5 ，Ｇｅ2 Ｓｂ2 （Ｔｅ／Ｓｅ）5 ，
Ｇｅ2 Ｓｂ2 Ｔｅ5 ，Ｇｅ1 Ｓｂ2 Ｔｅ4 ，Ｇｅ2 Ｓｂ
4 Ｔｅ7 等においても同様の効果が認められる。
の５ｎｍに限定されるものではなく、２−１５ｎｍ程度
の範囲にあれば、同様の効果を得ることが可能である。
しかし２ｎｍ未満の薄膜になると、接着層の効果は認め
られなくなり、１５ｎｍを超えると媒体の記録・消去特
性、感度等が変化するので、好ましくない。接着層材料
としてＹ2 Ｏ3 に代わってＳｉＯ2 あるいはＡｌ2 Ｏ3
を用いても記録・消去繰返し動作を２〜３×１０6 回に
わたって安定に行うことが出来る。さらに、ＧｅＯ2 ，
Ｔａ2 Ｏ5 あるいはＴｉＯ2 等の酸化物を接着層として
も同様の良好な特性を得ることが出来る。記録層材料は
前記記録層材料に限定されるものではなく、Ｇｅ2 （Ｓ
ｂ／Ｂｉ）2 Ｔｅ5 ，Ｇｅ2 Ｓｂ2 （Ｔｅ／Ｓｅ）5 ，
Ｇｅ2 Ｓｂ2 Ｔｅ5 ，Ｇｅ1 Ｓｂ2 Ｔｅ4 ，Ｇｅ2 Ｓｂ
4 Ｔｅ7 等においても同様の効果が認められる。
【００３８】光記録媒体の構成において、基板と記録層
の間に位置する保護層と記録層と接着層の間に位置する
保護層のＺｎＳの含有量は必ずしも同様である必要はな
く、接着層の効果が得られるものであれば良く、例え
ば、基板側の保護層のＺｎＳ含有量を８０ｍｏｌ％そし
て接着層側の保護層のそれを５０ｍｏｌ％と言うように
異なるようにしてもよい。
の間に位置する保護層と記録層と接着層の間に位置する
保護層のＺｎＳの含有量は必ずしも同様である必要はな
く、接着層の効果が得られるものであれば良く、例え
ば、基板側の保護層のＺｎＳ含有量を８０ｍｏｌ％そし
て接着層側の保護層のそれを５０ｍｏｌ％と言うように
異なるようにしてもよい。
【００３９】（実施例２）本実施例の光記録媒体の構成
は、実施例１と異なり、基板と記録層との間に保護層を
設けず、石英ガラス基板／記録層／保護層／接着層／反
射層とした。また基板、記録層、反射層、保護層及び接
着層の各材料はそれぞれ実施例１と同様にし、膜厚は記
録層が２０ｎｍ、保護層が２５ｎｍ、接着層が５ｎｍ、
反射層が１００ｎｍとして、保護層がそれぞれＹ
2 Ｏ3 ，Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合物（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝
５／５、３／７、２／８、１／９（ｍｏｌ／ｍｏ
ｌ）），ＺｎＳである６種の試料を作成し、実施例１と
同様にして記録・消去の繰り返し回数を求めた。この結
果、いずれの試料も、接着層を設けることにより、記録
・消去の繰り返し回数が増加し、例えば保護層が、Ｙ2
Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍｏｌ）である試料で
は、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けない場合、記録・消去の繰
り返し回数が１．５×１０6 回であったのに対して、接
着層を設けると、２×１０6回に増加した。
は、実施例１と異なり、基板と記録層との間に保護層を
設けず、石英ガラス基板／記録層／保護層／接着層／反
射層とした。また基板、記録層、反射層、保護層及び接
着層の各材料はそれぞれ実施例１と同様にし、膜厚は記
録層が２０ｎｍ、保護層が２５ｎｍ、接着層が５ｎｍ、
反射層が１００ｎｍとして、保護層がそれぞれＹ
2 Ｏ3 ，Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合物（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝
５／５、３／７、２／８、１／９（ｍｏｌ／ｍｏ
ｌ）），ＺｎＳである６種の試料を作成し、実施例１と
同様にして記録・消去の繰り返し回数を求めた。この結
果、いずれの試料も、接着層を設けることにより、記録
・消去の繰り返し回数が増加し、例えば保護層が、Ｙ2
Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍｏｌ）である試料で
は、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けない場合、記録・消去の繰
り返し回数が１．５×１０6 回であったのに対して、接
着層を設けると、２×１０6回に増加した。
【００４０】その他の物性も実施例１と略同程度であ
り、レーザーパワーＰｗも接着層を設けたものと設けな
いものとで変わらず、特に保護層がＹ2 Ｏ3 とＺｎＳと
の混合物の場合、レーザーパワーＰｗが１４〜１９ｍＷ
と小さいままであり、記録感度に優れていた。
り、レーザーパワーＰｗも接着層を設けたものと設けな
いものとで変わらず、特に保護層がＹ2 Ｏ3 とＺｎＳと
の混合物の場合、レーザーパワーＰｗが１４〜１９ｍＷ
と小さいままであり、記録感度に優れていた。
【００４１】（実施例３）接着層の材料としてＡｌ2 Ｏ
3 ／ＳｉＯ2 ＝５／５（ｍｏｌ／ｍｏｌ）を用いた以外
は、実施例１と同様にして、保護層がそれぞれＹ
2 Ｏ3 ，Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合物（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝
５／５、３／７、２／８、１／９），ＺｎＳである６種
の試料を作成した。この接着層の材料は、Ａｌ反射層そ
して記録層との剥離荷重はそれぞれ２３．０ｇｆ、２
１．２ｇｆと大きい値を有するものである。このように
して作成した６種の試料を、実施例１と同様にして記録
・消去の繰り返し回数を求めた。
3 ／ＳｉＯ2 ＝５／５（ｍｏｌ／ｍｏｌ）を用いた以外
は、実施例１と同様にして、保護層がそれぞれＹ
2 Ｏ3 ，Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合物（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝
５／５、３／７、２／８、１／９），ＺｎＳである６種
の試料を作成した。この接着層の材料は、Ａｌ反射層そ
して記録層との剥離荷重はそれぞれ２３．０ｇｆ、２
１．２ｇｆと大きい値を有するものである。このように
して作成した６種の試料を、実施例１と同様にして記録
・消去の繰り返し回数を求めた。
【００４２】この結果、いずれの試料も、接着層を設け
ることにより、記録・消去の繰り返し回数が増加し、例
えば保護層が、Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍ
ｏｌ）である試料は、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けないと記
録・消去の繰り返し回数が１．５×１０6 回であったの
に対して、接着層を設けると３×１０6 回に増加した。
ることにより、記録・消去の繰り返し回数が増加し、例
えば保護層が、Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍ
ｏｌ）である試料は、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けないと記
録・消去の繰り返し回数が１．５×１０6 回であったの
に対して、接着層を設けると３×１０6 回に増加した。
【００４３】その他の物性も実施例１と略同程度であ
り、レーザーパワーＰｗも接着層を設けたものと設けな
いものとで変わらず、保護層がＹ2 Ｏ3 とＺｎＳとの混
合物の場合、１４〜１９ｍＷと小さいままであり、記録
感度に優れていた。
り、レーザーパワーＰｗも接着層を設けたものと設けな
いものとで変わらず、保護層がＹ2 Ｏ3 とＺｎＳとの混
合物の場合、１４〜１９ｍＷと小さいままであり、記録
感度に優れていた。
【００４４】なお、Ａｌ2 Ｏ3 とＳｉＯ2 の混合比率は
上記のものに限定されるものではなく、その他の混合比
率においても同様の良好な特性が得られた。このように
接着層に用いられる材料は混合物でも良いことが明らか
となったが、接着層に用いる混合材料は、上記の２種に
限定されるものではなく、ＧｅＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，Ｔｉ
Ｏ2 及びＹ2 Ｏ3 等の酸化物を２種以上混合させても、
同様の効果を得ることができる。
上記のものに限定されるものではなく、その他の混合比
率においても同様の良好な特性が得られた。このように
接着層に用いられる材料は混合物でも良いことが明らか
となったが、接着層に用いる混合材料は、上記の２種に
限定されるものではなく、ＧｅＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，Ｔｉ
Ｏ2 及びＹ2 Ｏ3 等の酸化物を２種以上混合させても、
同様の効果を得ることができる。
【００４５】（実施例４）光記録媒体の構成を、石英ガ
ラス基板／反射層／接着層／保護層／記録層／保護層と
し、前記各層の材料は実施例１と同様にし、さらに膜厚
は基板側から反射層が１００ｎｍ、接着層が５ｎｍ、そ
の上の保護層が２５ｎｍ、記録層が２０ｎｍ、さらにそ
の上の保護層が１８０ｎｍとして、保護層がＹ2 Ｏ3 ，
Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合物（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝５／５、
３／７、２／８、１／９），ＺｎＳである６種の試料を
作成し、実施例１と同様にして記録・消去の繰り返し回
数を求めた。この結果、いずれの試料も、接着層を設け
ることにより、記録・消去の繰り返し回数が増加し、例
えば保護層がＹ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍｏ
ｌ）である試料は、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けないと記録
・消去の繰り返し回数が１．５×１０6 回であったのに
対して、接着層を設けると３×１０6 回に増加した。
ラス基板／反射層／接着層／保護層／記録層／保護層と
し、前記各層の材料は実施例１と同様にし、さらに膜厚
は基板側から反射層が１００ｎｍ、接着層が５ｎｍ、そ
の上の保護層が２５ｎｍ、記録層が２０ｎｍ、さらにそ
の上の保護層が１８０ｎｍとして、保護層がＹ2 Ｏ3 ，
Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合物（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝５／５、
３／７、２／８、１／９），ＺｎＳである６種の試料を
作成し、実施例１と同様にして記録・消去の繰り返し回
数を求めた。この結果、いずれの試料も、接着層を設け
ることにより、記録・消去の繰り返し回数が増加し、例
えば保護層がＹ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍｏ
ｌ）である試料は、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けないと記録
・消去の繰り返し回数が１．５×１０6 回であったのに
対して、接着層を設けると３×１０6 回に増加した。
【００４６】その他の物性も実施例１と略同程度であ
り、レーザーパワーＰｗも接着層の有無で変わらず、保
護層がＹ2 Ｏ3 とＺｎＳとの混合物の場合、１５〜２０
ｍＷと小さいままであり、記録感度に優れていた。な
お、本実施例においては、使用する基板材料は透光性を
有するものである必要はなく、石英ガラス、ＰＭＭＡ樹
脂の他、ＡｌやＣｕ等の金属、ＳｉＡｌＯＮ等のセラミ
ック等を用いることもできる。
り、レーザーパワーＰｗも接着層の有無で変わらず、保
護層がＹ2 Ｏ3 とＺｎＳとの混合物の場合、１５〜２０
ｍＷと小さいままであり、記録感度に優れていた。な
お、本実施例においては、使用する基板材料は透光性を
有するものである必要はなく、石英ガラス、ＰＭＭＡ樹
脂の他、ＡｌやＣｕ等の金属、ＳｉＡｌＯＮ等のセラミ
ック等を用いることもできる。
【００４７】（実施例５）光記録媒体の構成は、石英ガ
ラス基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層／
反射層とし、各層の材料及び膜厚はそれぞれ、基板側か
ら保護層がＺｎＳで１８０ｎｍ、接着層がＹ2 Ｏ3 で５
ｎｍ、記録層が実施例１と同じもので２０ｎｍ、接着層
がＹ2 Ｏ3 で５ｎｍ、さらにその上の保護層がＺｎＳで
２５ｎｍ、反射層がＡｌで１００ｎｍとして試料を作成
した。すなわち、本実施例は、保護層として記録層にも
反射層にも密着性の悪いＺｎＳを用い、この保護層と記
録層との付着力を高めるため接着層としてＹ2 Ｏ3 を用
いたものである。このようにして作成した試料を、実施
例１と同様にして記録・消去の繰り返し回数を求めた。
この結果、接着層を設けることにより、保護層と記録層
との間の密着性が強くなり、記録・消去の繰り返し回数
が増加し、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けない場合の記録・消
去の繰り返し回数が１×１０4 回であったのに対して、
接着層を設けると２×１０4 回に増加した。なお、レー
ザーパワーＰｗは接着層の有無で変わらず１８．２ｍＷ
であった。
ラス基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層／
反射層とし、各層の材料及び膜厚はそれぞれ、基板側か
ら保護層がＺｎＳで１８０ｎｍ、接着層がＹ2 Ｏ3 で５
ｎｍ、記録層が実施例１と同じもので２０ｎｍ、接着層
がＹ2 Ｏ3 で５ｎｍ、さらにその上の保護層がＺｎＳで
２５ｎｍ、反射層がＡｌで１００ｎｍとして試料を作成
した。すなわち、本実施例は、保護層として記録層にも
反射層にも密着性の悪いＺｎＳを用い、この保護層と記
録層との付着力を高めるため接着層としてＹ2 Ｏ3 を用
いたものである。このようにして作成した試料を、実施
例１と同様にして記録・消去の繰り返し回数を求めた。
この結果、接着層を設けることにより、保護層と記録層
との間の密着性が強くなり、記録・消去の繰り返し回数
が増加し、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けない場合の記録・消
去の繰り返し回数が１×１０4 回であったのに対して、
接着層を設けると２×１０4 回に増加した。なお、レー
ザーパワーＰｗは接着層の有無で変わらず１８．２ｍＷ
であった。
【００４８】（実施例６）光記録媒体の構成は、石英ガ
ラス基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層／
接着層／反射層とし、各層の材料及び膜厚はそれぞれ、
基板側から保護層がＺｎＳで１８０ｎｍ、接着層がＹ2
Ｏ3 で５ｎｍ、記録層が実施例１と同じもので２０ｎ
ｍ、接着層がＹ2 Ｏ3 で５ｎｍ、さらにその上の保護層
がＺｎＳで２５ｎｍ、接着層がＹ2 Ｏ3 で５ｎｍ、反射
層がＡｌで１００ｎｍとして試料を作成した。すなわ
ち、本実施例は実施例５においてさらに保護層と反射層
との間にもＹ2 Ｏ3 の接着層を設けたものである。この
ようにして作成した試料を、実施例１と同様にして記録
・消去の繰り返し回数を求めた。この結果、実施例５と
比較して、保護層と反射層との間にも接着層を設けるこ
とにより、さらに記録・消去の繰り返し回数が増加し、
２×１０5 回に達した。なお、レーザーパワーＰｗは１
８．５ｍＷであった。
ラス基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層／
接着層／反射層とし、各層の材料及び膜厚はそれぞれ、
基板側から保護層がＺｎＳで１８０ｎｍ、接着層がＹ2
Ｏ3 で５ｎｍ、記録層が実施例１と同じもので２０ｎ
ｍ、接着層がＹ2 Ｏ3 で５ｎｍ、さらにその上の保護層
がＺｎＳで２５ｎｍ、接着層がＹ2 Ｏ3 で５ｎｍ、反射
層がＡｌで１００ｎｍとして試料を作成した。すなわ
ち、本実施例は実施例５においてさらに保護層と反射層
との間にもＹ2 Ｏ3 の接着層を設けたものである。この
ようにして作成した試料を、実施例１と同様にして記録
・消去の繰り返し回数を求めた。この結果、実施例５と
比較して、保護層と反射層との間にも接着層を設けるこ
とにより、さらに記録・消去の繰り返し回数が増加し、
２×１０5 回に達した。なお、レーザーパワーＰｗは１
８．５ｍＷであった。
【００４９】（実施例７）光記録媒体の構成を、石英ガ
ラス基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層／
接着層／反射層とし、各層の材料及び膜厚はそれぞれ、
基板側から保護層がＺｎＳで１８０ｎｍ、接着層がＡｌ
2 Ｏ3 で５ｎｍ、記録層が実施例１と同じもので２０ｎ
ｍ、接着層がＡｌ2 Ｏ3 で５ｎｍ、さらにその上の保護
層がＺｎＳで２５ｎｍ、接着層がＡｌ2 Ｏ3 で５ｎｍ、
反射層がＡｌで１００ｎｍとして試料を作成した。すな
わち、本実施例は実施例６において接着層の材料をＹ2
Ｏ3から密着性のより高いＡｌ2 Ｏ3 に置換させたもの
である。このようにして作成した試料を、実施例１と同
様にして記録・消去の繰り返し回数を求めた。この結
果、実施例６と比較して、さらに記録・消去の繰り返し
回数が増加し、３×１０5 回に達した。なお、レーザー
パワーＰｗは１９．２ｍＷであった。
ラス基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層／
接着層／反射層とし、各層の材料及び膜厚はそれぞれ、
基板側から保護層がＺｎＳで１８０ｎｍ、接着層がＡｌ
2 Ｏ3 で５ｎｍ、記録層が実施例１と同じもので２０ｎ
ｍ、接着層がＡｌ2 Ｏ3 で５ｎｍ、さらにその上の保護
層がＺｎＳで２５ｎｍ、接着層がＡｌ2 Ｏ3 で５ｎｍ、
反射層がＡｌで１００ｎｍとして試料を作成した。すな
わち、本実施例は実施例６において接着層の材料をＹ2
Ｏ3から密着性のより高いＡｌ2 Ｏ3 に置換させたもの
である。このようにして作成した試料を、実施例１と同
様にして記録・消去の繰り返し回数を求めた。この結
果、実施例６と比較して、さらに記録・消去の繰り返し
回数が増加し、３×１０5 回に達した。なお、レーザー
パワーＰｗは１９．２ｍＷであった。
【００５０】（実施例８）光記録媒体の構成を、石英ガ
ラス基板／保護層／接着層／記録層／保護層／反射層と
し、各層の材料及び膜厚はそれぞれ、基板側から保護層
がＺｎＳで１８０ｎｍ、接着層がＹ2 Ｏ3 で５ｎｍ、記
録層が実施例１と同じもので２０ｎｍ、その上の保護層
がＹ2 Ｏ3 で２５ｎｍ、反射層がＡｌで１００ｎｍとし
て試料を作成した。すなわち本実施例は基板と記録層と
の間の保護層は記録層との密着性の悪いＺｎＳを用い、
記録層と反射層との間の保護層は両者に密着力の高いＹ
2 Ｏ3 を用い、そしてＺｎＳの保護層と記録層との間に
接着層として密着力の高いＹ2 Ｏ3 を用いた。このよう
にして作成した試料を、実施例１と同様にして記録・消
去の繰り返し回数を求めた。この結果、Ｙ2 Ｏ3 接着層
を設けないものの記録・消去の繰り返し回数が１×１０
4 回であったのに対して、接着層を設けると、記録・消
去の繰り返し回数が増加し、２×１０6 回と著しく増加
した。なお、レーザーパワーＰｗは接着層の有無で変化
せず１８．８ｍＷであった。
ラス基板／保護層／接着層／記録層／保護層／反射層と
し、各層の材料及び膜厚はそれぞれ、基板側から保護層
がＺｎＳで１８０ｎｍ、接着層がＹ2 Ｏ3 で５ｎｍ、記
録層が実施例１と同じもので２０ｎｍ、その上の保護層
がＹ2 Ｏ3 で２５ｎｍ、反射層がＡｌで１００ｎｍとし
て試料を作成した。すなわち本実施例は基板と記録層と
の間の保護層は記録層との密着性の悪いＺｎＳを用い、
記録層と反射層との間の保護層は両者に密着力の高いＹ
2 Ｏ3 を用い、そしてＺｎＳの保護層と記録層との間に
接着層として密着力の高いＹ2 Ｏ3 を用いた。このよう
にして作成した試料を、実施例１と同様にして記録・消
去の繰り返し回数を求めた。この結果、Ｙ2 Ｏ3 接着層
を設けないものの記録・消去の繰り返し回数が１×１０
4 回であったのに対して、接着層を設けると、記録・消
去の繰り返し回数が増加し、２×１０6 回と著しく増加
した。なお、レーザーパワーＰｗは接着層の有無で変化
せず１８．８ｍＷであった。
【００５１】
【発明の効果】以上、本発明光記録媒体によれば、保護
層と反射層との間及び／又は保護層と記録層との間に、
接着層を設けることにより、保護層、反射層、記録層の
特徴を損なわないで、記録・消去の繰り返し動作をより
長期間にわたって安定に行うことができる。
層と反射層との間及び／又は保護層と記録層との間に、
接着層を設けることにより、保護層、反射層、記録層の
特徴を損なわないで、記録・消去の繰り返し動作をより
長期間にわたって安定に行うことができる。
【図１】本発明の１実施例の光媒体の構成を示す。
【図２】静止状態での記録・消去特性の測定系を示す。
１０ 光記録媒体 １１ 透明基板 １２，１４ 保護層 １３ 記録層 １５ 接着層 １６ 反射層 ２１ レーザー光源 ２２ 対物レンズ ２３ 光ヘッド ２４ レーザー光
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年４月２０日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 光記録媒体
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体に係り、詳し
くは光学的に情報の記録、再生及び消去を行うことの出
来る、いわゆる書換え型光情報記録媒体に関する。
くは光学的に情報の記録、再生及び消去を行うことの出
来る、いわゆる書換え型光情報記録媒体に関する。
【０００２】
【背景技術】光照射、主にレーザー光の照射によって生
じた物質の非晶質状態と結晶質状態の間の可逆的な構造
変化（相変化）を積極的に情報の記録に利用した相変化
型光記録媒体は情報の高速処理能力に加えて記録容量が
大きく、将来の情報蓄積装置として期待されている。
じた物質の非晶質状態と結晶質状態の間の可逆的な構造
変化（相変化）を積極的に情報の記録に利用した相変化
型光記録媒体は情報の高速処理能力に加えて記録容量が
大きく、将来の情報蓄積装置として期待されている。
【０００３】この光記録媒体には情報処理の高速化が一
段と厳しくなる中で、高速記録した情報をより高速で消
去する性能が求められている。ここでは、一旦記録した
情報を消去し、さらにその上に別の情報を記録する、い
わゆる記録・消去の繰り返しの安定動作が必要不可欠と
なる。
段と厳しくなる中で、高速記録した情報をより高速で消
去する性能が求められている。ここでは、一旦記録した
情報を消去し、さらにその上に別の情報を記録する、い
わゆる記録・消去の繰り返しの安定動作が必要不可欠と
なる。
【０００４】この記録・消去の繰り返し回数は多いこと
が好ましい。記録・消去の繰り返し特性には記録層材料
や保護層材料等の各種の物性が影響を与えることが知ら
れ、種々の記録層材料や保護層材料が研究開発され、所
定の成果が得られている。
が好ましい。記録・消去の繰り返し特性には記録層材料
や保護層材料等の各種の物性が影響を与えることが知ら
れ、種々の記録層材料や保護層材料が研究開発され、所
定の成果が得られている。
【０００５】ところで、書換え型光記録媒体は、基板と
記録層とを必須の構成要素とするものであるが、本発明
者は、基板上に、下地の保護層、記録層、上地の保護
層、金属からなる反射層が順次形成された新規な構造を
有する光記録媒体を発明し、特許出願している（特願平
３−３３８７５７号）。
記録層とを必須の構成要素とするものであるが、本発明
者は、基板上に、下地の保護層、記録層、上地の保護
層、金属からなる反射層が順次形成された新規な構造を
有する光記録媒体を発明し、特許出願している（特願平
３−３３８７５７号）。
【０００６】この特願平３−３３８７５７号明細書に記
載の光記録媒体において、保護層、特に上地の保護層
は、記録時の記録層材料のレーザー溶融に伴なう流動又
は飛散を抑制し、記録・消去の繰り返し特性の向上に寄
与する。特に保護層材料として、Ｙ2 Ｏ3 を含むものを
用いると、コントラスト比が大きくなるとともに、記録
・消去の繰り返しを多数回にわたって安定に行うことが
可能となり、Ｙ2 Ｏ3 とＺｎＳとの混合物を用いると、
上記効果とともに記録感度が向上するという効果も得ら
れる。
載の光記録媒体において、保護層、特に上地の保護層
は、記録時の記録層材料のレーザー溶融に伴なう流動又
は飛散を抑制し、記録・消去の繰り返し特性の向上に寄
与する。特に保護層材料として、Ｙ2 Ｏ3 を含むものを
用いると、コントラスト比が大きくなるとともに、記録
・消去の繰り返しを多数回にわたって安定に行うことが
可能となり、Ｙ2 Ｏ3 とＺｎＳとの混合物を用いると、
上記効果とともに記録感度が向上するという効果も得ら
れる。
【０００７】また、前記反射層は、第一に金属は熱伝導
性に優れていることから記録層の冷却速度の制御が容易
となり記録（非晶質）状態及び消去（晶質）状態を良好
にするという効果があり、第二に金属は記録層を透過し
たレーザー光を反射させることからレーザー光を記録層
に有効に取り入れることを可能とするという効果があ
る。
性に優れていることから記録層の冷却速度の制御が容易
となり記録（非晶質）状態及び消去（晶質）状態を良好
にするという効果があり、第二に金属は記録層を透過し
たレーザー光を反射させることからレーザー光を記録層
に有効に取り入れることを可能とするという効果があ
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】前記のような構成を有
する特願平３−３３８７５７号明細書に記載の光記録媒
体は、それまで公知の光記録媒体よりも記録・消去の繰
り返し特性を大幅に改善したものであるが、この特性を
更に改善することが望まれていた。従って本発明の目的
は、より一層記録・消去の繰り返しの回数を多くするこ
とのできる書換え型光記録媒体を提供することにある。
する特願平３−３３８７５７号明細書に記載の光記録媒
体は、それまで公知の光記録媒体よりも記録・消去の繰
り返し特性を大幅に改善したものであるが、この特性を
更に改善することが望まれていた。従って本発明の目的
は、より一層記録・消去の繰り返しの回数を多くするこ
とのできる書換え型光記録媒体を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的達成のため、本
発明者は、種々の検討を加えた結果、記録・消去の繰り
返し回数が多くならない理由が、保護層と反射層との間
の付着力が低いことにあることを見い出した。
発明者は、種々の検討を加えた結果、記録・消去の繰り
返し回数が多くならない理由が、保護層と反射層との間
の付着力が低いことにあることを見い出した。
【００１０】先ず、保護層と反射層との付着力について
測定した結果を説明する。表１は、石英ガラス基板上に
保護層（膜厚０．１５μｍ）、Ａｌ反射層（膜厚０．１
μｍ）を順次高周波マグネトロンスパッタ法で成膜して
なる試料における各種保護層とＡｌ反射層との付着力を
剥離荷重（ｇｆ）によって示したものである。
測定した結果を説明する。表１は、石英ガラス基板上に
保護層（膜厚０．１５μｍ）、Ａｌ反射層（膜厚０．１
μｍ）を順次高周波マグネトロンスパッタ法で成膜して
なる試料における各種保護層とＡｌ反射層との付着力を
剥離荷重（ｇｆ）によって示したものである。
【００１１】
【表１】 表１より、Ｙ2 Ｏ3 単独からなる保護層とＡｌ反射層と
の剥離荷重は２１．５ｇｆと高く良好な付着力を示し
た。しかし、特願平３−３３８７５７号明細書に記載の
ように保護層として特に好ましいとされるＹ2 Ｏ3 とＺ
ｎＳとの混合物の場合、ＺｎＳの含量が増えるに従って
次第に剥離荷重は低下し（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝５／５
（ｍｏｌ／ｍｏｌ）のとき１９．５ｇｆ、Ｙ2 Ｏ3 ／Ｚ
ｎＳ＝３／７（ｍｏｌ／ｍｏｌ）のとき１７．２ｇ
ｆ）、Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍｏｌ）の
とき剥離荷重は１６．４ｇｆにまで低下した。そして、
Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝１／９（ｍｏｌ／ｍｏｌ）にすると
一旦剥離荷重は１９．１ｇｆとわずかに増加するが、さ
らにＺｎＳの含量を増やすと剥離荷重は低下し、ＺｎＳ
単独の場合の剥離荷重は２．８ｇｆと極めて低かった。
このように、保護層として特に好ましいとされるＹ2 Ｏ
3 とＺｎＳとの混合物は、Ａｌ反射層との付着力が弱い
ものであった。
の剥離荷重は２１．５ｇｆと高く良好な付着力を示し
た。しかし、特願平３−３３８７５７号明細書に記載の
ように保護層として特に好ましいとされるＹ2 Ｏ3 とＺ
ｎＳとの混合物の場合、ＺｎＳの含量が増えるに従って
次第に剥離荷重は低下し（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝５／５
（ｍｏｌ／ｍｏｌ）のとき１９．５ｇｆ、Ｙ2 Ｏ3 ／Ｚ
ｎＳ＝３／７（ｍｏｌ／ｍｏｌ）のとき１７．２ｇ
ｆ）、Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍｏｌ）の
とき剥離荷重は１６．４ｇｆにまで低下した。そして、
Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝１／９（ｍｏｌ／ｍｏｌ）にすると
一旦剥離荷重は１９．１ｇｆとわずかに増加するが、さ
らにＺｎＳの含量を増やすと剥離荷重は低下し、ＺｎＳ
単独の場合の剥離荷重は２．８ｇｆと極めて低かった。
このように、保護層として特に好ましいとされるＹ2 Ｏ
3 とＺｎＳとの混合物は、Ａｌ反射層との付着力が弱い
ものであった。
【００１２】そして本発明者は、更に検討した結果、保
護層と反射層との間の付着力を高めるために、使用され
る保護層の材料よりも反射層の材料との付着力の高い材
料からなる接着層を保護層と反射層との間に設けること
により、記録・消去の繰り返し回数が著るしく増加した
光記録媒体を得ることができることを見い出した。
護層と反射層との間の付着力を高めるために、使用され
る保護層の材料よりも反射層の材料との付着力の高い材
料からなる接着層を保護層と反射層との間に設けること
により、記録・消去の繰り返し回数が著るしく増加した
光記録媒体を得ることができることを見い出した。
【００１３】本発明はこのような知見に基づきなされた
ものであり、本発明の光記録媒体は、基板上に直接又は
間接的に設けられた保護層と反射層との間に接着層を設
けたことを特徴とする。
ものであり、本発明の光記録媒体は、基板上に直接又は
間接的に設けられた保護層と反射層との間に接着層を設
けたことを特徴とする。
【００１４】本発明の光記録媒体は、基板上に直接又は
間接的に設けられた保護層と反射層との間に接着層を設
けた全ての光記録媒体を包含するものであるが、その好
ましい態様として、基板と記録層と保護層と反射層とを
有し、保護層と反射層との間に接着層を設けた光記録媒
体が挙げられる。
間接的に設けられた保護層と反射層との間に接着層を設
けた全ての光記録媒体を包含するものであるが、その好
ましい態様として、基板と記録層と保護層と反射層とを
有し、保護層と反射層との間に接着層を設けた光記録媒
体が挙げられる。
【００１５】光記録媒体は、基板、記録層、保護層とと
もにさらに反射層を有し、保護層と反射層との間に接着
層が設けられたものであるが、その具体的構成を示すと
以下のとおりである。 （イ）基板／記録層／保護層／接着層／反射層 （ロ）基板／保護層／記録層／保護層／接着層／反射層 （ハ）基板／反射層／接着層／保護層／記録層／保護層 （ニ）基板／記録層／接着層／保護層／接着層／反射層 （ホ）基板／保護層／接着層／記録層／保護層／接着層
／反射層 （ヘ）基板／保護層／記録層／接着層／保護層／接着層
／反射層 （ト）基板／反射層／接着層／保護層／接着層／記録層
／保護層 （チ）基板／反射層／接着層／保護層／記録層／接着層
／保護層 （リ）基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層
／接着層／反射層 （ヌ）基板／反射層／接着層／保護層／接着層／記録層
／接着層／保護層 光記録媒体における反射層は、光記録媒体における反射
層としての機能を有するものであれば、その種類は問わ
ないが、Ａｌ，Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｃｒ，Ｎｉ及
びＴｉから選ばれる少なくとも１種の金属を用いるのが
好ましい。
もにさらに反射層を有し、保護層と反射層との間に接着
層が設けられたものであるが、その具体的構成を示すと
以下のとおりである。 （イ）基板／記録層／保護層／接着層／反射層 （ロ）基板／保護層／記録層／保護層／接着層／反射層 （ハ）基板／反射層／接着層／保護層／記録層／保護層 （ニ）基板／記録層／接着層／保護層／接着層／反射層 （ホ）基板／保護層／接着層／記録層／保護層／接着層
／反射層 （ヘ）基板／保護層／記録層／接着層／保護層／接着層
／反射層 （ト）基板／反射層／接着層／保護層／接着層／記録層
／保護層 （チ）基板／反射層／接着層／保護層／記録層／接着層
／保護層 （リ）基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層
／接着層／反射層 （ヌ）基板／反射層／接着層／保護層／接着層／記録層
／接着層／保護層 光記録媒体における反射層は、光記録媒体における反射
層としての機能を有するものであれば、その種類は問わ
ないが、Ａｌ，Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｃｒ，Ｎｉ及
びＴｉから選ばれる少なくとも１種の金属を用いるのが
好ましい。
【００１６】上記基板としては、特に限定されないが、
石英ガラスなどのガラス、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタク
リレート）樹脂やＰＣ（ポリカーボネート）樹脂などの
樹脂、Ａｌ，Ｃｕなどの金属、ＳｉＡｌＯＮなどのセラ
ミックスなどが好ましく用いられる。
石英ガラスなどのガラス、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタク
リレート）樹脂やＰＣ（ポリカーボネート）樹脂などの
樹脂、Ａｌ，Ｃｕなどの金属、ＳｉＡｌＯＮなどのセラ
ミックスなどが好ましく用いられる。
【００１７】また記録層としては、特に限定されない
が、必須成分としてＧｅ，Ｔｅ，Ｓｂを含み、さらに追
加成分としてＢｉ，Ｓｅを含有するものが、記録・消去
の繰り返し回数を多くする上で好ましく用いられる。
が、必須成分としてＧｅ，Ｔｅ，Ｓｂを含み、さらに追
加成分としてＢｉ，Ｓｅを含有するものが、記録・消去
の繰り返し回数を多くする上で好ましく用いられる。
【００１８】また、保護層としては、特に限定されない
が、Ｙ2 Ｏ3 を含有するもの（特にＹ2 Ｏ3 とともにＺ
ｎＳも含有するもの）が好ましい。その理由は、Ｙ2 Ｏ
3 を含有する誘電体物質からなる保護層を記録層の少な
くとも上面に設けると、非晶質（記録）状態と結晶質
（消去）状態との間のコントラスト比を大きくするとと
もに、記録・消去の繰り返しを長期間にわたって安定に
行うことができるためである。コントラスト比が改善さ
れた理由は、上記保護層の熱伝導率が高いため、記録層
の冷却速度が十分大きくなり、非晶質化（記録）が容易
となるためと考えられる。また、繰り返し特性が改善さ
れた理由は、上記保護層が前記記録層に対して比較的付
着力が高いこと、融点が高く熱的に安定であること、及
び保護層を形成した後の残留応力が小さいためと考えら
れる。さらに、Ｙ2 Ｏ3 とともにＺｎＳを含むと、前記
Ｙ2 Ｏ3 保護層の効果を損なうことなく、記録の際にお
けるレーザーのパワーを削減させること（換言すれば、
記録感度を良くすること）が可能となる。この効果を発
揮させるためにはＺｎＳを保護層中１０ｍｏｌ％以上
（望ましくは２０ｍｏｌ％以上、さらに望ましくは３０
ｍｏｌ％以上）含有させることが好ましい。しかしなが
らＺｎＳを保護層中に９０ｍｏｌ％を超えて含有させる
と、記録・消去の繰り返し精度が悪化するためＺｎＳの
保護層中の含有量は９０ｍｏｌ％以下（望ましくは８５
ｍｏｌ％以下）とすることが好ましい。さらに、上記の
保護層は、記録・消去の繰り返しによる基板の劣化や記
録層の湿気による劣化を防ぐ効果も有する。
が、Ｙ2 Ｏ3 を含有するもの（特にＹ2 Ｏ3 とともにＺ
ｎＳも含有するもの）が好ましい。その理由は、Ｙ2 Ｏ
3 を含有する誘電体物質からなる保護層を記録層の少な
くとも上面に設けると、非晶質（記録）状態と結晶質
（消去）状態との間のコントラスト比を大きくするとと
もに、記録・消去の繰り返しを長期間にわたって安定に
行うことができるためである。コントラスト比が改善さ
れた理由は、上記保護層の熱伝導率が高いため、記録層
の冷却速度が十分大きくなり、非晶質化（記録）が容易
となるためと考えられる。また、繰り返し特性が改善さ
れた理由は、上記保護層が前記記録層に対して比較的付
着力が高いこと、融点が高く熱的に安定であること、及
び保護層を形成した後の残留応力が小さいためと考えら
れる。さらに、Ｙ2 Ｏ3 とともにＺｎＳを含むと、前記
Ｙ2 Ｏ3 保護層の効果を損なうことなく、記録の際にお
けるレーザーのパワーを削減させること（換言すれば、
記録感度を良くすること）が可能となる。この効果を発
揮させるためにはＺｎＳを保護層中１０ｍｏｌ％以上
（望ましくは２０ｍｏｌ％以上、さらに望ましくは３０
ｍｏｌ％以上）含有させることが好ましい。しかしなが
らＺｎＳを保護層中に９０ｍｏｌ％を超えて含有させる
と、記録・消去の繰り返し精度が悪化するためＺｎＳの
保護層中の含有量は９０ｍｏｌ％以下（望ましくは８５
ｍｏｌ％以下）とすることが好ましい。さらに、上記の
保護層は、記録・消去の繰り返しによる基板の劣化や記
録層の湿気による劣化を防ぐ効果も有する。
【００１９】保護層の材料としては、他にＡｌＮ，Ｓｉ
3 Ｎ4 ，ＳｉＡｌＯＮ，ＺｎＳｅ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＧｅＯ
2 ，ＳｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ2 なども用いられ
る。上記保護層と記録層との間に設けられる接着層の材
料は、使用される保護層の材料よりも記録層の材料との
付着力の高い材料であればその種類を問わないが、Ａｌ
2 Ｏ3 ，ＧｅＯ2 ，ＳｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ2 及
びＹ2 Ｏ3 から選ばれる少なくとも１種を用いるのが好
ましい。
3 Ｎ4 ，ＳｉＡｌＯＮ，ＺｎＳｅ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＧｅＯ
2 ，ＳｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ2 なども用いられ
る。上記保護層と記録層との間に設けられる接着層の材
料は、使用される保護層の材料よりも記録層の材料との
付着力の高い材料であればその種類を問わないが、Ａｌ
2 Ｏ3 ，ＧｅＯ2 ，ＳｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ2 及
びＹ2 Ｏ3 から選ばれる少なくとも１種を用いるのが好
ましい。
【００２０】この接着層の膜厚は、２ｎｍ〜１５ｎｍと
することが好ましい。その理由は、２ｎｍ未満である
と、保護層と記録層との付着力を大きくならず、記録・
消去の繰り返し特性を改善する効果が小さくなり、ま
た、１５ｎｍを超えると、記録・消去の繰り返し特性又
は記録層の反射率等の光学特性等が悪化する傾向がある
ためである。
することが好ましい。その理由は、２ｎｍ未満である
と、保護層と記録層との付着力を大きくならず、記録・
消去の繰り返し特性を改善する効果が小さくなり、ま
た、１５ｎｍを超えると、記録・消去の繰り返し特性又
は記録層の反射率等の光学特性等が悪化する傾向がある
ためである。
【００２１】光記録媒体は、上述のように保護層と反射
層との間に接着層を設けたことを特徴とするものであ
り、この接着層は、保護層及び反射層のそれぞれの性質
を損わずに、保護層と反射層との付着力を向上させ、こ
れにより記録・消去の繰り返し動作を多数回にわたって
安定に行なうことが可能になる。
層との間に接着層を設けたことを特徴とするものであ
り、この接着層は、保護層及び反射層のそれぞれの性質
を損わずに、保護層と反射層との付着力を向上させ、こ
れにより記録・消去の繰り返し動作を多数回にわたって
安定に行なうことが可能になる。
【００２２】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に説明する。 （実施例１） （１）本発明の光記録媒体の構成の一例を図１に示す。
本発明の光記録媒体の構成は透明基板１１上に保護層１
２、記録層１３、保護層１４、接着層１５及び反射層１
６を順次積層したものである。透明基板１１には十分洗
浄を施した石英ガラス基板を用いた。保護層１２及び保
護層１４にはＹ2 Ｏ3 （試料Ｎｏ．１），Ｙ2 Ｏ3 −Ｚ
ｎＳ混合物（試料Ｎｏ．２〜５）又はＺｎＳ（試料Ｎ
ｏ．６）を用いた。接着層１５にはＡｌ2 Ｏ3 （試料Ｎ
ｏ．１）又はＹ2 Ｏ3 （試料Ｎｏ．２〜６）を用いた。
そして反射層１６にはＡｌを用いた。なお基板材料はガ
ラスに限定されるものではなく、利用可能なものであれ
ばよく、例えばポリカーボネートやＰＭＭＡといった樹
脂等を用いることもできる。保護層１２、保護層１４、
接着層１５及び反射層１６の膜厚はそれぞれ１８０ｎ
ｍ、２５ｎｍ、５ｎｍ及び１００ｎｍ程度とした。記録
層１３には、式Ｇｅ2 Ｓｂ2 Ｔｅ5 を基本構造式とし、
かつ上式におけるＳｂの２ａｔ．％をＢｉに、そしてＴ
ｅの５ａｔ．％をＳｅに置き換えたＧｅ，Ｓｂ，Ｔｅ，
Ｂｉ及びＳｅの５元素からなる合金を用いた。記録層１
３の膜厚は２０ｎｍであった。
本発明の光記録媒体の構成は透明基板１１上に保護層１
２、記録層１３、保護層１４、接着層１５及び反射層１
６を順次積層したものである。透明基板１１には十分洗
浄を施した石英ガラス基板を用いた。保護層１２及び保
護層１４にはＹ2 Ｏ3 （試料Ｎｏ．１），Ｙ2 Ｏ3 −Ｚ
ｎＳ混合物（試料Ｎｏ．２〜５）又はＺｎＳ（試料Ｎ
ｏ．６）を用いた。接着層１５にはＡｌ2 Ｏ3 （試料Ｎ
ｏ．１）又はＹ2 Ｏ3 （試料Ｎｏ．２〜６）を用いた。
そして反射層１６にはＡｌを用いた。なお基板材料はガ
ラスに限定されるものではなく、利用可能なものであれ
ばよく、例えばポリカーボネートやＰＭＭＡといった樹
脂等を用いることもできる。保護層１２、保護層１４、
接着層１５及び反射層１６の膜厚はそれぞれ１８０ｎ
ｍ、２５ｎｍ、５ｎｍ及び１００ｎｍ程度とした。記録
層１３には、式Ｇｅ2 Ｓｂ2 Ｔｅ5 を基本構造式とし、
かつ上式におけるＳｂの２ａｔ．％をＢｉに、そしてＴ
ｅの５ａｔ．％をＳｅに置き換えたＧｅ，Ｓｂ，Ｔｅ，
Ｂｉ及びＳｅの５元素からなる合金を用いた。記録層１
３の膜厚は２０ｎｍであった。
【００２３】試料Ｎｏ．２〜５において、Ｙ2 Ｏ3 −Ｚ
ｎＳ混合物からなる前記保護層１２および１４は、Ｙ2
Ｏ3 とＺｎＳの混合ターゲットを用意して成膜するか、
あるいはＹ2 Ｏ3 ターゲットとＺｎＳターゲットをそれ
ぞれ個別に用意し、２元同時スパッタ法により成膜し
た。ここで、成膜方法は高周波マグネトロン・スパッタ
法に限定されるものではなく、例えば、直流スパッタ
法、真空蒸着法、スピンコート法そしてプラズマＣＶＤ
法等のいかなる方法であっても差し支えない。記録膜の
組成は光電子分光分析法そして保護膜の組成はＥＤＡＸ
によりそれぞれ確認した。
ｎＳ混合物からなる前記保護層１２および１４は、Ｙ2
Ｏ3 とＺｎＳの混合ターゲットを用意して成膜するか、
あるいはＹ2 Ｏ3 ターゲットとＺｎＳターゲットをそれ
ぞれ個別に用意し、２元同時スパッタ法により成膜し
た。ここで、成膜方法は高周波マグネトロン・スパッタ
法に限定されるものではなく、例えば、直流スパッタ
法、真空蒸着法、スピンコート法そしてプラズマＣＶＤ
法等のいかなる方法であっても差し支えない。記録膜の
組成は光電子分光分析法そして保護膜の組成はＥＤＡＸ
によりそれぞれ確認した。
【００２４】静止状態における記録・消去繰り返し特性
は図２に示すように８３０ｎｍの波長のレーザーを有す
る光源２１と開口数がおよそ０．５２の対物レンズ２２
よりなる光ヘッド２３よりレーザー光線２４を光記録媒
体１０（詳しくは図１のガラス基板１１側より記録層１
３）に集光、照射することにより調べた。記録・消去繰
り返し特性の測定に先立って、レーザーアニールあるい
は加熱処理によって記録層１３に初期結晶化を施した。
加熱処理を施す際には反射層１６の表面をさらに保護層
（約１００ｎｍ）で覆うようにした。成膜後の反射率を
１０％前後そして初期化後の媒体の反射率を３０〜３２
％程度に設定した。記録条件は信号コントラスト、Ｃを
は図２に示すように８３０ｎｍの波長のレーザーを有す
る光源２１と開口数がおよそ０．５２の対物レンズ２２
よりなる光ヘッド２３よりレーザー光線２４を光記録媒
体１０（詳しくは図１のガラス基板１１側より記録層１
３）に集光、照射することにより調べた。記録・消去繰
り返し特性の測定に先立って、レーザーアニールあるい
は加熱処理によって記録層１３に初期結晶化を施した。
加熱処理を施す際には反射層１６の表面をさらに保護層
（約１００ｎｍ）で覆うようにした。成膜後の反射率を
１０％前後そして初期化後の媒体の反射率を３０〜３２
％程度に設定した。記録条件は信号コントラスト、Ｃを
【数１】 ＶC ：結晶状態の光電変換素子出力電圧（消去信号） ＶA ：非晶質状態の光電変換素子出力電圧（記録信号） と定義し、記録は記録パルス幅を５０ｎｓ、そして消去
は消去パルス幅を１００ｎｓ一定として行った。
は消去パルス幅を１００ｎｓ一定として行った。
【００２５】また、記録・消去の繰り返し特性に関して
は、コントラスト比が２５％まで低下したところまでの
回数をもって繰り返し回数とした。結果を表２に示す。
は、コントラスト比が２５％まで低下したところまでの
回数をもって繰り返し回数とした。結果を表２に示す。
【００２６】
【表２】 表２に示すように、保護層１４と反射層１６との間に接
着層１５を設けることにより、試料Ｎｏ．１〜６のいず
れにおいても記録・消去の繰り返し回数が増加している
ことが分かる。
着層１５を設けることにより、試料Ｎｏ．１〜６のいず
れにおいても記録・消去の繰り返し回数が増加している
ことが分かる。
【００２７】特に、前述したように、保護層がＹ2 Ｏ3
単独（試料Ｎｏ．１）又はＹ2 Ｏ3とＺｎＳとの混合物
（試料Ｎｏ．２〜５）からなる場合は、ＺｎＳ単独（試
料Ｎｏ．６）からなる場合に比べ、記録・消去の繰り返
し動作の安定性は改善されているが、反射層との付着力
のより高い接着層を設けることにより、さらに繰り返し
動作は改善される。例えば、保護層材料がＹ2 Ｏ3 の場
合（試料Ｎｏ．１）、表１に示したようにそもそもＡｌ
反射層との付着力が強く、記録・消去の繰り返し回数も
１．５×１０6 回と多いが、Ｙ2 Ｏ3 よりもさらにＡｌ
反射層との付着力の大きなＡｌ2 Ｏ3 を接着層に用いる
ことによって、記録・消去の繰り返し回数はさらに多く
することができ、２×１０6 回に達するものであった。
単独（試料Ｎｏ．１）又はＹ2 Ｏ3とＺｎＳとの混合物
（試料Ｎｏ．２〜５）からなる場合は、ＺｎＳ単独（試
料Ｎｏ．６）からなる場合に比べ、記録・消去の繰り返
し動作の安定性は改善されているが、反射層との付着力
のより高い接着層を設けることにより、さらに繰り返し
動作は改善される。例えば、保護層材料がＹ2 Ｏ3 の場
合（試料Ｎｏ．１）、表１に示したようにそもそもＡｌ
反射層との付着力が強く、記録・消去の繰り返し回数も
１．５×１０6 回と多いが、Ｙ2 Ｏ3 よりもさらにＡｌ
反射層との付着力の大きなＡｌ2 Ｏ3 を接着層に用いる
ことによって、記録・消去の繰り返し回数はさらに多く
することができ、２×１０6 回に達するものであった。
【００２８】また、前述したように、保護層としてＹ2
Ｏ3 とＺｎＳとの混合物を用いた場合、記録の際におけ
るレーザーのパワーＰｗを削減させることができるが、
本実施例においても、表１に示したように、試料Ｎｏ．
２〜５では、レーザーパワーＰｗが接着層の導入前と導
入後で変わらず１４〜１９ｍＷと小さいままであり、記
録感度に優れていた。
Ｏ3 とＺｎＳとの混合物を用いた場合、記録の際におけ
るレーザーのパワーＰｗを削減させることができるが、
本実施例においても、表１に示したように、試料Ｎｏ．
２〜５では、レーザーパワーＰｗが接着層の導入前と導
入後で変わらず１４〜１９ｍＷと小さいままであり、記
録感度に優れていた。
【００２９】このように、保護層と反射層との間に接着
層を設けると、単に保護層材料を接着層材料に置換した
だけの効果が表れるのではなく、Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合
物系保護層の特徴を損なわないで、保護層と反射層との
密着性が改善され、記録・消去の繰り返し回数を増加さ
せることができるものである。
層を設けると、単に保護層材料を接着層材料に置換した
だけの効果が表れるのではなく、Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合
物系保護層の特徴を損なわないで、保護層と反射層との
密着性が改善され、記録・消去の繰り返し回数を増加さ
せることができるものである。
【００３０】このように接着層の導入により、効果的に
記録・消去の繰り返し動作の安定性が改善されるが、実
用的には、保護層としてＺｎＳの含有量が９０ｍｏｌ％
以下のものを用いたもの（試料Ｎｏ．１〜５）が、記録
・消去の繰り返し回数が１×１０6 回に達するものであ
り、好ましいものである。
記録・消去の繰り返し動作の安定性が改善されるが、実
用的には、保護層としてＺｎＳの含有量が９０ｍｏｌ％
以下のものを用いたもの（試料Ｎｏ．１〜５）が、記録
・消去の繰り返し回数が１×１０6 回に達するものであ
り、好ましいものである。
【００３１】（２）次に基板として、直径１３０ｍｍφ
のフォーマット付きのガラスディスクを用いた以外は上
記試料Ｎｏ．４と同様にして保護層、記録層、保護層、
接着層及び反射層を順次積層して光ディスクを製造し、
この光ディスクについて、線速度を９ｍ／ｓ、キャリア
周波数ｆ1 （記録）／ｆ2 （消去）を５．１／１．９
（ＭＨＳ）、記録パルス幅６６ｎｓ、記録パワー２０ｍ
Ｗ、バイアスパワー１１ｍＷとして、１ビームオーバー
ライト繰返し特性の測定をランド部で行った。その結
果、２０万回以上にわたって繰返し動作は安定に行わ
れ、Ｃ／Ｎは約５４ｄＢ程度、消去率２４ｄＢ以上の良
好な状態が維持出来るものであった。一方接着層のない
光ディスクの場合、繰返し動作は１０万回程度に止まる
ものであった。ここに繰返し動作の回数はＣ／Ｎが３ｄ
Ｂに低下した時点までの回数である。
のフォーマット付きのガラスディスクを用いた以外は上
記試料Ｎｏ．４と同様にして保護層、記録層、保護層、
接着層及び反射層を順次積層して光ディスクを製造し、
この光ディスクについて、線速度を９ｍ／ｓ、キャリア
周波数ｆ1 （記録）／ｆ2 （消去）を５．１／１．９
（ＭＨＳ）、記録パルス幅６６ｎｓ、記録パワー２０ｍ
Ｗ、バイアスパワー１１ｍＷとして、１ビームオーバー
ライト繰返し特性の測定をランド部で行った。その結
果、２０万回以上にわたって繰返し動作は安定に行わ
れ、Ｃ／Ｎは約５４ｄＢ程度、消去率２４ｄＢ以上の良
好な状態が維持出来るものであった。一方接着層のない
光ディスクの場合、繰返し動作は１０万回程度に止まる
ものであった。ここに繰返し動作の回数はＣ／Ｎが３ｄ
Ｂに低下した時点までの回数である。
【００３２】（３）なお、Ｙ2 Ｏ3 接着層の膜厚は上記
の５ｎｍに限定されるものではなく、２−１５ｎｍ程度
の範囲にあれば、同様の効果を得ることが可能である。
しかし２ｎｍ未満の薄膜になると、接着層の効果は認め
られなくなり、１５ｎｍを超えると媒体の記録・消去特
性、感度等が変化するので、好ましくない。接着層材料
としてＹ2 Ｏ3 に代わってＳｉＯ2 あるいはＡｌ2 Ｏ3
を用いても記録・消去繰返し動作を２〜３×１０6 回に
わたって安定に行うことが出来る。さらに、ＧｅＯ2 ，
Ｔａ2 Ｏ5 あるいはＴｉＯ2 等の酸化物を接着層として
も同様の良好な特性を得ることが出来る。記録層材料は
前記記録層材料に限定されるものではなく、Ｇｅ2 （Ｓ
ｂ／Ｂｉ）2 Ｔｅ5 ，Ｇｅ2 Ｓｂ2 （Ｔｅ／Ｓｅ）5 ，
Ｇｅ2 Ｓｂ2 Ｔｅ5 ，Ｇｅ1 Ｓｂ2 Ｔｅ4 ，Ｇｅ2 Ｓｂ
4 Ｔｅ7 等においても同様の効果が認められる。
の５ｎｍに限定されるものではなく、２−１５ｎｍ程度
の範囲にあれば、同様の効果を得ることが可能である。
しかし２ｎｍ未満の薄膜になると、接着層の効果は認め
られなくなり、１５ｎｍを超えると媒体の記録・消去特
性、感度等が変化するので、好ましくない。接着層材料
としてＹ2 Ｏ3 に代わってＳｉＯ2 あるいはＡｌ2 Ｏ3
を用いても記録・消去繰返し動作を２〜３×１０6 回に
わたって安定に行うことが出来る。さらに、ＧｅＯ2 ，
Ｔａ2 Ｏ5 あるいはＴｉＯ2 等の酸化物を接着層として
も同様の良好な特性を得ることが出来る。記録層材料は
前記記録層材料に限定されるものではなく、Ｇｅ2 （Ｓ
ｂ／Ｂｉ）2 Ｔｅ5 ，Ｇｅ2 Ｓｂ2 （Ｔｅ／Ｓｅ）5 ，
Ｇｅ2 Ｓｂ2 Ｔｅ5 ，Ｇｅ1 Ｓｂ2 Ｔｅ4 ，Ｇｅ2 Ｓｂ
4 Ｔｅ7 等においても同様の効果が認められる。
【００３３】光記録媒体の構成において、基板と記録層
の間に位置する保護層と記録層と接着層の間に位置する
保護層のＺｎＳの含有量は必ずしも同様である必要はな
く、接着層の効果が得られるものであれば良く、例え
ば、基板側の保護層のＺｎＳ含有量を８０ｍｏｌ％そし
て接着層側の保護層のそれを５０ｍｏｌ％と言うように
異なるようにしてもよい。
の間に位置する保護層と記録層と接着層の間に位置する
保護層のＺｎＳの含有量は必ずしも同様である必要はな
く、接着層の効果が得られるものであれば良く、例え
ば、基板側の保護層のＺｎＳ含有量を８０ｍｏｌ％そし
て接着層側の保護層のそれを５０ｍｏｌ％と言うように
異なるようにしてもよい。
【００３４】（実施例２）本実施例の光記録媒体の構成
は、実施例１と異なり、基板と記録層との間に保護層を
設けず、石英ガラス基板／記録層／保護層／接着層／反
射層とした。また基板、記録層、反射層、保護層及び接
着層の各材料はそれぞれ実施例１と同様にし、膜厚は記
録層が２０ｎｍ、保護層が２５ｎｍ、接着層が５ｎｍ、
反射層が１００ｎｍとして、保護層がそれぞれＹ
2 Ｏ3 ，Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合物（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝
５／５、３／７、２／８、１／９（ｍｏｌ／ｍｏ
ｌ）），ＺｎＳである６種の試料を作成し、実施例１と
同様にして記録・消去の繰り返し回数を求めた。この結
果、いずれの試料も、接着層を設けることにより、記録
・消去の繰り返し回数が増加し、例えば保護層が、Ｙ2
Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍｏｌ）である試料で
は、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けない場合、記録・消去の繰
り返し回数が１．５×１０6 回であったのに対して、接
着層を設けると、２×１０6回に増加した。
は、実施例１と異なり、基板と記録層との間に保護層を
設けず、石英ガラス基板／記録層／保護層／接着層／反
射層とした。また基板、記録層、反射層、保護層及び接
着層の各材料はそれぞれ実施例１と同様にし、膜厚は記
録層が２０ｎｍ、保護層が２５ｎｍ、接着層が５ｎｍ、
反射層が１００ｎｍとして、保護層がそれぞれＹ
2 Ｏ3 ，Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合物（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝
５／５、３／７、２／８、１／９（ｍｏｌ／ｍｏ
ｌ）），ＺｎＳである６種の試料を作成し、実施例１と
同様にして記録・消去の繰り返し回数を求めた。この結
果、いずれの試料も、接着層を設けることにより、記録
・消去の繰り返し回数が増加し、例えば保護層が、Ｙ2
Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍｏｌ）である試料で
は、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けない場合、記録・消去の繰
り返し回数が１．５×１０6 回であったのに対して、接
着層を設けると、２×１０6回に増加した。
【００３５】その他の物性も実施例１と略同程度であ
り、レーザーパワーＰｗも接着層を設けたものと設けな
いものとで変わらず、特に保護層がＹ2 Ｏ3 とＺｎＳと
の混合物の場合、レーザーパワーＰｗが１４〜１９ｍＷ
と小さいままであり、記録感度に優れていた。
り、レーザーパワーＰｗも接着層を設けたものと設けな
いものとで変わらず、特に保護層がＹ2 Ｏ3 とＺｎＳと
の混合物の場合、レーザーパワーＰｗが１４〜１９ｍＷ
と小さいままであり、記録感度に優れていた。
【００３６】（実施例３）接着層の材料としてＡｌ2 Ｏ
3 ／ＳｉＯ2 ＝５／５（ｍｏｌ／ｍｏｌ）を用いた以外
は、実施例１と同様にして、保護層がそれぞれＹ
2 Ｏ3 ，Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合物（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝
５／５、３／７、２／８、１／９），ＺｎＳである６種
の試料を作成した。この接着層の材料は、Ａｌ反射層そ
して記録層との剥離荷重はそれぞれ２３．０ｇｆ、２
１．２ｇｆと大きい値を有するものである。このように
して作成した６種の試料を、実施例１と同様にして記録
・消去の繰り返し回数を求めた。
3 ／ＳｉＯ2 ＝５／５（ｍｏｌ／ｍｏｌ）を用いた以外
は、実施例１と同様にして、保護層がそれぞれＹ
2 Ｏ3 ，Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合物（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝
５／５、３／７、２／８、１／９），ＺｎＳである６種
の試料を作成した。この接着層の材料は、Ａｌ反射層そ
して記録層との剥離荷重はそれぞれ２３．０ｇｆ、２
１．２ｇｆと大きい値を有するものである。このように
して作成した６種の試料を、実施例１と同様にして記録
・消去の繰り返し回数を求めた。
【００３７】この結果、いずれの試料も、接着層を設け
ることにより、記録・消去の繰り返し回数が増加し、例
えば保護層が、Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍ
ｏｌ）である試料は、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けないと記
録・消去の繰り返し回数が１．５×１０6 回であったの
に対して、接着層を設けると３×１０6 回に増加した。
ることにより、記録・消去の繰り返し回数が増加し、例
えば保護層が、Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍ
ｏｌ）である試料は、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けないと記
録・消去の繰り返し回数が１．５×１０6 回であったの
に対して、接着層を設けると３×１０6 回に増加した。
【００３８】その他の物性も実施例１と略同程度であ
り、レーザーパワーＰｗも接着層を設けたものと設けな
いものとで変わらず、保護層がＹ2 Ｏ3 とＺｎＳとの混
合物の場合、１４〜１９ｍＷと小さいままであり、記録
感度に優れていた。
り、レーザーパワーＰｗも接着層を設けたものと設けな
いものとで変わらず、保護層がＹ2 Ｏ3 とＺｎＳとの混
合物の場合、１４〜１９ｍＷと小さいままであり、記録
感度に優れていた。
【００３９】なお、Ａｌ2 Ｏ3 とＳｉＯ2 の混合比率は
上記のものに限定されるものではなく、その他の混合比
率においても同様の良好な特性が得られた。このように
接着層に用いられる材料は混合物でも良いことが明らか
となったが、接着層に用いる混合材料は、上記の２種に
限定されるものではなく、ＧｅＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，Ｔｉ
Ｏ2 及びＹ2 Ｏ3 等の酸化物を２種以上混合させても、
同様の効果を得ることができる。
上記のものに限定されるものではなく、その他の混合比
率においても同様の良好な特性が得られた。このように
接着層に用いられる材料は混合物でも良いことが明らか
となったが、接着層に用いる混合材料は、上記の２種に
限定されるものではなく、ＧｅＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，Ｔｉ
Ｏ2 及びＹ2 Ｏ3 等の酸化物を２種以上混合させても、
同様の効果を得ることができる。
【００４０】（実施例４）光記録媒体の構成を、石英ガ
ラス基板／反射層／接着層／保護層／記録層／保護層と
し、前記各層の材料は実施例１と同様にし、さらに膜厚
は基板側から反射層が１００ｎｍ、接着層が５ｎｍ、そ
の上の保護層が２５ｎｍ、記録層が２０ｎｍ、さらにそ
の上の保護層が１８０ｎｍとして、保護層がＹ2 Ｏ3 ，
Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合物（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝５／５、
３／７、２／８、１／９），ＺｎＳである６種の試料を
作成し、実施例１と同様にして記録・消去の繰り返し回
数を求めた。この結果、いずれの試料も、接着層を設け
ることにより、記録・消去の繰り返し回数が増加し、例
えば保護層がＹ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍｏ
ｌ）である試料は、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けないと記録
・消去の繰り返し回数が１．５×１０6 回であったのに
対して、接着層を設けると３×１０6 回に増加した。
ラス基板／反射層／接着層／保護層／記録層／保護層と
し、前記各層の材料は実施例１と同様にし、さらに膜厚
は基板側から反射層が１００ｎｍ、接着層が５ｎｍ、そ
の上の保護層が２５ｎｍ、記録層が２０ｎｍ、さらにそ
の上の保護層が１８０ｎｍとして、保護層がＹ2 Ｏ3 ，
Ｙ2 Ｏ3 −ＺｎＳ混合物（Ｙ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝５／５、
３／７、２／８、１／９），ＺｎＳである６種の試料を
作成し、実施例１と同様にして記録・消去の繰り返し回
数を求めた。この結果、いずれの試料も、接着層を設け
ることにより、記録・消去の繰り返し回数が増加し、例
えば保護層がＹ2 Ｏ3 ／ＺｎＳ＝２／８（ｍｏｌ／ｍｏ
ｌ）である試料は、Ｙ2 Ｏ3 の接着層を設けないと記録
・消去の繰り返し回数が１．５×１０6 回であったのに
対して、接着層を設けると３×１０6 回に増加した。
【００４１】その他の物性も実施例１と略同程度であ
り、レーザーパワーＰｗも接着層の有無で変わらず、保
護層がＹ2 Ｏ3 とＺｎＳとの混合物の場合、１５〜２０
ｍＷと小さいままであり、記録感度に優れていた。な
お、本実施例においては、使用する基板材料は透光性を
有するものである必要はなく、石英ガラス、ＰＭＭＡ樹
脂の他、ＡｌやＣｕ等の金属、ＳｉＡｌＯＮ等のセラミ
ック等を用いることもできる。
り、レーザーパワーＰｗも接着層の有無で変わらず、保
護層がＹ2 Ｏ3 とＺｎＳとの混合物の場合、１５〜２０
ｍＷと小さいままであり、記録感度に優れていた。な
お、本実施例においては、使用する基板材料は透光性を
有するものである必要はなく、石英ガラス、ＰＭＭＡ樹
脂の他、ＡｌやＣｕ等の金属、ＳｉＡｌＯＮ等のセラミ
ック等を用いることもできる。
【００４２】（実施例５）光記録媒体の構成は、石英ガ
ラス基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層／
接着層／反射層とし、各層の材料及び膜厚はそれぞれ、
基板側から保護層がＺｎＳで１８０ｎｍ、接着層がＹ2
Ｏ3 で５ｎｍ、記録層が実施例１と同じもので２０ｎ
ｍ、接着層がＹ2 Ｏ3 で５ｎｍ、さらにその上の保護層
がＺｎＳで２５ｎｍ、接着層がＹ2 Ｏ3 で５ｎｍ、反射
層がＡｌで１００ｎｍとして試料を作成した。すなわ
ち、本実施例は実施例５においてさらに保護層と反射層
との間にもＹ2 Ｏ3 の接着層を設けたものである。この
ようにして作成した試料を、実施例１と同様にして記録
・消去の繰り返し回数を求めた。この結果、実施例５と
比較して、保護層と反射層との間にも接着層を設けるこ
とにより、さらに記録・消去の繰り返し回数が増加し、
２×１０5 回に達した。なお、レーザーパワーＰｗは１
８．５ｍＷであった。
ラス基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層／
接着層／反射層とし、各層の材料及び膜厚はそれぞれ、
基板側から保護層がＺｎＳで１８０ｎｍ、接着層がＹ2
Ｏ3 で５ｎｍ、記録層が実施例１と同じもので２０ｎ
ｍ、接着層がＹ2 Ｏ3 で５ｎｍ、さらにその上の保護層
がＺｎＳで２５ｎｍ、接着層がＹ2 Ｏ3 で５ｎｍ、反射
層がＡｌで１００ｎｍとして試料を作成した。すなわ
ち、本実施例は実施例５においてさらに保護層と反射層
との間にもＹ2 Ｏ3 の接着層を設けたものである。この
ようにして作成した試料を、実施例１と同様にして記録
・消去の繰り返し回数を求めた。この結果、実施例５と
比較して、保護層と反射層との間にも接着層を設けるこ
とにより、さらに記録・消去の繰り返し回数が増加し、
２×１０5 回に達した。なお、レーザーパワーＰｗは１
８．５ｍＷであった。
【００４３】（実施例６）光記録媒体の構成を、石英ガ
ラス基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層／
接着層／反射層とし、各層の材料及び膜厚はそれぞれ、
基板側から保護層がＺｎＳで１８０ｎｍ、接着層がＡｌ
2 Ｏ3 で５ｎｍ、記録層が実施例１と同じもので２０ｎ
ｍ、接着層がＡｌ2 Ｏ3 で５ｎｍ、さらにその上の保護
層がＺｎＳで２５ｎｍ、接着層がＡｌ2 Ｏ3 で５ｎｍ、
反射層がＡｌで１００ｎｍとして試料を作成した。すな
わち、本実施例は実施例６において接着層の材料をＹ2
Ｏ3から密着性のより高いＡｌ2 Ｏ3 に置換させたもの
である。このようにして作成した試料を、実施例１と同
様にして記録・消去の繰り返し回数を求めた。この結
果、実施例６と比較して、さらに記録・消去の繰り返し
回数が増加し、３×１０5 回に達した。なお、レーザー
パワーＰｗは１９．２ｍＷであった。
ラス基板／保護層／接着層／記録層／接着層／保護層／
接着層／反射層とし、各層の材料及び膜厚はそれぞれ、
基板側から保護層がＺｎＳで１８０ｎｍ、接着層がＡｌ
2 Ｏ3 で５ｎｍ、記録層が実施例１と同じもので２０ｎ
ｍ、接着層がＡｌ2 Ｏ3 で５ｎｍ、さらにその上の保護
層がＺｎＳで２５ｎｍ、接着層がＡｌ2 Ｏ3 で５ｎｍ、
反射層がＡｌで１００ｎｍとして試料を作成した。すな
わち、本実施例は実施例６において接着層の材料をＹ2
Ｏ3から密着性のより高いＡｌ2 Ｏ3 に置換させたもの
である。このようにして作成した試料を、実施例１と同
様にして記録・消去の繰り返し回数を求めた。この結
果、実施例６と比較して、さらに記録・消去の繰り返し
回数が増加し、３×１０5 回に達した。なお、レーザー
パワーＰｗは１９．２ｍＷであった。
【００４４】
【発明の効果】以上、本発明光記録媒体によれば、保護
層と反射層との間に、接着層を設けることにより、保護
層、反射層、記録層の特徴を損なわないで、記録・消去
の繰り返し動作をより長期間にわたって安定に行うこと
ができる。
層と反射層との間に、接着層を設けることにより、保護
層、反射層、記録層の特徴を損なわないで、記録・消去
の繰り返し動作をより長期間にわたって安定に行うこと
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の１実施例の光媒体の構成を示す。
【図２】静止状態での記録・消去特性の測定系を示す。
【符号の説明】 １０ 光記録媒体 １１ 透明基板 １２，１４ 保護層 １３ 記録層 １５ 接着層 １６ 反射層 ２１ レーザー光源 ２２ 対物レンズ ２３ 光ヘッド ２４ レーザー光
Claims (4)
- 【請求項１】 基板上に直接又は間接的に設けられた保
護層と反射層との間及び／又は保護層と記録層との間に
接着層を設けたことを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】 接着層が酸化物を含むことを特徴とする
請求項１に記載の光記録媒体。 - 【請求項３】 酸化物が、Ａｌ2 Ｏ3 ，ＧｅＯ2 ，Ｓｉ
Ｏ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ2 及びＹ2 Ｏ3 から選ばれる
少なくとも１種であることを特徴とする請求項２に記載
の光記録媒体。 - 【請求項４】 保護層がＹ2 Ｏ3 ，Ｙ2 Ｏ3 とＺｎＳと
の混合物又はＺｎＳであることを特徴とする請求項１に
記載の光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4290286A JPH06139615A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4290286A JPH06139615A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06139615A true JPH06139615A (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=17754178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4290286A Withdrawn JPH06139615A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06139615A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0779614A1 (en) | 1995-12-11 | 1997-06-18 | Teijin Limited | Phase change optical recording medium |
| US6141315A (en) * | 1997-04-25 | 2000-10-31 | Teijin Limited | Phase change optical recording medium containing oxygen and process for manufacturing the same |
-
1992
- 1992-10-28 JP JP4290286A patent/JPH06139615A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0779614A1 (en) | 1995-12-11 | 1997-06-18 | Teijin Limited | Phase change optical recording medium |
| US5912103A (en) * | 1995-12-11 | 1999-06-15 | Teijin Limited | Phase change optical recording medium |
| US6141315A (en) * | 1997-04-25 | 2000-10-31 | Teijin Limited | Phase change optical recording medium containing oxygen and process for manufacturing the same |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000104 |