JPH06138582A - 酢酸ビニル共重合体を含有する要素 - Google Patents
酢酸ビニル共重合体を含有する要素Info
- Publication number
- JPH06138582A JPH06138582A JP4268697A JP26869792A JPH06138582A JP H06138582 A JPH06138582 A JP H06138582A JP 4268697 A JP4268697 A JP 4268697A JP 26869792 A JP26869792 A JP 26869792A JP H06138582 A JPH06138582 A JP H06138582A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copolymer
- group
- vinyl acetate
- monomer
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
- G03C1/93—Macromolecular substances therefor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/3188—Next to cellulosic
- Y10T428/31884—Regenerated or modified cellulose
- Y10T428/31891—Where addition polymer is an ester or halide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31935—Ester, halide or nitrile of addition polymer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 写真フィルム支持体のような支持体に優れた
付着性を示す酢酸ビニル共重合体をその支持体上に担持
する要素を提供する。 【構成】 この要素は写真支持体とその上に（Ａ）２０
〜８５重量％の酢酸ビニル単量体、（Ｂ）５〜６５重量
％のアクリレート又はメタクリレート単量体、（Ｃ）５
〜５０重量％のメタクリル酸単量体、そして（Ｄ）０．
５〜１５重量％のカチオン帯電ビニル単量体、からなる
重合繰り返し単位を含む共重合体を担持する。 【効果】 この要素の共重合体層は、常用のアルカリ写
真処理液に耐えるが、支持体の回収処理により写真フィ
ルム支持体から容易に除去できる。
付着性を示す酢酸ビニル共重合体をその支持体上に担持
する要素を提供する。 【構成】 この要素は写真支持体とその上に（Ａ）２０
〜８５重量％の酢酸ビニル単量体、（Ｂ）５〜６５重量
％のアクリレート又はメタクリレート単量体、（Ｃ）５
〜５０重量％のメタクリル酸単量体、そして（Ｄ）０．
５〜１５重量％のカチオン帯電ビニル単量体、からなる
重合繰り返し単位を含む共重合体を担持する。 【効果】 この要素の共重合体層は、常用のアルカリ写
真処理液に耐えるが、支持体の回収処理により写真フィ
ルム支持体から容易に除去できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、酢酸ビニルの共重合
体、そのような共重合体を含有するラテックス組成物、
そのような共重合体を含有する要素、そしてそのような
要素を製造する方法に関する。
体、そのような共重合体を含有するラテックス組成物、
そのような共重合体を含有する要素、そしてそのような
要素を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば酢酸セルロースフィルムのような
写真フィルム支持体を感輻射線要素で使用することは公
知である。このような支持体に重合体層を塗布する場
合、写真フィルム支持体の膨潤をひきおこす有機溶剤が
用いられている。重合体層と支持体の間の付着はこの膨
潤によって促される。
写真フィルム支持体を感輻射線要素で使用することは公
知である。このような支持体に重合体層を塗布する場
合、写真フィルム支持体の膨潤をひきおこす有機溶剤が
用いられている。重合体層と支持体の間の付着はこの膨
潤によって促される。
【０００３】重合体層を写真フィルム支持体上に塗布す
るに際して有機溶剤を使用する場合、いくつかの欠点が
ある。有機溶剤蒸気が環境中に逃出するのを防止するた
め、精巧でかつ高価な装置が必要である。さらに加え
て、このような溶剤は高価であり、一般に可燃性であ
り、そして支持体のカーリングをひきおこすことが屡々
である。カーリングをコントロールすることは可能であ
るというものの、塗布の多面性を犠牲にすること又は追
加のエネルギーを消費することを伴なわないでコントロ
ールを達成することは不可能である。
るに際して有機溶剤を使用する場合、いくつかの欠点が
ある。有機溶剤蒸気が環境中に逃出するのを防止するた
め、精巧でかつ高価な装置が必要である。さらに加え
て、このような溶剤は高価であり、一般に可燃性であ
り、そして支持体のカーリングをひきおこすことが屡々
である。カーリングをコントロールすることは可能であ
るというものの、塗布の多面性を犠牲にすること又は追
加のエネルギーを消費することを伴なわないでコントロ
ールを達成することは不可能である。
【０００４】有機溶剤と水の混合物を使用して重合体層
を写真フィルム支持体上に塗布することも考えられてい
る。このような溶剤混合物を使用する場合には、有機溶
剤が環境中に逃出するのを防止するため、それらの溶剤
のための回収工程が必要である。このような回収は、水
の存在に原因して、複雑である。写真フィルム支持体上
に塗布されるべき層、例えば下塗り層について見た場
合、それらの層が通常のアルカリ写真処理に耐えかつ、
その際、付着性又はその他の性質の著しい変化を被らな
いことが必要である。さらに、経済的な観点から、製造
作業のなかで生成した、例えばパーフォレーション及び
廃フィルムのようなフィルムスクラップを未塗布状態に
まで戻し得ることが重要である。次いで、このような未
塗布のスクラップを再溶解し、そして支持体の製造に再
び使用することができる。
を写真フィルム支持体上に塗布することも考えられてい
る。このような溶剤混合物を使用する場合には、有機溶
剤が環境中に逃出するのを防止するため、それらの溶剤
のための回収工程が必要である。このような回収は、水
の存在に原因して、複雑である。写真フィルム支持体上
に塗布されるべき層、例えば下塗り層について見た場
合、それらの層が通常のアルカリ写真処理に耐えかつ、
その際、付着性又はその他の性質の著しい変化を被らな
いことが必要である。さらに、経済的な観点から、製造
作業のなかで生成した、例えばパーフォレーション及び
廃フィルムのようなフィルムスクラップを未塗布状態に
まで戻し得ることが重要である。次いで、このような未
塗布のスクラップを再溶解し、そして支持体の製造に再
び使用することができる。
【０００５】例えばゼラチン含有層のような親水性層を
写真フィルム支持体に付着させるために用いられるべき
層で酢酸ビニル共重合体を使用することは公知である。
例えば、米国特許第３，６１５，５５７号（１９７１年
１０月２６日発行）には、酢酸ビニル、低級アルキルア
クリレート及び不飽和酸の３成分共重合体をかかる付着
促進層（通常、写真の分野では下塗り層と呼ばれる）で
使用することが開示されている。しかしながら、米国特
許第３，６１５，５５７号に記載されるタイプの酢酸ビ
ニル共重合体は、好ましくないことに、常用のアルカリ
回収方法により写真フィルム支持体から容易に除去する
ことが不可能である。
写真フィルム支持体に付着させるために用いられるべき
層で酢酸ビニル共重合体を使用することは公知である。
例えば、米国特許第３，６１５，５５７号（１９７１年
１０月２６日発行）には、酢酸ビニル、低級アルキルア
クリレート及び不飽和酸の３成分共重合体をかかる付着
促進層（通常、写真の分野では下塗り層と呼ばれる）で
使用することが開示されている。しかしながら、米国特
許第３，６１５，５５７号に記載されるタイプの酢酸ビ
ニル共重合体は、好ましくないことに、常用のアルカリ
回収方法により写真フィルム支持体から容易に除去する
ことが不可能である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、アル
カリ写真処理に耐え、かつ常用のアルカリ回収方法で容
易に除去できる層、例えば下塗り層を写真フィルム支持
体上に容易な塗布により形成することのできる共重合体
を提供することにある。
カリ写真処理に耐え、かつ常用のアルカリ回収方法で容
易に除去できる層、例えば下塗り層を写真フィルム支持
体上に容易な塗布により形成することのできる共重合体
を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題は、次のような
重合繰り返し単位を含む共重合体によって解決すること
ができる。（Ａ）２０〜８５重量％の酢酸ビニル単量
体、（Ｂ）５〜６５重量％のアクリレート又はメタクリ
レート単量体であって、そのアルコール成分が炭素原子
１〜８個の直鎖もしくは分枝鎖アルカノール類と、低級
アルコキシ基、置換もしくは未置換フェノキシ基、フェ
ニル低級アルコキシ基、置換もしくは未置換フェニル
基、フラニル基、テトラヒドロフラニル基、置換アミノ
基、ハロゲン原子又はシアノ基によって置換された低級
アルカノール類と、置換もしくは未置換フェノール類
と、シクロヘキサノールとナフトール類とからなる群よ
り選ばれるアルコールに由来する単量体、（Ｃ）５〜５
０重量％のメタクリル酸単量体、ならびに（Ｄ）式
重合繰り返し単位を含む共重合体によって解決すること
ができる。（Ａ）２０〜８５重量％の酢酸ビニル単量
体、（Ｂ）５〜６５重量％のアクリレート又はメタクリ
レート単量体であって、そのアルコール成分が炭素原子
１〜８個の直鎖もしくは分枝鎖アルカノール類と、低級
アルコキシ基、置換もしくは未置換フェノキシ基、フェ
ニル低級アルコキシ基、置換もしくは未置換フェニル
基、フラニル基、テトラヒドロフラニル基、置換アミノ
基、ハロゲン原子又はシアノ基によって置換された低級
アルカノール類と、置換もしくは未置換フェノール類
と、シクロヘキサノールとナフトール類とからなる群よ
り選ばれるアルコールに由来する単量体、（Ｃ）５〜５
０重量％のメタクリル酸単量体、ならびに（Ｄ）式
【０００８】
【化２】
【０００９】（上式中、Ｘは式−ＣＯＯ−又は−ＣＯＮ
Ｈ−で示される連結基であり、Ｙは低級アルキレン基又
はフェニレン低級アルキレン基であり、Ｒ1 は水素原子
又は低級アルキル基であり、Ｒ2 ，Ｒ3 及びＲ4 は、独
立して低級アルキル基であり、Ｚ- は対アニオンであ
り、そしてｎは０又は１である）で示される０．５〜１
５重量％のカチオン帯電ビニル単量体、からなる重合繰
り返し単位を含んでなり、かつ示差走査熱量計で測定し
た場合にガラス転移温度１０°〜７０℃を示すことを特
徴とする酢酸ビニル共重合体。
Ｈ−で示される連結基であり、Ｙは低級アルキレン基又
はフェニレン低級アルキレン基であり、Ｒ1 は水素原子
又は低級アルキル基であり、Ｒ2 ，Ｒ3 及びＲ4 は、独
立して低級アルキル基であり、Ｚ- は対アニオンであ
り、そしてｎは０又は１である）で示される０．５〜１
５重量％のカチオン帯電ビニル単量体、からなる重合繰
り返し単位を含んでなり、かつ示差走査熱量計で測定し
た場合にガラス転移温度１０°〜７０℃を示すことを特
徴とする酢酸ビニル共重合体。
【００１０】本発明の共重合体は、共重合体の粒子が分
散してなる水性連続相を含む安定なラテックス組成物の
形で調製し、そして塗布することができる。ここでは、
有機溶剤又は有機溶剤−水混合物を塗布作業で使用する
のを回避することができ、したがって、先に述べたよう
な欠点を避けることができる。さらに、このようなラテ
ックス組成物に疎水性の化合物（簡単には疎水物と呼
ぶ）を、例えば米国特許第４，２１４，０４７号（１９
８０年７月２２日発行）及び同第４，１９９，３６３号
（１９８０年４月２２日発行）に開示されているものの
ような常用の技法によって“添加（ｌｏａｄ）”するこ
とができる。これらの被添加（疎水物を添加された）の
ラテックス組成物では、所望とする疎水物をラテックス
組成物の共重合体粒子に吸収させるか、溶解させるか、
分散させるか、さもなければ吸着させる。これらの被添
加ラテックス組成物によれば、通常水性媒体に不溶であ
る疎水物の親水性コロイド層内又は水性媒体内における
均一な分散を達成するための有利な手段が与えられる。
本発明のこの特徴は、写真の分野において、例えば疎水
性写真添加剤のような疎水物の均一な分散体を形成する
のにとりわけ有用である。
散してなる水性連続相を含む安定なラテックス組成物の
形で調製し、そして塗布することができる。ここでは、
有機溶剤又は有機溶剤−水混合物を塗布作業で使用する
のを回避することができ、したがって、先に述べたよう
な欠点を避けることができる。さらに、このようなラテ
ックス組成物に疎水性の化合物（簡単には疎水物と呼
ぶ）を、例えば米国特許第４，２１４，０４７号（１９
８０年７月２２日発行）及び同第４，１９９，３６３号
（１９８０年４月２２日発行）に開示されているものの
ような常用の技法によって“添加（ｌｏａｄ）”するこ
とができる。これらの被添加（疎水物を添加された）の
ラテックス組成物では、所望とする疎水物をラテックス
組成物の共重合体粒子に吸収させるか、溶解させるか、
分散させるか、さもなければ吸着させる。これらの被添
加ラテックス組成物によれば、通常水性媒体に不溶であ
る疎水物の親水性コロイド層内又は水性媒体内における
均一な分散を達成するための有利な手段が与えられる。
本発明のこの特徴は、写真の分野において、例えば疎水
性写真添加剤のような疎水物の均一な分散体を形成する
のにとりわけ有用である。
【００１１】上述の説明から、本発明によれば、前記単
位（Ａ）〜（Ｄ）を含む共重合体の粒子が分散してなる
水性連続相を含むラテックス組成物が提供されることが
明らかである。本発明によれば、さらに、写真フィルム
支持体、そして前記単位（Ａ）〜（Ｄ）を含む共重合体
を含む層を有する要素が提供される。
位（Ａ）〜（Ｄ）を含む共重合体の粒子が分散してなる
水性連続相を含むラテックス組成物が提供されることが
明らかである。本発明によれば、さらに、写真フィルム
支持体、そして前記単位（Ａ）〜（Ｄ）を含む共重合体
を含む層を有する要素が提供される。
【００１２】さらに、本発明によれば、写真フィルム支
持体、感輻射線層、そして前記単位（Ａ）〜（Ｄ）を含
む共重合体を含む下塗り層を有する要素が提供される。
さらに加えて、本発明によれば、前記単位（Ａ）〜
（Ｄ）を含む共重合体の分散粒子を有する水性ラテック
ス塗布組成物を支持体に塗布する方法が提供される。
持体、感輻射線層、そして前記単位（Ａ）〜（Ｄ）を含
む共重合体を含む下塗り層を有する要素が提供される。
さらに加えて、本発明によれば、前記単位（Ａ）〜
（Ｄ）を含む共重合体の分散粒子を有する水性ラテック
ス塗布組成物を支持体に塗布する方法が提供される。
【００１３】本発明の共重合体は、既知の乳化重合法に
よって、ラテックスとして調製するのが有利である。こ
のような技法を、ランダムな重合繰り返し単位（Ａ）〜
（Ｄ）を含む線状付加共重合体を与えるために使用する
ことができる。適当な技法は、W.P.Sorenson及びT.W.Ca
mpbell, “Preparative Methods of Polymer Chemistr
y”, 2nd Edition, N.Y., Wiley (1968),そしてM.P.Ste
vens,“Polymer Chemistry-an Introduction ”Addison
-Wesley Publishing Co., Reading, Mass. (1975)に開
示されている。
よって、ラテックスとして調製するのが有利である。こ
のような技法を、ランダムな重合繰り返し単位（Ａ）〜
（Ｄ）を含む線状付加共重合体を与えるために使用する
ことができる。適当な技法は、W.P.Sorenson及びT.W.Ca
mpbell, “Preparative Methods of Polymer Chemistr
y”, 2nd Edition, N.Y., Wiley (1968),そしてM.P.Ste
vens,“Polymer Chemistry-an Introduction ”Addison
-Wesley Publishing Co., Reading, Mass. (1975)に開
示されている。
【００１４】重合体は、次のような手順で調製するのが
有利である： ａ）表面活性剤及び重合触媒を脱酸素水に溶解し、 ｂ）前記ａ）の溶液を２０〜８５重量％の酢酸ビニル単
量体、５〜６５重量％のアクリレート又はメタクリレー
ト単量体、５〜５０重量％のメタクリル酸単量体及び
０．５〜１５重量％のカチオン帯電ビニル単量体からな
る混合物と混合し、 ｃ）前記ａ）で調製した表面活性剤及び重合触媒の溶液
を反応容器に添加し、 ｄ）反応容器内の溶液のpHを３〜４に調節し、 ｅ）反応容器を加熱し、 ｆ）前記ｂ）の混合物を反応容器に、約１時間にわたっ
て、添加し、 ｇ）反応を最低１時間以上にわたって継続し、そして ｈ）反応容器を冷却し、そしてその容器の内容物を濾過
して本発明の共重合体の分散粒子を含むラテックス組成
物を得る。
有利である： ａ）表面活性剤及び重合触媒を脱酸素水に溶解し、 ｂ）前記ａ）の溶液を２０〜８５重量％の酢酸ビニル単
量体、５〜６５重量％のアクリレート又はメタクリレー
ト単量体、５〜５０重量％のメタクリル酸単量体及び
０．５〜１５重量％のカチオン帯電ビニル単量体からな
る混合物と混合し、 ｃ）前記ａ）で調製した表面活性剤及び重合触媒の溶液
を反応容器に添加し、 ｄ）反応容器内の溶液のpHを３〜４に調節し、 ｅ）反応容器を加熱し、 ｆ）前記ｂ）の混合物を反応容器に、約１時間にわたっ
て、添加し、 ｇ）反応を最低１時間以上にわたって継続し、そして ｈ）反応容器を冷却し、そしてその容器の内容物を濾過
して本発明の共重合体の分散粒子を含むラテックス組成
物を得る。
【００１５】本発明の共重合体において、その成分Ａは
重合された酢酸ビニルである。この重合単位は、共重合
体の２０〜８５重量％、しばしば最低５０重量％、そし
て好ましくは５０〜６０重量％からなる。本発明の共重
合体において、その成分Ｂを形成するのに有用な単量体
は、アクリレート及びメタクリレート単量体である。重
合された単位Ｂは、共重合体の５〜６５重量％、しばし
ば１０〜２５重量％、そして好ましくは１５〜２５重量
％からなる。これらの単量体は、アクリル酸又はメタク
リル酸の公知な有機エステルであり、そして酢酸ビニル
と共重合することが可能である。このようなアクリレー
トの例として、メチルアクリレート、エチルアクリレー
ト、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、アミ
ルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オ
クチルアクリレート、ｔ−オクチルアクリレート、２−
メトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアク
リレート、２−フェノキシエチルアクリレート、クロロ
エチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、ジメ
チルアミノエチルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリ
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、そして
フェニルアクリレートがある。このようなメタクリレー
トの例として、メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタク
リレート、ブチルメタクリレート、アミルメタクリレー
ト、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリ
レート、ベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタ
クリレート、オクチルメタクリレート、Ｎ−エチル−Ｎ
−フェニルアミノエチルメタクリレート、２−メトキシ
エチルメタクリレート、２−（３−フェニルプロピルオ
キシ）エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキ
シエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタ
クリレート、クレシルメタクリレート、そしてナフチル
メタクリレートがある。
重合された酢酸ビニルである。この重合単位は、共重合
体の２０〜８５重量％、しばしば最低５０重量％、そし
て好ましくは５０〜６０重量％からなる。本発明の共重
合体において、その成分Ｂを形成するのに有用な単量体
は、アクリレート及びメタクリレート単量体である。重
合された単位Ｂは、共重合体の５〜６５重量％、しばし
ば１０〜２５重量％、そして好ましくは１５〜２５重量
％からなる。これらの単量体は、アクリル酸又はメタク
リル酸の公知な有機エステルであり、そして酢酸ビニル
と共重合することが可能である。このようなアクリレー
トの例として、メチルアクリレート、エチルアクリレー
ト、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、アミ
ルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オ
クチルアクリレート、ｔ−オクチルアクリレート、２−
メトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアク
リレート、２−フェノキシエチルアクリレート、クロロ
エチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、ジメ
チルアミノエチルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリ
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、そして
フェニルアクリレートがある。このようなメタクリレー
トの例として、メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタク
リレート、ブチルメタクリレート、アミルメタクリレー
ト、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリ
レート、ベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタ
クリレート、オクチルメタクリレート、Ｎ−エチル−Ｎ
−フェニルアミノエチルメタクリレート、２−メトキシ
エチルメタクリレート、２−（３−フェニルプロピルオ
キシ）エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキ
シエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタ
クリレート、クレシルメタクリレート、そしてナフチル
メタクリレートがある。
【００１６】成分Ｃは、重合されたメタクリル酸単量体
である。この単位は、共重合体の５〜５０重量％、しば
しば１０〜３０重量％、そして好ましくは１５〜２５重
量％からなる。メタクリル酸は、その重合後、実質的に
不水溶性の重合体成分Ｃを生成する。これがため、水性
ラテックス組成物中の不溶性共重合体粒子に重合せるメ
タクリル酸単量体を高濃度で混入することが可能であ
る。このラテックス組成物は安定であり、そして容易に
塗布することができる。共重合体は、成分Ｃの重合せる
単量体に含まれる酸基のため、アルカリ回収法で用いら
れる溶液に可溶である。アルカリ回収法において、以下
の例４において説明するように、メタクリル酸の単量体
を例えばアクリル酸のような同様な酸基を含有する重合
可能なビニル単量体で置換する場合には必要な安定性を
共重合体に対して付与することができない。
である。この単位は、共重合体の５〜５０重量％、しば
しば１０〜３０重量％、そして好ましくは１５〜２５重
量％からなる。メタクリル酸は、その重合後、実質的に
不水溶性の重合体成分Ｃを生成する。これがため、水性
ラテックス組成物中の不溶性共重合体粒子に重合せるメ
タクリル酸単量体を高濃度で混入することが可能であ
る。このラテックス組成物は安定であり、そして容易に
塗布することができる。共重合体は、成分Ｃの重合せる
単量体に含まれる酸基のため、アルカリ回収法で用いら
れる溶液に可溶である。アルカリ回収法において、以下
の例４において説明するように、メタクリル酸の単量体
を例えばアクリル酸のような同様な酸基を含有する重合
可能なビニル単量体で置換する場合には必要な安定性を
共重合体に対して付与することができない。
【００１７】成分Ｄは、カチオン帯電ビニル単量体、す
なわち、カチオン基を含有するビニル単量体の重合単位
である。成分Ｄは、共重合体の０．５〜１５重量％、し
ばしば１〜１０重量％、そして好ましくは２〜１０重量
％からなる。このような単量体の例として、Ｎ−（２−
メタクリロイルオキシエチル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチ
ルアンモニウムメトサルフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメ
チル−Ｎ−ビニルベンジルアンモニウムクロリド、そし
てＮ−（３−メタクリルアミドプロピル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ
−トリメチルアンモニウムクロリドがある。重合単位Ｄ
を含有しない比較可能な共重合体は、以下の例４におい
て説明するように、塗布特性に乏しい不安定なラテック
ス組成物を形成し、また、写真フィルム支持体回収作業
の間に容易に除去することができない塗膜を形成する。
なわち、カチオン基を含有するビニル単量体の重合単位
である。成分Ｄは、共重合体の０．５〜１５重量％、し
ばしば１〜１０重量％、そして好ましくは２〜１０重量
％からなる。このような単量体の例として、Ｎ−（２−
メタクリロイルオキシエチル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチ
ルアンモニウムメトサルフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメ
チル−Ｎ−ビニルベンジルアンモニウムクロリド、そし
てＮ−（３−メタクリルアミドプロピル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ
−トリメチルアンモニウムクロリドがある。重合単位Ｄ
を含有しない比較可能な共重合体は、以下の例４におい
て説明するように、塗布特性に乏しい不安定なラテック
ス組成物を形成し、また、写真フィルム支持体回収作業
の間に容易に除去することができない塗膜を形成する。
【００１８】本発明の共重合体を調製するために、上述
の手法で使用することのできる表面活性剤は、カチオン
系表面活性剤の典型例であるヘキサデシルトリメチルア
ンモニウムブロミド、そして非イオン系表面活性剤の典
型例であるＩｇｅｐａｌ ＣＯ−７３０登録商標（米国
GAF社のエトキシル化ノニルフェノールについての登録
商標）を包含する。有用な触媒は、２，２′−アゾビス
（２−アミジノプロパン・ヒドロクロリド）、２，２′
−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）、そして過
酸化水素を包含する。
の手法で使用することのできる表面活性剤は、カチオン
系表面活性剤の典型例であるヘキサデシルトリメチルア
ンモニウムブロミド、そして非イオン系表面活性剤の典
型例であるＩｇｅｐａｌ ＣＯ−７３０登録商標（米国
GAF社のエトキシル化ノニルフェノールについての登録
商標）を包含する。有用な触媒は、２，２′−アゾビス
（２−アミジノプロパン・ヒドロクロリド）、２，２′
−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）、そして過
酸化水素を包含する。
【００１９】本発明の共重合体は、その中に存在する重
合単位のため、アニオン特性及びカチオン特性の両者を
保有する。これらの共重合体は、したがって、例えばゲ
ル透過クロマトグラフィーのような常用の手法によって
共重合体の分子量を決定するために通常用いられる溶剤
に十分に可溶ではない。このような共重合体は、しかし
ながら、約１０〜７０℃の範囲、しばしば１０〜６０℃
の範囲、そして好ましくは３０〜５０℃の範囲にあるガ
ラス転移温度（Tg）を呈することができる。これらのガ
ラス転移温度は、常用の示差熱分析を使用して、好まし
くは“示差走査熱量計”（ＤＳＣ）を使用することによ
って、決定することができる。この分析方法の詳細な説
明は、P.E.Slade 及びL.T.Jenking 編、シリーズ“Tech
niques and Methods of Polymer Evaluation”, Marcel
Dekker, New York, 1966, のなかの“Thermal Analys
is”, Vol.Ｉに認めることができる。
合単位のため、アニオン特性及びカチオン特性の両者を
保有する。これらの共重合体は、したがって、例えばゲ
ル透過クロマトグラフィーのような常用の手法によって
共重合体の分子量を決定するために通常用いられる溶剤
に十分に可溶ではない。このような共重合体は、しかし
ながら、約１０〜７０℃の範囲、しばしば１０〜６０℃
の範囲、そして好ましくは３０〜５０℃の範囲にあるガ
ラス転移温度（Tg）を呈することができる。これらのガ
ラス転移温度は、常用の示差熱分析を使用して、好まし
くは“示差走査熱量計”（ＤＳＣ）を使用することによ
って、決定することができる。この分析方法の詳細な説
明は、P.E.Slade 及びL.T.Jenking 編、シリーズ“Tech
niques and Methods of Polymer Evaluation”, Marcel
Dekker, New York, 1966, のなかの“Thermal Analys
is”, Vol.Ｉに認めることができる。
【００２０】先に述べた方法に従い製造した共重合体の
例を以下に列挙する： 共重合体の番号 共重合体名（重量％） １ ポリ〔ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸−コ−Ｎ−（２−メタクリロイルオキシ） エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムメトサルフェート〕 （５５／２０／２０／５） ２ ポリ〔ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸−コ−Ｎ−２−（メタクリロイルオキシ） エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムメトサルフェート〕 （６５／２０／１０／５） ３ ポリ〔ビニルアセテート−コ−ｎ−ブチルアクリレート−コ−メタ クリル酸−コ−Ｎ−２−（メタクリロイルオキシ）エチル−Ｎ，Ｎ ，Ｎ−トリメチルアンモニウムメトサルフェート〕（６０／２０／ １５／５） ４ ポリ〔ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸−コ−Ｎ−（３−メタクリロイルアミドプ ロピル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムクロリド〕（５５ ／２０／２０／５） ５ ポリ（ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸−コ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−Ｎ−ビニ ルベンジルアンモニウムクロリド）（５５／２０／２０／５） ６ ポリ〔ビニルアセテート−コ−メトキシエチルアクリレート−コ− メタクリル酸−コ−Ｎ−２−（メタクリロイルオキシ）エチル−Ｎ ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムメトサルフェート〕（６０／２ ０／１５／５） 本発明の１つの重要な特徴は、被添加ラテックス組成物
を使用して米国特許第４，２１４，０４７号及び同第
４，１９９，３６３号に記載される如く疎水物の均一な
分散体を形成することに係る。したがって、被添加ラテ
ックス組成物は公知であるというものの、本発明のこの
特徴を、被添加ラテックス組成物を形成する方法も含め
て、詳細に説明するのが適当であると考える。
例を以下に列挙する： 共重合体の番号 共重合体名（重量％） １ ポリ〔ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸−コ−Ｎ−（２−メタクリロイルオキシ） エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムメトサルフェート〕 （５５／２０／２０／５） ２ ポリ〔ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸−コ−Ｎ−２−（メタクリロイルオキシ） エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムメトサルフェート〕 （６５／２０／１０／５） ３ ポリ〔ビニルアセテート−コ−ｎ−ブチルアクリレート−コ−メタ クリル酸−コ−Ｎ−２−（メタクリロイルオキシ）エチル−Ｎ，Ｎ ，Ｎ−トリメチルアンモニウムメトサルフェート〕（６０／２０／ １５／５） ４ ポリ〔ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸−コ−Ｎ−（３−メタクリロイルアミドプ ロピル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムクロリド〕（５５ ／２０／２０／５） ５ ポリ（ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸−コ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−Ｎ−ビニ ルベンジルアンモニウムクロリド）（５５／２０／２０／５） ６ ポリ〔ビニルアセテート−コ−メトキシエチルアクリレート−コ− メタクリル酸−コ−Ｎ−２−（メタクリロイルオキシ）エチル−Ｎ ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムメトサルフェート〕（６０／２ ０／１５／５） 本発明の１つの重要な特徴は、被添加ラテックス組成物
を使用して米国特許第４，２１４，０４７号及び同第
４，１９９，３６３号に記載される如く疎水物の均一な
分散体を形成することに係る。したがって、被添加ラテ
ックス組成物は公知であるというものの、本発明のこの
特徴を、被添加ラテックス組成物を形成する方法も含め
て、詳細に説明するのが適当であると考える。
【００２１】添加されるべき疎水物を水混和性の有機溶
剤に溶解する。次いで、連続相としての水及び分散相と
しての被添加可能な共重合体粒子から本質的に構成され
た水性ラテックスを疎水物を含有する水混和性の有機溶
剤に混和する。この混和の結果、疎水物は溶液中に残
り、そして被添加可能な共重合体粒子は分散したままで
ある。すなわち、疎水物の分離又は共重合体粒子の凝集
が回避される。このような分離又は凝集の回避を通じて
２相混合物が形成される。この２相混合物では、水混和
性の有機溶剤と水の混合物が連続相を構成し、そして共
重合体粒子が不連続相を形成する。最初、疎水物は水混
和性の有機溶剤中に含まれる。ところが、この疎水物
は、２相混合物が混和によって形成されることの結果、
連続相及び分散相の両者との緻密な結果を生じる。この
疎水物は、次いで、その相対的な溶解度に基づいて、連
続相及び分散相の中間に自由に分布する。ここで、水混
和性の有機溶剤を混和により水で希釈することには疎水
物の連続相に対する親和性を低下させる効果がある。し
たがって、水を導入した場合、疎水物の平衡分布を連続
相から分散相に向けて移動もしくはシフトさせる効果が
得られる。水（又は増加量の水；若干量の水が最初から
水混和性有機溶剤中に存在した場合）を存在させた場
合、連続相と分散相との間における疎水物そのものの再
分布がひきおこされる。この手法に従い、疎水物の一部
が共重合体粒子中に分散もしくは溶解せしめられ、した
がって、疎水物の添加された共重合体粒子が形成され
る。この添加方法の場合、共重合体粒子との結果が生じ
るまでの間、疎水物を溶解したままに保つことが必要で
ある。
剤に溶解する。次いで、連続相としての水及び分散相と
しての被添加可能な共重合体粒子から本質的に構成され
た水性ラテックスを疎水物を含有する水混和性の有機溶
剤に混和する。この混和の結果、疎水物は溶液中に残
り、そして被添加可能な共重合体粒子は分散したままで
ある。すなわち、疎水物の分離又は共重合体粒子の凝集
が回避される。このような分離又は凝集の回避を通じて
２相混合物が形成される。この２相混合物では、水混和
性の有機溶剤と水の混合物が連続相を構成し、そして共
重合体粒子が不連続相を形成する。最初、疎水物は水混
和性の有機溶剤中に含まれる。ところが、この疎水物
は、２相混合物が混和によって形成されることの結果、
連続相及び分散相の両者との緻密な結果を生じる。この
疎水物は、次いで、その相対的な溶解度に基づいて、連
続相及び分散相の中間に自由に分布する。ここで、水混
和性の有機溶剤を混和により水で希釈することには疎水
物の連続相に対する親和性を低下させる効果がある。し
たがって、水を導入した場合、疎水物の平衡分布を連続
相から分散相に向けて移動もしくはシフトさせる効果が
得られる。水（又は増加量の水；若干量の水が最初から
水混和性有機溶剤中に存在した場合）を存在させた場
合、連続相と分散相との間における疎水物そのものの再
分布がひきおこされる。この手法に従い、疎水物の一部
が共重合体粒子中に分散もしくは溶解せしめられ、した
がって、疎水物の添加された共重合体粒子が形成され
る。この添加方法の場合、共重合体粒子との結果が生じ
るまでの間、疎水物を溶解したままに保つことが必要で
ある。
【００２２】殆んどの場合に、水和性の有機溶剤を希釈
し、そして疎水物の平衡分布をシフトさせるのに望まし
い水の全量は、初期の混和の間、水性ラテックス中に存
在する。濃縮ラテックスを使用する場合のように追加の
水を導入するのが望ましい場合には、その追加の水を初
期の混和工程からの被添加ラテックス組成物と混和す
る。この追加の水には、疎水物の連続相に対する親和性
をさらに低下させる効果がある。この効果のため、疎水
物の平衡分布が連続相から分散相に向かってさらに移動
もしくはシフトせしめられ、そして共重合体粒子に対す
る疎水物の添加の度合がさらに高められる。
し、そして疎水物の平衡分布をシフトさせるのに望まし
い水の全量は、初期の混和の間、水性ラテックス中に存
在する。濃縮ラテックスを使用する場合のように追加の
水を導入するのが望ましい場合には、その追加の水を初
期の混和工程からの被添加ラテックス組成物と混和す
る。この追加の水には、疎水物の連続相に対する親和性
をさらに低下させる効果がある。この効果のため、疎水
物の平衡分布が連続相から分散相に向かってさらに移動
もしくはシフトせしめられ、そして共重合体粒子に対す
る疎水物の添加の度合がさらに高められる。
【００２３】水及び被添加可能な共重合体粒子と疎水物
を溶解して含有する水混和性の有機溶剤との混和によっ
て共重合体粒子中に疎水物の著量を添加し得るというも
のの、その疎水物の実質的な部分は前記水混和性の有機
溶剤に溶解したまま連続相中に残留する。疎水物を重合
体粒子中にさらに添加することも、水混和性の有機溶剤
を連続相から除去することによって達成することができ
る。この処理には、疎水物の分散相に対する親和性をさ
らに増大させる効果がある。ここで、水混和性の有機溶
剤の大部分を、換言すると、最低そのほぼ半分を除去す
るのが有利である。この処理によって、疎水物の平衡分
布が連続相から分散相に向かってさらに移動もしくはシ
フトせしめられる。さらに多量の疎水物が共重合体粒子
中に溶解もしくは分散せしめられ、したがって、それら
の粒子の疎水物含有量がさらに増大する。
を溶解して含有する水混和性の有機溶剤との混和によっ
て共重合体粒子中に疎水物の著量を添加し得るというも
のの、その疎水物の実質的な部分は前記水混和性の有機
溶剤に溶解したまま連続相中に残留する。疎水物を重合
体粒子中にさらに添加することも、水混和性の有機溶剤
を連続相から除去することによって達成することができ
る。この処理には、疎水物の分散相に対する親和性をさ
らに増大させる効果がある。ここで、水混和性の有機溶
剤の大部分を、換言すると、最低そのほぼ半分を除去す
るのが有利である。この処理によって、疎水物の平衡分
布が連続相から分散相に向かってさらに移動もしくはシ
フトせしめられる。さらに多量の疎水物が共重合体粒子
中に溶解もしくは分散せしめられ、したがって、それら
の粒子の疎水物含有量がさらに増大する。
【００２４】上記した添加工程の全部を初期の混和及び
添加工程に続けて実施することは不必要である。特定の
応用例の場合には、初期の混和及び添加により得られた
被添加ラテックス組成物を直接に使用することができ、
さもなければ、被添加共重合体粒子を連続相から分離
し、そして直接に使用することができる。この添加方法
の実施において有用な水混和性の有機溶剤は、 ａ．２０℃の蒸留水に、８０容量部の水に対して最低約
２０容量部の溶剤の程度で、溶解可能であるすなわち、
“混和可能”である； ｂ．約−１０を上廻る沸点（大気圧で）を有する； ｃ．この方法の実施において有用である被添加可能な共
重合体粒子を含有する水性ラテックスと不利な化学反応
を行なわない；及び ｄ．このような被添加可能な共重合体粒子の約５重量％
以上を２０℃の水性ラテックスに溶解しない； ような有機溶剤である。このような有用な水混和性の有
機溶剤の例として、水混和性のアルコール、ケトン及び
アミド（例えば、アセトン、エチルアルコール、メチル
アルコール、イソプロピルアルコール、ジメチルホルム
アミド、メチルエチルケトン）、テトラヒドロフラン、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、
そしてその混合物がある。
添加工程に続けて実施することは不必要である。特定の
応用例の場合には、初期の混和及び添加により得られた
被添加ラテックス組成物を直接に使用することができ、
さもなければ、被添加共重合体粒子を連続相から分離
し、そして直接に使用することができる。この添加方法
の実施において有用な水混和性の有機溶剤は、 ａ．２０℃の蒸留水に、８０容量部の水に対して最低約
２０容量部の溶剤の程度で、溶解可能であるすなわち、
“混和可能”である； ｂ．約−１０を上廻る沸点（大気圧で）を有する； ｃ．この方法の実施において有用である被添加可能な共
重合体粒子を含有する水性ラテックスと不利な化学反応
を行なわない；及び ｄ．このような被添加可能な共重合体粒子の約５重量％
以上を２０℃の水性ラテックスに溶解しない； ような有機溶剤である。このような有用な水混和性の有
機溶剤の例として、水混和性のアルコール、ケトン及び
アミド（例えば、アセトン、エチルアルコール、メチル
アルコール、イソプロピルアルコール、ジメチルホルム
アミド、メチルエチルケトン）、テトラヒドロフラン、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、
そしてその混合物がある。
【００２５】ラテックス添加方法の実施において用いら
れるラテックスは、本質的に、連続相としての水、そし
て分散相としての被添加可能な共重合体粒子からなる。
これらの被添加可能な共重合体粒子は、以下に記載する
“被添加可能な粒子の試験”をパスするものである。被添加可能な粒子の試験 試験されるべき被添加可能な共重合体粒子は、２５℃に
おいて、（ａ）ラテックスの全重量を基準にして１０〜
２０重量％の共重合体粒子濃度のときに水とともにラテ
ックスを形成することが可能であり、そして（ｂ）１０
０mlのラテックスをそれと等容量であって所望とする被
添加重合体ラテックス組成物の形成に用いられるべき水
混和性の有機溶剤と混合し、攪拌し、そして１０分間に
わたって放置する場合、認め得る程度の共重合体粒子の
凝集を呈示しない。
れるラテックスは、本質的に、連続相としての水、そし
て分散相としての被添加可能な共重合体粒子からなる。
これらの被添加可能な共重合体粒子は、以下に記載する
“被添加可能な粒子の試験”をパスするものである。被添加可能な粒子の試験 試験されるべき被添加可能な共重合体粒子は、２５℃に
おいて、（ａ）ラテックスの全重量を基準にして１０〜
２０重量％の共重合体粒子濃度のときに水とともにラテ
ックスを形成することが可能であり、そして（ｂ）１０
０mlのラテックスをそれと等容量であって所望とする被
添加重合体ラテックス組成物の形成に用いられるべき水
混和性の有機溶剤と混合し、攪拌し、そして１０分間に
わたって放置する場合、認め得る程度の共重合体粒子の
凝集を呈示しない。
【００２６】ラテックスは、その被添加可能な共重合体
粒子が、写真の親水性コロイド塗膜中のカップラー溶剤
及び同様な疎水性粒子分散液と比較した場合、一般によ
り高度に分散せしめられていることが特徴である。かか
る被添加可能な共重合体粒子は、約０．２μｍ以下、一
般に０．００２〜０．２μｍ、好ましくは０．０２〜
０．０８μｍの平均直径を有する。添加の間に若干の膨
潤が発生し得るというものの、被添加共重合体粒子は通
常上記したものと同一範囲内の平均直径を有する。被添
加可能な共重合体粒子は、水性ラテックスの最低２重量
％を形成し、そして好ましくはその最低１０重量％を形
成する。水性ラテックスは、好ましくは、２０重量％も
しくはそれ以下の被添加可能な重合体粒子を含有する。
粒子が、写真の親水性コロイド塗膜中のカップラー溶剤
及び同様な疎水性粒子分散液と比較した場合、一般によ
り高度に分散せしめられていることが特徴である。かか
る被添加可能な共重合体粒子は、約０．２μｍ以下、一
般に０．００２〜０．２μｍ、好ましくは０．０２〜
０．０８μｍの平均直径を有する。添加の間に若干の膨
潤が発生し得るというものの、被添加共重合体粒子は通
常上記したものと同一範囲内の平均直径を有する。被添
加可能な共重合体粒子は、水性ラテックスの最低２重量
％を形成し、そして好ましくはその最低１０重量％を形
成する。水性ラテックスは、好ましくは、２０重量％も
しくはそれ以下の被添加可能な重合体粒子を含有する。
【００２７】ラテックス組成物において用いられる疎水
物は、２５℃の蒸留水に本質的に不溶である。好ましく
は、これらの条件の下における水に疎水物が溶解する濃
度は、水の重量を基準にして、０．５重量％以下であ
る。さらに、このような疎水物のどれもが、水混和性の
有機溶剤の単独からなるかもしくはその混合物からなる
液体に溶解することが可能である。疎水物は、好ましく
は、水混和性の有機溶剤及び溶解せる疎水物の全重量を
基準にして最低５重量％の濃度で可溶である。実際、少
量の本質的に希薄な物質、例えば水混和性溶剤中に一般
に含まれる少量の水が疎水物及び水混和性の有機溶剤の
混和物と結合する。しかしながら、疎水物及び水混和性
の有機溶剤を選択するに当っては、疎水物を溶解するた
めに例えばpH調節剤又はその他の調節剤、例えば酸又は
アルカリ、のような追加の物質が必要とならないように
配慮すべきである。
物は、２５℃の蒸留水に本質的に不溶である。好ましく
は、これらの条件の下における水に疎水物が溶解する濃
度は、水の重量を基準にして、０．５重量％以下であ
る。さらに、このような疎水物のどれもが、水混和性の
有機溶剤の単独からなるかもしくはその混合物からなる
液体に溶解することが可能である。疎水物は、好ましく
は、水混和性の有機溶剤及び溶解せる疎水物の全重量を
基準にして最低５重量％の濃度で可溶である。実際、少
量の本質的に希薄な物質、例えば水混和性溶剤中に一般
に含まれる少量の水が疎水物及び水混和性の有機溶剤の
混和物と結合する。しかしながら、疎水物及び水混和性
の有機溶剤を選択するに当っては、疎水物を溶解するた
めに例えばpH調節剤又はその他の調節剤、例えば酸又は
アルカリ、のような追加の物質が必要とならないように
配慮すべきである。
【００２８】被添加ラテックス組成物を形成するために
用いられる好ましい疎水物は、疎水性の写真添加剤、例
えば、ハロゲン化銀写真要素のような感輻射線要素に混
入してカップリング、ハロゲン化銀現像、酸化された現
像剤の掃去、分光増感もしくは減感、拡散転写による色
素像形成、そして可視光もしくは紫外光吸収の機能を奏
させるために用いられるものである。その他の疎水性の
写真添加剤には、ハロゲン化銀写真要素において増白
剤、帯電防止剤、酸化防止剤、ハロゲン化銀溶剤とし
て、また、銀・色素・漂白画像形成プロセスにおいて漂
白可能な色素として用いられるものがある。本願明細書
に記載の被添加ラテックス組成物中で使用するため、写
真要素の親水性コロイド層中にカップラー溶剤及び同様
な高沸点有機溶剤の液滴で通常の方法により導入されて
いる疎水性の写真添加剤が理想的に適している。一般
に、ラテックスの共重合体粒子と緻密に結合させて存在
させる疎水物の量は、疎水物と被添加可能な共重合体の
重量比によって表わした場合、１：４０〜３：１であ
る。上記した重量比が１：１０〜２：１、特に１：５〜
１：１であるのが有利である。
用いられる好ましい疎水物は、疎水性の写真添加剤、例
えば、ハロゲン化銀写真要素のような感輻射線要素に混
入してカップリング、ハロゲン化銀現像、酸化された現
像剤の掃去、分光増感もしくは減感、拡散転写による色
素像形成、そして可視光もしくは紫外光吸収の機能を奏
させるために用いられるものである。その他の疎水性の
写真添加剤には、ハロゲン化銀写真要素において増白
剤、帯電防止剤、酸化防止剤、ハロゲン化銀溶剤とし
て、また、銀・色素・漂白画像形成プロセスにおいて漂
白可能な色素として用いられるものがある。本願明細書
に記載の被添加ラテックス組成物中で使用するため、写
真要素の親水性コロイド層中にカップラー溶剤及び同様
な高沸点有機溶剤の液滴で通常の方法により導入されて
いる疎水性の写真添加剤が理想的に適している。一般
に、ラテックスの共重合体粒子と緻密に結合させて存在
させる疎水物の量は、疎水物と被添加可能な共重合体の
重量比によって表わした場合、１：４０〜３：１であ
る。上記した重量比が１：１０〜２：１、特に１：５〜
１：１であるのが有利である。
【００２９】一般的に述べて、添加される水性共重合体
ラテックスと疎水物を含有する水混和性の有機溶剤の比
率は、１：４〜２０：１の容量比で、好ましくは１：１
〜１０：１の容量比で維持される。しかしながら、添加
される水の全量を水性共重合体ラテックス中に存在させ
ることは不必要である。このようなラテックス中で混和
されるべき水の一部を水性ラテックス及び水混和性の有
機溶剤の混和に引き続いて添加することが推奨される。
ラテックスと疎水物を含有する水混和性の有機溶剤の比
率は、１：４〜２０：１の容量比で、好ましくは１：１
〜１０：１の容量比で維持される。しかしながら、添加
される水の全量を水性共重合体ラテックス中に存在させ
ることは不必要である。このようなラテックス中で混和
されるべき水の一部を水性ラテックス及び水混和性の有
機溶剤の混和に引き続いて添加することが推奨される。
【００３０】写真用途及び要素におけるように親水性コ
ロイド層を塗布することが望ましい場合、親水性コロイ
ド組成物に容易に分散可能であるような被添加もしくは
被添加可能なラテックス共重合体粒子を選択する。この
ことは、本願明細書に記載の如きタイプの被添加可能な
共重合体から本質的に構成された粒子を使用することに
よって達成することができる。このようにすることによ
って、親水性コロイド組成物を被添加もしくは被添加可
能なラテックス組成物と均一に混和することが可能にな
る。次いで、得られた親水性コロイド含有ラテックス組
成物を例えば常用の写真フィルム支持体のような適当な
基材上に塗布する。次いで、水及びもしも存在する場合
には水和性の有機溶剤を塗膜から除去する。結果とし
て、固体の親水性塗膜が得られる。この共重合体粒子を
含有する親水性塗膜は、特定の写真用途に依存して、支
持体上の単独の塗膜であったり、アンダーコート層であ
ったり、中間層であったり、さもなければオーバーコー
ト層であったりする。ある有用な態様に従えば、写真フ
ィルム支持体の片面もしくは両面上に形成された下塗り
層に共重合体粒子が混入せしめられる。このもしくはこ
れらの下塗り層には、適当な疎水性層、例えばポリ（メ
チルメタクリレート）を含む層をオーバーコートするこ
とができる。
ロイド層を塗布することが望ましい場合、親水性コロイ
ド組成物に容易に分散可能であるような被添加もしくは
被添加可能なラテックス共重合体粒子を選択する。この
ことは、本願明細書に記載の如きタイプの被添加可能な
共重合体から本質的に構成された粒子を使用することに
よって達成することができる。このようにすることによ
って、親水性コロイド組成物を被添加もしくは被添加可
能なラテックス組成物と均一に混和することが可能にな
る。次いで、得られた親水性コロイド含有ラテックス組
成物を例えば常用の写真フィルム支持体のような適当な
基材上に塗布する。次いで、水及びもしも存在する場合
には水和性の有機溶剤を塗膜から除去する。結果とし
て、固体の親水性塗膜が得られる。この共重合体粒子を
含有する親水性塗膜は、特定の写真用途に依存して、支
持体上の単独の塗膜であったり、アンダーコート層であ
ったり、中間層であったり、さもなければオーバーコー
ト層であったりする。ある有用な態様に従えば、写真フ
ィルム支持体の片面もしくは両面上に形成された下塗り
層に共重合体粒子が混入せしめられる。このもしくはこ
れらの下塗り層には、適当な疎水性層、例えばポリ（メ
チルメタクリレート）を含む層をオーバーコートするこ
とができる。
【００３１】ラテックス組成物は、被添加のものも被添
加でないものも、また、親水性コロイドを有するものも
有さないものも、写真フィルム支持体の片面もしくは両
面上に層の形で塗布することができる。このような支持
体の例は、酢酸セルロースフィルム、硝酸セルロースフ
ィルム、ポリビニルアセタールフィルム、ポリカーボネ
ートフィルム、ポリスチレンフィルム、そしてポリエス
テルフィルムである。かかる共重合体ラテックス組成物
は、常用の手法によって塗布することができる。本発明
のフィルム形成性共重合体組成物を、写真フィルム支持
体上に単層又は多層の塗膜を形成するために写真の分野
で通常用いられているコーティホッパー及びその他の装
置を使用して塗布することが特に推奨される。有用な塗
布技法及び支持体は、Product Licensing Index , Vol.
92, pp.107〜110, 1971 年12月、そしてそのなかで引用
の刊行物に記載されている。
加でないものも、また、親水性コロイドを有するものも
有さないものも、写真フィルム支持体の片面もしくは両
面上に層の形で塗布することができる。このような支持
体の例は、酢酸セルロースフィルム、硝酸セルロースフ
ィルム、ポリビニルアセタールフィルム、ポリカーボネ
ートフィルム、ポリスチレンフィルム、そしてポリエス
テルフィルムである。かかる共重合体ラテックス組成物
は、常用の手法によって塗布することができる。本発明
のフィルム形成性共重合体組成物を、写真フィルム支持
体上に単層又は多層の塗膜を形成するために写真の分野
で通常用いられているコーティホッパー及びその他の装
置を使用して塗布することが特に推奨される。有用な塗
布技法及び支持体は、Product Licensing Index , Vol.
92, pp.107〜110, 1971 年12月、そしてそのなかで引用
の刊行物に記載されている。
【００３２】感輻射線層はこの技術分野において公知で
ある。本発明において用いられる感輻射線で使用するこ
とのできる感輻射線材料には、写真ハロゲン化銀、例え
ば塩化銀、臭化銀、臭沃化銀、塩臭化銀、塩臭化銀、塩
臭沃化銀、そしてその混合物がある。これらの層は、屡
々、親水性コロイドを含有する写真乳剤層である。この
ようなコロイドの典型的な例は、蛋白質、例えばゼラチ
ン、蛋白質誘導体、セルロース誘導体、多糖類、例えば
デンプン、糖類、例えばデキストラン、植物ゴム、そし
て合成高分子物質、例えばポリビニルアルコール、ポリ
アクリルアミド及びポリビニルピロリドンである。常用
の添加剤、例えばカブリ防止剤、安定剤、増感剤、現像
調節剤、現像剤、硬膜剤、可塑剤及び塗布助剤もまた感
輻射線層に含ませることができる。本願明細書に記載の
要素は、未増感の写真フィルム支持体、黒白写真乳剤で
増感したフィルム、反転カラー処理用に作られた要素、
ネガ型カラー要素、カラープリント材料、その他である
ことができる。このような要素に有用な写真ハロゲン化
銀乳剤、調製、添加剤及び処理方法は、例えば、Resear
ch Disclosure , Publication 17643, 1978 年12月,pp.
22〜31に記載されている。
ある。本発明において用いられる感輻射線で使用するこ
とのできる感輻射線材料には、写真ハロゲン化銀、例え
ば塩化銀、臭化銀、臭沃化銀、塩臭化銀、塩臭化銀、塩
臭沃化銀、そしてその混合物がある。これらの層は、屡
々、親水性コロイドを含有する写真乳剤層である。この
ようなコロイドの典型的な例は、蛋白質、例えばゼラチ
ン、蛋白質誘導体、セルロース誘導体、多糖類、例えば
デンプン、糖類、例えばデキストラン、植物ゴム、そし
て合成高分子物質、例えばポリビニルアルコール、ポリ
アクリルアミド及びポリビニルピロリドンである。常用
の添加剤、例えばカブリ防止剤、安定剤、増感剤、現像
調節剤、現像剤、硬膜剤、可塑剤及び塗布助剤もまた感
輻射線層に含ませることができる。本願明細書に記載の
要素は、未増感の写真フィルム支持体、黒白写真乳剤で
増感したフィルム、反転カラー処理用に作られた要素、
ネガ型カラー要素、カラープリント材料、その他である
ことができる。このような要素に有用な写真ハロゲン化
銀乳剤、調製、添加剤及び処理方法は、例えば、Resear
ch Disclosure , Publication 17643, 1978 年12月,pp.
22〜31に記載されている。
【００３３】以下に記載する例は本発明の実施を説明す
るためのものである。例１： 本発明の共重合体（第Ｉ表の共重合体１）は、本
願明細書に記載の乳化重合法を使用して調製することが
できる。説明すると、０．３３ｇのヘキサデシルトリメ
チルアンモニウムブロミド表面活性剤、０．１６７ｇの
Ｉｇｅｐａｌ ＣＯ−７３０（商標）表面活性剤及び
０．７０ｇの２，２′−アゾビス（２−アミジノプロパ
ン）ジヒドロクロリドを１００ｇの脱酸素水に溶解した
水溶液をタンク内で調製した。この水溶液に、攪拌しな
がら、５５ｇの酢酸ビニル、２２．２ｇの９０％活性
（重合可能な単量体２０ｇ）のテトラヒドロフルフリル
メタクリレート、２０ｇのメタクリル酸及び５ｇのＮ−
（２−メタクリロイルオキシエチル）Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ
メチルアンモニウムメトサルフェートを添加した。
るためのものである。例１： 本発明の共重合体（第Ｉ表の共重合体１）は、本
願明細書に記載の乳化重合法を使用して調製することが
できる。説明すると、０．３３ｇのヘキサデシルトリメ
チルアンモニウムブロミド表面活性剤、０．１６７ｇの
Ｉｇｅｐａｌ ＣＯ−７３０（商標）表面活性剤及び
０．７０ｇの２，２′−アゾビス（２−アミジノプロパ
ン）ジヒドロクロリドを１００ｇの脱酸素水に溶解した
水溶液をタンク内で調製した。この水溶液に、攪拌しな
がら、５５ｇの酢酸ビニル、２２．２ｇの９０％活性
（重合可能な単量体２０ｇ）のテトラヒドロフルフリル
メタクリレート、２０ｇのメタクリル酸及び５ｇのＮ−
（２−メタクリロイルオキシエチル）Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ
メチルアンモニウムメトサルフェートを添加した。
【００３４】反応容器内で、０．６７ｇのヘキサデシル
トリメチルアンモニウムブロミド表面活性剤及び０．３
３ｇのＩｇｅｐａｌ ＣＯ−７３０（商標）を４６０ｇ
の脱酸素水に溶解することによって混合物を調製した。
この混合物のpH値を、水性塩酸の添加によって、３〜４
に調節した。前記タンクの内容物を反応容器に、６０分
間をかけて、添加した。反応を６８℃で４時間にわたっ
て継続した。このようにして形成されたラテックスを冷
却し、そして濾過した。共重合体の組成を元素分析によ
って確認した。この共重合体のＴｇは３９℃であった。例２： 本発明の共重合体は、写真フィルム支持体に対す
るすぐれた付着力を呈示する層を形成する被添加ラテッ
クス組成物を調製するために使用することができる。説
明すると、前記例１に記載のようにして調製した共重合
体ラテックスに、米国特許第４，１９９，３６３号（１
９８０年４月２２日発行）の例１１又は例１２に記載の
ようにして、写真学的に有用な疎水物を添加した。次い
で、この被添加ラテックス組成物を下塗りなしの酢酸セ
ルロース写真フィルム支持体上に合計乾燥被覆量６６mg
／ｍ2 で塗布した。次いで、この被添加ラテックス層に
ポリ（メチルメタクリレート）のアセトン／ｎ−ブタノ
ール（９５／５）wt. ／wt．溶液を合計乾燥被覆量７７
０mg／ｍ2 でオーバーコートした。
トリメチルアンモニウムブロミド表面活性剤及び０．３
３ｇのＩｇｅｐａｌ ＣＯ−７３０（商標）を４６０ｇ
の脱酸素水に溶解することによって混合物を調製した。
この混合物のpH値を、水性塩酸の添加によって、３〜４
に調節した。前記タンクの内容物を反応容器に、６０分
間をかけて、添加した。反応を６８℃で４時間にわたっ
て継続した。このようにして形成されたラテックスを冷
却し、そして濾過した。共重合体の組成を元素分析によ
って確認した。この共重合体のＴｇは３９℃であった。例２： 本発明の共重合体は、写真フィルム支持体に対す
るすぐれた付着力を呈示する層を形成する被添加ラテッ
クス組成物を調製するために使用することができる。説
明すると、前記例１に記載のようにして調製した共重合
体ラテックスに、米国特許第４，１９９，３６３号（１
９８０年４月２２日発行）の例１１又は例１２に記載の
ようにして、写真学的に有用な疎水物を添加した。次い
で、この被添加ラテックス組成物を下塗りなしの酢酸セ
ルロース写真フィルム支持体上に合計乾燥被覆量６６mg
／ｍ2 で塗布した。次いで、この被添加ラテックス層に
ポリ（メチルメタクリレート）のアセトン／ｎ−ブタノ
ール（９５／５）wt. ／wt．溶液を合計乾燥被覆量７７
０mg／ｍ2 でオーバーコートした。
【００３５】性能試験 水性ラテックスから塗布した単一の層及びオーバーコー
ト付の２層系のどちらも、クロスハッチ付着力試験によ
って示されるように、支持体に対する付着力がすぐれて
良好であった。この試験では、１つもしくはそれ以上の
層を塗布した要素にカミソリの刃で筋をつけて酢酸セル
ロースフィルム支持体に達するクロスハッチパターンを
得た。透明な粘着テープを強固に貼付し、そして次に剥
ぎ取った。塗布した単一の層及び２層系のどの部分もテ
ープによって剥離されなかった。
ト付の２層系のどちらも、クロスハッチ付着力試験によ
って示されるように、支持体に対する付着力がすぐれて
良好であった。この試験では、１つもしくはそれ以上の
層を塗布した要素にカミソリの刃で筋をつけて酢酸セル
ロースフィルム支持体に達するクロスハッチパターンを
得た。透明な粘着テープを強固に貼付し、そして次に剥
ぎ取った。塗布した単一の層及び２層系のどの部分もテ
ープによって剥離されなかった。
【００３６】オーバーコート付の２層系を有する要素を
常用のメトール（商品名）−ハイドロキノンアルカリ現
像液（pH１０．２）中で３８℃で１０分間にわたってす
すいだ。ポリ（メチルメタクリレート）オーバーコー
ト、そして本発明の水性共重合体ラテックスから形成し
た下層のどちらの性質もしくは外観にも影響があらわれ
なかった。
常用のメトール（商品名）−ハイドロキノンアルカリ現
像液（pH１０．２）中で３８℃で１０分間にわたってす
すいだ。ポリ（メチルメタクリレート）オーバーコー
ト、そして本発明の水性共重合体ラテックスから形成し
た下層のどちらの性質もしくは外観にも影響があらわれ
なかった。
【００３７】本発明の支持体回収特性を説明するため、
上記要素を０．１４％水性ＮａＯＨで９５℃で３０分間
にわたって処理した。オーバーコート層及び疎水物を含
有する下層を定量的に除去した。オーバーコートはダス
ト様の不溶性非粘着粒子又はフレークとして剥離し、よ
って、フィルム支持体から容易に取り除き得た。下層は
溶解し、そしてフィルム支持体から容易に濾別し得た。
残留せる支持体を塩化メチレン／メチルアルコール（９
５／５）wt．／wt．に溶解したところ、粒状物質を含ま
ないクリアなドープが得られた。このドープを流延した
ところ、クリアなフィルムが得られた。残留共重合体、
疎水物又はオーバーコートの不存在を分光的に検知する
ことができた。
上記要素を０．１４％水性ＮａＯＨで９５℃で３０分間
にわたって処理した。オーバーコート層及び疎水物を含
有する下層を定量的に除去した。オーバーコートはダス
ト様の不溶性非粘着粒子又はフレークとして剥離し、よ
って、フィルム支持体から容易に取り除き得た。下層は
溶解し、そしてフィルム支持体から容易に濾別し得た。
残留せる支持体を塩化メチレン／メチルアルコール（９
５／５）wt．／wt．に溶解したところ、粒状物質を含ま
ないクリアなドープが得られた。このドープを流延した
ところ、クリアなフィルムが得られた。残留共重合体、
疎水物又はオーバーコートの不存在を分光的に検知する
ことができた。
【００３８】同様な層除去を、酢酸セルロースフィルム
支持体の片面上に被添加の単一塗布層もしくはオーバー
コート付の２層系があり、そして支持体のもう１つの面
にゼラチン−臭沃化銀写真乳剤の露光及び処理済み感輻
射線層が塗布されている要素においても得ることができ
る。例３： 種々の写真フィルム支持体を本発明の実施に使用
することができる。説明すると、前記例２に記載のよう
にして疎水物を添加した共重合体ラテックスを下塗り付
のポリ（エチレンテレフタレート）フィルム支持体上に
合計乾燥被覆量６６mg／ｍ2 で塗布した。次いで、この
層にポリ（メチルメタクリレート）の水性ラテックスを
合計乾燥被覆量７７０mg／ｍ2 でオーバーコートした。
レゾルシノールを凝集助剤として使用した。これらの塗
布層のどちらも、前記例２に記載のクロスハッチ付着力
試験によって示されるように、すぐれた付着力を呈示し
た。例４： 本発明の別の共重合体を、前記例１に記載の乳化
重合法を使用して、水性ラテックス組成物として調製し
た。下記の第II表では、これらの共重合体を共重合体１
〜１３として記載する。
支持体の片面上に被添加の単一塗布層もしくはオーバー
コート付の２層系があり、そして支持体のもう１つの面
にゼラチン−臭沃化銀写真乳剤の露光及び処理済み感輻
射線層が塗布されている要素においても得ることができ
る。例３： 種々の写真フィルム支持体を本発明の実施に使用
することができる。説明すると、前記例２に記載のよう
にして疎水物を添加した共重合体ラテックスを下塗り付
のポリ（エチレンテレフタレート）フィルム支持体上に
合計乾燥被覆量６６mg／ｍ2 で塗布した。次いで、この
層にポリ（メチルメタクリレート）の水性ラテックスを
合計乾燥被覆量７７０mg／ｍ2 でオーバーコートした。
レゾルシノールを凝集助剤として使用した。これらの塗
布層のどちらも、前記例２に記載のクロスハッチ付着力
試験によって示されるように、すぐれた付着力を呈示し
た。例４： 本発明の別の共重合体を、前記例１に記載の乳化
重合法を使用して、水性ラテックス組成物として調製し
た。下記の第II表では、これらの共重合体を共重合体１
〜１３として記載する。
【００３９】本発明の共重合体におけるカチオン帯電ビ
ニル単量体の必要性を説明するため、上記と同様な技法
を使用して、但し上述の単量体を用いないで、比較可能
な共重合体を調製した。下記の第II表では、これらの比
較可能な共重合体を共重合体Ｃ−１〜Ｃ−４として記載
する。メタクリル酸を例えばアクリル酸のような重合可
能なビニル単量体によって置き換え得ないということを
説明するため、メタクリル酸の代りにアクリル酸を使用
した比較可能な共重合体もまた調製した。調製した共重
合体を下記に列挙するが、比較可能な共重合体をＣ−５
として記載する。
ニル単量体の必要性を説明するため、上記と同様な技法
を使用して、但し上述の単量体を用いないで、比較可能
な共重合体を調製した。下記の第II表では、これらの比
較可能な共重合体を共重合体Ｃ−１〜Ｃ−４として記載
する。メタクリル酸を例えばアクリル酸のような重合可
能なビニル単量体によって置き換え得ないということを
説明するため、メタクリル酸の代りにアクリル酸を使用
した比較可能な共重合体もまた調製した。調製した共重
合体を下記に列挙するが、比較可能な共重合体をＣ−５
として記載する。
【００４０】これらの共重合体のそれぞれの構造を元素
分析により評価した。これらの共重合体は、それぞれ１
０〜６０℃のガラス転移温度（Tg）を有していた。 共重合体の番号 共重合体名（重量％） １ ポリ〔ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸−コ−２−（メタクリロイルオキシ）エチ ルトリメチルアンモニウムメトサルフェート〕（６８／２０／１０ ／２） ２ 同上の単量体からなるポリマー（６５／２０／１０／５） ３ 同上の単量体からなるポリマー（６４／２０／１５／１） ４ 同上の単量体からなるポリマー（６０／２２／１５／３） ５ 同上の単量体からなるポリマー（５９／２０／２０／１） ６ 同上の単量体からなるポリマー（５５／２０／２０／５） ７ ポリ〔ビニルアセテート−コ−ｎ−ブチルアクリレート−コ−メタ クリル酸−コ−２−（メタクリロイルオキシ）エチルトリメチルア ンモニウムメトサルフェート〕（６４／２０／１５／１） ８ 同上の単量体からなるポリマー（６０／２２／１５／３） ９ 同上の単量体からなるポリマー（５５／２０／２０／５） １０ 同上の単量体からなるポリマー（５０／２０／２５／５） １１ 同上の単量体からなるポリマー（４５／２０／３０／５） １２ ポリ〔ビニルアセテート−コ−ブチルメタクリレート−コ−メタク リル酸−コ−２−（メタクリロイルオキシ）エチルトリメチルアン モニウムメトサルフェート〕（５５／２０／２０／５） １３ ポリ〔ビニルアセテート−コ−エチルアクリレート−コ−メタクリ ル酸−コ−２−（メタクリロイルオキシ）エチルトリメチルアンモ ニウムメトサルフェート〕（５５／２０／２０／５） Ｃ−１ ポリ（ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸）（８５／１０／５） Ｃ−２ ポリ（ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸）（８２．５／１０／７．５） Ｃ−３ ポリ（ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸）（８０／１０／１０） Ｃ−４ ポリ（ビニルアセテート−コ−ｎ−ブチルアクリレート−コ−メタ クリル酸）（７５／２０／５） Ｃ−５ ポリ〔ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−アクリル酸−コ−２−（メタクリロイルオキシ）エチル トリメチルアンモニウムメトサルフェート〕（５５／２０／２０／ ５） 共重合体１〜１３及びＣ−１〜Ｃ−５を含有する共重合
体ラテックス組成物に写真学的に有用な疎水物を添加
し、そして、前記例２に記載されるように、下塗りなし
の酢酸セルロース写真フィルム上に合計乾燥被覆量６６
mg／ｍ2 で塗布した。次いで、被添加ラテックス層に、
これもまた前記例２に記載されるように、ポリ（メチル
メタクリレート）の溶液をオーバーコートした。塗布層
は、それらの層を先に述べたクロスハッチ付着力試験に
供したところ、すぐれた付着力を呈示した。
分析により評価した。これらの共重合体は、それぞれ１
０〜６０℃のガラス転移温度（Tg）を有していた。 共重合体の番号 共重合体名（重量％） １ ポリ〔ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸−コ−２−（メタクリロイルオキシ）エチ ルトリメチルアンモニウムメトサルフェート〕（６８／２０／１０ ／２） ２ 同上の単量体からなるポリマー（６５／２０／１０／５） ３ 同上の単量体からなるポリマー（６４／２０／１５／１） ４ 同上の単量体からなるポリマー（６０／２２／１５／３） ５ 同上の単量体からなるポリマー（５９／２０／２０／１） ６ 同上の単量体からなるポリマー（５５／２０／２０／５） ７ ポリ〔ビニルアセテート−コ−ｎ−ブチルアクリレート−コ−メタ クリル酸−コ−２−（メタクリロイルオキシ）エチルトリメチルア ンモニウムメトサルフェート〕（６４／２０／１５／１） ８ 同上の単量体からなるポリマー（６０／２２／１５／３） ９ 同上の単量体からなるポリマー（５５／２０／２０／５） １０ 同上の単量体からなるポリマー（５０／２０／２５／５） １１ 同上の単量体からなるポリマー（４５／２０／３０／５） １２ ポリ〔ビニルアセテート−コ−ブチルメタクリレート−コ−メタク リル酸−コ−２−（メタクリロイルオキシ）エチルトリメチルアン モニウムメトサルフェート〕（５５／２０／２０／５） １３ ポリ〔ビニルアセテート−コ−エチルアクリレート−コ−メタクリ ル酸−コ−２−（メタクリロイルオキシ）エチルトリメチルアンモ ニウムメトサルフェート〕（５５／２０／２０／５） Ｃ−１ ポリ（ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸）（８５／１０／５） Ｃ−２ ポリ（ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸）（８２．５／１０／７．５） Ｃ−３ ポリ（ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−メタクリル酸）（８０／１０／１０） Ｃ−４ ポリ（ビニルアセテート−コ−ｎ−ブチルアクリレート−コ−メタ クリル酸）（７５／２０／５） Ｃ−５ ポリ〔ビニルアセテート−コ−テトラヒドロフルフリルメタクリレ ート−コ−アクリル酸−コ−２−（メタクリロイルオキシ）エチル トリメチルアンモニウムメトサルフェート〕（５５／２０／２０／ ５） 共重合体１〜１３及びＣ−１〜Ｃ−５を含有する共重合
体ラテックス組成物に写真学的に有用な疎水物を添加
し、そして、前記例２に記載されるように、下塗りなし
の酢酸セルロース写真フィルム上に合計乾燥被覆量６６
mg／ｍ2 で塗布した。次いで、被添加ラテックス層に、
これもまた前記例２に記載されるように、ポリ（メチル
メタクリレート）の溶液をオーバーコートした。塗布層
は、それらの層を先に述べたクロスハッチ付着力試験に
供したところ、すぐれた付着力を呈示した。
【００４１】本発明の写真処理性及び支持体回収特性を
説明するため、塗膜形成要素のそれぞれを前記例２に記
載のようにメトール−ハイドロキノンアルカリ写真現像
液及び水酸化ナトリウム水溶液で処理した。但し、本例
の場合、水酸化ナトリウム水溶液の増度を０．１７５％
まで増大させた。共重合体１〜１３の層を含有する要素
の場合、メトール−ハイドロキノンアルカリ写真現像液
で処理しても悪い影響が現われず、また、水酸化ナトリ
ウム水溶液で処理することによって酢酸セルロースフィ
ルム支持体から満足な程度に除去することができた。重
合されたメタクリル酸の含有量が１５重量％もしくはそ
れ以上である共重合体３〜１３の場合、処理を通じて塗
膜を実質的に完全に除去することができた。１０重量％
のメタクリル酸を含有する共重合体１及び２をもった塗
膜の場合、最低６５％の程度までそれらの塗膜を除去す
ることができた。共重合体１及び２の塗膜の本質的に完
全な除去は、水酸化ナトリウムの濃度を０．１７５％以
上に増大させるかもしくは、９５℃の回収作業の場合、
時間を３０分間以上に延長することによって、容易に達
成することができた。さらに、共重合体１〜１３の水性
ラテックス組成物は、模擬浸漬皿コーティングホッパー
の皿において問題となる量の沈殿が形成されなかった事
実によって説明されるように、安定であった。これとは
対照的に、共重合体Ｃ−１〜Ｃ−４の場合、不安定な水
性ラテックス組成物が生成し、そして模擬ホッパーの皿
のなかに重い沈殿が形成された。さらに、水性水酸化ナ
トリウムで処理した場合、共重合体Ｃ−１，Ｃ−２及び
Ｃ−４を用いて形成された塗膜の約３５％よりも多くを
除去することができなかった。共重合体Ｃ−５の場合に
は、塗膜のうちのほんの約２０％を水酸化ナトリウム水
溶液による処理で除去することができたにすぎない。
説明するため、塗膜形成要素のそれぞれを前記例２に記
載のようにメトール−ハイドロキノンアルカリ写真現像
液及び水酸化ナトリウム水溶液で処理した。但し、本例
の場合、水酸化ナトリウム水溶液の増度を０．１７５％
まで増大させた。共重合体１〜１３の層を含有する要素
の場合、メトール−ハイドロキノンアルカリ写真現像液
で処理しても悪い影響が現われず、また、水酸化ナトリ
ウム水溶液で処理することによって酢酸セルロースフィ
ルム支持体から満足な程度に除去することができた。重
合されたメタクリル酸の含有量が１５重量％もしくはそ
れ以上である共重合体３〜１３の場合、処理を通じて塗
膜を実質的に完全に除去することができた。１０重量％
のメタクリル酸を含有する共重合体１及び２をもった塗
膜の場合、最低６５％の程度までそれらの塗膜を除去す
ることができた。共重合体１及び２の塗膜の本質的に完
全な除去は、水酸化ナトリウムの濃度を０．１７５％以
上に増大させるかもしくは、９５℃の回収作業の場合、
時間を３０分間以上に延長することによって、容易に達
成することができた。さらに、共重合体１〜１３の水性
ラテックス組成物は、模擬浸漬皿コーティングホッパー
の皿において問題となる量の沈殿が形成されなかった事
実によって説明されるように、安定であった。これとは
対照的に、共重合体Ｃ−１〜Ｃ−４の場合、不安定な水
性ラテックス組成物が生成し、そして模擬ホッパーの皿
のなかに重い沈殿が形成された。さらに、水性水酸化ナ
トリウムで処理した場合、共重合体Ｃ−１，Ｃ−２及び
Ｃ−４を用いて形成された塗膜の約３５％よりも多くを
除去することができなかった。共重合体Ｃ−５の場合に
は、塗膜のうちのほんの約２０％を水酸化ナトリウム水
溶液による処理で除去することができたにすぎない。
【００４２】同じように良好なラテックス安定性や層除
去を、本発明に係る共重合体であるポリ〔ビニルアセテ
ート−コ−メチルアクリレート−コ−メタクリル酸−コ
−（２−メタクリロイルオキシ）エチルトリメチルアン
モニウムメトサルフェート〕、６４／２０／１５／１、
そしてポリ〔ビニルアセテート−コ−メチルメタクリレ
ート−コ−メタクリル酸−コ−２−（メタクリロイルオ
キシ）エチルトリメチルアンモニウムメトサルフェー
ト〕、５５／２０／２０／５、でもって得ることもでき
る。
去を、本発明に係る共重合体であるポリ〔ビニルアセテ
ート−コ−メチルアクリレート−コ−メタクリル酸−コ
−（２−メタクリロイルオキシ）エチルトリメチルアン
モニウムメトサルフェート〕、６４／２０／１５／１、
そしてポリ〔ビニルアセテート−コ−メチルメタクリレ
ート−コ−メタクリル酸−コ−２−（メタクリロイルオ
キシ）エチルトリメチルアンモニウムメトサルフェー
ト〕、５５／２０／２０／５、でもって得ることもでき
る。
【００４３】
【発明の効果】本発明によれば、アルカリ写真処理に耐
えるが、常用のアルカリ回収方法で容易に除去できる共
重合体層をフィルム支持体上に担持する要素が提供され
る。
えるが、常用のアルカリ回収方法で容易に除去できる共
重合体層をフィルム支持体上に担持する要素が提供され
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｆ 220/12 ＭＭＡ 7242−4Ｊ Ｃ０８Ｌ 31/04 ＬＨＫ 6904−4Ｊ // Ｃ０８Ｆ 220/06 ＭＬＶ 7242−4Ｊ 220/26 ＭＭＫ 7242−4Ｊ 220/34 ＭＭＲ 7242−4Ｊ
Claims (1)
- 【請求項１】 Ａ）写真フィルム支持体及びＢ）酢酸ビ
ニル共重合体を含む層を含んでなる要素であって、前記
共重合体が、 （Ａ）２０〜８５重量％の酢酸ビニル単量体、 （Ｂ）５〜６５重量％のアクリレート又はメタクリレー
ト単量体であって、そのアルコール成分が炭素原子１〜
８個の直鎖もしくは分枝鎖アルカノール類と、低級アル
コキシ基、置換もしくは未置換フェノキシ基、フェニル
低級アルコキシ基、置換もしくは未置換フェニル基、フ
ラニル基、テトラヒドロフラニル基、置換アミノ基、ハ
ロゲン原子又はシアノ基によって置換された低級アルカ
ノール類と、置換もしくは未置換フェノール類と、シク
ロヘキサノールと、ナフトール類とからなる群より選ば
れるアルコールに由来する単量体、 （Ｃ）５〜５０重量％のメタクリル酸単量体、ならびに （Ｄ）式 【化１】 （上式中、Ｘは式−ＣＯＯ−又は−ＣＯＮＨ−で示され
る連結基であり、 Ｙは低級アルキレン基又はフェニレン低級アルキレン基
であり、 Ｒ1 は水素原子又は低級アルキル基であり、 Ｒ2 ，Ｒ3 及びＲ4 は、独立して低級アルキル基であ
り、 Ｚ- は対アニオンであり、そしてｎは０又は１である）
で示される０．５〜１５重量％のカチオン帯電ビニル単
量体、からなる重合繰り返し単位を含んでなり、かつ示
差走査熱量計で測定した場合にガラス転移温度１０°〜
７０℃を示す酢酸ビニル共重合体であることを特徴とす
る要素。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US401205 | 1982-07-23 | ||
| US06/401,205 US4448850A (en) | 1982-07-23 | 1982-07-23 | Vinyl acetate polymers and latex compositions containing same |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58502519A Division JPS59501367A (ja) | 1982-07-23 | 1983-07-14 | 酢酸ビニル共重合体，それを含有するラテックス共重合体及びそれらの使用 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06138582A true JPH06138582A (ja) | 1994-05-20 |
| JPH0673007B2 JPH0673007B2 (ja) | 1994-09-14 |
Family
ID=23586793
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58502519A Pending JPS59501367A (ja) | 1982-07-23 | 1983-07-14 | 酢酸ビニル共重合体，それを含有するラテックス共重合体及びそれらの使用 |
| JP4268697A Expired - Fee Related JPH0673007B2 (ja) | 1982-07-23 | 1992-10-07 | 酢酸ビニル共重合体を含有する要素 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58502519A Pending JPS59501367A (ja) | 1982-07-23 | 1983-07-14 | 酢酸ビニル共重合体，それを含有するラテックス共重合体及びそれらの使用 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4448850A (ja) |
| EP (1) | EP0114868B1 (ja) |
| JP (2) | JPS59501367A (ja) |
| CA (1) | CA1220895A (ja) |
| DE (1) | DE3363509D1 (ja) |
| WO (1) | WO1984000621A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5698378A (en) * | 1994-11-18 | 1997-12-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Recovery of photographic polyester support |
| JP2003128819A (ja) * | 2001-10-29 | 2003-05-08 | Mitsubishi Polyester Film Copp | 帯電防止フィルム |
| JP2003155366A (ja) * | 2001-11-26 | 2003-05-27 | Mitsubishi Polyester Film Copp | 帯電防止フィルム |
| JP2008501825A (ja) * | 2004-06-01 | 2008-01-24 | ダウ コーニング コーポレーション | ナノ及びマイクロリソグラフィー用の材料組成物 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4684608A (en) * | 1982-07-19 | 1987-08-04 | Eastman Kodak Company | Latex compositions comprising loadable polymeric particles |
| US4608424A (en) * | 1982-07-19 | 1986-08-26 | Eastman Kodak Company | Latex compositions comprising loadable polymeric particles |
| US4544723A (en) * | 1982-07-23 | 1985-10-01 | Eastman Kodak Company | Vinyl acetate polymers and latex compositions containing same |
| US4592954A (en) * | 1985-01-25 | 1986-06-03 | Xerox Corporation | Ink jet transparencies with coating compositions thereover |
| JPS6210005A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-19 | Nippon Shiken Kogyo Kk | 抗歯髄等組織刺激性及び抗為害性組成物 |
| NL8600359A (nl) * | 1986-02-13 | 1987-09-01 | Polysar Financial Services Sa | Latex, werkwijze voor de vervaardiging van een geconsolideerd vlies en geconsolideerde vliezen vervaardigd met de werkwijze. |
| JPS6344658A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
| JPH0721633B2 (ja) * | 1987-07-10 | 1995-03-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料 |
| JPH0778618B2 (ja) * | 1987-12-22 | 1995-08-23 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真材料 |
| US5023228A (en) * | 1990-06-13 | 1991-06-11 | Eastman Kodak Company | Subbing layer for dye-donor element used in thermal dye transfer |
| JP4404445B2 (ja) * | 2000-05-17 | 2010-01-27 | テルモ株式会社 | 血液フィルターおよび血液フィルターの製造方法 |
| GB0505367D0 (en) * | 2005-03-16 | 2005-04-20 | Combining Co The Ltd | A method for producing a grafted polymer coating |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2887405A (en) * | 1956-11-08 | 1959-05-19 | American Cyanamid Co | Pheral coating with nitrogen resin primer |
| US3432593A (en) * | 1963-09-18 | 1969-03-11 | Key Pharm Inc | Delayed and sustained release type pharmaceutical preparation |
| US4129711A (en) * | 1965-03-03 | 1978-12-12 | L'oreal | Polymers comprising vinyl esters-crotonic acid |
| US3615557A (en) * | 1966-05-03 | 1971-10-26 | Du Pont | Photographic films comprising an adhesivesubbing layer for a photographic emulsion |
| CA943694A (en) * | 1968-03-01 | 1974-03-12 | Hyman L. Cohen | Polymers and photographic elements containing same |
| BE793586A (fr) * | 1971-12-29 | 1973-06-29 | Eastman Kodak Co | Emulsion photographique aux halogenures d'argent contenant un liant polymere synthetique ameliore |
| US3790533A (en) * | 1972-01-26 | 1974-02-05 | C Samour | Pressure sensitive adhesive copolymers and tapes therefrom |
| US3947396A (en) * | 1972-04-28 | 1976-03-30 | The Dow Chemical Company | Coacervation of anion-containing aqueous disperse systems with amphoteric polyelectrolytes |
| US4066820A (en) * | 1974-03-29 | 1978-01-03 | Imperial Chemical Industries Limited | Processes for coating films |
| BE833512A (fr) * | 1974-09-17 | 1976-03-17 | Nouvelle composition de latex charge par un compose hydrophobe, sa preparation et son application photographique | |
| US4022743A (en) * | 1974-12-04 | 1977-05-10 | Celanese Corporation | Aqueous dispersions of vinyl acetate/polyacrylate ester of pentaerythritol/hydroxymethyl diacetone acrylamide copolymers having improved adhesion properties |
| US3994424A (en) * | 1975-06-09 | 1976-11-30 | Lawrence Peska Associates, Inc. | Can guard |
| JPS5432552A (en) * | 1977-08-17 | 1979-03-09 | Konishiroku Photo Ind | Method of making impregnating polymer latex composition |
| US4262088A (en) * | 1979-09-20 | 1981-04-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photographic material having a removable antihalo layer |
| JPS6021370B2 (ja) * | 1979-11-05 | 1985-05-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真感光材料 |
-
1982
- 1982-07-23 US US06/401,205 patent/US4448850A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-10-12 CA CA000413225A patent/CA1220895A/en not_active Expired
-
1983
- 1983-07-14 JP JP58502519A patent/JPS59501367A/ja active Pending
- 1983-07-14 WO PCT/US1983/001058 patent/WO1984000621A1/en active IP Right Grant
- 1983-07-14 EP EP19830902506 patent/EP0114868B1/en not_active Expired
- 1983-07-14 DE DE8383902506T patent/DE3363509D1/de not_active Expired
-
1992
- 1992-10-07 JP JP4268697A patent/JPH0673007B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5698378A (en) * | 1994-11-18 | 1997-12-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Recovery of photographic polyester support |
| JP2003128819A (ja) * | 2001-10-29 | 2003-05-08 | Mitsubishi Polyester Film Copp | 帯電防止フィルム |
| JP2003155366A (ja) * | 2001-11-26 | 2003-05-27 | Mitsubishi Polyester Film Copp | 帯電防止フィルム |
| JP2008501825A (ja) * | 2004-06-01 | 2008-01-24 | ダウ コーニング コーポレーション | ナノ及びマイクロリソグラフィー用の材料組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59501367A (ja) | 1984-08-02 |
| EP0114868B1 (en) | 1986-05-14 |
| WO1984000621A1 (en) | 1984-02-16 |
| CA1220895A (en) | 1987-04-21 |
| JPH0673007B2 (ja) | 1994-09-14 |
| US4448850A (en) | 1984-05-15 |
| DE3363509D1 (en) | 1986-06-19 |
| EP0114868A1 (en) | 1984-08-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH06138582A (ja) | 酢酸ビニル共重合体を含有する要素 | |
| US4855219A (en) | Photographic element having polymer particles covalently bonded to gelatin | |
| EP0307855B1 (en) | Gelatin-grafted polymer particles | |
| JPS5931696B2 (ja) | カラ−拡散転写法用写真材料 | |
| JPH0427266B2 (ja) | ||
| JPS6051693B2 (ja) | 写真要素 | |
| JPS6223037A (ja) | 写真要素 | |
| US3645740A (en) | Photographic silver halide light-sensitive element with gelatin subbing layer | |
| US4544723A (en) | Vinyl acetate polymers and latex compositions containing same | |
| US4396709A (en) | Method of improving adhesion resistance of silver halide photographic light-sensitive medium for use in printing | |
| US4507385A (en) | Acrylonitrile copolymers as protective overcoats in photographic elements | |
| US4510238A (en) | Photographic material and a process for its manufacture | |
| EP0146337B1 (en) | Elements having hydrophilic layers containing hydrophobes in polymer particles and a method of making same | |
| US4197127A (en) | Photographic silver halide composition and element containing sulfonate copolymers | |
| JPS6015935B2 (ja) | 写真要素 | |
| US6048678A (en) | Protective overcoat coating compositions | |
| JP2811256B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPS63235314A (ja) | 弗素を含む粒状重合体 | |
| US6407160B2 (en) | Non-aqueous composite wax particle dispersion | |
| JPH06347949A (ja) | 写真要素の帯電防止層組成物 | |
| US3533793A (en) | Process for preparing photographic elements | |
| JPS62240952A (ja) | 寸法，生産，保存安定性にすぐれたハロゲン化銀写真感光材料 | |
| US4584255A (en) | Photographic color elements having hydrophilic layers containing hydrophobes in polymer particles | |
| US4611027A (en) | Novel acrylonitrile copolymers | |
| JPS61285446A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081213 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091213 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101213 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101213 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111213 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |