JPH06135939A - 水酸基で置換されたフェニルピリミジン類の製造方法 - Google Patents
水酸基で置換されたフェニルピリミジン類の製造方法Info
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- JPH06135939A JPH06135939A JP28273892A JP28273892A JPH06135939A JP H06135939 A JPH06135939 A JP H06135939A JP 28273892 A JP28273892 A JP 28273892A JP 28273892 A JP28273892 A JP 28273892A JP H06135939 A JPH06135939 A JP H06135939A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】フェニルピリミジン類の工業的有利な製造方法
を提供すること。 【構成】 ２─（４─ハロフェニル）─５─アルコキシ
ピリミジン等と酸性物質とを反応させることを特徴とす
る２─（４─ハロフェニル）─５─ヒドロキシピリミジ
ン等の製造方法。
を提供すること。 【構成】 ２─（４─ハロフェニル）─５─アルコキシ
ピリミジン等と酸性物質とを反応させることを特徴とす
る２─（４─ハロフェニル）─５─ヒドロキシピリミジ
ン等の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、農薬、医薬、有機電子
（液晶）材料等の中間体として有用な水酸基で置換され
たフェニルピリミジン類の製造方法に関する。
（液晶）材料等の中間体として有用な水酸基で置換され
たフェニルピリミジン類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明の一般式（Ｉ）で示されるヒドロ
キシフェニルピリミジン類に関係する製造法としては、
Khim.Geterotsikl.Soedin.,(6),801〜３に以下の方法が
記載されている。
キシフェニルピリミジン類に関係する製造法としては、
Khim.Geterotsikl.Soedin.,(6),801〜３に以下の方法が
記載されている。
【０００３】
【化２】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記文
献に示される方法は、原料である化合物（ａ）の合成方
法が必ずしも容易でない上、条件によって化合物（ｂ）
や（ｃ）が生成し、分離精製に煩雑な操作が必要とされ
る等、工業的な製造法としては必ずしも満足のいくもの
ではない。このようなことから、本発明者らは、上記問
題点を解決する方法について鋭意検討の結果、工業的有
利な新しい方法を見い出すにいたった。
献に示される方法は、原料である化合物（ａ）の合成方
法が必ずしも容易でない上、条件によって化合物（ｂ）
や（ｃ）が生成し、分離精製に煩雑な操作が必要とされ
る等、工業的な製造法としては必ずしも満足のいくもの
ではない。このようなことから、本発明者らは、上記問
題点を解決する方法について鋭意検討の結果、工業的有
利な新しい方法を見い出すにいたった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は一般
式（II） Ｒ−Ｏ−Ａ−Ｂ−Ｘ （II） （式中、Ｒは炭素数１〜１２の飽和または不飽和のアル
キル基を表わし、Ｘはハロゲン原子を表わし、−Ａ−Ｂ
−は、
式（II） Ｒ−Ｏ−Ａ−Ｂ−Ｘ （II） （式中、Ｒは炭素数１〜１２の飽和または不飽和のアル
キル基を表わし、Ｘはハロゲン原子を表わし、−Ａ−Ｂ
−は、
【０００６】
【化３】
【０００７】で示されるフェニルピリミジンエーテル類
と酸性物質とを反応させることによる一般式（Ｉ） ＨＯ−Ａ−Ｂ−Ｘ （Ｉ） （式中、Ａ、ＢおよびＸは前記と同じ意味を有する。）
で示されるヒドロキシフェニルピリミジン類の製造方法
を提供するものである。以下、本発明を詳細に説明す
る。上記のフェニルピリミジンエーテル類（Ｉ）は、下
記に示す公知の方法に準じて合成される。
と酸性物質とを反応させることによる一般式（Ｉ） ＨＯ−Ａ−Ｂ−Ｘ （Ｉ） （式中、Ａ、ＢおよびＸは前記と同じ意味を有する。）
で示されるヒドロキシフェニルピリミジン類の製造方法
を提供するものである。以下、本発明を詳細に説明す
る。上記のフェニルピリミジンエーテル類（Ｉ）は、下
記に示す公知の方法に準じて合成される。
【０００８】
【化４】
【０００９】かかるフェニルピリミジンエーテル類
（Ｉ）としては、例えば以下のものが挙げられる。一般
式（Ｉ）において、飽和または不飽和のアルキル基とし
ては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデ
シル、ドデシル、アリル、２─ブテニル、３─ブテニ
ル、２─ペンテニル、３─ヘキセニル、プロパルギル、
２─ペンチニル、３─ヘキシニル、５─ヘキシニル等が
例示される。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が例示される。
（Ｉ）としては、例えば以下のものが挙げられる。一般
式（Ｉ）において、飽和または不飽和のアルキル基とし
ては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデ
シル、ドデシル、アリル、２─ブテニル、３─ブテニ
ル、２─ペンテニル、３─ヘキセニル、プロパルギル、
２─ペンチニル、３─ヘキシニル、５─ヘキシニル等が
例示される。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が例示される。
【００１０】酸性物質としては、ピリジン塩酸塩、ピリ
ジン臭化水素酸塩、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、
臭化水素酸−酢酸、塩化アルミニウム、臭化アルミニウ
ム、３塩化ホウ素、３臭化ホウ素等が例示され、なかで
も、ピリジン塩酸塩、ピリジン臭化水素酸塩が収率の面
から好ましい。また、３臭化ホウ素も収率面から好まし
く、とくにこの場合にはヨウ化ナトリウム臭化ナトリウ
ム等の塩を共存させることがより好ましい。
ジン臭化水素酸塩、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、
臭化水素酸−酢酸、塩化アルミニウム、臭化アルミニウ
ム、３塩化ホウ素、３臭化ホウ素等が例示され、なかで
も、ピリジン塩酸塩、ピリジン臭化水素酸塩が収率の面
から好ましい。また、３臭化ホウ素も収率面から好まし
く、とくにこの場合にはヨウ化ナトリウム臭化ナトリウ
ム等の塩を共存させることがより好ましい。
【００１１】かかる酸性物質の使用量は、原料であるフ
ェニルピリミジンエーテル類（II）１モルに対して、0.
１モル〜５０モル、好ましくは0.３モル〜３０モル倍で
使用されるが、勿論これ以上でも使用可能である。この
反応で溶媒を使用することもできる。これらは反応に不
活性なものであれば特に制限なく使用できるが、上記酸
性物質を溶媒として利用することもできる。
ェニルピリミジンエーテル類（II）１モルに対して、0.
１モル〜５０モル、好ましくは0.３モル〜３０モル倍で
使用されるが、勿論これ以上でも使用可能である。この
反応で溶媒を使用することもできる。これらは反応に不
活性なものであれば特に制限なく使用できるが、上記酸
性物質を溶媒として利用することもできる。
【００１２】反応温度は、通常、−１０℃〜２５０℃で
あり、必要によりオートクレーブ中で実施することもで
きる。反応時間は特に制限されず、原料の消失した時点
で反応を終了すればよい。反応終了後、反応液は例えば
水中にあけ、抽出、濃縮、再結晶、クロマト精製等の操
作により、一般式（Ｉ）で示されるヒドキシフェニルピ
リミジン類を得ることができる。
あり、必要によりオートクレーブ中で実施することもで
きる。反応時間は特に制限されず、原料の消失した時点
で反応を終了すればよい。反応終了後、反応液は例えば
水中にあけ、抽出、濃縮、再結晶、クロマト精製等の操
作により、一般式（Ｉ）で示されるヒドキシフェニルピ
リミジン類を得ることができる。
【００１３】
【発明の効果】本発明の方法によれば、ヒドロキシフェ
ニルピリミジン類（Ｉ）を工業的有利に製造することが
できる。化合物（Ｉ）は、液晶用材料の中間体として有
用であるのみならず、医薬、農薬等の中間体としても利
用することができる。
ニルピリミジン類（Ｉ）を工業的有利に製造することが
できる。化合物（Ｉ）は、液晶用材料の中間体として有
用であるのみならず、医薬、農薬等の中間体としても利
用することができる。
【００１４】
【実施例】以下、実施例により本発明をより詳しく説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 〔実施例１〕２−（４−ブロモフェニル）−５−エトキ
シピリミジン５ｇ(0.018モル) とピリジン塩酸塩２２ｇ
とを仕込み、２２０℃にて３０分間攪拌する。反応終了
後、反応液を５０℃に冷却し、水５０mlを入れると結晶
が析出する。トルエン１００mlを加え抽出し、有機層を
２％塩酸、水にて順次洗浄する。有機層を減圧にて濃縮
し、残渣をトルエン−ヘプタンから再結晶すれば、２−
（４−ブロモフェニル）−５−ヒドロキシピリミジン3.
８ｇ（収率８５％）が得られる。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 〔実施例１〕２−（４−ブロモフェニル）−５−エトキ
シピリミジン５ｇ(0.018モル) とピリジン塩酸塩２２ｇ
とを仕込み、２２０℃にて３０分間攪拌する。反応終了
後、反応液を５０℃に冷却し、水５０mlを入れると結晶
が析出する。トルエン１００mlを加え抽出し、有機層を
２％塩酸、水にて順次洗浄する。有機層を減圧にて濃縮
し、残渣をトルエン−ヘプタンから再結晶すれば、２−
（４−ブロモフェニル）−５−ヒドロキシピリミジン3.
８ｇ（収率８５％）が得られる。
【００１５】〔実施例２〕２−（４−クロロフェニル）
−５−プロポキシピリミジン５ｇ（0.02モル）とピリジ
ン塩酸塩２５ｇとを仕込み、２１０℃にて３時間反応さ
せる。以下、実施例１に準じて後処理、精製することに
より、２−（４−クロロフェニル）−５−ヒドロキシピ
リミジン3.４ｇ（収率８３％）が得られる。
−５−プロポキシピリミジン５ｇ（0.02モル）とピリジ
ン塩酸塩２５ｇとを仕込み、２１０℃にて３時間反応さ
せる。以下、実施例１に準じて後処理、精製することに
より、２−（４−クロロフェニル）−５−ヒドロキシピ
リミジン3.４ｇ（収率８３％）が得られる。
【００１６】〔実施例３〕２−（４−ブロモフェニル）
−５−デシルオキシピリミジン３．９ｇ（0.01モル）と
３臭化ホウ素１．３ｇ、ヨウ化ナトリウム２ｇおよびジ
クロロエタン２０ｍｌの溶液を還流下に１５時間反応さ
せる。反応終了後、反応液を氷中にあけ、有機層はさら
に水で洗浄し、濃縮後トルエン─酢酸エチルにてカラム
クロマト精製することにより、２−（４−ブロモフェニ
ル）−５−ヒドロキシピリミジン2.3 ｇ（収率９０％）
が得られる。
−５−デシルオキシピリミジン３．９ｇ（0.01モル）と
３臭化ホウ素１．３ｇ、ヨウ化ナトリウム２ｇおよびジ
クロロエタン２０ｍｌの溶液を還流下に１５時間反応さ
せる。反応終了後、反応液を氷中にあけ、有機層はさら
に水で洗浄し、濃縮後トルエン─酢酸エチルにてカラム
クロマト精製することにより、２−（４−ブロモフェニ
ル）−５−ヒドロキシピリミジン2.3 ｇ（収率９０％）
が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高野 尚之 大阪府高槻市塚原２丁目10番１号 住友化 学工業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】一般式 Ｒ−Ｏ−Ａ−Ｂ−Ｘ （II） （式中、Ｒは炭素数１〜１２の飽和または不飽和のアル
キル基を表わし、Ｘはハロゲン原子を表わし、−Ａ−Ｂ
−は、 【化１】 で示されるフェニルピリミジンエーテル類と酸性物質と
を反応させることを特徴とする一般式（Ｉ） ＨＯ−Ａ−Ｂ−Ｘ （Ｉ） （式中、Ａ、ＢおよびＸは前記と同じ意味を有する。）
で示されるヒドロキシフェニルピリミジン類の製造方
法。 - 【請求項２】酸性物質がピリジン塩酸塩またはピリジン
臭化水素酸塩である請求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】酸性物質が３臭化ホウ素である請求項１記
載の製造方法。 - 【請求項４】３臭化ホウ素にヨウ化ナトリウムを添加す
ることからなる請求項３記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28273892A JP3170900B2 (ja) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | 水酸基で置換されたフェニルピリミジン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28273892A JP3170900B2 (ja) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | 水酸基で置換されたフェニルピリミジン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06135939A true JPH06135939A (ja) | 1994-05-17 |
| JP3170900B2 JP3170900B2 (ja) | 2001-05-28 |
Family
ID=17656411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28273892A Expired - Fee Related JP3170900B2 (ja) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | 水酸基で置換されたフェニルピリミジン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3170900B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010029756A1 (ja) * | 2008-09-12 | 2010-03-18 | 興和株式会社 | ５－[２－（メチルチオ）エトキシ]ピリミジン－２－アミンの製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014103439A (ja) * | 2012-11-16 | 2014-06-05 | Nec Engineering Ltd | 通信装置、通信システム、通信装置の制御方法及び通信装置の制御プログラム |
-
1992
- 1992-10-21 JP JP28273892A patent/JP3170900B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010029756A1 (ja) * | 2008-09-12 | 2010-03-18 | 興和株式会社 | ５－[２－（メチルチオ）エトキシ]ピリミジン－２－アミンの製造方法 |
| JPWO2010029756A1 (ja) * | 2008-09-12 | 2012-02-02 | 興和株式会社 | ５−［２−（メチルチオ）エトキシ］ピリミジン−２−アミンの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3170900B2 (ja) | 2001-05-28 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |