JP2917635B2 - １−アルキル−２−メチルインドールの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、２−メチルインド−ル
を出発物質とする１−アルキル−２−メチルインド−ル
の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術および課題】インド−ルの１−位をアルキ
ル化する方法としては、従来より種々の方法が知られて
いる。例えば、Synthesis, 124(1976）およびSynthesi
s, 414 (1976）には、インド−ル、５０％苛性ソ−ダ水
溶液、相間移動触媒およびアルキル化剤の混合物を溶剤
の存在下あるいは不存在下で反応する方法が開示されて
いる。又、Synthesis, 617 (1979）、J. Org. Chem., 4
5, (1980）、Synthesis, 461 (1981）およびBull. Che
m. Soc. Japan, 56,280 (1983）には、インド−ル、苛
性カリあるいはｔ−ブトキシカリウム、相間移動触媒、
および溶剤の混合物中にアルキル化剤を滴下する方法が
開示されている。しかしながら、これらの何れの方法に
おいても３−置換体および１,３−ジ置換体の副生を抑
制することは困難である。また、これら副生物の分離、
除去は困難であり、効率的に高純度の１−置換体のみを
得ることはできない。

【０００３】本発明の目的は、２−メチルインド−ルか
ら１−アルキル−２−メチルインド−ルを製造する方法
において、３−置換体および１,３−ジ置換体の副生を
抑制し、１−アルキル−２−メチルインド−ルを選択的
に高純度、高収率で製造する方法を提供することであ
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】前記の課題について、本
発明者らは鋭意研究を行ったところ、意外にも反応系へ
の２−メチルインドールの添加時期を変更することによ
り、副生物を抑制できるとの知見を得て本発明を完成す
るに至った。

【０００５】本発明はアルキル化剤、苛性ソーダあるい
は苛性カリ、相間移動触媒、および水の混合物中に、不
活性溶媒の存在下あるいは不存在下、２−メチルインド
ールを１〜１５時間かけて徐々に添加することを特徴と
する１−アルキル−２−メチルインドールの製造方法を
提供するものであり、３−アルキル−２−メチルインド
ールおよび１，３−ジアルキル−２−メチルインドール
の副生を抑制するる。

【０００６】本発明において、アルキル化剤としては、
塩化アルキル、臭化アルキル、ヨウ化アルキルおよび硫
酸ジアルキルなどが何れも好ましく用いられる。これら
アルキル化剤中のアルキル基としては、特に制限される
ものではないが、炭素数１〜１２個の直鎖あるいは分枝
アルキル基が好ましい。アルキル化剤の使用量は、２−
メチルインド−ル１モルに対して１モル以上であれば特
に制限されるものではないが、経済的には１〜１.５モ
ルが好ましい。

【０００７】苛性ソーダあるいは苛性カリの使用量は、
系中の水と共に計算して、４５〜６５％濃度として用い
るのが好ましい。苛性ソーダあるいは苛性カリの使用量
は、アルキル化剤の使用量に依存し、アルキル化剤１モ
ルに対して２モル以上であれば特に制限はないが、経済
的には３〜５モル使用するのが好ましい。

【０００８】相間移動触媒としては、特に制限されるも
のではないが、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、
塩化メチルトリオクチルアンモニウム、テトラブチルア
ンモニウム硫酸水素塩などの四級アンモニウム塩、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン
などのトリアルキルアミン等が好ましく用いられる。こ
れらの使用量は、２−メチルインド−ル１モルに対し
て、０.０１〜０.１モル用いるのが好ましい。

【０００９】不活性溶媒としては、特に制限されるもの
ではないが、ベンゼン、トルエン、キシレン等が好まし
く用いられる。不活性溶媒は不可欠なものではないが、
反応の進行を円滑にする利点がある。不活性溶媒の存在
下で反応を行う場合は、２−メチルインドールを不活性
溶媒溶液にして滴下するのが好ましい。

【００１０】２−メチルインド−ルの添加あるいは滴下
に要する時間は、アルキル化剤の種類により異なるが、
一般的には１〜１５時間かけて徐々に添加する。

【００１１】反応温度はアルキル化剤の種類に依存し、
例えば硫酸ジアルキルの場合は２０〜５０℃、ハロゲン
化アルキルの場合は５０〜１００℃が好ましい。

【００１２】

【実施例】以下実施例により本発明をさらに具体的に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。

【００１３】［実施例１］ １−エチル−２−メチルイ
ンド−ルの製造 ５０％苛性ソ−ダ水溶液２５.５ｇ、固形苛性ソ−ダ７.
５ｇ、トリエチルアミン０.５ｇおよび硫酸ジエチル２
０.３ｇ中に撹拌下２−メチルインド−ル１５ｇをトル
エン３０ｍＬに溶解した溶液を４５℃で４時間を要して
滴下した。次いで、同温度で４時間撹拌した。湯５０ｍ
Ｌを添加し、８０℃で１時間撹拌後、トルエン層を分
取、湯洗、濃縮した。残留物を減圧蒸溜し、沸点１４０
〜１４２℃／１１ｍｍＨｇの溜分を分取して、淡黄色液
体１７.２ｇを得た。このものは、ＧＣ分析の結果、面
積比として、１−エチル−２−メチルインド−ル９９.
４％および１,３−ジエチル−２−メチルインド−ル０.
６％を示した。

【００１４】［比較例１］ １−エチル−２−メチルイ
ンド−ルの製造 ２−メチルインド−ル１５ｇをトルエン３０ｍＬに溶解
し、５０％カセイソ−ダ２５.５ｇ、固形苛性ソ−ダ７.
５ｇおよびトリエチルアミン０.５ｇを添加後、撹拌下
硫酸ジエチル２０.３ｇを４５℃で２時間を要して滴下
した。次いで、同温度で４時間撹拌した。湯５０ｍＬを
添加し、８０℃で１時間撹拌後、トルエン層を分取、湯
洗、濃縮した。残留物を減圧蒸溜し、沸点１２８〜１３
３℃／１０ｍｍＨｇの溜分を分取して、淡黄色液体１
７.４ｇを得た。このものは、ＧＣ分析の結果、面積比
として、２−メチルインドール０.４％、１−エチル−
２−メチルインド−ル９４.３％、１,３−ジエチル−２
−メチルインド−ル４.５％、２−メチル−３−エチル
インド−ル０.６％およびその他０.２％を示した。

【００１５】［実施例２］ １−ｎ−プロピル−２−メ
チルインド−ルの製造 ５０％苛性ソ−ダ水溶液２１.６ｇ、固形苛性ソ−ダ６.
６ｇ、トリエチルアミン０.６ｇおよび臭化−ｎ−プロ
ピル１４.５ｇ中に撹拌下２−メチルインド−ル１３.１
ｇをトルエン２５ｍＬに溶解した溶液を７５℃で４時間
を要して滴下した。次いで、同温度で４時間撹拌した。
湯５０ｍＬを添加後、トルエン層を分取、湯洗、濃縮し
た。残留物は、ＧＣ分析の結果、面積比として、２−メ
チルインド−ル０.３％、１−ｎ−プロピル−２−メチ
ルインド−ル９５.６％、１,３−ジ−ｎ−プロピル−２
−メチルインド−ル３.３％、２−メチル−３−ｎ−プ
ロピルインド−ル０.２％およびその他０.６％を示し
た。

【００１６】［比較例２］ １−ｎ−プロピル−２−メ
チルインド−ルの製造 ２−メチルインド−ル１３.１ｇをトルエン２５ｍＬに
溶解し、５０％カセイソ−ダ２１.６ｇ、固形苛性ソ−
ダ６.６ｇ、トリエチルアミン０.６ｇおよび臭化−ｎ−
プロピル１４.５ｇを添加後、７５℃で８時間撹拌し
た。湯５０ｍＬを添加後、トルエン層を分取、湯洗、濃
縮した。残留物は、ＧＣ分析の結果、面積比として、２
−メチルインド−ル０.７％、１−ｎ−プロピル−２−
メチルインド−ル７８.１％、１,３−ジ−ｎ−プロピル
−２−メチルインド−ル１３.９％、２−メチル−３−
ｎ−プロピルインド−ル５.８％およびその他１.５％を
示した。

【００１７】［実施例３］ １−ｎ−ブチル−２−メチ
ルインド−ルの製造 ５０％苛性ソ−ダ水溶液２１.６ｇ、固形苛性ソ−ダ６.
６ｇ、６０％塩化ベンジルトリエチルアンモニウム水溶
液１ｇおよび臭化−ｎ−ブチル１６.５ｇ中に撹拌下２
−メチルインド−ル１３.１ｇをトルエン２５ｍＬに溶
解した溶液を８５℃で７時間を要して滴下した。次い
で、同温度で２時間撹拌した。湯５０ｍＬを添加後、ト
ルエン層を分取、湯洗、濃縮した。残留物を減圧蒸溜
し、沸点１３６〜１４２℃／６ｍｍＨｇの溜分を分取し
て、淡黄色液体１７.７ｇを得た。このものは、ＧＣ分
析の結果、面積比として、１−ｎ−ブチル−２−メチル
インド−ル９７.３％、１,３−ジ−ｎ−ブチル−２−メ
チルインド−ル２.４％およびその他０.３％を示した。

【００１８】［比較例３］ １−ｎ−ブチル−２−メチ
ルインド−ルの製造 ２−メチルインド−ル１３.１ｇをトルエン２５ｍＬに
溶解し、５０％カセイソ−ダ２１.６ｇ、固形苛性ソ−
ダ６.６ｇ、６０％塩化ベンジルトリエチルアンモニウ
ム水溶液１ｇおよび臭化−ｎ−ブチル１６.５ｇを添加
後、８５℃で９時間撹拌した。湯５０ｍＬを添加後、ト
ルエン層を分取、湯洗、濃縮した。残留物を減圧蒸溜
し、沸点１３６〜１４８℃／６ｍｍＨｇの溜分を分取し
て、淡黄色液体１６.４ｇを得た。このものは、ＧＣ分
析の結果、面積比として、２−メチルインド−ル０.４
％、１−ｎ−ブチル−２−メチルインド−ル８５.０
％、１,３−ジ−ｎ−ブチル−２−メチルインド−ル９.
９％、２−メチル−３−ｎ−ブチルインド−ル４.２％
およびその他０.５％を示した。

【００１９】［実施例４］ １−ｎ−アミル−２−メチ
ルインド−ルの製造 ５０％苛性ソ−ダ水溶液２１.６ｇ、固形苛性ソ−ダ６.
６ｇ、トリエチルアミン１.２ｇおよび臭化−ｎ−アミ
ル１８.１ｇ中に撹拌下２−メチルインド−ル１３.１ｇ
をトルエン２５ｍＬに溶解した溶液を８５℃で７時間を
要して滴下した。次いで、同温度で２時間撹拌した。湯
５０ｍＬを添加後、トルエン層を分取、湯洗、濃縮し
た。残留物を減圧蒸溜し、沸点１１９〜１２３℃／３ｍ
ｍＨｇの溜分を分取して、淡黄色液体１８.９ｇを得
た。このものは、ＧＣ分析の結果、面積比として、２−
メチルインド−ル０.２％、１−ｎ−アミル−２−メチ
ルインド−ル９７.１％、１,３−ジ−ｎ−アミル−２−
メチルインド−ル１.０％、２−メチル−３−ｎ−アミ
ルインド−ル０.２％およびその他１.５％を示した。

【００２０】［比較例４］ １−ｎ−アミル−２−メチ
ルインド−ルの製造 ２−メチルインド−ル１３.１ｇをトルエン２５ｍＬに
溶解し、５０％カセイソ−ダ２１.６ｇ、固形苛性ソ−
ダ６.６ｇ、トリエチルアミン１.２ｇおよび臭化−ｎ−
アミル１８.１ｇを添加後、８５℃で９時間撹拌した。
湯５０ｍＬを添加後、トルエン層を分取、湯洗、濃縮し
た。残留物を減圧蒸溜し、沸点１１１〜１２３℃／３ｍ
ｍＨｇの溜分を分取して、淡黄色液体１８.４ｇを得
た。このものは、ＧＣ分析の結果、面積比として、２−
メチルインド−ル９.５％、１−ｎ−アミル−２−メチ
ルインド−ル７９.２％、１,３−ジ−ｎ−アミル−２−
メチルインド−ル２.４％、２−メチル−３−ｎ−アミ
ルインド−ル８.１％およびその他０.８％を示した。

【００２１】［実施例５］ １−ｎ−オクチル−２−メ
チルインド−ルの製造 ５０％苛性ソ−ダ水溶液２１.６ｇ、固形苛性ソ−ダ６.
６ｇ、トリエチルアミン２ｇおよび臭化−ｎ−オクチル
２１.３ｇ中に撹拌下２−メチルインド−ル１３.１ｇを
トルエン２５ｍＬに溶解した溶液を８５℃で７時間を要
して滴下した。次いで、同温度で３時間撹拌した。湯５
０ｍＬを添加後、トルエン層を分取、湯洗、濃縮した。
残留物を減圧蒸溜し、沸点１５０〜１５２℃／３ｍｍＨ
ｇの溜分を分取して、淡黄色液体２２.４ｇを得た。こ
のものは、ＧＣ分析の結果、面積比として、２−メチル
インド−ル０.３％、１−ｎ−オクチル−２−メチルイ
ンド−ル９６.４％、１,３−ジ−ｎ−オクチル−２−メ
チルインド−ル１.４％およびその他１.９％を示した。

【００２２】［比較例５］ １−ｎ−オクチル−２−メ
チルインド−ルの製造 ２−メチルインド−ル１３.１ｇをトルエン２５ｍＬに
溶解し、５０％カセイソ−ダ２１.６ｇ、固形苛性ソ−
ダ６.６ｇ、トリエチルアミン２ｇおよび臭化−ｎ−オ
クチル２１.３ｇを添加後、８５℃で１０時間撹拌し
た。湯５０ｍＬを添加後、トルエン層を分取、湯洗、濃
縮した。残留物を減圧蒸溜し、沸点１１８〜１５６℃／
３ｍｍＨｇの溜分を分取して、淡黄色液体２０.４ｇを
得た。このものは、ＧＣ分析の結果、面積比として、２
−メチルインド−ル１.４％、１−ｎ−オクチル−２−
メチルインド−ル８７.１％、１,３−ジ−ｎ−オクチル
−２−メチルインド−ル２.１％、２−メチル−３−ｎ
−オクチルインド−ル４.８％およびその他４.６％を示
した。

【００２３】［実施例６］ １−ｎ−ドデシル−２−メ
チルインド−ルの製造 ５０％苛性ソ−ダ水溶液２１.６ｇ、固形苛性ソ−ダ６.
６ｇ、トリエチルアミン０.６ｇおよび臭化−ｎ−ドデ
シル２９.９ｇ中に撹拌下２−メチルインド−ル１３.１
ｇをトルエン２５ｍＬに溶解した溶液を８５℃で１０時
間を要して滴下した。次いで、同温度で５時間撹拌し
た。湯５０ｍＬを添加後、トルエン層を分取、湯洗、濃
縮した。残留物は、ＧＣ分析の結果、面積比として、２
−メチルインド−ル１.２％、１−ｎ−ドデシル−２−
メチルインド−ル８９.５％、１,３−ジ−ｎ−ドデシル
−２−メチルインド−ル４.８％、２−メチル−３−ｎ
−ドデシルインド−ル１.８％およびその他２.７％を示
した。

【００２４】［比較例６］ １−ｎ−ドデシル−２−メ
チルインド−ルの製造 ２−メチルインド−ル１３.１ｇをトルエン２５ｍＬに
溶解し、５０％カセイソ−ダ２１.６ｇ、固形苛性ソ−
ダ６.６ｇ、トリエチルアミン０.６ｇおよび臭化−ｎ−
ドデシル２９.９ｇを添加後、８５℃で１５時間撹拌し
た。湯５０ｍＬを添加後、トルエン層を分取、湯洗、濃
縮した。残留物は、ＧＣ分析の結果、面積比として、２
−メチルインド−ル０.７％、１−ｎ−ドデシル−２−
メチルインド−ル７７.８％、１,３−ジ−ｎ−ドデシル
−２−メチルインド−ル１３.２％、２−メチル−３−
ｎ−ドデシルインド−ル５.２％およびその他３.１％を
示した。

【００２５】実施例１〜６および比較例１〜６のＧＣ分
析結果を表１に再示する。

【００２６】 表１ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ＧＣ面積比（％） アルキル化剤 Ａ Ｂ Ｃ Ｄ Ｅ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例１ 硫酸ジエチル ND 99.4 0.6 0.0 0.0 比較例１ 〃 0.4 94.3 4.5 0.6 0.2 実施例２ 臭化−ｎ−プロピル 0.3 95.6 3.3 0.2 0.6 比較例２ 〃 0.7 78.1 13.9 5.8 1.5 実施例３ 臭化−ｎ−ブチル ND 97.3 2.4 0.0 0.3 比較例３ 〃 0.4 85.0 9.9 4.2 0.5 実施例４ 臭化−ｎ−アミル 0.2 97.1 1.0 0.2 1.5 比較例４ 〃 9.5 79.2 2.4 8.1 0.8 実施例５ 臭化−ｎ−オクチル 0.3 96.4 1.4 0.0 1.9 比較例５ 〃 1.4 87.1 2.1 4.8 4.6 実施例６ 臭化−ｎ−ドデシル 1.2 89.5 4.8 1.8 2.7 比較例６ 〃 0.7 77.8 13.2 5.2 3.1 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Ａ：２−メチルインド−ル、Ｂ：１−アルキル−２−メ
チルインド−ル、Ｃ：１,３−ジアルキル−２−メチル
インド−ル、Ｄ：２−メチル−３−アルキルインド−
ル、Ｅ：その他

【００２７】

【発明の効果】表１から明らかなように、本発明による
２−メチルインド−ルからの１−アルキル−２−メチル
インド−ルの製造方法によれば、１,３−ジ置換体およ
び３−置換体の副生が抑制され、１−アルキル−２−メ
チルインド−ルが選択的に高純度、高収率で得られる。

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アルキル化剤、苛性ソーダあるいは苛性
   カリ、相間移動触媒、および水の混合物中に、不活性溶
   媒の存在下あるいは不存在下、２−メチルインドールを
   １〜１５時間かけて徐々に添加することを特徴とする１
   −アルキル−２−メチルインドールの製造方法。
2. 【請求項２】 ２−メチルインドールを添加することに
   より３−アルキル−２−メチルインドールおよび１，３
   −ジアルキル−２−メチルインドールの副生を抑制する
   請求項１記載の製造方法。
3. 【請求項３】 ２−メチルインドールを不活性溶媒溶液
   として滴下する前記請求項１記載の製造方法。
4. 【請求項４】 不活性溶媒がトルエンである前記請求項
   １記載の製造方法。