JPH0613473B2 - キノリンジオイツクアシド類及びアミド類 - Google Patents

キノリンジオイツクアシド類及びアミド類

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JPH0613473B2 JP62312450A JP31245087A JPH0613473B2 JP H0613473 B2 JPH0613473 B2 JP H0613473B2 JP 62312450 A JP62312450 A JP 62312450A JP 31245087 A JP31245087 A JP 31245087A JP H0613473 B2 JPH0613473 B2 JP H0613473B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ロイコトリエン類の拮抗剤及びそれらの生合
成阻害剤として作用する化合物に関する。
ロイコトリエン類及びそれらの生物学的活性、特に様々
な疾患状態及び症状におけるそれらの役割が、文献に記
載されている。例えば、参考のため本明細書に組込まれ
る欧州特許第140,684号明細書(1985年5月8日)
参照。
数種類のクラスの化合物は、哺乳動物、特にヒトにおい
てロイコトリエン類の作用に拮抗しうる効力を示す。例
えば、英国特許第2,058,785号及び第2,094,301号明細
書;欧州特許出願第56,172号、第61800号及び第68,739
号明細書参照。
欧州特許第110,405号明細書(1984年6月13日)
は抗炎症性かつ抗アレルギー性置換ベンゼン類について
記載しており、これはロイコトリエン阻害剤、即ち5−
リポキシゲナーゼ経路の阻害剤であることが開示されて
いる。
本発明は、ロイコトリエン及びSRS−Aの拮抗剤又は
阻害剤としての活性を有する化合物、それらの製造方
法、それらの製造に使用される中間体、並びに哺乳動物
(特にヒト)においてこれらの化合物を使用するための
方法及び医薬組成物に関する。
それらのロイコトリエン拮抗剤又は阻害剤としての活性
によって、本発明の化合物は抗喘息剤、抗アレルギー剤
及び抗炎症剤として使用され、かつアレルギー性鼻炎及
び慢性気管支炎の治療並びに乾癬及びアトピー性湿疹の
ような皮膚疾患の改善のために使用される。これらの化
合物は、例えばアンギナを生じる等の作用の如き、心血
管系及び血管系に対するロイコトリエン類の病理的作用
に拮抗し又はそれを阻害するためにも有用である。本発
明の化合物は、アレルギー性結膜炎のような眼の炎症性
及びアレルギー性疾患の治療にも有用である。化合物は
細胞保護剤としても有用である。
このように、本発明の化合物は、びらん性胃炎;びらん
性食道炎;炎症性腸疾患;エタノール基因性出血性びら
ん;肝虚血症;肝臓、膵臓、腎臓又は心筋組織の毒性物
質基因性障害又は壊死;CCl4及びD−ガラクトサミンの
ような肝毒性物質に基因する肝実質組織障害;虚血性腎
不全;疾患基因性肝障害;胆汁酸塩基因性膵臓又は胃障
害;外傷性又はストレス性細胞障害;グリセロール基因
性腎不全;及び片頭痛のような哺乳動物(特にヒト)を
治療又は予防するためにも使用される。
本発明の化合物は、下記式I及びその製薬上許容される
塩類によって最もよく理解される: 〔上記式中: Rはハロゲン; Yは−CH=CH−又は−CH2O−; XはO、S又はCH2; Qは−CO2H、テトラゾール、−CONR2R2(2つのR
は同一か異なってもよい)又は−CH(R)−CH2CO
2H; Rは水素、直鎖あるいは分枝鎖アルキル又はCH2CO
2R4; Rは水素又はアルキル; Rは水素又はアルキル; Qは−CO2R4、テトラゾール又は−CH(R)−CH2CO
R5; Rは−OH又は−NR3R3(2つのRは同一か異なって
もよい); mは1から3; m′は0から4である〕 アルキルとは、直鎖状、分岐状及び環状の構造を含む意
味である。
アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノル
ボルニルその他がある。
ハロゲンとしては、F、Cl、Br及びIがある。
Qのプロドラッグエステル類(即ち、Q=−COOR4
は、サーリら、ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミ
ストリー,第21巻,第8号,第746−753頁,1
978年〔Saari et al.,Journal of Medicinal Chemis
try,21,NO.8,746-753(1978)〕に記載されているような
エステル類を含む意味である。
具体的分子中におけるいずれの置換基(例えば、R
,m,Q,X等)の定義も、他の化合物の場合にお
けるその定義とは独立している。このように、−NR2R2
は−NH2、−NHCH3等を表わす。
天然アミノ酸基を含むQの例としては下記のものがあ
る: 本明細書に記載された化合物のうちいくつかは1以上の
不整中心を有しているため、ジアステレオマー及び光学
異性体を生じることがある。本発明は、このように可能
なジアステレオマー並びにそれらのラセミ体及び分割さ
れた光学活性体をも包含している。
本発明に記載された化合物のうち数種はオレフィン性二
重結合を有しており、他に指示のない限りE及びZ双方
の幾何異性体を含む意味である。
式Iの好ましい化合物は、下記式Ia: 〔上記式中: Rはハロゲン; XはO、S又はCH2; Qは−CO2H、テトラゾール、−CONR2R2(2つのR
は同一か異なってもよい)又は−CH(R)−CH2CO
2H; Rは水素、直鎖あるいは分枝鎖アルキル又はCH2CO
2R4; Rは水素又はアルキル; Rは水素又はアルキル; Qは−CO2R4、テトラゾール又は−CH(R)−CH2CO
R5; Rは−OH又は−NR3R3(2つのRは同一か異なって
もよい); mは1から3; m′は0から4である〕 及びその薬学上許容される塩類によって最もよく表わさ
れる。
式Iの更に好ましい化合物は、下記式Ib: 〔上記式中: Rはハロゲン; XはO、S又はCH2; Qは−CO2H、テトラゾール、−CONR2R2(2つのR
は同一か異なってもよい)又は−CH(R)−CH2CO
2H; Rは水素、直鎖あるいは分枝鎖アルキル又はCH2CO
2R4; Rは水素又はアルキル; Rは水素又はアルキル; Qは−CO2R4、テトラゾール又は−CH(R)−CH2CO
R5; Rは−OH又は−NR3R3(2つのRは同一か異なって
もよい); mは1から3; m′は0から4である〕 及びその製薬的に許容される塩類によって最もよく表わ
される。
式Iの化合物は、SRS−A及び特にロイコトリエンD
の拮抗剤として活性である。これらの化合物はロイコ
トリエン生合成に関しても適度の阻害活性を有している
が、主に拮抗剤として治療上重要である。式Iの化合物
の活性は、当業者で公知の方法により検出かつ評価する
ことができる。例えば、カジン(Kadin)の米国特許第4,2
96,129号明細書参照。
ロイコトリエン類の効果に拮抗しかつロイコトリエン類
を阻害する式Iの化合物の効力は、ヒト患者においてロ
イコトリエン類により誘発される症状を緩和させるよう
に、それらの使用を可能ならしめている。したがって、
化合物は、ロイコトリエン類が病因であるような疾患、
例えば皮膚疾患、アレルギー性鼻炎及び閉塞性気道疾患
の予防及び治療にとって有効である。化合物はアレルギ
ー性気管支喘息の予防及び治療のために特に有効であ
る。それらは眼の炎症性疾患にとっても有効である。本
パラグラフ及び以下の治療方法の説明において、式Iの
化合物について言及する場合には、薬学上許容される塩
及びラクトン、ラクタムもしくはチオラクタム型を含む
意味である、と理解されるであろう。
化合物の細胞保護活性は、強い刺激性物質の有害作用、
例えばアスピリン又はインドメタシンの潰瘍誘発作用に
対する胃腸粘膜の耐性の増加性に関して調べることによ
り、動物及びヒトの双方において観察されるであろう。
胃腸管における非ステロイド系抗炎症剤の作用を低下さ
せることに加え、動物実験では、細胞保護化合物が強
酸、強塩基、エタノール、高張塩水溶液その他の経口投
与により誘発される胃障害を予防しうることを示してい
る。
2つの試験法(アッセイ)が細胞保護効力を測定するた
めに用いられうる。これらの試験法は、 (A)エタノール基因性障害試験及び(B)インドメタ
シン基因性潰瘍試験であって、欧州特許第140,684号明
細書に記載されている。
式Iの化合物の予防又は治療量は、治療すべき症状の程
度並びに式Iの具体的化合物及びその投与経路に応じて
当然のことながら変動する。それは、個々の患者の年
令、体重及び応答性によっても変動する。一般に、抗喘
息、抗アレルギーもしくは抗炎症への使用及び細胞保護
以外の通常の使用のための一日量範囲は、一回又は分割
用量として、哺乳動物の場合に約0.001〜約100
mg/kg体重、好ましくは0.01〜約10mg/kg、最も
好ましくは1〜100mg/kgの範囲内である。他方、あ
る場合においては、これら制限外の投与量を用いること
も必要であろう。
細胞保護剤として使用される式Iの化合物の正確な量
は、特に損傷細胞を治療させるために又は将来の損傷を
避けるために投与されるのか否か、損傷細胞の種類(例
えば、胃腸潰瘍形成対腎細胞壊死)及び原因物質の種類
に依存する。将来の損傷を避けるための式Iの化合物の
使用例としては、式Iの化合物と投与されなければかか
る損傷を誘発するであろう非ステロイド系抗炎症剤(例
えば、インドメタシン)との同時投与法がある。このよ
うな使用法の場合には、式Iの化合物はNSAID(非ステ
ロイド系抗炎症剤)投与の30分前から30分後までの
間に投与される。好ましくは、NSAIDの前に又はそれと
同時に(例えば、混合投与型として)投与される。
哺乳動物、特にヒトにおいて細胞保護のための式Iの化
合物の有効一日量は、通常約0.1〜約100mg/kg、
好ましくは約1〜約100mg/kgの範囲内である。用量
は、一回又は分割された各用量として投与される。
いずれかの適切な投与経路が、ロイコトリエン拮抗剤の
有効量を哺乳動物、特にヒトに投与するために適用され
る。例えば、経口、経直腸、局所、非経口、点眼、点
鼻、経口腔その他の経路が適用可能である。投与型とし
ては、錠剤、トローチ、分散液、懸濁液、溶液、カプセ
ル、クリーム、軟膏、エアゾールその他がある。
本発明の薬学組成物は、活性成分としての式Iの化合物
又はその薬学上許容される塩からなるが、薬学上許容さ
れる担体及び場合により他の治療成分を含有していても
よい。“薬学上許容される塩類”という語は、無機塩基
もしくは酸及び有機塩基もしくは酸のような薬学上許容
される無毒性塩基もしくは酸から得られる塩類に関す
る。
無機塩基から得られる塩類としては、ナトリウム、カリ
ウム、リチウム、アンモニウム、カルシウム、マグネシ
ウム、鉄(II)、亜鉛、銅、マンガン(II)、アルミニ
ウム、鉄(II)、マンガン(III,VI)その他の塩があ
る。特に好ましくは、アンモニウム、カリウム、ナトリ
ウム、カルシウム及びマグネシウムの塩である。薬学上
許容される有機無毒性塩基から得られる塩類としては、
一級、二級及び三級アミン類、天然置換アミン類等の置
換アミン類、環状アミン類並びに塩基性イオン交換樹
脂、例えばイソプロピルアミン、トリメチルアミン、ジ
エチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミ
ン、エタノールアミン、2−ジメチルアミンエタノー
ル、2−ジエチルアミノエタノール、トロメタミン(tro
methamine)、リジン、アルギニン、ヒスチジン、カフェ
イン、プロカイン、ヒトラバミン、コリン、ベタイン、
エチレンジアミン、グルコサミン、メチルグルカミン、
テオブロミン、プリン類、ピペラジン、ピペリジン、N
−エチルピペリジン、ポリアミン樹脂その他の塩があ
る。
本発明の化合物が塩基性である場合には、塩類は無機及
び有機酸等の薬学上許容される無毒性酸類から得られ
る。このような酸類としては、酢酸、ベンゼンスルホン
酸、安息香酸、ショウノウスルホン酸、クエン酸、エタ
ンスルホン酸、フマル酸、グルコン酸、グルタミン酸、
臭化水素酸、塩酸、イセチオン酸、乳酸、マレイン酸、
リンゴ酸、マンデル酸、メタンスルホン酸、粘液酸、硝
酸、パモ酸、パントテン酸、リン酸、コハク酸、硫酸、
酒石酸、p−トルエンスルホン酸その他がある。特に好
ましくは、臭化水素酸、塩酸、リン酸、及び硫酸であ
る。
組成物は、経口、経直腸、局所、非経口、(皮下、筋注
及び静注等)、点眼、(眼用)、経肺(経鼻及び経口腔
吸入)又は点鼻に適した組成物であるが、いずれの場合
においても最も適した経路は治療すべき症状の性質及び
程度並びに活性成分の種類に依存している。それらは便
宜上投与単位型として存在しており、製薬業界で周知の
いずれかの方法によって製造できる。
静注投与用組成物が用いられる場合の用法として、抗喘
息、抗炎症又は抗アレルギー用に適した用量範囲は式I
の化合物約0.001〜約10mg(好ましくは約0.0
1〜約1mg)/kg体重/日であり、細胞保護用(cytopro
tective)に適した用量範囲は式Iの化合物約0.1〜約
100mg(好ましくは約1〜約100mg、更に好ましく
は約1〜約10mg)/kg体重/日である。
経口組成物が用いられる場合において、抗喘息、抗炎症
又は抗アレルギー用に適した用量範囲は例えば式Iの化
合物約0.01〜約100mg、好ましくは約0.1〜約
10mg/kg体重/日であり、細胞保護用のときが式Iの
化合物約0.1〜約100mg(好ましくは約1〜約10
0mg、更に好ましくは約10〜約100mg)/kg体重/
日である。
吸入投与の場合、本発明の化合物は、加圧パックもしく
はネブライザーからのエアゾールスプレー投与型とし
て、又は粉末組成物が適切な装置から吸入されるカート
リッジとして処方され、粉末として放出されることが都
合よい。好ましい吸入放出系は計測量吸入(MDI)エ
アゾールであって、フッ化炭化水素放射剤の懸濁液又は
溶液として処方される。
適切な式Iの局所処方剤としては、経皮装置、エアゾー
ル、クリーム、軟膏、ローション、散剤その他がある。
眼疾患治療の場合には、許容しうる眼処方剤中0.00
1〜1重量%の式Iの化合物の溶液又は懸濁液からなる
点眼投与用眼科用製剤が使用される。
実用に際しては、式Iの化合物は慣用的薬学混合技術に
従い薬学上許容される担体と十分に混合された活性成分
として混合することができる。担体は、例えば経口又は
非経口(静注)のような投与によって望ましい製剤型に
応じて様々な形態をとることができる。経口投与用組成
物を製造するためには、例えば懸濁液、エリキシル及び
溶液のような経口液体製剤の場合に例えば水、グリコー
ル類、油類、アルコール類、香味剤、保存剤、着色剤そ
の他;例えば粉末、カプセル及び錠剤のような経口固体
製剤の場合に例えばデンプン類、糖類、微結晶セルロー
ス、希釈剤、造粒剤、滑沢剤、結合剤、崩壊剤その他の
ような通常の薬学的媒体のいずれかが使用されるが、経
口固体製剤の方が液体製剤よりも好ましい。易投与性と
いう観点からは錠剤及びカプセルが最も有利な経口投与
単位型であって、その場合には薬学的固体担体が用いら
れることは明白である。所望であれば、錠剤は標準的水
性又は非水性技術によってコーティングされていてもよ
い。
上記通常の投与型以外に、式Iの化合物は、米国特許第
3,845,770号;第3,916,899号;第3,536,809号;第3,59
8,123号;第3,630,200号及び第4,008,719号明細書に記
載されているような放出装置及び/又は制御的放出手段
によって投与されてもよいが、それら文献の記載は参考
のため本明細書に組込まれる。
経口投与用に適した本発明の薬学組成物は、粉末もしく
は顆粒として、又は水性液、非水性液、水中油型乳濁液
もしくは油中水型液体乳濁液の溶液もしくは懸濁液とし
て、規定量の活性成分をそれぞれ含有したカプセル、カ
シェー(cachet)もしくは錠剤のような独立単位で提供さ
れる。このような組成物は、いずれの調剤法によって製
造されてもよいが、しかしながらすべての方法は活性成
分と1種以上の必要な成分を構成する担体とを混合させ
る工程を有している。一般に、組成物は、活性成分と液
体担体、微細固体担体又は双方とを均一かつ十分に混合
し、次いで必要であれば生成物を所望の形状に成形する
ことによって製造される。例えば、錠剤は、場合により
1種以上の補助成分と共に圧縮又は成形して製造され
る。圧縮錠剤は、場合により結合剤、滑沢剤、不活性希
釈剤、界面活性剤又は分散剤と共に混合された粉末又は
顆粒のような易流動型の活性成分を適切な機械で圧縮す
ることによって製造される。成形錠剤は、不活性液体希
釈剤で湿潤された粉末化合物の混合物を適切な機械で成
形することにより製造される。望ましくは、各錠剤は約
2.5〜約500mgの活性成分を含有し、各カシュー又
はカプセルは約2.5〜約500mgの活性成分を含有し
ている。
以下は、式Iの化合物における代表的医薬投与型の例で
ある:注射用懸濁液(I.M.) mg/ml 式Iの化合物 10 メチルセルロース 5.0 ツイーン80(Tween80) 0.5 ベンジルアルコール 9.0 塩化ベンザルコニウム 1.0 注射用水 全量で1mlとなる量錠剤 mg/錠剤 式Iの化合物 25 微結晶セルロース 415 ピロリドン 14.0 ゼラチン化前デンプン 43.5 ステアリン酸マグネシウム 2.5 500カプセル mg/カプセル 式Iの化合物 25 ラクトース粉末 573.5 ステアリン酸マグネシウム 1.5 600 式Iの化合物の他に、本発明の薬学組成物は、シクロオ
キシゲナーゼ阻害剤、非ステロイド系抗炎症剤(NSAI
D)、末梢性鎮痛剤、例えばゾメピラック、ジフルニサー
ルその他のような他の活性成分を含有していてもよい。
式Iの化合物対第二活性成分の重量比は一定ではなく、
各成分の有効投与量に応じて変動する。通常、それぞれ
の有効投与量が使用される。したがって、例えば式Iの
化合物がNSAIDと混合される場合には、式Iの化合物対N
SAIDの重量比は通常約1000:1〜約1:1000の
範囲内である。式Iの化合物及び他の活性成分の組合せ
は通常上記範囲内なあってもよいが、各場合においては
各活性成分の有効量が使用されるべきである。
NSAIDは下記の5群: (1)プロピオン酸誘導体; (2)酢酸誘導体; (3)フェナム酸(fenamic acid)誘導体; (4)ビフェニルカルボン酸誘導体;及び (5)オキシカム類; 又はそれらの薬学上許容される塩に分類される。本発明
の範囲内に属するNSAIDとしては、欧州特許第140,684号
明細書に開示されたものがある。
式Iの化合物を含む薬学組成物は、参考のため本明細書
に組込まれる欧州特許第138,481号(1985年4月2
4日)、欧州特許第115,394号(1984年8月8
日)、欧州特許第136,893号(1985年4月10日)
及び欧州特許第140,709号(1985年5月5日)の明
細書に記載されているようなロイコトリエン類の生合成
阻害剤を含有していてもよい。
式Iの化合物は、参考のため本明細書に組込まれる欧州
特許第106,565号(1984年4月25日)及び欧州特
許第104,885号(1984年4月4日)明細書に記載さ
れているようなロイコトリエン拮抗剤、並びに参考のた
め本明細書に組込まれる欧州特許出願第56,172号(19
82年7月21日)、第61,800号(1982年10月6
日)及び英国特許第2,058,785号明細書に記載されてい
る当業界で公知の他の化合物と組合せて使用されてもよ
い。
式Iの化合物からなる薬学組成物は、欧州特許出願第1
1,067号(1980年5月28日)、第166,591号(19
86年1月2日)明細書に記載されているようなプロス
タグランジン拮抗剤又は米国特許第4,237,160号明細書
に記載されているようなトロンボキサン拮抗剤を第二の
活性成分として含有していてもよい。それらは、米国特
許第4,325,961号明細書に記載されているβ−フルオロ
メチルヒスチジンのようなヒスチジンデカルボキシラー
ゼ阻害剤を含有していてもよい。式Iの化合物は、有利
には、欧州特許第40,696号明細書(1981年12月2
日)に記載された例えばベナドリル、ドラマミン、ヒス
タジル、フェネルガン、テルフェナジン、アセタマゾー
ル、ジメチジン、ラニチジン、ファモチジン、アミノア
チジアゾール類、及び米国特許第4,283,408号、第4,36
2,736号、第4,394,508号明細書に開示された類似化合物
のようなH又はHレセプター拮抗剤と混合されてい
てもよい。薬学組成物は、米国特許第4,255,431号明細
書に開示されたオメプラゾールその他のようなK/H
ATPアーゼ阻害剤を含有していてもよい。もう1つ
の有効な薬学組成物は、メチセルギドのようなセロトニ
ン拮抗剤、ネーチャー(Nature)、第316巻、第126
−131頁に開示されたセロトニン拮抗剤その他と組合
わされた式Iの化合物からなる。このパラグラフにおい
て言及された各文献は参考のため本明細書に組込まれ
る。
本発明の化合物は下記方法に従い製造することができ
る。
これらの経路において、下記の2−置換キノリン基は: “2SQ−”で表わされている。
方法A 方法Aにおいて、式Iのアニリン誘導体はクロトンアル
デヒド及び水性塩化水素酸のような強鉱酸と共に加熱す
ることによって反応せしめられ、構造IIの置換キナルジ
ン誘導体を生じる。誘導体は、過酸化ジベンゾイルのよ
うな適切な触媒と共に光の存在下で加熱しながらNC
S、NBS又はNISのような試薬で処理され、構造II
Iの誘導体を生じる。
Cl、Br又はI等の適切な脱離基Wを有する構造IVの誘導
体は、次いでCH3CN等の適切な溶媒中トリフェニルホス
フィンと反応せしめられ、ホスホニウム塩Vを生じる。
塩VはBuLiもしくはヘキサメチルジシラザンのカリウム
塩のような強塩基及びアルデヒド誘導体VIで処理され、
オレフィンVIIを生じる。オレフィンVIIはAlCl3等の適
切な縮合剤の存在下チオール誘導体VIIIで処理され、付
加生成物IXを生じる。
シアノ誘導体IXは適切な還元剤、好ましくはSnCl2/HCl
で処理され、アルデヒド誘導体Xを生じる。キナルジン
誘導体IIIはアセトニトリル等の適切な溶媒中Ph3Pで処
理されてウィティッヒ試薬XIを生じ、次いでこれはブ
チルリチウム等の塩基及びアルデヒドXと反応せしめら
れXIIを生じる。
方法B あるいは、ホスホニウム塩VはBuLiもしくはヘキサメチ
ルジシラザンのカリウム塩のような強塩基及びアルデヒ
ド誘導体XIIIで処理され、オレフィンXIVを生じる。
オレフィンXIVはAlCl3等の適切な縮合剤の存在下チオ
ール誘導体VIIIで処理され、付加生成物XVを生じる。
チオール付加生成物XVはBBr3又はAlCl3/EtSH等の試
薬で処理され、フェノールXVIを生じる。次いで、フェ
ノール誘導体XVIは、NaOH、NaH、K2CO3等の適切な塩基
の存在下THF、ジオキサン、DMF等の不活性溶媒
中、必要であれば加温しながら、一般構造IIIのキナル
ジン誘導体と反応せしめられ、付加生成物XVIIを生じ
る。
方法C グリニャール試薬XVIIIはアルデヒドXIXと反応せしめ
られてアルコールXXを生じ、これはCrO3等の適切な試
薬で酸化されてケトンXXIを生じる。ホスホニウム塩
VaはBuLi等の強塩基及びケトン誘導体XXIで処理さ
れ、オレフィンXXIIを生じる。XXII中の二重結合は
水素ガス及びPd/C等の触媒で還元され、飽和誘導体X
XIIIを生じる。誘導体XXIIIはBBr3又はAlCl3/EtSH
等の試薬で処理され、フェノールXXIVを生じる。次い
でフェノール誘導体はK2CO3等の適切な塩基の存在下T
HF等の不活性溶媒中、必要であれば加温しながら、一
般構造IIIのキナルジン誘導体と反応せしめられ、付加
生成物XXVを生じる。
方法D ブロモ誘導体XXVIはTHF等の適切な溶媒中Mgで処理
され、グリニャール誘導体XXVIIを生じる。アルデヒ
ドXIXはグリニャール試薬XXVIIで処理されてアルコ
ールXXVIIIを生じ、次いでこれはCrO3で酸化されてケ
トンXXIXを生じる。ホスホニウム塩VaはBuLi等の強
塩基及びケトン誘導体XXIXで処理され、オレフィンX
XXを生じる。二重結合はPt/C等の適切な触媒を用い
て水素ガスで還元され、飽和誘導体XXXIを生じる。
誘導体XXXIはTHF中(Bu)4NFで処理され、アルコ
ールXXXIIを生じる。アルコールXXXIIはMnO2等の
適切な酸化剤で酸化され、アルデヒドXXXIIIを生じ
る。ウィティッヒ試薬XIはブチルリチウム等の塩基及
びアルデヒドXXXIIIと反応せしめられ、XXXIVを
生じる。方法Dにおいて、略号PGはt−ブチルジフェニ
ルシリル基を表わす。
構造XII、XVII、XXV及びXXXIVは式Iの化合物
の代表例である。Q1及びQ2がエステル基である場合に
は、かかるエステル類はテトラヒドロフラン(THF)
等の極性溶媒及び水性水酸化ナトリウム等の強塩基の混
合物中で加水分解されて各々の塩を生じ、その酸性化に
よって対応する酸を生じる。その塩類及び酸類も構造I
の代表例である。
本発明は下記実施例を参照して更に明確化されるが、実
施例は説明のためであって限定のためのものではない。
第1表においては、一部の代表的な式Iの化合物が示さ
れている。
出発物質の製造 製造1 2−ブロモメチル−7−クロロキノリンの製造 CCl42L中7−クロロキナルジン(177g,1モ
ル)、N−ブロモスクシンイミド(178g,1モ
ル)、過酸化ベンゾイル(1g)の溶液を太陽灯下で2
日間加熱還流した。反応混合物を冷却し、溶離液として
トルエンを用いSiO2(1kg以上)充填物に通過させた。
溶離液としてトルエンを用いた2回の1kgSiO2カラム上
でのクロマトグラフィーにより、標題化合物110〜1
20gを得た。m.p.112°(d),p.m.r.(CDCl3)δ:8.3(d,
1H),8.1-7.9(m,2H),7.4-7.7(m,2H),4.7p.p.m.(s,2H) 製造2 (7−クロロキノリン−2−イル)メチルトリフェニル
ホスホニウムブロミドの製造 CH3CN800mL中2−ブロモメチル−7−クロロキノリ
ン(120g,0.5M)の懸濁液に60℃でトリフェ
ニルホスフィン(183g)を加えた。反応混合物を一
夜60℃で加熱し、冷却し、エーテル400mLを加え
た。固体を濾取し、乾燥して、ホスホニウム塩170g
を得た。
p.m.r.(CDCl3)δ:7.3-8.2(m,20H),6.0p.p.m.(d,2H). 実施例1 5−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメトキシ)
フェニル〕−3−メチル−6−チアノナン−1,9−ジ
オイックアシド 工程1 m−(t−ブチルジメチルシリルオキシ) ベンズアルデヒドの製造 ジクロロメタン(50mL)中m−ヒドロキシベンズアル
デヒド(10g)の溶液にt−ブチルジメチルシリルク
ロリド(15g)ついでトリエチルアミン(15mL)及
び微量のジメチルアミノピリジン結晶を加えた。反応液
を室温で48時間攪拌した。反応をNH4OAc緩衝液の添加
によって停止させ、クロロホルムで抽出した。有機層を
1回水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させた。残
渣をヘキサン中10%酢酸エチルでフラッシュクロマト
グラフィーにより精製し、次の工程でそのまま使用され
る標題化合物を得た。
工程2 1−〔3−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)フェニル〕−3−ブテン−2−オンの製造 THF(100mL)中工程1からのベンズアルデヒド
(10g)の溶液に1−トリフェニルホスホラニリデン
−2−プロパノン(31g)を加えた。反応液を70℃
で48時間加熱した。反応液を室温まで冷却し、溶媒を
留去した。残渣をヘキサン中20%酢酸エチルでフラッ
シュクロマトグラフィーにより精製し、次の工程でその
まま使用される標題化合物を得た。
工程3 5−〔3−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)フェニル〕−7−オキソ−4−チアオクタン酸メチ
ルの製造 THF(100mL)中工程2で製造されたα−不飽和ケ
トンの溶液に3−メルカプトプロピオン酸メチル(1.
55mL)、しかる後1,5−ジアザビシクロ〔4.3.
0〕ノネ−5−エン(0.6mL)を加えた。反応液を室
温で1時間攪拌し、それを蒸発乾固させた。残渣をヘキ
サン中15%酢酸エチルでフラッシュクロマトグラフィ
ーにより精製し、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.2(s,6H),1.0(s,9H),2.1(s,3H),2.4-
2.6(m,4H),3.0(m,2H),3.6(s,3H),4.4(t,1H),6.8(dd,1
H),6.95(t,1H),7.05(d,1H),7.2p.p.m.(t,1H). 工程4 5−〔3−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)フェニル〕−3−メチル−6−チアノネ−2−エン
−1,9−ジオイックアシドの1−エチル,9−メチル
ジエステルの製造 THF(22mL)中ジイソプロピルアミン(1.53m
L)の溶液に−30℃でブチルリチウム溶液(ヘキサン
中1.6Mの6.8mL)を加えた。−30℃で30分間
後、(トリメチルシリル)酢酸メチル(2.0mL)を徐
々に加え、反応液を30分間かけて−78℃に冷却し
た。反応液をTHF(22mL)中工程3で製造されたケ
トン(2.88g)の溶液に−78℃でカニューレによ
り加えた。−78℃で15分間後、反応液を30分間か
けて室温まで加温した。
反応をNH4OAcで停止させ、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナ
トリウムで乾燥し、蒸発させた。残渣をヘキサン中10
%酢酸エチルでフラッシュクロマトグラフィーにより精
製し、無色油状物として標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.2(s,6H),1.0(s,9H),1.2(2t,3H),1.8
及び2.05(2d,3H,E及びZ異性体のメチル),2.4-2.7(m,5
H),3.1-3.3(m,1H),3.6(s,3H),4.05(2q,2H),4.2(2t,1H),
5.6(2bt,1H,E及びZ異性体のオレフィン性水素),6.8(d
d,1H),6.95(bs,1H),7.05(m,1H),7.2p.p.m.(2t,1H). 工程5 5−〔3−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)フェニル〕−3−メチル−6−チアノナン−1,9
−ジオイックアシドの1−エチル,9−メチルジエステ
ルの製造 酢酸エチル(50mL)中工程4からのα−不飽和エステ
ル(1.01g)の溶液に酸化白金(305mg)を加え
た。得られた褐色懸濁液を水素45psi(約3.2kg/c
m2)下66時間パール(Parr)水素添加器中で振盪した。
クロロホルム(25mL)を黒色懸濁液に加え、反応液を
シリカゲルパッドで2回濾過した。溶媒を留去し、残渣
をヘキサン中10%酢酸エチルでフラッシュクロマトグ
ラフィーにより精製し、同一Rfの化合物の混合物を得
た。HPLC分析では化合物4種の混合物であることを
示したが、そのうち2種は未反応のまま残留した出発物
質E及びZオレフィンである。残り2種の生成物のう
ち、主な生成物(約1〜10)はゾルバックス・ジル(Z
ORBAX sil)21mm×25cmカラムを用いヘキサン中5%
酢酸エチルで流速22mL/minにてHPLC連続注入い
より単離し、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.2(s,6H),0.9(d,3H),1.0(s,9H),1.2
(t,3H),1.6-2.2(m,4H),2.35-2.6(m,5H),3.6(s,3H),4.0
(t,1H),4.05(q,2H),6.75(dt,1H),6.95(t,1H),7.0(dt,1
H),7.2p.p.m.(t,1H). 工程6 5−(3−ヒドロキシフェニル)−3−メチル
−6−チアノナン−1,9−ジオイックアシドの1−エ
チル,9−メチルジエステルの製造 THF(4mL)中工程5からのシリルエステル(192
mg)の溶液に氷酢酸(90μL)しかる後テトラ−n−
ブチルアンモニウムフルオリド溶液(THF中1Mの
0.81mL)を加えた。反応液を室温で40分間攪拌し
た。酢酸アンモニウム緩衝液を反応液に加え、それを酢
酸エチルで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥
し、蒸発させた。残渣をヘキサン中40%酢酸エチルで
フラッシュクロマトグラフィーにより精製し、標題化合
物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.95(d,3H),1.2(t,3H),1.6-1.9(m,2
H),2.0-2.15(m,1H),2.3-2.6(m,6H),3.6(s,3H),3.95(t,1
H),4.1(q,2H),6.7(dt,1H),6.85(m,2H),7.15p.p.m.(t,1
H). 工程7 5−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメ
トキシ)フェニル〕−3−メチル−6−チアノン−1,
9−ジオイックアシドの1−エチル,9−メチルジエス
テルの製造 アセトン(2.8mL)中の工程6からのフェノール(1
40mg)、製造1からの2−ブロモメチル−7−クロロ
キノリン(140mg)の溶液に粉末炭酸カリウム(11
0mg)を加えた。反応液を3.5時間還流した。室温に
冷却後、酢酸エチル(10mL)を反応後に加え、得られ
た懸濁液を濾過した。溶媒を留去し、残渣をヘキサン中
30%ジエチルエーテルでフラッシュクロマトグラフィ
ーにより精製し、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.85(d,3H),1.2(t,3H),1.6-2.1(m,4
H),2.3-2.5(m,5H),3.6(s,3H),4.0(q+t,3H),5.4(s,2H),
7.0(td,2H),7.15(t,1H),7.3(t,1H),7.6(dd,1H),7.75(d,
1H),8.0(d,1H),8.05(d,1H),8.4p.p.m.(d,1H). 工程8 1,2−ジメトキシエタン(3.5mL)中工程7からの
ジエステル(147mg)の溶液に水酸化リチウム水溶液
(1Nの1.5mL)を加えた。反応液を室温で10時間
攪拌した。水を加え、反応液を酢酸エチルで抽出した。
水層をHCl(2N)でpH3に酸性化し、酢酸エチルで2
回抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発さ
せた。残渣を高減圧下で乾燥し、それを固化させた。ア
セトン/ヘキサン中で固体を再結晶させ、標題化合物を
得た。
m.p.155-157℃p.m.r.((CD3)2CO)0.9(d,3H),1.6-2.1(m,4
H),2.4-2.6(m,5H),4.1(t,1H),5.4(s,2H),6.95(dd,1H),
7.0(d,1H),7.2(t,1H),7.3(t,1H),7.6(dd,1H),7.7(d,1
H),8.0(d,1H),8.05(d,1H),8.5p.p.m.(d,1H). 実施例2 8−(N−t−ブチルカルバミル)−5−〔3−(7−
クロロキノリン−2−イルメトキシ)フェニル〕−3−
メチル−6−チアオクタン酸 工程1 1−〔3−(t−ブチルジフェニルシリルオキ
シ)フェニル〕−3−ブテン−2−オン 実施例1の工程1及び工程2に記載された操作に従い、
但し工程1においてt−ブチルジメチルシリルクロリド
の代わりにt−ブチルジフェニルシリルクロリドを用い
て、次の工程でそのまま使用される標題化合物を得た。
工程2 5−〔3−(t−ブチルジフェニルシリルオキ
シ)フェニル〕−7−オキソ−4−チアオクタン酸 THF(8mL)中工程1からのα−不飽和ケトン(3.
0g)の溶液に3−メルカプトプロピオン酸(0.72
mL)しかる後1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノ
ネ−5−エン(1.25mL)を加えた。反応液を室温で
1.5時間攪拌し、それを蒸発乾燥させた。残渣をトル
エン中10%アセトン溶液中の1%酢酸でフラッシュク
ロマトグラフィーにより精製し、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)1.1(s,9H),2.0(s,3H),2.3-2.4(m,4H),
2.7(d,2H),4.2(t,1H),6.7(dt,1H),6.8(t,1H),6.9(bd,1
H),7.1(t,1H),7.4(m,6H),7.8p.p.m.(m,4H). 工程3 5−〔3−(t−ブチルジフェニルシリルオキ
シ)フェニル〕−8−メトキシカルボニル−7−メチル
−4−チア−7−オクテン酸の製造 THF(55mL)中ジイソプロピルアミン(6.75m
L)の溶液に−30℃でブチルリチウム溶液(ヘキサン
中1.6Mの30mL)を加えた。
−30℃で30分間後、(トリメチルシリル)酢酸メチ
ル(8.0mL)を徐々に加え、反応液を30分間かけて
−78℃に冷却した。反応液をTHF(55mL)中工程
2で製造されたケトン(9.6g)の溶液に−78℃で
カニューレにより加えた。
−78℃で1時間後、反応をNH4OAc緩衝液で停止させ
た。この混合物を酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウム
で乾燥し、蒸発させた。残渣をヘキサン中50%エーテ
ル溶液中の0.1%酢酸でフラッシュクロマトグラフィ
ーにより精製し、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)1.1(s,9H),1.6,2.1(2d,3H),2.4-2.8
(m,5H),2.9,3.2(2dd,1H),3.6(2s,3H),4.1(m,1H),5.5,5.
6(2bs,1H,E及びZオレフィン),6.7(dt,1H),6.85(td,1
H),6.9(bd,1H),7.1(m,1H),7.4(m,6H),7.8(m,4H). 工程4 8−t−ブチルカルバミル−5−〔3−(t−
ブチルジフェニルシリルオキシ)フェニル〕−3−メチ
ル−6−チア−2−オクテン酸メチルの製造 ジクロロメタン(34mL)及びアセトニトリル(8mL)
中酸(工程3)(4.0g)、トリエチルアミン(2.
0mL)の溶液に0℃で2−クロロ−1−メチルピリジニ
ウムヨウ化物(3.7g)を加えた。懸濁液を0℃で1
時間攪拌し、黄色溶液を得た。この溶液にt−ブチルア
ミン(1.5mL)を加え、反応液を室温で1時間攪拌し
た。混合物を蒸発させ、残渣を酢酸エチル及び水の間で
分配した。水相のpHを抽出前にpH4に調整した。有機相
を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させた。ヘキサン中4
0%エーテルでの残渣のフラッシュクロマトグラフィー
により、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)1.1(s,9H),1.3(2s,9H),1.6,2.0(2d,3
H),2.2-2.6(m,5H),2.9,3.2(2m,1H),3.6(2s,3H),4.1(m,1
H),5.5,5.6(2bs,1H,E及びZオレフィン),6.6(b,1H),6.
65(dt,1H),6.85(t,1H),6.9(dt,1H),7.1(m,1H),7.4(m,6
H),7.7p.p.m.(m,4H). 工程5 8−t−ブチルカルバミル−5−〔3−(t−
ブチルジフェニルシリルオキシ)フェニル〕−3−メチ
ル−6−チオオクタン酸メチルの製造 酢酸エチル(100mL)中工程4で製造されたα−不飽
和エステル(2.0g)及び酸化白金(500mg)の溶
液を水素44psi(約3.1kg/cm2)圧力下で14時間
パール水素添加器中て振盪した。クロロホルム(50m
L)を反応液に加え、触媒をシリカパッドでの濾過によ
り除去した。得られた黒色残渣をヘキサン中50%エー
テルでフラッシュクロマトグラフィーにより精製した。
得られた化合物をパール中同一条件下で再度水素添加し
た。化合物を黒色懸濁液中から同一方法で単離精製し
た。これをそのまま次の工程で使用した。
p.m.r.((CD3)2CO)0.8(d,3H),1.1(s,9H),1.3(s,9H),1.5-
1.8(m,3H),2.1-2.4(m,6H),3.6(s,3H),3.8(2d,1H),6.6
(b,1H),6.7(td,1H),6.8(t,1H),6.9(dt,1H),7.1(t,1H),
7.4(m,6H),7.7p.p.m.(m,4H). 工程6 実施例1の工程6〜8に記載された操作に従い、実施例
1の工程6において5−〔3−(t−ブチルジメチルシ
リルオキシ)フェニル〕−3−メチル−6−チアノナン
−1,9−二酸の1−エチル,9−メチルジエステルの
代わりに工程5で得られたシリルエステルを用いて、標
題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.9(d,3H),1.3(s,9H),1.6-2.0(m,3H),
2.1-2.5(m,6H),4.0(t,1H),5.4(s,2H),6.7(bs,1H),6.9-
7.0(m,2H),7.15(t,1H),7.3(t,1H),7.6(dd,1H),7.75(d,1
H). 実施例3 5−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメトキシ)
フェニル〕−3,7−ジメチルノナン−1,9−ジオイ
ックアシド 工程1 3−メチル−7−オキソオクテ−5〔E〕−エ
ン酸メチルの製造 THF(70mL)中〔ピー・ジー・ウィラード,ジャー
ナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエテー,19
85年,第107巻,第199−203頁(P.G.Willia
rd,Journal of American Chemical Society,198
5,107,199−203)の方法により製造され
た〕3−メチル−5−オキソ吉草酸メチル(2.0g)
の溶液に1−トリフェニルホスホラニリデン−2−プロ
パノン(5.3g)を加えた。反応液を60℃で24時
間攪拌した。反応液を室温に冷却し、溶媒を留去した。
残渣をヘキサン中40%ジエチルエーテルでフラッシュ
クロマトグラフィーにより精製し、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.95(d,3H),2.2(s,3H),2.1to2.6(m,5
H),3.6(s,3H),6.0(d,1H),6.8p.p.m.(dt,1H). 工程2 m−ブロモフェノールのt−ブチルジメチルシ
リルエーテルの製造 ジクロロメタン(35mL)中m−ブロモフェノール
(5.0g)の溶液にトリエチルアミン(3.3mL)し
かる後t−ブチルジメチルシリルクロリド(3.6g)
を加えた。反応液を室温で24時間攪拌し、それをNH4O
Ac緩衝液で反応停止させた。生成物を酢酸エチルで抽出
し、それを一回水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発
させた。得られた残渣をヘキサン中8%酢酸エチルでフ
ラッシュクロマトグラフィーにより精製し、次の工程で
使用される標題化合物を得た。
工程3 THF中3−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)フェニルマグネシウムブロミドの1M溶液の製造 丸底フラスコ内のマグネシウム屑(49mg)を窒素気流
下でフレーム乾燥させた。室温に冷却後、THF(1m
L)しかる後THF(1mL)中m−ブロモフェノール
(575mg)のt−ブチルジメチルシリルエーテルの溶
液を加えた。反応液を室温で2.5時間攪拌し、次の工
程でそのまま使用される淡緑灰色溶液を得た。
工程4 5−〔3−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)フェニル〕−3−メチル−7−オキソオクタン酸メ
チルの製造 THF(0.7mL)中シアン化銅(I)(80mg)の懸
濁液に−78℃でTHF(1.65mL)中3−(t−ブ
チルジメチルシリルオキシ)フェニルマグネシウムブロ
ミド1Mの溶液を徐々に加えた。ドライアイス浴から氷
水浴に替えた。反応液を0℃で6分間攪拌し、氷水浴を
ドライアイス浴に替えた。THF(0.5mL)中3−メ
チル−7−オキソオクテ−5〔E〕−エン酸メチル(1
00mg)の溶液を−70℃で反応液に徐々に加えた。反
応液を20分間攪拌し、飽和塩化アンモニウム水中の1
0%v/v濃水酸化アンモニウム溶液で反応停止させ
た。反応液をジエチルエーテルで抽出し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、蒸発させた。得られる残渣をヘキサン中2
5%ジエチルエーテルでフラッシュクロマトグラフィー
により精製し、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.2(s,6H),0.9(d,3H),0.95(s,9H),1.4
(m,1H),1.65(m,2H),2.0(s,3H),2.0to2.2(m,2H),2.7(d,2
H),3.2(m,1H),3.5(s,3H),6.7(dt,1H),6.75(t,1H),6.85
(bd,1H),7.2p.p.m.(t,1H). 工程5 5−〔3−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)フェニル〕−3,7−ジメチルノネ−2−エン−
1,9−ジオイックアシドの1−エチル,9−メチルジ
エステルの製造 THF(1.2mL)中ジイソプロピルアミン(92μ
L)の溶液にブチルリチウム溶液(ヘキサン中1.5M
の0.44mL)を−30℃で加えた。−30℃で1時間
後、反応液を−78℃に冷却し、(トリメチルシリル)
酢酸エチル(125μL)を滴下した。−78℃で1時
間後、反応液をTHF(0.6mL)中5−〔3−(t−
ブチルジメチルシリルオキシ)フェニル〕−3−メチル
−7−オキソオクタン酸メチル(77mg)の溶液に−7
8℃でカニューレにより加えた。−78℃で1時間後、
反応液を室温で30分間攪拌した。反応をNH4OAc緩衝液
で停止させ、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾
燥し、蒸発させた。得られた残渣をヘキサン中20%ジ
エチルエーテルでフラッシュクロマトグラフィーにより
精製し、E及びZオレフィンの1:1混合物として標題
化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.2(d,6H),0.9(t,3H),1.0(s,9H),1.2
(dt,3H),1.4(m,1H),1.6-1.8(m,2H),1.7及び2.1(2d,3H,E
及びZオレフィンのCH3),2.1〜2.25(m,2H),2.35-2.5(m,2
H),3.0-3.1(m,1H),3.55(s,3H),4.05(dq,2H),5.5及び5.6
(2bs,1H,E及びZオレフィンのH),6.7(dd,1H),6.75(t,1
H),6.85(dd,1H),7.15p.p.m.(dt,1H). 工程6 5−〔3−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)フェニル〕−3,7−ジメチルノナン−1,9−ジ
オイックアシドのエチル,メチルジエステルの製造 酢酸エチル(5.5mL)中工程5からのオレフィン(2
19mg)の溶液に酸化白金(5mg)を加えた。得られた
懸濁液を水素雰囲気下室温で1時間攪拌した。反応液を
セライトで濾過し、蒸発させて、次の工程でそのまま使
用される標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.2(s,6H),0.85-0.95(3d,6H),1.0(s,9
H),1.15(2t,3H),1.3-1.9(m,6H),2.0-2.4(m,4H),2.8(m,1
H),3.6(s,3H),4.0(2q,2H),6.7(m,2H),6.8(dt,1H),7.2p.
p.m.(t,1H). 工程7 3,7−ジメチル−5−(3−ヒドロキシフェ
ニル)ノナン−1,9−ジオイックアシドのエチル,メ
チルジエステルの製造 THF(5mL)中工程6からのシリルエーテル(261
mg)の溶液に氷酢酸(120μL)、しかる後テトラ−
n−ブチルアンモニウムフルオリド溶液(THF中1M
の1.1mL)を加えた。反応液を室温で45分間攪拌し
た。酢酸アンモニウム緩衝液を反応液に加え、それを酢
酸エチルで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥
し、蒸発させた。得られた残渣を酢酸エチルで洗浄され
たシリカゲルパッドでの濾過により精製した。蒸発乾固
させて、次の工程でそのまま使用される標題化合物を得
た。
p.m.r.0.85-0.95(3d,6H),1.1-1.25(2t,3H),1.3-1.7(m,6
H),2.0-2.4(m,4H),2.8(m,1H),3.6(s,3H),4.1(2q,2H),6.
7(m,3H),7.1(t,1H),8.2p.p.m.(s,1H). 工程8 5−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメ
トキシ)フェニル〕−3,7−ジメチルノナン−1,9
−ジオイックアシドのエチル,メチルジエステルの製造 アセトン(2.8mL)中工程7からのフェノール(13
6mg)、製造1からの2−ブロモメチル−7−クロロキ
ノリン(140mg)の溶液に粉末炭酸カリウム(111
mg)を加えた。反応液を5時間還流した。室温に冷却
後、酢酸エチル(5mL)を反応液に加え、得られた懸濁
液を濾過した。溶媒を留去し、得られる残渣をヘキサン
中35%ジエチルエーテルでフラッシュクロマトグラフ
ィーにより精製し、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.8-0.9(3d,6H),1.1-1.2(2t,3H),1.3-
1.8(m,6H),2.0-2.4(m,4H),2.8(m,1H),3.6(s,3H),4.0(2
t,2H),5.4(s,2H),6.8-7.0(m,3H),7.2(t,1H),7.6(dd,1
H),7.7(d,1H),8.0(d,1H),8.05(d,1H),8.4p.p.m.(d,1H). 工程9 1,2−ジメトキシエタン(4.5mL)中工程8で製造
されたジエステル(188mg)の溶液に水酸化リチウム
水溶液(1Nの2.7mL)を加えた。反応液を室温で2
4時間攪拌した。水を加え、反応液を酢酸エチルで抽出
した。水層を2NHClでpH3に酸性化し、酢酸エチルで2
回抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発さ
せた。得られた残渣をトルエン中10%THF溶液中の
1%酢酸でフラッシュクロマトグラフィーにより精製
し、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.8-0.95(2d,6H),1.4-1.9(m,6H),2.0-
2.3(m,4H),2.8(m,1H),5.4(s,2H),6.8(td,2H),7.0(m,1
H),7.2(t,1H),7.6(dd,1H),7.7(d,1H),8.0(d,1H),8.05
(d,1H),8.4p.p.m.(d,1H). 実施例4 5−〔3−〔2−(7−クロロキノリン−2−イル)エ
テニル〕フェニル〕−4−チアデカン−1,10−ジオ
イックアシド 工程1 6−(3−ブロモフェニル)ヘキセ−5−エン
酸の製造 THF(100mL)中(4−カルボキシブチル)トリフ
ェニルホスホニウムブロミド(5.6g)の懸濁液に0
℃でトルエン中ヘキサメチルジシラザンカリウム溶液
(0.67Mの42mL)を徐々に加えた。30分間後、
THF(5mL)中m−ブロモベンズアルデヒド(2.0
g)の溶液を徐々に加えた。反応液を室温で1時間攪拌
し、NH4OAc緩衝液で反応停止させた。水相を2N塩酸で
pH5まで酸性化した。反応液を酢酸エチルで抽出し、硫
酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させた。残渣をヘキサン中
35%酢酸エチル溶液中の1%酢酸でフラッシュクロマ
トグラフィーにより精製し、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)1.8(m,2H),2.3(m,4H),5.8 6.4(2m,2H,
E及びZオレフィン),7.1-7.6(m,4H),10.5p.p.m.(bs,1
H). 工程2 6−(3−ブロモフェニル)ヘキセ−5−エン
酸メチルの製造 メタノール(50mL)中工程1からの酸(2.49g)
の溶液に濃硫酸(0.5mL)を加えた。反応液を室温で
4時間攪拌し、反応液の全量を蒸発により約5mLに減少
させた。得られた液体を酢酸エチル及び炭酸水素ナトリ
ウム水溶液間で分配した。有機層を1回水洗し、硫酸ナ
トリウムで乾燥し、蒸発させて、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)1.8(m,2H),2.3(m,4H),3.6(2s,3H),5.
7,6.4(2m,2H,E及びZオレフィン),7.2-7.6p.p.m.(m,4
H). 工程3 ジメチル5−(3−ブロモフェニル)−4−チ
アデカン−1,10−ジオエートの製造 シクロヘキサン(45mL)中工程2からのスチレン
(2.48g)及び3−メルカプトプロピオン酸メチル
(2.0mL)の溶液に四塩化チタン(5.0mL)を加え
た。反応液を機械的に8時間攪拌し、暗所中室温で3日
間放置した。反応を0℃においてNH4OAc緩衝液で慎重に
停止させ、2N塩酸をpH4まで加え、酢酸エチルで化合
物を抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発
させた。残渣をヘキサン中30%エーテルでフラッシュ
クロマトグラフィーにより精製し、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)1.2-1.7(m,4H),1.8-1.9(m,2H),2.3(t,
2H),2.5(m,4H),3.6(2s,6H),3.9(t,1H),7.3(t,1H),7.4
(m,2H),7.6p.p.m.(t,1H). 工程4 ジメチル5−(3−シアノフェニル)−4−チ
アデカン−1,10−ジオエートの製造 DMF(8.5mL)中工程3からの臭化化合物(1.0
2g)の溶液にシアン化銅(I)(680mg)を加え
た。反応液を6時間還流し、室温まで冷却し、飽和塩化
アンモニウム水溶液中の10%濃水酸化アンモニウム溶
液に注いだ。混合物をエーテルで抽出し、有機層を硫酸
ナトリウムで乾燥し、蒸発させた。残渣をヘキサン中5
0%エーテルでフラッシュクロマトグラフィーにより精
製し、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)1.2-1.7(m,4H),1.8-1.9(m,2H),2.3(t,
2H),2.5(m,4H),3.6(2s,6H),4.0(t,1H),7.6(t,1H),7.65
(td,1H),7.75(td,1H),7.8p.p.m.(t,1H). 工程5 ジメチル5−(3−ホルミルフェニル)−4−
チアデカン−1,10−ジオエートの製造 ジエチルエーテル(8mL)中無水塩化スズ(II)(1.
85g)の懸濁液に、室温で静かに攪拌しながら、固体
塩化スズがもはや残留せずかつ2つの液相が得られるま
で、塩化水素ガスを導入した。エーテル(2.0mL)中
工程4からのニトリル(420mg)の溶液を激しく攪拌
した反応液に加えた。塩化水素ガスを反応液中に30分
間導入した。反応液を3時間激しく攪拌し、水(1.5
mL)を慎重に加えた。混合物を30分間攪拌し、酢酸エ
チル(2X)で抽出した。合わせた抽出液を1回水洗
し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させた。残渣をヘキ
サン中8%酢酸エチルでフラッシュクロマトグラフィー
により精製し、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)1.2-1.7(2m,4H),1.9(m,2H),2.2(t,2
H),2.5(m,4H),3.6(2s,6H),4.1(t,1H),7.6(t,1H),7.7(d
t,1H),7.8(dt,1H),7.9(t,1H),10.1p.p.m.(s,1H). 工程6 ジメチル5−〔3−〔2−(7−クロロキノリ
ン−2−イル)エテニル〕フェニル〕−4−チアデカン
−1,10−ジオエートの製造 THF(4mL)中製造2からの(7−クロロキノリン−
2−イル)メチルトリフェニルホスホニウムブロミド
(260mg)の懸濁液に−78℃でn−ブチルリチウム
溶液(ヘキサン中1.55Mの0.32mL)を滴下し
た。反応混合物を20分間攪拌し、THF(1.5mL)
中工程5からのアルデヒド(175mg)の溶液をカニュ
ーレで反応液中に滴下した。反応液を−78℃で15分
間及び室温で45分間攪拌した。反応をNH4OAc緩衝液で
停止させ、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥
し、蒸発させた。残渣をヘキサン中15%酢酸エチルで
フラッシュクロマトグラフィーにより精製し、標題化合
物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)1.2-1.7(2m,4H),1.9(q,2H),2.2(t,2
H),2.5(m,4H),3.6(2s,6H),4.0(t,1H),7.4-7.55(m,4H),
7.6(dt,1H),7.7(bs,1H),7.8-8.0(m,4H),8.3p.p.m.(d,1
H). 工程7 1,2−ジメトキシエタン(2.5mL)中工程6からの
ジエステル(100mg)の溶液に水酸化リチウム水溶液
(1Nの0.5mL)を加えた。反応液を室温で19時間
攪拌した。水(5mL)及び水酸化ナトリウム(2Nの
0.5mL)を加え、混合物を酢酸エチルで洗浄した。水
層を2N塩酸でpH3に酸性化し、酢酸エチル(2X)で
抽出した。合わせた抽出液をナトリウムで乾燥し、蒸発
させた。残渣をトルエン中15%アセトン溶液中の1%
酢酸でフラッシュクロマトグラフィーにより精製し、標
題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)1.3-1.7(m,4H),1.9(q,2H),2.3(t,2H),
2.5(m,4H),4.0(t,1H),7.4-7.55(m,4H),7.65(m,1H),7.8
(bs,1H),7.9-8.0(m,4H),8.3p.p.m.(d,1H). 実施例5 5−〔3−〔2−(7−クロロキノリン−2−イル)エ
テニル〕フェニル〕−8−メチル−4−チアデカン−
1,10−ジオイックアシド 工程1 6−(3−ブロモフェニル)−3−メチルヘキ
セ−5−エン酸メチルの製造 HMPA(15mL)及びTHF(100mL)中の実施例
16工程5からの(4−メトキシカルボニル−3−メチ
ルブチル)トリフェニルホスホニウムブロミド(6.7
4g)の懸濁液に−78℃でトルエン中ヘキサメチルジ
シラザンカリウム溶液(0.65Mの20mL)を徐々に
加えた。30分間後、THF(7mL)中m−ブロモベン
ズアルデヒド(2.19g)の溶液を−78℃でカニュ
ーレにより徐々に加えた。反応液を−10℃で30分間
及び室温で1時間攪拌した。反応をNH4OAc緩衝液で停止
させ、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
蒸発させた。残渣をヘキサン中10%エーテルでフラッ
シュクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物を得
た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.95(d,3H),2.1-2.4(m,5H),3.6(s,3
H),5.8(dt,1H),6.5(dt,1H),7.3(m,2H),7.4p.p.m.(m,2
H). 工程2 ジメチル5−(3−ブロモフェニル)−8−メ
チル−4−チアデカン−1,10−ジオエートの製造 ジクロロメタン(75mL)中工程1からのスチレン
(2.5g)及び3−メルカプトプロピオン酸メチル
(1.9mL)の溶液に−10℃で塩化アルミニウム
(5.7g)を3回に分けて加えた。反応液を室温で4
5分間攪拌し、NH4OAc緩衝液で慎重に反応停止させた。
混合物を酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥
し、蒸発させた。残渣をヘキサン中15%酢酸エチルで
フラッシュクロマトグラフィーにより精製し、標題化合
物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.9(2d,3H),1.1-1.5(m,2H),1.8-2.0
(m,3H),2.1-2.3(m,2H),2.5(m,4H),3.6(2s,6H),3.9(t,1
H),7.3(t,1H),7.35-7.45(m,2H),7.6p.p.m.(t,1H). 工程3 実施例4の工程4〜7に記載された操作に従い、但し工
程4におけるジメチル5−(3−ブロモフェニル)−4
−チアデカン−1,10−ジオエートの代わりにジメチ
ル5−(3−ブロモフェニル)−8−メチル−4−チア
デカン−1,10−ジオエートを用いて、標題化合物を
得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.9(2d,3H),1.2-1.6(m,2H),1.9-2.0
(m,3H),2.3(m,2H),2.5(m,4H),4.0(t,1H),7.4-7.5(m,4
H),7.6(m,1H),7.7-8.0(m,5H),8.3p.p.m.(d,1H). 実施例6 9−ジメチルカルバミル−6−〔3−〔2−(7−クロ
ロキノリン−2−イル)エテニル〕フェニル〕−3−メ
チル−7−チアノナン酸 実施例5に記載された操作に従い、但し工程2における
3−メルカプトプロピオン酸メチルの代わりに、N,N
−ジメチル−3−メルカプトプロピオンアミドを用い
て、標題化合物を得た。
p.m.r.((CD3)2CO)0.9(2d,3H),1.2-1.6(m,2H),1.9-2.0
(m,3H),2.3(m,2H),2.5(m,4H),2.8,2.9(2s,6H),4.0(t,1
H),7.4-7.5(m,4H),7.6(m,1H),7.7(bs,1H),7.8-8.0(m,4
H),8.3p.p.m.(d,1H). 実施例7 N,N−ジメチル−4−〔3−(7−クロロキノリン−
2−イルメトキシ)フェニル〕−5−(1H−テトラゾ
ール−5−イル)−3−チアペンタンアミド 工程1 3−(7−クロロキノリン−2−イルメトキ
シ)ベンズアルデヒドの製造 3−ヒドロキシベンズアルデヒド(4.34g,35.
5mmol)、製造1からの2−ブロモメチル−7−クロロ
キノリン(10.03g,1.1当量)及び粉末K2CO3
(7.34g,1.5当量)をアセトン(100mL)中
で互いに混合し、8時間加熱還流した。次いでEtOAc
(100mL)を加え、反応混合物をセライトで濾過し、
蒸発させた。EtOAc:ヘキサン20:80を用いたシリ
カ上でのフラッシュクロマトグラフィーにより、標題化
合物を得た。1 NMR(CD3COCD3)δ5.47(s,2H),7.42(m,1H),7.53-7.63(m,
4H),7.78(d,1H),8.00-8.08(m,2H),8.43(d,1H),10.00(s,
1H),p.p.m. 工程2 3−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメ
トキシ)フェニル〕−2−プロペンニトリルの製造 THF(100mL)中シアノメチルトリフェニルホスホ
ニウムクロリド(9.176g,1.2当量)に−78
℃でヘキサン中1.6Mn−BuLi(16mL,1.1当
量)を滴下した。−78℃で40分間攪拌後、THF5
0mL中置換ベンズアルデヒド(工程1,6.74g,2
2.6mmol)を滴下した。添加終了後、温度を室温まで
徐々に高め、混合物を更に1時間攪拌した。25%NH4O
Ac水溶液で加水分解し、EtOAcで抽出し、蒸発させ、残
渣をEtOAc:ヘキサン30:70でシリカ上フラッシュ
クロマトグラフィーに付し、E:Z混合物として標題化
合物を得た。1 NMR(CD3COCD3)δ5.40(s,2H),5.74及び6.34(2d,1H,E及
びZ),7.12-7.61(m,6H),7.72(d,1H),7.98(d,1H),8.01(s,
1H),8.39(d,1H)p.p.m. 工程3 4−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメ
トキシ)フェニル〕−5−シアノ−3−チア吉草酸メチ
ルの製造 THF(3mL)中のα−不飽和ニトリル(工程2,75
6mg,2.36mmol)に0℃でチオグリコール酸メチル
(330μL,1.5当量)及び1,5−ジアザビシク
ロ〔4.3.0〕ノネ−5−エン(145μL,0.5
当量)を加えた。0℃で2時間攪拌後、溶媒を蒸発させ
た。残渣をEtOAc:ヘキサン30:70でシリカ上フラ
ッシュクロマトグラフィーに付し、標題化合物を得た。1 NMR(CDCl3)δ2.84-3.03(m,2H),3.00(d,1H),3.14(d,1
H),3.70(s,3H),4.35(dd,1H),5.37(s,2H),6.99(m,2H),7.
10(dd,1H),7.30(dd,1H),7.50(dd,1H),7.67(d,1H),7.77
(dd,1H),8.09(d,1H),8.18(d,1H),p.p.m. 工程4 N,N−ジメチル−4−〔3−(7−クロロキ
ノリン−2−イルメトキシ)フェニル〕−5−シアノ−
3−チアペンタンアミドの製造 トリメチルアルミニウム(ヘキサン中2.0M,4mL)
及びジメチルアミン(トルエン中2.0M,12mL)を
−10℃で互いに混合し、室温で30分間攪拌し、0.
5MのMe2AlNMe2溶液を得た。CH2Cl2(4mL)中のシア
ノエステル(工程3,800mg,1.87mmol)にMe2A
lNMe2(0.5M,8mL,2当量)を加え、反応混合物
を一夜攪拌した。0℃で10%HClしかる後25%NH4OA
c水溶液を滴下した。セライトで濾過し、EtOAcで抽出
し、蒸発させ、EtOAc:トルエン1:1及びEtOAcでシリ
カ上フラッシュクロマトグラフィーに付し、標題化合物
を得た。1 NMR(CD3COCD3)δ2.84(s,3H),2.97(s,3H),3.12-3.30(m,
2H),3.32(d,1H),3.43(d,1H),4.42(dd,1H),5.38(s,2H),
7.00-7.36(m,4H),7.59(dd,1H),7.74(d,1H),7.99(d,1H),
8.03(d,1H),8.39(d,1H)p.p.m. 工程5 シアノアミド(工程4,630mg,1.43mmol)及び
アジ化トリブチルスズ(714mg,1.5当量)を熱ト
ルエン中で互いに混合した。溶媒を蒸発させ、残留油状
物を120℃で4時間加熱した。熱CH2Cl2に溶解し、ア
セトン:CH2Cl2:AcOH5:95:1、10:90:1及
び20:80:1でシリカ上フラッシュクロマトグラフ
ィーに付して、標題化合物を得た。1 NMR(CD2Cl2)δ2.96(s,3H),3.08(s,3H),3.33(s,2H),3.5
1(m,2H),4.22(dd,1H),5.38(s,2H),6.92-7.01(m,2H),7.0
8(ブロードs,1H),7.30(dd,1H),7.53(dd,1H),7.68(d,1
H),7.81(d,1H),8.08(ブロードs,1H),8.23(d,1H)p.p.m.;
ms482(M・+),409,396,233,177,176. 実施例8 N,N−ジメチル−5−〔3−(7−クロロキノリン−
2−イルメトキシ)フェニル〕−6−(1H−テトラゾ
ール−5−イル)−4−チアヘキサンアミド 実施例7の操作に従い、但し工程3におけるチオグリコ
ール酸メチルの代わりに3−メルカプトプロピオン酸メ
チルを用いて、標題化合物を製造した。1 NMR(CD3COCD3)δ2.43-2.75(m,4H),2.89(s,3H),2.94(s,
3H),3.50-3.69(m,2H),4.41(dd,1H),5.37(s,2H),6.92-7.
01(m,2H),7.16(ブロードs,1H),7.25(dd,1H),7.40(dd,1
H),7.73(d,1H),8.02(d,1H),8.05(ブロードs,1H),8.42
(d,1H)p.p.m.;ms496(M・+),423,396,365,314,247,177,17
6. 実施例9 5−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメトキシ)
フェニル〕−6−(1H−テトラゾール−5−イル)−
4−チアヘキサンアミド 工程1 6−シアノ−5−〔3−(7−クロロキノリン
−2−イルメトキシ)フェニル〕−4−チアヘキサン酸
メチルの製造 実施例7の工程1〜3の操作に従い、但し工程3におけ
るチオグリコール酸メチルの代わりに3−メルカプトプ
ロピオン酸メチルを用いて、標題化合物を製造した。1 NMR(CDCl3)δ2.47(t,2H),2.64(t,2H),2.78-2.98(m,2
H),3.69(s,3H),4.12(dd,1H),5.38(s,2H),6.94-7.01(m,2
H),7.09(ブロードs,1H),7.30(dd,1H),7.51(dd,1H),7.69
(d,1H),7.78(d,1H),8.09(ブロードs,1H),8.19(d,1H)p.
p.m. 工程2 5−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメ
トキシ)フェニル〕−6−シアノ−4−チアヘキサンア
ミド及び3−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメ
トキシ)フェニル〕−4−チアヘプタン−1,7−ジニ
トリルの製造 Me2AlNH21.3M溶液を、Me2Al9.0mL(ヘキサン中
2.0M)及びCH2Cl25.0mLの混合物に−78℃で過
剰のアンモニアを加えることによって調製し、室温で2
時間反応させた。CH2Cl25mL中のエステル(工程1,7
00mg,1.59mmol)に1.3M Me2AlNH29.0mL
を加え、混合物を24時間加熱還流した。10%HClで
加水分解し、25%NH4OAcを加え、EtOAcで抽出し、乾
燥し、蒸発させ、残渣をEtOAc:ヘキサン30:70及
びEtOAcでシリカ上フラッシュクロマトグラフィーに付
し、ジニトリル及びシアノアミドを得た。ジニトリル:
IR(neat)ν2925,2250,1614,1600,1498cm-1;1H NMR(CD
Cl3)δ2.40(t,2H),2.62(t,2H),2.88(d,2H),4.22(t,1H),
5.39(s,2H),7.00(m,2H),7.10(ブロードs,1H),7.32(dd,1
H),7.51(dd,1H),7.68(d,1H),7.77(d,1H),8.09(ブロード
s,1H),8.20(d,1H)p.p.m. シアノアミド:1H NMR(CD3COCD3)δ2.32(t,2H),2.61-2.
81(m,2H),3.13(d,2H),4.34(t,1H),5.38(s,2H),6.28(ブ
ロードs,1H),6.81(ブロードs,1H),7.00-7.10(m,3H),7.2
4(ブロードs,1H),7.31(dd,1H),7.60(dd,1H),7.75(d,1
H),8.01(d,1H),8.04(ブロードs,1H),8.41(d,1H)p.p.m. 工程3 シアノアミド(工程2)を出発物質として用い、実施例
7工程5の操作に従い、標題化合物を得た。それをTH
F:エーテルから再結晶させた。1 H NMR(CD3COCD3)δ2.35(t,2H),2.45-2.72(m,2H),3.47-
3.56(m,2H),4.50(dd,1H),5.36(s,2H),6.47(ブロードs,1
H),6.89-7.01(m,3H),7.10(ブロードs,1H),7.17(ブロー
ドs,1H),7.22(dd,1H),7.60(dd,1H),7.72(d,1H),8.02(d,
1H),8.05(ブロードs,1H),8.41(d,1H),p.p.m.;ms468
(M・+),397,314,176,175. 実施例10 5,5′−〔2−〔3−(7−クロロキノリン−2−イ
ルメトキシ)フェニル〕−3−チアペンタン−1,5−
ジイル〕ビス1H−テトラゾール 実施例7工程5の操作に従い、但しアジ化トリブチルを
1.5当量ではなく3当量加えて、実施例9工程2で得
られたジニトリルを標題化合物に変換した。1 H NMR(CD3COCD3)δ2.82(t,2H),3.18(t,2H),3.60(d,2
H),4.54(t,1H),5.38(s,2H),6.92-7.02(m,2H),7.19(ブロ
ードs,1H),7.26(dd,1H),7.60(dd,1H),7.74(d,1H),8.02
(d,1H),8.04(ブロードs,1H),8.41(d,1H)p.p.m. 実施例11 メチルN−〔5−〔3−(7−クロロキノリン−2−イ
ルメトキシ)フェニル〕−6−(1H−テトラゾール−
5−イル)−4−チアヘキサノイル〕グリシネート 工程1 5−〔3−(7−シクロキノリン−2−イルメ
トキシ)フェニル〕−6−シアノ−4−チアヘキサン酸
の製造 THF3mL中のプロペンニトリル(実施例7,工程2,
1.075g,3.35mmol)に3−メルカプトプロピ
オン酸(440μL,1.5当量)及び1,5−ジアザ
ビシクロ〔4.3.0〕ノネ−5−エン(830μL,
2.0当量)を加え、反応混合物を20時間攪拌した。
25%NH4OAc及びAcOHを加え、THF:EtOAc1:1で
抽出し、乾燥し、蒸発させ、残渣をEtOAc:トルエン:A
cOH25:75:1でシリカ上フラッシュクロマトグラ
フィーに付し、標題化合物を得た。1 H NMR(CD3COCD3)δ2.52(t,2H),2.60-2.80(m,2H),3.14
(d,2H),4.37(t,1H),5.39(s,2H),7.00-7.15(m,2H),7.27
(ブロードs,1H),7.32(dd,1H),7.60(dd,1H),7.75(d,1H),
8.00(d,1H),8.05(ブロードs,1H),8.40(d,1H)p.p.m. 工程2 メチルN−〔5−〔3−(7−クロロキノリン
−2−イルメトキシ)フェニル〕−6−シアノ−4−チ
アヘキサノイル〕グリシネートの製造 0℃においてジメチルホルムアミド(50μL)及び塩
化オキサリル(440μL,1.5当量)をCH2Cl215
mL中シアノ酸(工程1,1.40g,3.28mmol)の
溶液に加えた。室温で20分間攪拌後、反応混合物を0
℃に冷却し、メチルグリシネート(1.136g,4当
量以上)を加え、混合物を室温で更に30分間攪拌し
た。25%NH4OAcを加え、EtOAcで抽出し、乾燥し、蒸
発させ、EtOAc:トルエン50:50及び70:30で
シリカ上フラッシュクロマトグラフィーに付し、標題化
合物を得た。1 H NMR(CD3COCD3)δ2.50(t,2H),2.62-2.84(m,2H),3.12
(d,2H),3.65(s,3H),3.95(d 2H),4.36(t,1H),5.39(s,2
H),7.02(dd,1H),7.09(d,1H),7.25(ブロード,s,1H),7.31
(dd,1H),7.53(ブロード,s,1H),7.60(dd,1H),7.75(d,1
H),8.00(d,1H),8.05(ブロードs,1H),8.40(d,1H)p.p.m. 工程3 実施例7工程5の操作に従い、工程2の化合物を標題化
合物に変換した。1 H NMR(CD3COCD3)δ2.48(t,2H),2.53-2.77(m,2H),3.48-
3.68(m,2H),3.66(s,3H),3.97(m,2H),4.45(t,1H),5.36
(s,2H),6.95(dd,1H),6.99(d,1H),7.18(ブロード,s,1H),
7.24(dd,1H),7.60(dd,1H),7.73(d,1H),8.02(d,1H),8.04
(ブロードs,1H),8.41(d,1H)p.p.m.;ms410(M-CH2CONHCH2
COOMe),177. 実施例12 N−〔5−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメト
キシ)フェニル〕−6−〔1H−テトラゾール−5−イ
ル)−4−チアヘキサノイル〕グリシン 実施例11の標題化合物(208mg,384μmol)をM
eOH:THF:H2O1:1:1 6mL中の10N NaOH8
0μLで1時間加水分解した。AcOH及び25%NH4OAcを
加え、有機溶媒を蒸発させ、残留混合物をEtOAc:TH
F1:1で抽出した。溶媒を蒸発させ、生成物をMeOHに
溶解し、セライトで濾過した。溶媒を蒸発させて固体物
を得、これをエーテルで摩砕し、純粋な標題化合物を得
た。1 H NMR(CD3COCD3:DMSO)δ2.40(t,2H),2.50-2.67(m,2H),
3.50(d,2H),3.80(d,2H),4.49(t,1H),5.38(s,2H),6.94(d
d,1H),6.99(d,1H),7.18(broad s,1H),7.24(dd,1H),7.63
(dd,1H),7.75(d,1H),8.02-8.10(m,2H),8.47(d,1H)p.p.
m.;ms526(M・+),423,397,365,314,177. 実施例13 6−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメトキシ)
フェニル〕−7−〔1H−テトラゾール−5−イル)−
5−チアヘプタンアミド 工程1 6−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメ
トキシ)フェニル〕−7−シアノ−5−チアヘプタン酸
の製造 実施例11工程1の操作に従い、3−メルカプトプロピ
オン酸の代わりに4−メルカプト酪酸を用いて、標題化
合物を製造した。1 H NMR(CD3COCD3)δ1.79(m,2H),2.34(t,2H),2.51(t,2
H),3.12(d,2H),4.29(t,1H),5.39(s,2H),7.03(dd,1H),7.
12(d,1H),7.25(ブロードs,1H),7.32(dd,1H),7.60(dd,1
H),7.75(d,1H),8.01(d,1H),8.06(ブロードs,1H),8.41
(d,1H)p.p.m. 工程2 6−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメ
トキシ)フェニル〕−7−シアノ−5−チアヘプタンア
ミドの製造 実施例11工程2の操作に従い、メチルグリシネートの
代わりに過剰のアンモニアを用いて、標題アミドを製造
した。1 H NMR(CD3COCD3)1.79(m,2H),2.22(t,2H),2.49(t,2H),
3.12(d,2H),4.30(t,1H),5.39(s,2H),6.12(ブロードs,1
H),6.71(ブロードs,1H),7.03(dd,1H),7.10(d,1H),7.23
(ブロードs,1H),7.31(dd,1H),7.60(dd,1H),7.76(d,1H),
8.02(d,1H),8.03(ブロードs,1H),8.42(d,1H),p.p.m. 工程3 実施例7工程5の操作に従い、アミドニトリル(工程
2)を標題化合物に変換した。1 H NMR(CD3COCD3:DMSO)δ1.72(m,2H),2.23(m,2H),2.36
(t,2H),3.50(d,2H),4.43(t,1H),5.38(s,2H),6.53(ブロ
ードs,1H),6.94(dd,1H),6.96(d,1H),7.10(ブロードs,1
H),7.15(ブロードs,1H),7.23(dd,1H),7.63(dd,1H),7.75
(d,1H),8.05(d,1H),8.07(ブロードs,1H),8.44(d,1H)p.
p.m.;ms437(M-CONH2-H),390,365,177. 実施例14 5,5′−〔2−〔3−(7−クロロキノリン−2−イ
ルメトキシ)フェニル〕−3−チアヘキサン−1,6−
ジイル〕ビス1H−テトラゾール 工程1 3−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメ
トキシ)フェニル〕−4−チアオクタン−1,8−ジニ
トリルの製造 無水THF10mL中のシアノアミド(実施例13,工程
2,407mg,925μmol)に−10℃でピリジン
(450μL,6当量)及び無水トリフルオロ酢酸(1
43μL,1.1当量)を加え、反応混合物を−10℃
で20分間攪拌した。25%NH4OAcを加え、EtOAcで抽
出し、乾燥し、蒸発させ、残渣をEtOAc:トルエン1
0:90及び15:85でシリカ上フラッシュクロマト
グラフィーに付し、標題化合物を得た。1 H NMR(CD3COCD3)δ1.83(m,2H),2.50(t,2H),2.59(t,2
H),3.13(d,2H),4.35(t,1H),5.39(s,2H),7.04(dd,1H),7.
10(d,1H),7.26(ブロードs,1H),7.33(dd,1H),7.60(dd,1
H),7.74(d,1H),8.00(d,1H),8.03(ブロードs,1H),8.40
(d,1H)p.p.m. 工程2 実施例7工程5の操作に従い、但しアジ化トリブチルス
ズを1.5当量ではなく3.0当量加えて、工程1から
のジニトリルを標題化合物に変換した。1 H NMR(CD3COCD3)δ1.95(m,2H),2.46(t,2H),2.97(m,2
H),3.58(d,2H),4.45(t,1H),5.37(s,2H),6.90-7.00(m,2
H),7.14(ブロードs,1H),7.22(dd,1H),7.60(dd,1H),7.73
(dd,1H),8.01(d,1H),8.03(ブロードs,1H),8.42(d,1H)p.
p.m. 実施例15 7−(N−t−ブチルカルバミル)−4−〔3−(7−
クロロキノリン−2−イルメトキシ)フェニル〕−3−
メチル−5−チアヘプタン酸 工程1 1−(3−メトキシフェニル)プロパノールの
製造 エーテル150mL中のm−アニスアルデヒド10.0mL
に−78℃でエーテル中3.0M EtMgBr33mLを滴下
した。0℃で30分間後、NH4Cl及び25%NH4OAc水溶
液を加えた。EtOAcで抽出して標題化合物を得、これを
そのまま次の工程に使用した。
工程2 1−(3−メトキシフェニル)プロパン−1−
オンの製造 CH2Cl2500mL中工程1の粗生成物に粉末モレキュラー
シーブ(4)145g及びクロロクロム酸ピリジニウ
ム(60g,3当量)を加えた。反応混合物を1時間攪
拌し、シリカゲルで濾過した。次いでシリカをCH2Cl2
びEtOAc:ヘキサン20:80で洗浄した。濾液を蒸発
させ、黄色油状物として所望のケトンを得た。
工程3 4−(3−メトキシフェニル)−3−メチル−
4−オキソ酪酸メチルの製造 トルエン中の0.60Mヘキサメチルジシラザンカリウ
ム(150mL,1.1当量)に無水THF150mLを加
えた。反応液を−78℃に冷却し、THF(120mL)
中工程2からのケトンの溶液を滴下した。−78℃で1
時間攪拌後、ブロモ酢酸メチル(9.4mL,1.2当
量)を加え、混合物を−78℃で15分間及び室温で1
5分間攪拌した。反応を25%NH4OAcで0℃にて停止さ
せた。EtOAcで抽出し、EtOAc:ヘキサン10:90及び
20:80でシリカ上フラッシュクロマトグラフィーに
付し、標題ケトエステルを得た。1 H NMR(CD3COCD3)δ1.18(d,3H),2.48(dd,1H),2.87(dd,1
H),3.59(s,3H),3.86(s,3H),3.97(m,1H),7.20(dd,1H),7.
45(dd,1H),7.50(m,1H),7.62(ブロードd,1H)p.p.m. 工程4 4−(3−メトキシフェニル)−3−メチル−
4−オキソ酪酸の製造 ケトエステル(工程3,14.414g,61mmol)に
MeOH150mL、THF75mL、H2O60mL及び10N N
aOH30mLを加え、溶液を30分間攪拌した。次いで、
25%NH4OAc及び濃HCl30mLを加え、有機溶媒を蒸発
させた。残留した水層をEtOAcで抽出し、蒸発させ、白
色固体として酸を得た。1 H NMR(CD3COCD3)δ1.18(d,3H),2.46(dd,1H),2.89(dd,1
H),3.85(s,3H),3.95(m,1H),7.20(dd,1H),7.45(dd,1H),
7.50(m,1H),7.63(ブロードd,1H)p.p.m. 工程5 シス5−(3−メトキシフェニル)−4−メチ
ルジビドロフラン−2−(3H)−オンの製造 THF200mL中のケトン酸(工程4,9.00g,4
0.5mmol)に、THF中の1.0M ZnCl2(43m
L,1.05当量)を加えた。次いで、−78℃でトル
エン中の1.5M水素化ジイソブチルアルミニウム(6
5mL,2.4当量)を滴下し、懸濁液を−78℃で3.
5時間機械的に攪拌した。−78℃にて10%HClで加
水分解し、EtOAcで抽出し、乾燥し、蒸発させて、ヒド
ロキシ酸及びラクトンの混合物を得た。ヒドロキシ酸及
びラクトンの混合物をCH2Cl270mLに溶解し、トリフル
オロ酢酸(140μL)を加えた。溶液を室温で8時間
攪拌し、ラクトン化が終了するまで(70時間以上)5
℃で放置した。次いでトルエンを加え、溶媒を蒸発させ
た。ラクトンをEtOAc:トルエン5:95でシリカ上フ
ラッシュクロマトグラフィーにより最終的に精製した。1 H NMR(CDCl3)δ0.73(d,3H),2.37(d,1H),2.82(dd,1H),
2.88(m,1H),3.83(s,3H),5.59(d,1H),6.80-6.90(m,3H),
7.30(dd,1H)p.p.m. 工程6 7−(N−t−ブチルカルバミル)−4−(3
−メトキシフェニル)−3−メチル−5−チアヘプタン
酸の製造 CH2Cl211mL中のラクトン(工程5,456mg,2.2
1mmol)に−10℃でN−t−ブチル−3−メルカプト
プロパンアミド(537mg,1.5当量)及びAlCl
3(1.473g,5当量)を加えた。0℃で1.5時
間攪拌後、25%NH4OAc及びAcOHを加えた。EtOAcで抽
出し、乾燥し、蒸発させ、残渣をEtOAc:トルエン:AcO
H25:75:1.40:60:1及び60:40:1
でシリカ上フラッシュクロマトグラフィーに付し、出発
物質、標題化合物及び7−(N−t−ブチルカルバミ
ル)−4−(3−ヒドロキシフェニル)−3−メチル−
5−チアヘプタン酸(データに関しては次の工程を参照
せよ)を得た。
標題化合物(2種のジアステレオマー):1H NMR(CD3CO
CD3)δ0.87及び1.09(2d,3H),1.30及び1.33(2s,9H),2.08
-2.55(m,6H),2.81及び2.91(2dd,1H),3.81(s,3H),3.83及
び3.90(2d,1H),6.69(ブロードs,1H),6.82(ブロードd,1
H),6.90-6.98(m,2H),7.25(ブロードdd,1H),p.p.m. 工程7 7−(N−t−ブチルカルバミル)−4−(3
−ヒドロキシフェニル)−3−メチル−5−チアヘプタ
ン酸の製造 CH2Cl27mL中工程6の標題化合物(540mg,1.47
mmol)に−78℃でトリエチルアミン(225μL,
1.1当量)及びB Br3(CH2Cl2中1.0M,6mL,
4当量)を加えた。室温で1時間攪拌後、25%NH4OAc
を加えた。EtOAcで抽出し、乾燥し、蒸発させ、EtOAc:
トルエン:AcOH40:60:1及び60:40:1でシ
リカ上フラッシュクロマトグラフィーに付して、標題化
合物(2つのジアステレオマー)を得た。1 H NMR(CD3COCD3)δ0.88及び1.06(2d,3H),2.29及び2.32
(2s,9H),2.10-2.60(m,6H),2.81及び2.92(2dd,1H),3.78
及び3.85(2d,1H),6.73(ブロードd,1H),6.79-6.91(m,1
H),6.97(ブロードs,1H),7.10 7.28(m,2H)p.p.m. 工程8 7−(N−t−ブチルカルバミル)−4−(3
−ヒドロキシフェニル)−3−メチル−5−チアヘプタ
ン酸メチルの製造 エーテル中の過剰ジアゾメタンを0℃でTHF6mL中の
酸(工程7,420mg)に加えた。混合物を0℃で30
分間攪拌し、溶媒を蒸発させ、残渣をEtOAc:トルエン
30:70及び40:60でシリカ上クロマトグラフィ
ーにより精製した。1 H NMR(CD3COCD3)δ0.82及び1.03(2d,3H,2種のジアス
テレオマー),1.29(s,9H),2.05-2.55及び2.68(m+dd,7H),
3.58及び3.62(2s,3H),3.75及び3.82(2d,1H),6.68-6.90
(m,4H),7.13(dd,1H),8.44(s,1H)p.p.m. 工程9 7−(N−t−ブチルカルバミル)−4−〔3
−(7−クロロキノリン−2−イルメトキシ)フェニ
ル〕−3−メチル−5−チアヘプタン酸メチルの製造 フェノール(工程8,285mg,776μmol)、製造
1からの2−ブロモメチル−7−クロロキノリン(27
2mg,1.4当量)、粉末K2CO3(208mg,2当量)
及びアセトン5mLの混合物を7.5時間加熱還流した。
次いでEtOAcを加え、混合物をセライトで濾過し、蒸発
させた。残渣をEtOAc:トルエン25:75でシリカ上
フラッシュクロマトグラフィーにより精製し、標題化合
物を得た。
工程10 エステル(工程9,399mg,735μmol)、1,2
−ジメトキシエタン(10mL)及び1.0NLiOH(1.
5mL,2当量)を室温で45時間攪拌した。水及び10
%HClを加え、生成物をEtOAcで抽出し、乾燥し、蒸発さ
せ、EtOAc:トルエン:AcOH40:60:1でシリカ上
フラッシュクロマトグラフィーにより精製した。1 H NMR(CD3COCD3)δ0.81及び1.04(2d,3H,2種のジアス
テレオマー),1.29(s,9H),2.10-2.55及び2.79(m+dd,7H),
3.85及び3.93(2d,1H),5.40(s,2H),6.68(ブロードs,1H),
6.94-7.03(m,2H),7.14(ブロードd,1H),7.28(ブロードd
d,1H),7.60(dd,1H),7.76(d,1H),8.02(d,1H)8.05(ブロー
ドs,1H),8.42(d,1H)p.p.m.;ms528(M・+),469(M-C2H3O2),
400(M-C7H14NO),369,218,177,176. 実施例16 5−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメトキシ)
フェニル〕−8−メチル−4−チアデカンジオイックア
シド 工程1 3−メチル−5−(メチルスルホニルオキシ)
吉草酸メチルの製造 CH2Cl2200mL中の5−ヒドロキシ−3−メチル吉草酸
メチル〔ビー・ライゾーズ,ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサエテー,パーキン・トランスアクションズI,
第834頁,1978年(B.Lythose,Journal of Chemi
cal Society,Perkin Transactions I,834(19
78))〕(9.63g,65.9mmol)に−78℃で
Et3N(14mL,1.5当量)及びメタンスルホニルクロ
リド(5.6mL,1.1当量)を加えた。室温で1時間
攪拌後、25%NH4OAcを加えた。CH2Cl2で抽出し、シリ
カで濾過し、蒸発させて、標題化合物を得、これをその
まま次の工程で使用した。
工程2 5−ヨード−3−メチル吉草酸メチルの製造 メシレート(工程1,14.4g,64.2mmol)及び
NaI(48g,5当量)をアセトン200mL中で3時間
加熱還流した。次いで混合物をセライトで濾過し、溶媒
を蒸発させた。残渣を水及びEt2O間で分配し、エーテル
抽出液を5%Na2S2O3及び塩水で洗浄し、乾燥し、蒸発
させた。残渣をEtOAc:ヘキサン2.5:97.5でシ
リカ上フラッシュクロマトグラフィーに付し、標題化合
物を得た。1 H NMR(90MHz,CDCl3)δ1.00(d,3H),1.70-2.43(m,5H),3.
20(t,2H),3.67(s,3H)p.p.m. 工程3 (5−メトキシ−3−メチル−5−オキソペン
チル)トリフェニルホスホニウムヨウ化物の製造 トリフェニルホスフィン(14.6g,2当量)及びヨ
ウ化物(工程2,7.850g,27.6mmol)をトル
エン50mL中80℃で24時間及び100℃で6時間加
熱した。混合物を室温まで冷却し、トルエン層を除去
し、残留油状物をトルエン中で更に1時間加熱した。室
温でトルエン層を除去した。油状物をエーテル中で1時
間加熱し、エーテルを室温で除去し、油状物を減圧乾燥
させた。1 H NMR(CDCl3)δ1.09(d,3H),1.50-2.00(m,3H),2.26-2.4
5(m,2H),3.59(s,3H),3.50-3.85(m,2H),7.69-7.90(m,15
H)p.p.m. 工程4 6−(3−メトキシフェニル)−3−メチル−
5−ヘキセン酸メチルの製造 ホスホニウム塩(工程3,2.953g,5.70mmo
l)を熱THF30mL及びHMPA1.5mLに溶解し
た。−78℃でかつ連続的N2導入下でヘキサメチルジシ
ラザンカリウム(トルエン中0.67M,7.8mL,
5.23mmol)を滴下し、黄色懸濁液をこの温度で50
分間攪拌した。次いでm−アニスアルデヒド(450μ
L,3.70mmol)を加え、緑色溶液を−78℃で40
分間及び室温で1時間攪拌した。25%NH4OAcを加え、
水層をEtOAcで抽出した。有機層を2回水洗し、乾燥
し、蒸発させた。残渣をEtOAc:ヘキサン5:95でシ
リカ上フラッシュクロマトグラフィーにより精製し、標
題化合物を得た。1 H NMR(CDCl3)δ0.98(d,3H),2.05-2.43(m,5H),2.67(s,3
H),2.83(s,3H),5.66(td,1H),6.48(d,1H),6.75-6.88(m,3
H),7.27(dd,1H)p.p.m. 工程5 ジメチル5−(3−メトキシフェニル)−8−
メチル−4−チアデカンジオエートの製造 シクロヘキサン17mL中3−メルカプトプロピオン酸メ
チル(750μL,2当量)及びスチレン(工程4,8
35mg,3.36mmol)に四塩化チタン(1.9mL,5
当量)を滴下し、混合物を4.25時間機械的に攪拌し
た。次いで、25%NH4OAcを0℃で徐々に加えた。EtOA
cで抽出し、乾燥し、残渣をEtOAc:トルエン2.5:9
7.5でシリカ上フラッシュクロマトグラフィーに付
し、標題化合物を得た。1 H NMR(CDCl3)δ0.89及び0.92(2d,3H,2種のジアステレ
オマー),1.02-1.48(m,2H),1.75-2.98(m,9H),3.54(s,3
H),3.57(s,3H),3.69及び3.72(2dd,1H),3.82(s,3H),6.68
(dd,1H),6.85(s,1H)6.87(d,1H)7.24(dd,1H)p.p.m. 工程6 ジメチル5−(3−ヒドロキシフェニル)−8
−メチル−4−チアデカンジオイックアシドの製造 −78℃でCH2Cl2中1.0MBBr39.0mLをCH2Cl29mL
中ジエステル(工程5,838mg,2.27mmol)の溶
液に滴下した。次いで、溶液を−10℃で2時間攪拌し
た。−10℃にて25%NH4OAcで加水分解し、EtOAcで
抽出し、乾燥し:蒸発させ、残渣をEtOAc:トルエン1
5:85でシリカ上フラッシュクロマトグラフィーに付
し、標題化合物を得た。
IR(neat)ν3405,2950,2925,1735,1600,1590,1453,1437c
m-1;1H NMR(CDCl3)δ0.91(2d,3H,2種のジアステレオマ
ー),1.03-1.45(m,3H),1.75-2.32(m,4H),2.46(m,2H),2.5
6(m,2H),3.65(s,3H),3.68(s,3H),3.70(dd,1H),5.60(2ブ
ロードs,1H),6.73(dd,1H),6.82(s,1H),6.83(d,1H),7.19
(dd,1H)p.p.m. 工程7 ジメチル5−〔3−(7−クロロキノリン−2
−イルメトキシ)フェニル〕−8−メチル−4−チアデ
カンジオイックアシドの製造 実施例15工程9の実験操作に従い、フェノール(工程
6)を標題化合物に変換させた。1 H NMR(CD3COCD3)δ0.83(2d,3H,2種のジアステレオマ
ー),0.98-1.45(m,3H),1.72-1.92(m,3H),2.15-2.28(m,1
H),2.35-2.55(m,4H),3.57(s,3H),3.60(s,3H),3.84(dd,1
H),5.38(s,2H),6.96(m,2H),7.11(ブロードs,1H),7.26(d
d,1H),7.59(dd,1H),7.74(d,1H),8.00(d,1H),8.04(ブロ
ードs,1H),8.40(d,1H)p.p.m. 工程8 実施例15工程10の操作に従い、ジエステル(工程
7)にLiOHを2.0ではなく3.0当量加えて、標題の
ジアシドを得た。1 H NMR(CD3COCD3)δ0.88(2d,3H,2種のジアステレオマ
ー),0.97-1.50(m,3H),1.75-1.93(m,3H),2.13-2.29(m,1
H),2.37-2.54(m,4H),3.87(t,1H),5.40(s,2H),6.92-7.02
(m,2H),7.13(ブロードs,1H),7.25(dd,1H),7.60(dd,1H),
7.74(d,1H),8.02(d,1H),8.05(ブロードs,1H),8.42(d,1
H)p.p.m.;ms501(M・+)483(M-H2O),450,429 (M-CH2=CH2-CO2),396(M-SCH2CH2CO2H),179,178,177,17
6,141. 実施例17 9−(N−t−ブチルカルバミル)−6−〔3−(7−
クロロキノリン−2−イルメトキシ)フェニル〕−3−
メチル−7−チアノナン酸 工程1 9−(N−t−ブチルカルバミル)−6−〔3
−(7−クロロキノリン−2−イルメトキシ)フェニ
ル〕−3−メチル−7−チアノナン酸メチルの製造 −10℃でAlCl3(581mg,10当量)をCH2Cl22mL
中ジエステル(実施例16,工程7,230mg,434
μmol)及びN−t−ブチル−3−メルカプトプロパン
アミド(282mg,4当量)の溶液に加えた。0℃で
3.3時間攪拌後、25%NH4OAcを加えた。EtOAcで抽
出し、乾燥し、蒸発させ、残渣をEtOAc:ヘキサン2
5:75及び30:70でシリカ上フラッシュクロマト
グラフィーに付し、標題化合物を得たが、これには少量
の3−メルカプトプロピオン酸メチルのジスルフィドが
混入していた。標題化合物は、溶離液としてEtOAc:ヘ
キサン25:75を用いてHPLC〔μポラシル(Poras
il)カラム〕により最終的に精製した。1 H NMR(CD3COCD3)δ0.83(2d,3H,2種のジアステレオマ
ー),0.95-1.42(m,3H),1.30(s,9H),1.72-1.90(m,3H),1.9
5-2.09及び2.13-2.28(m,3H),2.49(t,2H),3.58(s,3H),3.
72(t,1H),5.38(s,2H),6.68(ブロードs,1H),6.94(ブロー
ドd,2H),7.10(ブロードs,1H),7.25(dd,1H),7.59(dd,1
H),7.73(d,1H),7.98(d,1H),8.04(ブロードs,1H),8.39
(d,1H)p.p.m. 工程2 実施例15工程10の操作に従い、エステルを標題の酸
に加水分解させた。1 H NMR(CD3COCD3)δ0.86(2d,3H,2種のジアステレオマ
ー),1.00-1.50(m,3H),1.29(s,9H),1.75-1.85(m,3H),2.1
3-2.30(m,3H),2.49(ブロードt,2H),3.83(t,1H),5.39(s,
2H),6.70(ブロードs,1H),6.92-7.00(m,2H),7.10(ブロー
ドs,1H),7.25(dd,1H),7.60(dd,1H),7.75(d,1H),8.01(d,
1H),8.04(ブロードs,1H),8.41(d,1H)p.p.m.;ms556
(M・+),428(M-C7H14NO),397(M-C7H13NOS),296,177. 実施例18 5−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメトキシ)
フェニル〕−9−(N,N−ジメチルカルバミル−4−
チアノナン酸 工程1 N,N−ジメチル−6−(3−メトキシフェニ
ル)−3−メチル−5−ヘキセンアミドの製造 実施例7工程4の操作に従い、実施例16工程4からの
スチレンエステルを標題化合物に変換させた。
工程2 9−(N,N−ジメチルカルバミル)−5−
(3−メトキシフェニル)−8−メチル−4−チアノナ
ン酸メチルの製造 TiCl4(1.8mL,8当量)をシクロヘキサン15mL中
アミド(工程1,540mg,2.07mmol)及び3−メ
ルカプトプロピオン酸メチル(920μL,4当量)の
攪拌溶液に滴下した。油状物が分離したが、混合物を暗
所中で4日間攪拌した。次いで、0℃において25%NH
4OAcを加えた。EtOAcで抽出し、乾燥し、蒸発させ、残
渣をEtOAc:トルエン40:60、60:40及び8
0:20でシリカ上フラッシュクロマトグラフィーに付
し、標題化合物を得た。1 H NMR(CDCl3)δ0.90(2d,3H,2種のジアステレオマー),
1.00-1.50(m,2H),1.75-2.30(m,5H),2.45(m,2H),2.55(m,
2H),2.93(s,3H),2.97(s,3H),3.67(s,3H),3.73(t,1H),3.
82(s,3H),6.78(dd,1H),6.86(s,1H),6.87(d,1H),7.23(d
d,1H)p.p.m. 工程3 実施例16工程6並びに実施例15工程9及び10の操
作に従い、工程2の生成物を標題化合物に変換させた。1 H (CD3COCD3)δ0.83(2d,3H,2種のジアステレオマー),
0.93-1.48(m,2H),1.71-2.28(m,5H),2.42(m,2H),2.49(m,
2H),2.84(2s,3H),2.98(2s,3H),3.87(t,1H),5.39(s,2H),
6.92-7.00(m,2H),7.13(ブロードs,1H),7.26(dd,1H),7.6
0(dd,1H),7.75(d,1H),8.01(d,1H),8.04(ブロードs,1H),
8.40(d,1H)p.p.m.;正確な質量計算値(C28H34ClN2O4S)
(M+1)529.1929,実測値529.1929. 実施例19 N,N−ジメチル−5−〔3−(7−クロロキノリン−
2−イルメトキシ)フェニル〕−8−(1H−テトラゾ
ール−5−イル)−4−チアオクタンアミド 工程1 5−ヒドロキシ−5−(3−メトキシフェニ
ル)吉草酸メチルの製造 3−メトキシフェニルマグネシウムブロミドの溶液をT
HF30mL中3−ブロモアニソール(5.748g,3
0.7mmol)及びマグネシウム(0.845g,34.
8mmol)から製造した。THF20mL中5−オキソ吉草
酸メチル〔エー・ダブル・バーグスターラー,シンセシ
ス,1976年,第767頁(A.W.Burgstahler,Synthe
sis,1976,767)の方法により製造〕(4.01
5g,30.85mmol)に−78℃でグリニャール試薬
を徐々に加えた。反応混合物を−78℃で10分間及び
室温で40分間攪拌した。0℃にて25%NH4OAcで加水
分解し、EtOAcで抽出し、乾燥し、蒸発させ、EtOAc:ヘ
キサン35:65でシリカ上フラッシュクロマトグラフ
ィーに付して、標題化合物を得たが、これには反応する
ラクトン及び3,3′−(1−オキソ−5−ヒドロキシ
ペンタン−1,5−ジイル)ビスメトキシベンゼンが混
入していた。混合物を次の工程でそのまま使用した。
工程2 6−(3−メトキシフェニル)テトラヒドロピ
ラン−2−オンの製造 工程1の純粋でないヒドロキシエステルに、THF14
mL、MeOH23mL、H2O9mL及び10N NaOH10mLを加
えた。溶液を3時間攪拌し、次いで水及び濃HClをpH9
まで加えた。水層をEtOAcで洗浄し、pH3まで酸性化さ
せた。EtOAcで抽出し、溶媒を蒸発させ、油状物として
ヒドロキシ酸を得た。油状物をCH2Cl2に溶解し、トリフ
ルオロ酢酸10μLを加えた。溶液を室温で3時間及び
5℃で2.5時間攪拌した。溶媒を蒸発させ、残渣をEt
OAc:ヘキサン40:60でシリカ上フラッシュクロマ
トグラフィーにより精製し、標題化合物を得た。1 H NMR(CDCl3)δ1.80-2.05(m,3H),2.12-2.23(m,1H),1.5
0-1.80(m,2H),3.83(s,3H),5.35(dd,1H),6.83-6.96(m,3
H),7.30(dd,1H)p.p.m. 工程3 8−(N,N−ジメチルカルバミル)−5−
(3−ヒドロキシフェニル)−6−チオオクタン酸の製
造 −10℃でAlCl3(2.146g,6当量)をCH2Cl2
4mL中ラクトン(工程2,555mg,2.69mmol)及
びN,N−ジメチル−3−メルカプトプロパンアミド
(1.437g,4当量)の溶液に加えた。粘稠油状物
が分離したが、攪拌を0℃で2時間継続した。25%NH
4OAc及びAcOHを加え、水層をEtOAcで抽出し、乾燥し、
蒸発させた。残渣をEtOAc:トルエン:AcOH20:8
0:1、30:70:1及び40:60:1でシリカ上
フラッシュクロマトグラフィーに付して、8−(N,N
−ジメチルカルバミル)−5−(3−メトキシフェニ
ル)−6−チアノナン酸及び標題化合物を得た。第一の
生成物のメチルエーテルを実施例15工程7の操作に従
い更に開裂させて、標題化合物を得た。1 H NMR(CDCl3)δ1.55-1.73(m,2H),1.88(m,2H),2.28-2.4
7(m,4H),2.64(t,2H),2.89(s,3H),2.92(s,3H),3.74(t,1
H),6.73(d,1H),6.80-6.90(m,2H),7.15(dd,1H)p.p.m. 工程4 5−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメ
トキシ)フェニル〕−8−(N,N−ジメチルカルバミ
ル−6−チアオクタン酸7−クロロキノリン−2−イル
メチルの製造 実施例15工程9の操作に従い、但し反応剤の量を2倍
にして、フェノール(工程3)を標題化合物に変換させ
た。1 H NMR(CDCl3)δ1.60-2.00(m,4H),2.32-2.46(m,4H),2.5
2-2.69(m,2H),2.86(s,3H),2.90(s,3H),3.77(dd,1H),5.3
4(s,2H),5.36(s,2H),6.83-6.94(m,2H),7.02(ブロードs,
1H),7.23(dd,1H),7.42(d,1H),7.45-7.52(m,2H),7.65-7.
79(m,3H),8.07(ブロードs,2H),8.11-8.20(m,2H)p.p.m. 工程5 工程4の生成物のエステルを4工程かけてテトラゾール
に変換させた。第一に、エステルを実施例15工程10
の操作に従い酸に加水分解したが、但し反応時間を16
時間に短縮した。第二に、酸を実施例11工程2の操作
に従いアミドに変換したが、但しメチルグリシネートの
代わりに過剰のアンモニアを用いた。第三に、ニトリル
を実施例14工程1の操作に従い製造した。最後に、テ
トラゾール(標題化合物)を実施例7工程5の操作に従
い製造した。1 H NMR(CD3COCD3)δ1.63-1.95(m,4H),2.35-2.54(m,4H),
2.83(s,3H),2.90(s,3H),2.92(t,2H),3.95(t,1H),5.38
(s,2H),6.92-7.00(m,2H),7.12(ブロードs,1H),7.25(dd,
1H),7.60(dd,1H),7.74(d,1H),8.01(d,1H),8.05(broad
s,1H),8.41(d,1H)p.p.m.;正確な質量計算値 (C26H29ClN3O2S)(M=N3)482.1670,実測値482.1673. 実施例20 N,N−ジメチル−5−〔3−〔2−(7−クロロキノ
リン−2−イル)エテニル〕フェニル〕−8−(1H−
テトラゾール−5−イル)−4−チアオクタンアミド 工程1 5−(3−シアノフェニル)−4−ペンテン酸
メチル(E:Z混合物)の製造 THF160mL及びHMPA16mL中の3−カルボキシ
プロピルトリフェニルホスホニウムクロリド(9.22
1g,24.0mmol)にヘキサメチルジシラザンカリウ
ム(トルエン中0.67M,65mL,43.5mmol)を
0℃で滴下した。混合物を0℃で10分間及び室温で3
0分間攪拌した。次いで、0℃においてTHF25mL中
3−シアノベンズアルデヒド(2.136g,16.3
mmol)を滴下し、混合物を室温で1.5時間攪拌した。
25%NH4OAc及び2N HClを加え、エーテルで抽出
し、乾燥し、蒸発させ、残渣をEtOAc:ヘキサン:AcOH
25:75:1及び30:70:1でシリカ上フラッシ
ュクロマトグラフィーに付し、カルボン酸を得た。酸を
EtOAc:エーテルに溶解し、0℃でエーテル中の過剰ジ
アゾメタンを加えた。5℃で20時間後、溶液を5%Na
HCO3、塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過
及び溶媒の蒸発により、油状物として標題化合物を得
た。1 H NMR(CDCl3)δ2.42-2.68(m,4H),3.70(s,3H),5.69-5.8
2及び6.23-6.50(m,2H,E:Z混合物),7.35-7.65(m,4H)p.p.
m. 工程2 5−(3−シアノフェニル)−8−(N,N−
ジメチルカルバミル)−6−チアオクタン酸メチルの製
造 0℃において、AlCl3(3.10g,5当量)をCH2Cl2
50mL中シアノスチレン(工程1,1.005g,4.
67mmol)及びN,N−ジメチル−3−メルカプトプロ
パンアミド(815mg,1.3当量)の溶液に加えた。
混合物を室温で6時間攪拌し、25%NH4OAc及びEtOAc
で加水分解した。セライトで濾過し、EtOAcで抽出し、
乾燥し、蒸発させ、残渣をEtOAc:ヘキサン(50:5
0、70:30、80:20及び90:10)でシリカ
上フラッシュクロマトグラフィーに付し、標題化合物を
得た。1 H NMR(CDCl3)δ1.45-1.97(m,4H),2.30(t,2H),2.40-2.7
2(m,4H),2.84(s,6H),3.66(s,3H),3.83(t,1H),7.43(dd,1
H),7.52-7.62(m,2H),7.66(ブロードs,1H)p.p.m. 工程3 8−(N,N−ジメチルカルバミル)−5−
(3−ホルミルフェニル)−6−チアオクタン酸メチル
の製造 HClガスを、2つの液相が得られるまで、エーテル30m
L中SnCl2(5.843g,30.8mmol)の懸濁液に導
入した(15分間以上)。次いで、熱トルエン5mLに溶
解されたニトリル(工程2,1.255g,3.60mm
ol)を加えた。HClを混合物中に更に15分間導入し、
混合物を3時間攪拌した。0℃においてH2Oを加え、混
合物を室温で更に1時間攪拌した。25%NH4OAcを加
え、セライトで濾過し、EtOAcで抽出し、乾燥し、蒸発
させ、残渣をアセトン:トルエン20:80でシリカ上
フラッシュクロマトグラフィーに付し、標題化合物を得
た。1 H NMR(CDCl3)δ1.48-1.79(m,2H),1.79-2.03(m,2H),2.3
1(t,2H),2.45(m,2H),2.62(m,2H),2.91(s,6H),3.65(s,3
H),3.88(dd,1H),7.51(dd,1H),7.63(d,1H),7.77(d,1H),
7.86(ブロードs,1H),10.02(s,1H)p.p.m. 工程4 5−〔3−〔2−(7−クロロキノリン−2−
イル)エテニル〕フェニル〕−8−(N,N−ジメチル
カルバミル)−6−チアオクタン酸メチルの製造 THF18mL中製造2からの(7−クロロキノリン−2
−イル)メチルトリフェニルホスホニウムブロミド
(2.189g,4.22mmol)に−78℃でn−BuLi
(ヘキサン中1.6M,2.3mL,3.68mmol)を滴
下し、暗赤色溶液をこの温度で1.25時間攪拌した。
THF7mL中のアルデヒド(工程3,0.927g,
2.64mmol)を滴下し、混合物を−78℃で30分間
及び室温で1時間攪拌した。反応を25%NH4OAcで停止
させ、EtOAcで抽出し、乾燥し、蒸発させた。残渣をア
セトン:トルエン20:80でシリカ上フラッシュクロ
マトグラフィーにより精製し、標題化合物を得た。1 H NMR(CDCl3)δ1.52-1.80(m,2H),1.84-2.02(m,2H),2.3
2(t,2H),2.42(m,2H),2.55-2.78(m,2H),2.87(s,3H),2.91
(s,3H),3.66(s,3H),3.84(dd,1H),7.26-7.55(m,5H),7.58
-7.76(m,4H),8.07(ブロードs,1H),8.12(d,1H)p.p.m. 工程5 工程4の生成物のエステルを4工程かけてテトラゾール
に変換させた。第一に、エステルを実施例15工程4の
操作に従い酸に加水分解したが、但し反応時間を1時間
に延長した。第二に、酸を実施例11工程2の操作に従
いアミドに変換したが、但しメチルグリシネートの代わ
りに過剰のアンモニアを用いた。第三に、ニトリルを実
施例14工程1の操作に従い製造した。最後に、標題の
テトラゾールを実施例7工程5の操作に従い製造した。1 H NMR(CDCl3)δ1.84-1.99(m,4H),2.58(m,2H),2.70(m,2
H),3.00(s,3H),3.04(s,3H),3.08(t,2H),3.97(dd,1H),7.
22-7.36(m,2H),7.41-7.52(m,3H),7.56(ブロードs,1H),
7.64(d,1H),7.69(s,1H),7.73(d,1H),8.07(ブロードs,1
H),8.12(d,1H)p.p.m.;ms520(M・+),477(M-N3H),377(M-C5
H11N4O),345(M-C5H11N4OS),292,177. 実施例21 4−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメトキシ)
フェニル〕−6−ジメチルカルバミル−5−オキサヘキ
サン酸メチル 工程1 3−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)
ベンズアルデヒド 塩化メチレン(200mL)及び3,4−ジヒドロ−2H
−ピラン(27.4mL,0.3molの混合物中3−ヒド
ロキシベンズアルデヒド(24.4g,0.2mol)の
懸濁液をp−トルエンスルホン酸ピリジニウム(0.5
g)で処理し、混合物を室温で一夜攪拌した。得られる
暗色溶液を水、飽和炭酸ナトリウム溶液で連続的に洗浄
し、次いで活性炭を加え無水炭酸カリウムで乾燥し、ほ
とんどの着色を除いた。濾過された溶液の蒸発により油
状物を得、これをメルク(Merck)中性アルミナ上カラム
クロマトグラフィーに付し、酢酸エチル/ヘキサン1:
3で溶離することにより精製して、油状物として生成物
を得た。
NMR(250MHz,CDCl3,TMS)δ10.0(1H,s,CHO),7.57(1H,m,Ar
H),7.48(2H,m,ArH),7.32(1H,m,ArH),5.51(1H,m,O-CH-
O),3.92及び3.63(2H,2m,CH2-O),2.2-1.6(6H,br m,3xC
H2). 工程2 1−〔3−(テトラヒドロピラン−2−イルオ
キシ)フェニル〕ペンテ−4−エノール グリニャール試薬を乾燥エーテル(150mL)中4−ブ
ロモブテ−1エン(16.88g,0.125mol)及
びマグネシウム(3.0g,0.125mol)から製造
し、氷浴中で冷却されたこの溶液にエーテル(150m
L)中工程1からの化合物(20.6g,0.1mol)の
溶液を攪拌しながら加えた。反応混合物を氷浴中で30
分間しかる後室温で2時間攪拌した。混合物を、氷冷4
M塩化アンモニウム溶液の添加前に、氷浴中で再度冷却
した。飽和塩化ナトリウム溶液で更に洗浄後、エーテル
溶液を炭酸カリウムで乾燥した。溶媒の蒸発により単離
された粗生成物をメルクシリカゲル(500g)カラム
クロマトグラフィーにより酢酸エチル/ヘキサン1:5
で溶離させて精製し、油状物として標題化合物を得た。
NMR(250MHz,CDCl3,TMS)δ7.26(1H,m,ArH),7.04(1H,m,Ar
H),6.95(2H,m,ArH),5.86(1H,m,-CH=),5.43(1H,m,O-CH-
O),5.00(2H,m,=CH2),4.65(1H,m,CH-OH),3.97及び3.65
(2H,2m,CH2-O),2.2-1.6(10H,br m,5xCH2). 工程3 4−〔3−(テトラヒドロピラン−2−イルオ
キシ)フェニル〕−3−オキサオクテ−7−エン酸 工程2からの化合物(5.24g,20mmol)、ブロモ
酢酸(3.48g,25mmol)及び乾燥テトラヒドロフ
ラン(100mL)の混合物を−78℃でアルゴン下冷却
し、0.6Mヘキサメチルジシラジドカリウム(83m
L,50mmol)を攪拌しながら滴下した。淡黄色懸濁液
を−78℃で19分間しかる後室温で2時間攪拌した。
反応混合物をエーテルで希釈し、6N塩酸含有の2M塩
化アンモニウム溶液(15mL)で洗浄した。溶液を塩化
ナトリウム溶液で3回洗浄し、約30mLまで蒸発させ
た。この溶液をメルクシリカゲル(150g)カラムに
供し、最初に低極性物質除去のためにエーテル/トルエ
ン1:3で次いでギ酸/t−ブタノール/酢酸エチル/
トルエン1:10:100:100で溶離し、油状物と
して標題生成物を得たが、これはそのまま下記工程で使
用された。
工程4 N,N−ジメチル−3−オキサ−4−〔3−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)フェニル〕オ
クテ−7−エンアミド 塩化メチレン(65mL)中工程3からの酸(3.21
g,10.0mmol)の溶液をアルゴン下−15℃に冷却
し、トリエチルアミン(1.74mL,12.5mmol)を
加え、しかる後クロロギ酸イソブチル(1.63mL,1
2.5mmol)を滴下した。混合物を−10℃で10分間
攪拌し、しかる後トルエン(10mL)中2Mジメチルア
ミンの添加前に−15℃で再度冷却した。反応混合物を
−15℃で15分間攪拌し、しかる後室温まで加温し
た。30分間後、混合物を水で2回しかる後N塩酸で洗
浄した。有機層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、
蒸発させた。粗生成物のカラムクロマトグラフィー(メ
ルクシリカゲル、ギ酸/t−ブタノール/酢酸エチル/
トルエン1:10:100:200で溶離)により、油
状物として標題化合物を得た。
NMR(250MHz,CDCl3,TMS)δ7.27(1H,m,ArH),6.95(3H,m,Ar
H),5.80(1H,m,-CH=),5.41(1H,m,O-CH-O),4.95(2H,m,=
CH2),4.35(1H,m,CH-O),4.07及び3.88(2H,2d,CH2-CO),3.
9及び3.6(2H,m,CH2-O),2.92及び2.91(6H,2s,(CH3)2N),
2.2-1.5(10H,br m,5xCH2). 分析計算値(C20H29NO6):C63.31,H7.70,N3.69;実測値:
C62.94,H7.95,N3.51. 工程5 6−ジメチルカルバミル−5−オキサ−4−
〔3−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)フェニ
ル〕ヘキサン酸メチル 工程4(868mg,2.5mmol)からの化合物、炭酸カ
リウム(280mg)、水(30mL)、アセトニトリル
(20mL)及び四塩化炭素(20mL)の混合物をアルゴ
ン下で急速に攪拌し、二酸化ルテニウム(20mg)及び
過ヨウ素酸カリウム(2.2g)を加えた。反応混合物
を2時間攪拌後、過ヨウ素酸カリウム(1.1g)を追
加した。1時間後、塩化メチレン及び水を加え、水相を
炭酸カリウム塩基性化した。有機相を分離し、水洗し
た。合わせた水性抽出液を6N塩酸で酸性化し、酸性生
成物を塩化メチレンで抽出して単離し、エーテル性ジア
ゾメタンで直ちにエステル化して、粗エステル857mg
(90%)を得た。
2回のこのような酸化による混合粗生成物をフラッシュ
クロマトグラフィー(メルクシリカゲル115g,ギ酸
/t−ブタノール/酢酸エチル/トルエン1:10:1
00:200で溶離)により精製し、油状物として純粋
な標題化合物を得た。
NMR(250MHz,CDCl3,TMS)δ7.65(1H,m,ArH),6.95(3H,m,Ar
H),5.40(1H,m,O-CH-O),4.37(1H,m,CH-O),4.08(1H,d,O-C
H-CO),3.91(1H,dd,O-CH-CO),3.9及び3.7(2H,2m,CH2-O),
3.65(3H,s,CH3-O),2.92及2.91(6H,2s(CH3)2N),2.48(2H,
dd,CH2-CO),2.3-1.6(8H,br m,4xCH2). 工程6 6−ジメチルカルバミル−4−(3−ヒドロキ
シフェニル)−5−オキサヘキサン酸メチル 工程5からのテトラヒドロピラニルエーテル(866m
g,2.29mmol),p−トルエンスルホン酸ピリジニ
ウム(30mg)及びメタノール(17mL)の混合物を1
時間加熱還流し、次いで蒸発乾固させた。残渣をN/2
塩酸(2mL)で酸性化された塩化メチレン及び水間で分
配した。有機抽出液からの粗生成物をカラムクロマトグ
ラフィー(メルクシリカゲル30g,ギ酸/t−ブタノ
ール/酢酸エチル/トルエン1:10:100:200
で溶離)にかけ、油状物として標題化合物を得た。
NMR(250MHz,CDCl3,TMS)δ7.18(1H,m,ArH),6.8(3H,m,Ar
H),4.37(1H,q,CH-O),4.08及び3.93(2H,2d,CH2-CO),3.63
(3H,s,CH3-O),2.92(6H,2s,(CH3)2N),2.46及び2.44(2H,2
d,CH2-CO),2.1(2H,br m,CH2). 分析計算値(C15H21NO5):C61.00,H7.17,N4.74;実測値:
C61.12,H7.12,N4.59. 工程7 4−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメ
トキシ)フェニル〕−6−ジメチルカルバミル−5−オ
キサヘキサン酸メチル 工程6からの化合物(595mg,2.01mmol)、2−
ブロモメチル−7−クロロキノリン(516mg,2.0
1mmol)、炭酸カリウム(552mg,4.0mmol)及び
アセトン(12mL)の混合物を2時間還流下攪拌した。
反応混合物を濾過し、蒸発させ、残渣をカラムクロマト
グラフィー(メルクシリカゲル25g,ギ酸/t−ブタ
ノール/酢酸エチル/トルエン1:10:100:20
0)により精製し、油状物として標題化合物を得た。
NMR(250MHz,CDCl3,TMS)δ8.18(1H,d,ArH),8.08(3H,d,Ar
H),7.76(1H,d,ArH),7.68(1H,d,ArH),7.51(1H,dd,ArH),
7.25(1H,m,ArH),7.12(1H,m,ArH),6.93(2H,m,ArH),5.36
(2H,s,CH2-O),4.42(1H,m,CH-O),4.05及び3.85(2H,2d,OC
H2-CO),3.64(3H,s,CH3-O),2.91及び2.88(6H,2s,(CH3)
2N),2.475及び2.445(2H,2d,CH2-CO),2.1(2H,br,m,CH2). 実施例22 6−N,N−ジメチルカルバミル−4−〔3−(7−ク
ロロキノリン−2−イルメトキシ)フェニル〕−5−オ
キサヘキサン酸 1,2−ジメトキシエタン(6.5mL)中実施例1から
の標題化合物(633mg,1.305mmol)の溶液を2
N水酸化リチウム(1.3mL)で処理し、反応混合物を
室温で一夜攪拌した。溶液をシリカゲル(3.5g)上
での蒸発前にギ酸(120μL,約2.6mmol)で中和
した。固体物をメルクシリカゲル(30g)カラムの上
から加え、未加水分解エステル除去のためギ酸/t−ブ
タノール/酢酸エチル/トルエン1:10:100:2
00で、しかる後ギ酸/t−ブタノール/酢酸エチル/
トルエン1:10:100:100で溶離して、生成物
を得た。溶離物からの固体をアセトニトリルから再結晶
し、標題化合物を得た。
mp 134-135℃;NMR(250Mhz,CDCl3,TMS)δ8.19(1H,d,Ar
H),8.085(1H,d,ArH),7.78(1H,d,ArH),7.69(1H,d,ArH),
7.51(1H,dd,ArH),7.28(1H,m,ArH),6.95(3H,br m,ArH),
5.37(2H,s,CH2O),4.41(1H,dd,CH-O),4.16及び3.87(2H,2
d,CH2-CO),2.97及び2.80(6H,2s,(CH3)2N),2.8及び2.65
(2H,2m,CH2COO),2.0(2H,br m,CH2). 分析計算値(C24H25ClN2O5):C63.09,H5.52,Cl7.76,N6.1
3;実測値:C62.93,H5.55,Cl7.92,N6.14. 実施例23 8−N,N−ジメチルカルバミル−6−〔3−(7−ク
ロロキノリン−2−イルメトキシ)フェニル〕−7−オ
キサオクタン酸 工程1 6−ヒドロキシ−6−〔3−(テトラヒドロピ
ラン−2−イルオキシ)フェニル〕ヘキサン酸メチル 実施例1工程1からのベンズアルデヒド(4.12g,
20mmol)、5−ブロモ吉草酸メチル(4.29g,2
2mmol)、微細マグネシウム(600mg,2.5mmol)
及び乾燥エーテル(80mL)の混合物を−15℃に冷却
し、薄層クロマトグラフィーによる試験が更に反応の進
行しないことを示すまで超音波処理する。混合物を濾過
し、シリカゲル(40g)上で蒸発させ、固体物をメル
クシリカゲル(600g)のカラムに加える。酢酸エチ
ル/ヘキサン1:3で溶離し、油状物として標題化合物
を得る。
工程2 7−オキサ−6−〔3−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)フェニル〕デセ−9−エン酸メチル −40℃に冷却された工程1からの化合物(3.22
g,10mmol)、臭化アリル(1.51g,12.5mm
ol)及び乾燥テトラヒドロフラン(25mL)の攪拌混合
物にトルエン(18.3mL)中0.6Mヘキサメチルジ
シラジドカリウムをシリンジで滴下する。反応混合物を
−40℃で30分間攪拌し、それを徐々に室温まで加温
する。エーテルを加え、有機溶液を水、しかる後飽和塩
化ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒の蒸発により単離された粗生成物をカラム
クロマトグラフィー(メルクシリカゲル,酢酸エチル/
ヘキサン1:5で溶離)により精製し、油状物として標
題化合物を得る。
工程3 8−メトキシカルボニル−3−オキサ−4−
〔3−テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)フェニ
ル〕オクタン酸 実施例1工程5の操作において実施例1工程4の化合物
の代わりに工程2の化合物を用いて、標題化合物を製造
する。
工程4 8−ジメチルカルバミル−7−オキサ−6−
〔3−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)フェニ
ル〕オクタン酸メチル 実施例1工程4の操作において実施例1工程3の化合物
の代わりに工程3の化合物を用いて、標題化合物を製造
する。
工程5 8−ジメチルカルバミル−7−オキサ−6−
(3−ヒドロキシフェニル)オクタン酸メチル 実施例1工程6の操作において実施例1工程5の化合物
の代わりに工程4の化合物を用いて、標題化合物を製造
する。
工程6 6−〔3−(7−クロロキノリン−2−イルメ
トキシ)フェニル〕−8−ジメチルカルバミル−7−オ
キサオクタン酸メチル 実施例1工程7の操作において実施例1工程6の化合物
の代わりに工程5の化合物を用いて、標題化合物を製造
する。
工程7 8−N,N−ジメチルカルバミル−6−〔3−
(7−クロロキノリン−2−イルメトキシ)フェニル〕
−7−オキサオクタン酸 実施例1工程8の操作において実施例1工程7の化合物
の代わりに工程6の化合物を用いて、標題化合物を製造
する。
実施例24 8−N,N−ジメチルカルバミル−6−〔3−(7−ク
ロロキノリン−2−イルメトキシ)フェニル〕−7−オ
キサオクタン酸(別の合成法) 実施例21工程2〜7及び実施例22の操作に従い、4
−ブロモブテ−1−エンの代わりに6−ブロモヘキセ−
1−エンから得られたグリニャール試薬を用いて、標題
化合物を製造する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/47 AED (72)発明者 ヘイドン ダブリユ.アール.ウイリアム ス カナダ国,エツチ9ジー 1ヴイ4 ケベ ツク,ドラール デ ゾルモー,バーバリ プレイス 348 (72)発明者 ミシエル エル.ベリー カナダ国,エツチ9エヌ 1ピー1 セン ト ローレント,ドギール ブールヴアー ル 175,アパートメント 911

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記式の化合物: 〔上記式中: Rはハロゲン; Yは−CH=CH−又は−CH2O−; XはO、S又はCH2; Qは−COH2H、テトラゾール、−CONR2R2(2つのR
    は同一か異なってもよい)又は−CH(R)−CH2CO
    2H; Rは水素、直鎖あるいは分枝鎖アルキル又はCH2CO
    2R4; Rは水素又はアルキル; Rは水素又はアルキル; Qは−CO2R4、テトラゾール又は−CH(R)−CH2CO
    R5; Rは−OH又は−NR3R3(2つのRは同一か異なって
    もよい); mは1から3; m′は0から4である〕 及びその製薬的に許容される塩類。
  2. 【請求項2】下記式(Ia): 〔上記式中: Rはハロゲン; XはO、S又はCH2; Qは−CO2H、テトラゾール、−CONR2R2(2つのR
    は同一か異なってもよい)又は−CH(R)−CH2CO
    2H; Rは水素、直鎖あるいは分枝鎖アルキル又はCH2CO
    2R4; Rは水素又はアルキル; Rは水素又はアルキル; Qは−CO2R4、テトラゾール又は−CH(R)−CH2CO
    R5; Rは−OH又は−NR3R3(2つのRは同一か異なって
    もよい); mは1から3; m′は0から4である〕 で表わされる特許請求の範囲第1項記載の化合物及びそ
    の製薬的に許容される塩類。
  3. 【請求項3】下記式Ib: 〔上記式中: Rはハロゲン; XはO、S又はCH2; Qは−CO2H、テトラゾール、−CONR2R2(2つのR
    は同一か異なってもよい)又は−CH(R)−CH2CO
    2H; Rは水素、直鎖あるいは分枝鎖アルキル又はCH2CO
    2R4; Rは水素又はアルキル; Rは水素又はアルキル; Qは−CO2R4、テトラゾール又は−CH(R)−CH2CO
    R5; Rは−OH又は−NR3R3(2つのRは同一か異なって
    もよい); mは1から3; m′は0から4である〕 で表わされる特許請求の範囲第1項記載の化合物及びそ
    の製薬的に許容される塩類。
  4. 【請求項4】式Iにおい
    て、 RはCl; Yは−CH=CH−又は−CH2O−; XはO、S又はCH2; Qは−CO2H、テトラゾール、−CONH2、 −CON(CH3)2、−CONH-t-Bu、 −CONHCH2CO2H、−CONHCH2CO2CH3又は −CH(CH3)CH2CO2H; Qは−CO2H、−CO2CH3、テトラゾール、 −CH(CH3)CH2CO2H又は −CH(CH3)CH2CON(CH3)2; mは1から3; m′は0から4である特許請求の範囲第1項記載の化合
    物。
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