JPH0612603A - 磁界発生装置 - Google Patents
磁界発生装置Info
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- JPH0612603A JPH0612603A JP17041292A JP17041292A JPH0612603A JP H0612603 A JPH0612603 A JP H0612603A JP 17041292 A JP17041292 A JP 17041292A JP 17041292 A JP17041292 A JP 17041292A JP H0612603 A JPH0612603 A JP H0612603A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】長時間使用後でも磁界発生装置と光磁気ディス
クの動摩擦係数が増大せず、安定な摺動特性が持続す
る。 【構成】フェライトで構成したヨーク部３および主磁極
４に巻線５を形成した開放端を有する磁気回路の開放端
に接して、エポキシ樹脂22に、潤滑剤25と、ＢＥＴ（Ｂ
ｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍｍｅｔｔ−Ｔｅｌｌｅｒ）吸着等
温式にしたがって測定した比表面積が100 〜1000ｍ2 ／
ｇのケイ酸微粒子23とをエポキシ樹脂22に対して１〜15
重量％混入した滑性部材21を設けることにより、滑性部
材に含有可能な潤滑剤25がケイ酸微粒子23に吸着する分
増量し、滑性部材21の表面に潤滑剤25が常に維持され長
期間摺動状態の劣化がない。
クの動摩擦係数が増大せず、安定な摺動特性が持続す
る。 【構成】フェライトで構成したヨーク部３および主磁極
４に巻線５を形成した開放端を有する磁気回路の開放端
に接して、エポキシ樹脂22に、潤滑剤25と、ＢＥＴ（Ｂ
ｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍｍｅｔｔ−Ｔｅｌｌｅｒ）吸着等
温式にしたがって測定した比表面積が100 〜1000ｍ2 ／
ｇのケイ酸微粒子23とをエポキシ樹脂22に対して１〜15
重量％混入した滑性部材21を設けることにより、滑性部
材に含有可能な潤滑剤25がケイ酸微粒子23に吸着する分
増量し、滑性部材21の表面に潤滑剤25が常に維持され長
期間摺動状態の劣化がない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光磁気記録媒体（以下光
磁気ディスクという）に情報信号の記録や消去を行うた
めの磁界発生装置に関するものである。
磁気ディスクという）に情報信号の記録や消去を行うた
めの磁界発生装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、光磁気ディスクは高密度記録メデ
ィアとして注目され、急速に市場に浸透している。最
近、即時書き込み（オーバーライト）が可能な磁界変調
光磁気記録方式に関心が寄せられている。この磁界変調
記録方式においては、情報記録の主体は磁界の変調にな
り、その主要な役割を果たすものが磁界発生装置であ
る。
ィアとして注目され、急速に市場に浸透している。最
近、即時書き込み（オーバーライト）が可能な磁界変調
光磁気記録方式に関心が寄せられている。この磁界変調
記録方式においては、情報記録の主体は磁界の変調にな
り、その主要な役割を果たすものが磁界発生装置であ
る。
【０００３】以下、図面を参照しながら上述した従来の
磁界発生装置について説明する。図５は従来の磁界発生
装置の構成図である。図５において、ダンパー部１は滑
性部材２に接着して固定されている。ヨーク部３および
主磁極４はフェライトで構成され、主磁極４には巻線５
が設けられている。このヨーク部３かつ／または主磁極
４とダンパー部１は接着固定されている。ばね６はヨー
ク部３にその一端が固定され、また、その他端は基材７
に固定されている。支柱８は可動部９に基材７を固定す
るためのものである。以上により、光磁気ディスクに情
報信号の記録や消去を行う磁界発生装置10が構成されて
いる。
磁界発生装置について説明する。図５は従来の磁界発生
装置の構成図である。図５において、ダンパー部１は滑
性部材２に接着して固定されている。ヨーク部３および
主磁極４はフェライトで構成され、主磁極４には巻線５
が設けられている。このヨーク部３かつ／または主磁極
４とダンパー部１は接着固定されている。ばね６はヨー
ク部３にその一端が固定され、また、その他端は基材７
に固定されている。支柱８は可動部９に基材７を固定す
るためのものである。以上により、光磁気ディスクに情
報信号の記録や消去を行う磁界発生装置10が構成されて
いる。
【０００４】図６は図５の磁界発生装置を光磁気ディス
クの記録に用いる場合の構成図である。図６において、
対物レンズ11はレーザ光を集束させる。また、光ヘッド
12は、レーザ光源とビームスプリッタと光検出素子など
で構成されている。さらに、光ヘッド12は、支柱13を介
して可動部９に固定されている。光磁気ディスク15の表
面には保護コート14が設けられ、この光磁気ディスク15
を機械的衝撃や湿気などから保護する。さらに、スピン
ドルモータ16は光磁気ディスク15を回転駆動する。
クの記録に用いる場合の構成図である。図６において、
対物レンズ11はレーザ光を集束させる。また、光ヘッド
12は、レーザ光源とビームスプリッタと光検出素子など
で構成されている。さらに、光ヘッド12は、支柱13を介
して可動部９に固定されている。光磁気ディスク15の表
面には保護コート14が設けられ、この光磁気ディスク15
を機械的衝撃や湿気などから保護する。さらに、スピン
ドルモータ16は光磁気ディスク15を回転駆動する。
【０００５】以上のように構成された従来の磁界発生装
置について、以下、その動作を説明する。ここで、磁界
変調方式とはレーザ光の強度を固定し、外部印加磁界の
向きを変調して光磁気記録膜の垂直磁化の向きを変えて
記録する方式である。まず、変調した外部印加磁界の発
生は磁界発生装置10の巻線５に変調電流を供給し、電磁
誘導による磁界を発生することで行う。そして、光ヘッ
ド12から発したレーザ光は対物レンズ11でトラッキング
手段およびフォ−カス手段を用いて光磁気記録膜上に集
束される。この集束されたレーザ光により局部的に加熱
された光磁気記録膜の磁化を反転するために必要な磁界
は、主磁極４の近傍に発生し、この主磁極４と光磁気記
録膜の距離の増大にしたがって発生磁界強度は減少す
る。このため、主磁極４と光磁気記録膜の距離はできる
限り近づける必要があり、磁界発生装置と光磁気ディス
クのソフトな接触を目的として主磁極４に近接して滑性
部材２を設けた構成（特開昭63-58605号公報）が提案さ
れている。
置について、以下、その動作を説明する。ここで、磁界
変調方式とはレーザ光の強度を固定し、外部印加磁界の
向きを変調して光磁気記録膜の垂直磁化の向きを変えて
記録する方式である。まず、変調した外部印加磁界の発
生は磁界発生装置10の巻線５に変調電流を供給し、電磁
誘導による磁界を発生することで行う。そして、光ヘッ
ド12から発したレーザ光は対物レンズ11でトラッキング
手段およびフォ−カス手段を用いて光磁気記録膜上に集
束される。この集束されたレーザ光により局部的に加熱
された光磁気記録膜の磁化を反転するために必要な磁界
は、主磁極４の近傍に発生し、この主磁極４と光磁気記
録膜の距離の増大にしたがって発生磁界強度は減少す
る。このため、主磁極４と光磁気記録膜の距離はできる
限り近づける必要があり、磁界発生装置と光磁気ディス
クのソフトな接触を目的として主磁極４に近接して滑性
部材２を設けた構成（特開昭63-58605号公報）が提案さ
れている。
【０００６】ここで、スピンドルモータ16が駆動して光
磁気ディスク15が回転すると、滑性部材２と光磁気ディ
スク15の保護コ−ト14は接触状態にあるため、滑性部材
２は光磁気ディスク15の保護コ−ト14に対して摺動運動
を行う。そして、光磁気ディスク15の回転速度が所定の
値に達し、可動部９の移動により光磁気ディスク15の記
録すべき位置に光スポットおよび磁界発生装置10の主磁
極４が移動したとき、トラッキング制御手段やフォ−カ
ス制御手段により対物レンズ11の位置を調整しながら光
磁気ディスク15に集束したレ−ザ光を光磁気記録膜上に
照射して局所的に加熱し、同時に磁界発生装置の巻線５
に記録信号に応じた変調電流を流すことにより、光磁気
記録膜に情報を書き込む。
磁気ディスク15が回転すると、滑性部材２と光磁気ディ
スク15の保護コ−ト14は接触状態にあるため、滑性部材
２は光磁気ディスク15の保護コ−ト14に対して摺動運動
を行う。そして、光磁気ディスク15の回転速度が所定の
値に達し、可動部９の移動により光磁気ディスク15の記
録すべき位置に光スポットおよび磁界発生装置10の主磁
極４が移動したとき、トラッキング制御手段やフォ−カ
ス制御手段により対物レンズ11の位置を調整しながら光
磁気ディスク15に集束したレ−ザ光を光磁気記録膜上に
照射して局所的に加熱し、同時に磁界発生装置の巻線５
に記録信号に応じた変調電流を流すことにより、光磁気
記録膜に情報を書き込む。
【０００７】また、再生は巻線５に供給する電流をゼロ
とし、トラッキング制御手段やフォ−カス制御手段によ
り対物レンズ11の位置を調整しながら光磁気記録膜に記
録時より低パワーのレーザ光を局所的に照射して、磁気
カー効果を利用して行う。
とし、トラッキング制御手段やフォ−カス制御手段によ
り対物レンズ11の位置を調整しながら光磁気記録膜に記
録時より低パワーのレーザ光を局所的に照射して、磁気
カー効果を利用して行う。
【０００８】上記特開昭63-58605号公報によれば、滑性
部材２は合成樹脂などをコ−ティングしたもの、薄膜と
して被着形成したもの、または部材として取りつけたも
のであって、フッ素樹脂、ＢＮ（窒化ホウ素）、グラフ
ァイト、またはこれらをベ−スとした複合材料、さら
に、脂肪酸、高級アルコ−ル、脂肪酸エステルなどの潤
滑剤を用いることができ、また、円滑な記録動作が可能
で長期の信頼性を獲得し得るものであると記載されてい
る。
部材２は合成樹脂などをコ−ティングしたもの、薄膜と
して被着形成したもの、または部材として取りつけたも
のであって、フッ素樹脂、ＢＮ（窒化ホウ素）、グラフ
ァイト、またはこれらをベ−スとした複合材料、さら
に、脂肪酸、高級アルコ−ル、脂肪酸エステルなどの潤
滑剤を用いることができ、また、円滑な記録動作が可能
で長期の信頼性を獲得し得るものであると記載されてい
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、記録動作の繰り返しの結果、滑性部材２に
用いられている潤滑剤が、光磁気ディスク15の保護コー
ト14への移動や光磁気ディスク15に付着したダストやホ
コリに対する付着、および大気中への蒸発などにより徐
々に減少する。このため多数回の繰り返し記録後、また
は長期間経過後に潤滑作用が乏しくなり、滑性部材２と
光磁気ディスク15の保護コ−ト14の動摩擦係数が増大
し、スピンドルモータ16の回転が妨げられ、記録のタイ
ミングが外れて情報の再生信号の品質が低下するという
問題を有していた。
の構成では、記録動作の繰り返しの結果、滑性部材２に
用いられている潤滑剤が、光磁気ディスク15の保護コー
ト14への移動や光磁気ディスク15に付着したダストやホ
コリに対する付着、および大気中への蒸発などにより徐
々に減少する。このため多数回の繰り返し記録後、また
は長期間経過後に潤滑作用が乏しくなり、滑性部材２と
光磁気ディスク15の保護コ−ト14の動摩擦係数が増大
し、スピンドルモータ16の回転が妨げられ、記録のタイ
ミングが外れて情報の再生信号の品質が低下するという
問題を有していた。
【００１０】本発明は上記従来の問題を解決するもの
で、長時間記録を繰り返し行った場合でも滑性部材と光
磁気ディスクの動摩擦係数の増大および摩耗の進行のな
い磁界発生装置を提供することを目的とするものであ
る。
で、長時間記録を繰り返し行った場合でも滑性部材と光
磁気ディスクの動摩擦係数の増大および摩耗の進行のな
い磁界発生装置を提供することを目的とするものであ
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の磁界発生装置は、光磁気記録媒体に情報信号
を、前記光磁気記録媒体表面に対して摺動する滑性部材
を介して記録、消去可能な磁気回路を有する磁界発生装
置であって、フェライトなどの高透磁率部材に巻線を形
成した前記磁気回路の開放端に接して、潤滑剤と、比表
面積が100 〜1000ｍ2 ／ｇの多孔質ピグメントとを混入
した熱硬化性樹脂を前記滑性部材として設けたものであ
る。
に本発明の磁界発生装置は、光磁気記録媒体に情報信号
を、前記光磁気記録媒体表面に対して摺動する滑性部材
を介して記録、消去可能な磁気回路を有する磁界発生装
置であって、フェライトなどの高透磁率部材に巻線を形
成した前記磁気回路の開放端に接して、潤滑剤と、比表
面積が100 〜1000ｍ2 ／ｇの多孔質ピグメントとを混入
した熱硬化性樹脂を前記滑性部材として設けたものであ
る。
【００１２】
【作用】上記構成により、光磁気記録媒体表面に対して
摺動する滑性部材として設けられた熱硬化性樹脂に、潤
滑剤と、比表面積が100 〜1000ｍ2 ／ｇの多孔質ピグメ
ントとを混入したので、多孔質ピグメントに含有可能な
潤滑剤分が増量され、潤滑剤は光磁気記録媒体の接触側
の滑性部材の表面に長時間維持され、従来のように潤滑
剤が減少して滑性部材と保護コートの動摩擦係数が増大
することや摩耗が進行するようなことは抑えられ、光磁
気ディスクに対する磁界発生装置の安定な摺動走行が達
成される。
摺動する滑性部材として設けられた熱硬化性樹脂に、潤
滑剤と、比表面積が100 〜1000ｍ2 ／ｇの多孔質ピグメ
ントとを混入したので、多孔質ピグメントに含有可能な
潤滑剤分が増量され、潤滑剤は光磁気記録媒体の接触側
の滑性部材の表面に長時間維持され、従来のように潤滑
剤が減少して滑性部材と保護コートの動摩擦係数が増大
することや摩耗が進行するようなことは抑えられ、光磁
気ディスクに対する磁界発生装置の安定な摺動走行が達
成される。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
しながら説明する。なお、従来例と同一の作用効果を奏
するものには同一の符号を付してその説明を省略する。
しながら説明する。なお、従来例と同一の作用効果を奏
するものには同一の符号を付してその説明を省略する。
【００１４】図１は本発明の一実施例における磁界発生
装置の構成図である。図１において、滑性部材21は熱硬
化性樹脂としてのエポキシ樹脂22に、ケイ酸微粒子23と
シリカ微粒子24と潤滑剤25を混入している。このケイ酸
微粒子23はＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍｍｅｔｔ−
Ｔｅｌｌｅｒ）吸着等温式（アルゴンや窒素などの気体
を吸着させることにより発生する発熱量を測定すること
で、表面積と対応させる。）にしたがって測定した比表
面積が100 〜1000ｍ2 ／ｇの多孔質ピグメントの微粒子
である。また、ヨ−ク部３は滑性部材21に接着されたフ
ェライトなどの高透磁率部材で構成され、また、巻線５
が設けられた主磁極４も滑性部材21に接着されたフェラ
イトなどの高透磁率部材で構成されている。すなわち、
フェライトなどの高透磁率部材に巻線５を形成した開放
端を有する磁気回路の開放端と接して滑性部材21を設け
ている。
装置の構成図である。図１において、滑性部材21は熱硬
化性樹脂としてのエポキシ樹脂22に、ケイ酸微粒子23と
シリカ微粒子24と潤滑剤25を混入している。このケイ酸
微粒子23はＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍｍｅｔｔ−
Ｔｅｌｌｅｒ）吸着等温式（アルゴンや窒素などの気体
を吸着させることにより発生する発熱量を測定すること
で、表面積と対応させる。）にしたがって測定した比表
面積が100 〜1000ｍ2 ／ｇの多孔質ピグメントの微粒子
である。また、ヨ−ク部３は滑性部材21に接着されたフ
ェライトなどの高透磁率部材で構成され、また、巻線５
が設けられた主磁極４も滑性部材21に接着されたフェラ
イトなどの高透磁率部材で構成されている。すなわち、
フェライトなどの高透磁率部材に巻線５を形成した開放
端を有する磁気回路の開放端と接して滑性部材21を設け
ている。
【００１５】図２は図１の磁界発生装置を光磁気ディス
クの記録に用いる場合の構成図である。図２において、
光磁気ディスク15の保護コ−ト14と接触摺動可能なよう
に、ケイ酸微粒子23、シリカ微粒子24、潤滑剤25および
エポキシ樹脂22で構成した滑性部材21が設けられ、この
滑性部材21を介して磁気回路により光磁気ディスク15に
情報信号を記録、消去する。
クの記録に用いる場合の構成図である。図２において、
光磁気ディスク15の保護コ−ト14と接触摺動可能なよう
に、ケイ酸微粒子23、シリカ微粒子24、潤滑剤25および
エポキシ樹脂22で構成した滑性部材21が設けられ、この
滑性部材21を介して磁気回路により光磁気ディスク15に
情報信号を記録、消去する。
【００１６】以上のように構成された磁界発生装置につ
いて、以下、その動作を説明する。まず、スピンドルモ
ータ16が駆動して光磁気ディスク15が回転すると、滑性
部材21と光磁気ディスク15の保護コ−ト14は接触状態で
あるため、滑性部材21は光磁気ディスク15の保護コ−ト
14に対して摺動運動を行う。光磁気ディスク15の回転速
度が所定の値に達し、光磁気ディスク15の記録すべき位
置に可動部９が移動したとき、トラッキング制御手段や
フォ−カス制御手段により対物レンズ11の位置を調整し
ながら光磁気ディスク15に集束したレ−ザ光を光磁気記
録膜上に照射して局所的に加熱し、同時に磁界発生装置
の巻線５に記録信号に応じた変調電流を流すことによ
り、光磁気記録膜に情報を書き込む。また、再生は巻線
５に供給する電流をゼロとし、トラッキング制御手段や
フォ−カス制御手段により対物レンズ11の位置を調整し
ながら光磁気記録膜に記録時より低パワーのレーザ光を
局所的に照射して、磁気カー効果を利用して行う。
いて、以下、その動作を説明する。まず、スピンドルモ
ータ16が駆動して光磁気ディスク15が回転すると、滑性
部材21と光磁気ディスク15の保護コ−ト14は接触状態で
あるため、滑性部材21は光磁気ディスク15の保護コ−ト
14に対して摺動運動を行う。光磁気ディスク15の回転速
度が所定の値に達し、光磁気ディスク15の記録すべき位
置に可動部９が移動したとき、トラッキング制御手段や
フォ−カス制御手段により対物レンズ11の位置を調整し
ながら光磁気ディスク15に集束したレ−ザ光を光磁気記
録膜上に照射して局所的に加熱し、同時に磁界発生装置
の巻線５に記録信号に応じた変調電流を流すことによ
り、光磁気記録膜に情報を書き込む。また、再生は巻線
５に供給する電流をゼロとし、トラッキング制御手段や
フォ−カス制御手段により対物レンズ11の位置を調整し
ながら光磁気記録膜に記録時より低パワーのレーザ光を
局所的に照射して、磁気カー効果を利用して行う。
【００１７】図３は60℃80％相対湿度環境下で、図１の
磁界発生装置と光磁気ディスクの相対速度を1.2 ｍ／ｓ
で記録／再生を繰り返し、ケイ酸微粒子23の比表面積を
パラメータとした場合の経過時間に対する再生Ｓ／Ｎの
変化を示す図である。図３において、曲線Ａ１から曲線
Ａ５は本実施例における構成による磁界発生装置を使用
した場合の再生Ｓ／Ｎの変化、曲線Ｃは比較のために示
した従来の構成による磁界発生装置を使用して記録／再
生を繰り返した場合の再生Ｓ／Ｎの変化である。
磁界発生装置と光磁気ディスクの相対速度を1.2 ｍ／ｓ
で記録／再生を繰り返し、ケイ酸微粒子23の比表面積を
パラメータとした場合の経過時間に対する再生Ｓ／Ｎの
変化を示す図である。図３において、曲線Ａ１から曲線
Ａ５は本実施例における構成による磁界発生装置を使用
した場合の再生Ｓ／Ｎの変化、曲線Ｃは比較のために示
した従来の構成による磁界発生装置を使用して記録／再
生を繰り返した場合の再生Ｓ／Ｎの変化である。
【００１８】ここで、曲線Ａ１〜曲線Ａ５はケイ酸微粒
子（滑性部材21中のエポキシ樹脂22に対する重量比が５
％）23の比表面積（ＢＥＴによる）をパラメータとして
変えたものであり、（表１）に各磁界発生装置の滑性部
材21中のケイ酸微粒子23の比表面積（ＢＥＴによる）を
示す。
子（滑性部材21中のエポキシ樹脂22に対する重量比が５
％）23の比表面積（ＢＥＴによる）をパラメータとして
変えたものであり、（表１）に各磁界発生装置の滑性部
材21中のケイ酸微粒子23の比表面積（ＢＥＴによる）を
示す。
【表１】 図３から明らかなように、本実施例による磁界発生装置
では滑性部材21中のケイ酸微粒子23の比表面積（ＢＥＴ
による）が100 ｍ2 ／ｇ以上であれば従来例にみられる
摺動特性の劣化による信号品質の低下は認められない。
では滑性部材21中のケイ酸微粒子23の比表面積（ＢＥＴ
による）が100 ｍ2 ／ｇ以上であれば従来例にみられる
摺動特性の劣化による信号品質の低下は認められない。
【００１９】図４は60℃80％相対湿度環境下で、図１の
磁界発生装置と光磁気ディスクの相対速度を1.2 ｍ／ｓ
で記録／再生を繰り返し、ケイ酸微粒子23の滑性部材21
への混合比をパラメータとした場合の経過時間に対する
再生Ｓ／Ｎの変化を示す図である。図４において、曲線
Ｂ１から曲線Ｂ５は本実施例における構成による磁界発
生装置を使用した場合の再生Ｓ／Ｎの変化、曲線Ｃは比
較のために示した従来の構成による磁界発生装置を使用
して記録／再生を繰り返した場合の再生Ｓ／Ｎの変化で
ある。
磁界発生装置と光磁気ディスクの相対速度を1.2 ｍ／ｓ
で記録／再生を繰り返し、ケイ酸微粒子23の滑性部材21
への混合比をパラメータとした場合の経過時間に対する
再生Ｓ／Ｎの変化を示す図である。図４において、曲線
Ｂ１から曲線Ｂ５は本実施例における構成による磁界発
生装置を使用した場合の再生Ｓ／Ｎの変化、曲線Ｃは比
較のために示した従来の構成による磁界発生装置を使用
して記録／再生を繰り返した場合の再生Ｓ／Ｎの変化で
ある。
【００２０】ここで、曲線Ｂ１〜曲線Ｂ５はケイ酸微粒
子（比表面積100 ｍ2 ／ｇ）23の滑性部材21への混合比
をパラメータとして変えたものであり、（表２）にケイ
酸微粒子23のエポキシ樹脂22に対する重量比を示してい
る。
子（比表面積100 ｍ2 ／ｇ）23の滑性部材21への混合比
をパラメータとして変えたものであり、（表２）にケイ
酸微粒子23のエポキシ樹脂22に対する重量比を示してい
る。
【表２】 図４から明らかなように、本実施例による磁界発生装置
では滑性部材21中のケイ酸微粒子23のエポキシ樹脂22に
対する重量比が１重量％以上であれば、従来例にみられ
る摺動特性の劣化による信号品質の低下は認められな
い。
では滑性部材21中のケイ酸微粒子23のエポキシ樹脂22に
対する重量比が１重量％以上であれば、従来例にみられ
る摺動特性の劣化による信号品質の低下は認められな
い。
【００２１】図３および図４に示した摺動特性向上の理
由を以下に説明する。すなわち、滑性部材21の表面は優
れた耐摩耗性と摺動性能を持たなければならない。滑性
部材21と光磁気ディスク15の保護コート14の間の摩擦を
減少させるため、また、これに関連して滑性部材21の摩
耗を減少しかつ寿命を延ばすため、滑性部材21に所定量
の潤滑剤25を添加するが、この目的を果たすために適当
な潤滑剤として、特開昭63-58605には、脂肪酸、高級ア
ルコ−ル、脂肪酸エステルなどの潤滑剤を用いることが
できると記載されている。
由を以下に説明する。すなわち、滑性部材21の表面は優
れた耐摩耗性と摺動性能を持たなければならない。滑性
部材21と光磁気ディスク15の保護コート14の間の摩擦を
減少させるため、また、これに関連して滑性部材21の摩
耗を減少しかつ寿命を延ばすため、滑性部材21に所定量
の潤滑剤25を添加するが、この目的を果たすために適当
な潤滑剤として、特開昭63-58605には、脂肪酸、高級ア
ルコ−ル、脂肪酸エステルなどの潤滑剤を用いることが
できると記載されている。
【００２２】本実施例の効果を発揮する潤滑剤25は液体
潤滑剤である。この液体潤滑剤は潤滑すべき滑性部材21
の表面を僅かな分子層を有する極めて薄い均一な表面フ
ィルムで覆うことで有効な潤滑作用を発揮する。
潤滑剤である。この液体潤滑剤は潤滑すべき滑性部材21
の表面を僅かな分子層を有する極めて薄い均一な表面フ
ィルムで覆うことで有効な潤滑作用を発揮する。
【００２３】しかし、滑性部材21の潤滑剤25は摺動の繰
り返しによる保護コート14への移動、および大気中への
蒸発、埃やダストへの付着などの理由により滑性部材21
の表面から微量づつ減少する。このため、長時間の摺動
動作後に潤滑作用が乏しくなってくる。一方、ケイ酸微
粒子23は、その比表面積が100 〜1000ｍ2 ／ｇと大き
く、この表面積部に潤滑剤25が保持される量が非常に多
くなる。滑性部材21の表面に存在する潤滑剤25の量が減
少すると滑性部材21の内部のケイ酸微粒子23の表面に付
着していた潤滑剤25が滑性部材21の表面に浸出して供給
する。この潤滑剤25の供給が維持されている間は滑性部
材21と保護コート14の間の摺動特性は良好な状態に維持
され、低摩擦、低摩耗状態を維持することができる。
り返しによる保護コート14への移動、および大気中への
蒸発、埃やダストへの付着などの理由により滑性部材21
の表面から微量づつ減少する。このため、長時間の摺動
動作後に潤滑作用が乏しくなってくる。一方、ケイ酸微
粒子23は、その比表面積が100 〜1000ｍ2 ／ｇと大き
く、この表面積部に潤滑剤25が保持される量が非常に多
くなる。滑性部材21の表面に存在する潤滑剤25の量が減
少すると滑性部材21の内部のケイ酸微粒子23の表面に付
着していた潤滑剤25が滑性部材21の表面に浸出して供給
する。この潤滑剤25の供給が維持されている間は滑性部
材21と保護コート14の間の摺動特性は良好な状態に維持
され、低摩擦、低摩耗状態を維持することができる。
【００２４】したがって、滑性部材21に含まれるケイ酸
微粒子23の表面積の総計がある値以上であれば本発明の
目的は達成することができる。図３および図４に示した
条件下における耐久性が1000時間を満足するためには比
表面積が100 ｍ2 ／ｇの場合には15重量％以上の量が、
比表面積が1000ｍ2 ／ｇの場合には１重量％以上の量が
必要である。
微粒子23の表面積の総計がある値以上であれば本発明の
目的は達成することができる。図３および図４に示した
条件下における耐久性が1000時間を満足するためには比
表面積が100 ｍ2 ／ｇの場合には15重量％以上の量が、
比表面積が1000ｍ2 ／ｇの場合には１重量％以上の量が
必要である。
【００２５】以上のように本実施例によれば、フェライ
トで構成したヨーク部３および主磁極４に巻線５を形成
した開放端を有する磁気回路の開放端に接して、エポキ
シ樹脂22に潤滑剤25と、ＢＥＴ吸着等温式にしたがって
測定した比表面積が100 〜1000ｍ2 ／ｇのケイ酸微粒子
23をエポキシ樹脂22に対して１〜15重量％混入した滑性
部材21を設けることにより、滑性部材21の表面に潤滑剤
25が常に維持され長期間摺動状態の劣化がなく、したが
って、記録タイミングのずれがなくなって記録情報の品
質低下が無い磁界発生装置を提供することができる。
トで構成したヨーク部３および主磁極４に巻線５を形成
した開放端を有する磁気回路の開放端に接して、エポキ
シ樹脂22に潤滑剤25と、ＢＥＴ吸着等温式にしたがって
測定した比表面積が100 〜1000ｍ2 ／ｇのケイ酸微粒子
23をエポキシ樹脂22に対して１〜15重量％混入した滑性
部材21を設けることにより、滑性部材21の表面に潤滑剤
25が常に維持され長期間摺動状態の劣化がなく、したが
って、記録タイミングのずれがなくなって記録情報の品
質低下が無い磁界発生装置を提供することができる。
【００２６】なお、本実施例では潤滑剤25として脂肪酸
エステル系の液体潤滑剤を用いたが潤滑剤25はポリジメ
チルシロキサン、パラフィンオール、ワックス、飽和お
よび不飽和脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、脂
肪酸の塩のように異なった化学特性および密度の多数の
異なった液体潤滑剤でも同様の効果が得られる。
エステル系の液体潤滑剤を用いたが潤滑剤25はポリジメ
チルシロキサン、パラフィンオール、ワックス、飽和お
よび不飽和脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、脂
肪酸の塩のように異なった化学特性および密度の多数の
異なった液体潤滑剤でも同様の効果が得られる。
【００２７】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、フェライ
トなどの高透磁率部材に巻線などを形成した開放端を有
する磁気回路の開放端に接して、潤滑剤と、ＢＥＴ吸着
等温式にしたがって測定した比表面積が100 〜1000ｍ2
／ｇの多孔質ピグメントを混入した熱硬化性樹脂を滑性
部材として設けたことにより、滑性部材に含有可能な潤
滑剤量が増量され、潤滑剤が滑性部材と光磁気記録媒体
の接触側表面に常時維持され、潤滑作用が長時間維持さ
れるようになり、従来のように滑性部材と光磁気記録媒
体の動摩擦係数が増大することや摩耗が進行することを
無くすことができるものである。
トなどの高透磁率部材に巻線などを形成した開放端を有
する磁気回路の開放端に接して、潤滑剤と、ＢＥＴ吸着
等温式にしたがって測定した比表面積が100 〜1000ｍ2
／ｇの多孔質ピグメントを混入した熱硬化性樹脂を滑性
部材として設けたことにより、滑性部材に含有可能な潤
滑剤量が増量され、潤滑剤が滑性部材と光磁気記録媒体
の接触側表面に常時維持され、潤滑作用が長時間維持さ
れるようになり、従来のように滑性部材と光磁気記録媒
体の動摩擦係数が増大することや摩耗が進行することを
無くすことができるものである。
【図１】本発明の一実施例における磁界発生装置の構成
図である。
図である。
【図２】図１の磁界発生装置を光磁気ディスクの記録に
用いる場合の構成図である。
用いる場合の構成図である。
【図３】図１の磁界発生装置と光磁気ディスクの相対速
度を1.2 ｍ／ｓで記録／再生を繰り返し、ケイ酸微粒子
23の比表面積を変えた場合の経過時間に対する記録再生
Ｓ／Ｎの変化を示す図である。
度を1.2 ｍ／ｓで記録／再生を繰り返し、ケイ酸微粒子
23の比表面積を変えた場合の経過時間に対する記録再生
Ｓ／Ｎの変化を示す図である。
【図４】図１の磁界発生装置と光磁気ディスクの相対速
度を1.2 ｍ／ｓで記録／再生を繰り返し、ケイ酸微粒子
23の滑性部材21への混合比を変えた場合の経過時間に対
する再生Ｓ／Ｎの変化を示す図である。
度を1.2 ｍ／ｓで記録／再生を繰り返し、ケイ酸微粒子
23の滑性部材21への混合比を変えた場合の経過時間に対
する再生Ｓ／Ｎの変化を示す図である。
【図５】従来の磁界発生装置の構成図である。
【図６】図５の磁界発生装置を光磁気ディスクの記録に
用いる場合の構成図である。
用いる場合の構成図である。
【符号の説明】 ３ ヨーク部 ４ 主磁極 ５ 巻線 15 光磁気ディスク 21 滑性部材 22 エポキシ樹脂 23 ケイ酸微粒子 25 潤滑剤
Claims (1)
- 【請求項１】光磁気記録媒体に情報信号を、前記光磁気
記録媒体表面に対して摺動する滑性部材を介して記録、
消去可能な磁気回路を有する磁界発生装置であって、フ
ェライトなどの高透磁率部材に巻線を形成した前記磁気
回路の開放端に接して、潤滑剤と、比表面積が100 〜10
00ｍ2 ／ｇの多孔質ピグメントとを混入した熱硬化性樹
脂を前記滑性部材として設けた磁界発生装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17041292A JPH0612603A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | 磁界発生装置 |
| US08/083,924 US5383075A (en) | 1992-06-29 | 1993-06-28 | Slider body with embedded lubricants and magnetic biasing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17041292A JPH0612603A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | 磁界発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0612603A true JPH0612603A (ja) | 1994-01-21 |
Family
ID=15904449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17041292A Pending JPH0612603A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | 磁界発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0612603A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11767204B2 (en) | 2017-07-20 | 2023-09-26 | Daifuku Co., Ltd. | Transport vehicle and transport facility |
| US11827450B2 (en) | 2018-04-26 | 2023-11-28 | Beijing Geekplus Technology Co., Ltd. | Robot |
| US11939163B2 (en) | 2020-03-27 | 2024-03-26 | Daifuku Co., Ltd. | Article accommodation facility |
-
1992
- 1992-06-29 JP JP17041292A patent/JPH0612603A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11767204B2 (en) | 2017-07-20 | 2023-09-26 | Daifuku Co., Ltd. | Transport vehicle and transport facility |
| US11827450B2 (en) | 2018-04-26 | 2023-11-28 | Beijing Geekplus Technology Co., Ltd. | Robot |
| US11939163B2 (en) | 2020-03-27 | 2024-03-26 | Daifuku Co., Ltd. | Article accommodation facility |
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