JPH0612575B2 - 光情報処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 （１）発明の技術分野 この発明は、半導体レーザなどからのレーザ光を集束
し、光ディスクの情報記録部に照射し、その反射光の強
度変化にもとづいて光ディスクの情報を読取る光ピック
アップ装置を備えた光情報処理装置に関する。

（２）従来技術の説明 近年、高記録密度の光ディスク・メモリが実用化される
にともない、高性能かつ小型軽量の光ピックアップ装置
の開発が期待されている。

従来の光ピックアップ装置の主要部は光学系と駆動系と
から構成されている。

光学系は基本的には、レーザ光を集束レンズで光ディス
クの情報記録部上に集光し、光ディスクからの反射光を
フォトダイオードで電気信号に変換する機能をもってお
り、光ディスク上の記録情報による反射光の光量変化が
電気信号として取出される。

光学系は、それらの作用によって、光ディスクに照射さ
れる光と光ディスクからの反射光とを分離するアイソレ
ータ光学系、光ディスクに照射される光を１μｍ径程度
のスポットに集束させるビーム集光光学系、およびフォ
ーカシング・エラーやトラッキング・エラーを検出する
ためのエラー検出光学系に分けられる。これらの光学系
は、光源としての半導体レーザ、各種レンズ類、プリズ
ム類、回析格子、ミラー、1/4波長板、受光ダイオード
などの素子を適宜組合せることにより構成される。

駆動系には、フォーカシング駆動系、トラッキング駆動
系およびラジアル送り駆動系がある。

フォーカシング駆動系は、集束レンズで集光された光ビ
ームが光ディスク面に正しいスポットを形成するよう
に、集束レンズと光ディスク面との距離を適切に保つた
めの機構である。集束レンズをその光軸方向に動かして
調整するものが最も一般的である。

トラッキング駆動系は、レーザ・スポットが光ディスク
のトラックから脱線しないように追従させるための機構
である。この機構としては、集束レンズを光軸と垂直方
向に動かして調整するもの、光ピックアップ・ヘッド全
体を光ディスクの半径方向に動かして調整するもの、可
動ミラー（ピボッティング・ミラー）により集束レンズ
への入射光の角度を調整するものなどが一般的に用いら
れている。

ラジアル送り駆動系は、光ピックアップ・ヘッドを光デ
ィスクの半径方向に送る機構であり、これには一般にリ
ニア・モータが使用される。

このような従来の光ピックアップ装置は、次のような欠
点をもっている。

光学系が複雑で光軸合わせがめんどうであるとともに、
振動により光軸がずれやすい。

部品点数が多く、組立てに時間がかかり生産性が悪い。

光学部品が高価であるために全体としても高価になる。

光学部品が大きいために光ピックアップ装置も大型とな
り、光学部品を保持する機構も必要であるから全体とし
て重くなる。

発明の概要 （１）発明の目的 この発明は、小型かつ軽量でしかも複雑な光軸合わせも
不要な光情報処理装置を提供することを目的とする。

（２）発明の構成、作用および効果 この発明による光情報処理装置は，支持体，この支持体
に第１のばねを介して第１の方向に移動自在に保持され
た可動体，この可動体に第２のばねを介して上記第１の
方向と直交する第２の方向に移動自在に保持されたステ
ージ，このステージ上に固定的に設けられた光ピックア
ップ・ヘッド，上記光ピックアップ・ヘッドの受光信号
から得られるフォーカシング・エラー信号に基づいて付
勢される第１のコイルと第１の永久磁石とを含み，上記
ステージの位置を上記第１の方向または第２の方向のい
ずれか一方に調整するフォーカシング駆動機構，ならび
に上記光ピックアップ・ヘッドの受光信号から得られる
トラッキング・エラー信号に基づいて付勢される第２の
コイルと第２の永久磁石とを含み，上記ステージの位置
を上記第１の方向または第２の方向のいずれか他方に調
整するトラッキング駆動機構を備えている。

上記光ピックアップ・ヘッドは，基板上に形成された光
導波路，光導波路に導光するレーザ光の光源，光導波路
上に形成され，光導波路を伝播する光を斜め上方に出射
させかつ集光するレンズ手段，斜め上方から反射してく
る上記光を受光し，読取信号，フォーカシング・エラー
信号およびトラッキング・エラー信号を生成するための
受光信号を出力する受光手段，ならびにレーザ光源，基
板および受光手段が設けられた基台から構成されてい
る。

この発明においては，光学部品としてのレンズ，プリズ
ム，回析格子，ミラー，1/4波長板等が用いられていな
いので，装置の小型化，軽量化を図ることができる。と
くに，光導波路からレーザ光を斜め上方に出射させかつ
斜め上方からの反射光を受光するようにしているから，
従来の光ピックアップ装置の光学系に必要であったアイ
ソレータ光学系を省略することができる。また，光軸合
わせも受光手段の位置決めのみを行なえばよい。光導波
路，レンズ手段および受光手段を同一基板上に形成すれ
ば，組立て時における光軸合わせは不要となる。

さらにこの発明によると，光導波路をもつ基板，光導波
路に導入されるレーザ光の光源，光導波路上に形成され
たレンズ手段および受光手段を含む光ピックアップ・ヘ
ッドの全体を上述のように軽量，小型化でき，これらの
全体をフォーカシング制御およびトラッキング制御のた
めに微動させているから，フォーカシング制御およびト
ラッキング制御が容易に実現できる。

実施例の説明 （１）光ピックアップ・ヘッドの構成の概要 第１図は光ピックアップ・ヘッドの構成を示している。
基台（10）上に、半導体レーザ（11）および２つの基板
（12）（13）が配置されかつ固定されている。半導体レ
ーザ（11）は基台（10）上に形成された電極（18）（1
9）に与えられる駆動電流により駆動される。

基板（12）にはたとえばＳｉ結晶が用いられ、この基板
（12）上面の熱酸化またはＳｉＯ_２の蒸着もしくはスパ
ッタにより基板（12）上面にＳｉＯ_２バッファ層が形成
されたのち、たとえばコーニング７０５９などのガラス
をスパッタすることにより光導波層（21）が形成されて
いる。半導体レーザ（11）から出射したレーザ光はこの
光導波層（21）に入射しかつ伝播する。光導波層（21）
上にはコリメーティング・レンズ（22）およびカップリ
ング・レンズ（23）が形成されている。コリメーティン
グ・レンズ（22）は半導体レーザ（11）から出射した広
がりをもつレーザ・ビームを平行光に変換するものであ
る。カップリング・レンズ（23）は、光導波層（21）を
伝播してきたレーザ光を斜め上方に出射させるととも
に、２次元的に集光（フォーカシング）するものであ
る。出射したレーザ光が集光してスポット（１μｍ径程
度）を形成する点がＰで示されている。光ディスクに記
録された情報を読取る場合には、レーザ・スポットＰが
光ディスクの情報記録面上に位置するように、この光ピ
ックアップ・ヘッド（９）が配置される。

基板（12）としてＬｉＮｂＯ_３結晶が用いられた場合に
は、その上面にＴｉを熱拡散することにより光導波層
（21）が形成される。

もう１つの基板（13）もまたたとえばＳｉ結晶により構
成されている。この基板（13）には受光部（30）が形成
されている。受光部（30）は、光ディスクの情報記録面
からの反射光を受光するためのものであり、上述のレー
ザ・スポットＰの位置から斜め下方に反射してくる光を
受光できる位置に配置されている。

受光部（30）は、４つの独立した受光素子（31）〜（3
4）からなる。受光素子（31）（32）は中央に隣接して
配置され、これらの受光素子（31）（32）の前後に他の
受光素子（33）（34）が設けられている。これらの受光
素子（31）〜（34）は、たとえばＳｉ基板（13）に４つ
の独立したＰＮ接合（フォトダイオード）をつくること
により構成されている。受光素子（31）〜（34）の出力
信号は、基板（13）上に形成された配線パターンにより
電極（41）〜（44）にそれぞれ導かれ、さらにワイヤボ
ンディングにより基台（10）上の電極（52）にそれぞれ
導かれる。基台（10）上のもう１つの電極（51）は受光
素子（31）〜（34）の共通電極である。

光ディスクに記録された情報は、反射光の強度変化とし
て現われるから、これらすべての受光素子（31）〜（3
4）の出力信号の和信号または受光素子（31と（32）の
和信号が記録情報の読取り信号となる。

第１図においては、基板（12）と（13）とは接して設け
られているが、両基板（12）と（13）との間に適当な間
隔をあけてこれらが位置決めされてもよい。

また基板（12）と（13）とを一体にしてもよい。基板
（12）（13）をともにＳｉで一体的に構成する場合に
は、この基板上面全体に光導波層を形成し、この光導波
層上に直接にＣＶＤ法により４つの独立したアモルファ
ス・シリコン（ａ−Ｓｉ）光起電力素子を形成し、これ
らにより受光部（30）を構成する。

また、基板（12）と（13）をＬｉＮｂＯ_３で一体的に構
成する場合には、ＬｉＮｂＯ_３上面に同じようにａ−Ｓ
ｉによる受光部を形成することができる。

光起電力素子としては、他にＣｄＴｅ、ＣｄＳなどを用
いることが可能である。

（２）半導体レーザと光導波層との結合 半導体レーザ（11）と基板（12）上の光導波層（21）と
は、この実施例ではバット・エッジ（butt edge）結合
法により結合されている。第２図に拡大して示されるよ
うに、基板（12）の結合端面が光学研摩され、半導体レ
ーザ（11）の活性層（12）と光導波層（21）との高さを
あわせてこれらの両層（12）（21）の端面が対面するよ
うにして、半導体レーザ（11）が電極パッド（18）上に
固定される。半導体レーザ（11）から出射されたレーザ
光は光導波層（21）内で広がる。半導体レーザ（11）の
活性層（12）内と光導波層（21）内の光の界分布はよく
似た形をしているので高効率の結合が可能であるととも
に、特別な結合手段が不要であるという利点をもってい
る。基台（10）は半導体レーザ（11）のヒートシンクに
もなる。

（３）コリメーティング・レンズ 光導波層上に結合されるコリメーティング・レンズに
は、フレネル・レンズ、ブラッグ・グレーティング・レ
ンズ、ルネブルグ・レンズ、ジオデシック・レンズなど
がある。

第３図はフレネル・レンズ（24）を示すもので、光導波
層（21）上に光軸から離れるにしたがって巾が小さくな
る（チャープド、chirped）凹凸（グレーティング）（2
4a）または屈折率分布が形成されている。

たとえば凹凸（24a）を形成する場合には、光導波層（2
1）上にフォトリジストをスピンコートし、凹凸パター
ンと同形の露光パターンを用いて露光後、現像すること
により凸部となる部分のレジストを除去する。そして、
たとえばガラスをスパッタする。最後にすべてのレジス
トを除去すれば光導波層（21）上にスパッタされたガラ
スによる凸部が残り、他の部分が凹部に相当することに
なって結局凹凸（24a）が形成される。

屈折率分布を作成する場合には、上述のレジスト・パタ
ーンを作成したのち、その上にたとえばＴｉ膜を形成す
る。そしてリフトオフ法によりＴｉパターンを形成す
る。上述の凸部となる部分にのみＴｉ膜が残ることにな
る。このＴｉを熱拡散させることにより、Ｔｉがドープ
された部分の屈折率が増大し、第３図に示す凹凸（24
a）のパターンと同じパターンの屈折率分布がつくられ
る。すなわち凸部に相当する部分の屈曲率が増大する。

ブラッグ・グレーティング・レンズ（25）は第４図に示
されているように、光導波層（21）上に光軸からの距離
が大きくなるほど光軸とのなす角が大きくなる凹凸（25
a）または屈折率分布を設けたものである。このレンズ
（25）は、フレネル・レンズ（24）と同じ方法により作
製される。

第５図はルネブルグ・レンズ（26）を示すものである。
ルネブルグ・レンズ（26）は、光導波層（21）上に中央
部が最も厚く周囲にいくにつれて薄くなるなだらかな厚
み分布をもつ高屈折率薄膜を平面からみて円形に形成し
たものである。

これはたとえば、光導波層（21）上方に円形開口をもつ
マスクを配置し、ガラスなどをスパッタすることにより
作製される。円形開口を通って光導波層（21）に向うス
パッタされた物質は光導波層（21）に到達するまでに広
がるので、周囲にいくほど膜厚の薄い薄膜が形成され
る。

第６図はジオデシック・レンズ（27）を示している。光
導波層（21）を形成する前に基板（12）表面に曲面をも
つくぼみを形成し、このくぼみにそって光導波層（21）
を形成する。

（４）カップリング・レンズ 第１図に示されているカップリング・レンズ（23）は、
２次元フォーカシング・グレーティング・カプラであ
り、１つのレンズで光の出射機能と２次元集光機能とを
もつ。これは、進行方向に向うほど周期（間隔）が小さ
くなる円弧状のグレーティング（凹凸）から構成されて
いる。このグレーティング・カプラもまた、上述したフ
レネル・レンズと同じような方法により作製される。

第７図はカップリング・レンズ（23）の他の例を示して
いる。カップリング・レンズ（23）は、フレネル型のグ
レーティング・レンズ（28）（上述のフレネル・レンズ
（24）と同じ構成）と、チャープ型（chirped）グレー
ティング・カプラ（29）とから構成されている。フレネ
ル・レンズは１点から広がる光を平行光に変換する機能
と、平行光を集束させる機能をもつ。グレーティング・
レンズ（28）は平行光を光導波層（21）内で集束させる
ために用いられている。グレーティング・カプラ（29）
は、光の進行方向に向って周期（間隔）が小さくなる直
線状のグレーティングから構成されており、光導波層
（21）内を伝播する光を出射させるとともに１直線に集
光する機能をもつ。光導波層（21）を伝播する光はグレ
ーティング・レンズ（28）によって巾方向に集束されて
いるから、グレーティング・レンズ（28）の焦点とグレ
ーティング・カプラ（29）の焦点と同一点Ｐにあれば、
光導波層（21）から出射した光は点Ｐで１点に集光す
る。

なお、第１図および第７図においてはグレーティング
（凹凸）は、簡単のために巾をもたない線で描写されて
いる。

（５）フォーカシング・エラーの検出 光ディスクの情報記録面にはそのトラックにそってディ
ジタル情報を長さや位置によって表わすピット（くぼ
み）が形成されている。第８図は、光ディスク（81）と
光ピックアップ・ヘッド（９）との位置関係を光ディス
ク（81）をその周方向にそって切断して示すものであ
る。カップリング・レンズ（23）から出射したレーザ光
は光ディスク（81）の情報記録面（第８図ではピット
（82）を含む部分）で反射して受光部（30）で受光され
る。第８図では、より分りやすくするために受光素子
（31）〜（34）がやや突出して描かれている。第９図
は、光ディスク（81）からの反射光が受光部（30）を照
射するその範囲を示している。

第８図において、実線で示された光ディスク（81）およ
びピット（82）は、光ディスク（81）と光ピックアップ
・ヘッド（９）との間の距離が最適であり、出射光の光
ディスク（81）上へのフォーカシングが正しく行なわれ
ている様子を示すものである。このときの受光部（30）
における反射光の照射領域がＱで示されている。この照
射領域Ｑは中央の受光素子（31）（32）上に位置してお
り、他の受光素子（33）（34）には反射光は受光されな
い。

光ディスク（81）とピックアップ・ヘッド（９）との間
の距離が相対的に大きくまたは小さくなって適切なフォ
ーカシングが行なわれない場合の光ディスク（81）の位
置が第８図に鎖線で示されている。光ディスク（81）と
ピックアップ・ヘッド（９）との間の距離が相対的に小
さくなった場合（−Δｄの変位）には、反射光の照射領
域（Ｑ１で表わされている）は受光素子（33）側に寄
る。受光素子（33）は差動増幅器（71）の負側に、受光
素子（34）は正側にそれぞれ接続されているから、この
場合には差動増幅器（71）の出力は負の値を示し、この
値は変位量−Δｄの大きさを表わしている。

光ディスク（81）とピックアップ・ヘッド（９）との間
の距離は相対的に大きくなった場合（＋Δｄの変位）に
は、反射光の照射領域（Ｑ２で表わされている）は受光
素子（34）側に寄る。差動増幅器（71）の出力は正の値
を示し、かつこの値は変位量＋Δｄを表わす。

このようにして、ピックアップ・ヘッド（９）からの出
射光ビームのフォーカシングが適切であるかどうか、フ
ォーカシング・エラーが生じている場合にはエラーの方
向と大きさが差動増幅器（71）の出力から検知される。
フォーカシング・エラーが無い場合には差動増幅器（7
1）の出力は零である。

（６）トラッキング・エラーの検出 第１０図は、光ディスク（81）に形成されたピット（8
2）と受光部（30）の受光素子（31）（32）とを同一平
面上に配置して示したものであり、いわば光ディスク
（81）をその面方向に透視して受光素子（31）（32）を
みた図である。差動増幅器（72）は受光素子（31）（3
2）との電気的接続関係を明らかにする目的で図示され
ている。第９図（Ａ）は、レーザ・ビーム・スポットＰ
がトラック（ピット（82））の巾方向の中心上に正確に
位置している様子を示している。第９図（Ｂ）（Ｃ）は
スポットＰがトラック（ピット（82））の左右にそれぞ
れ若干ずれ、トラッキング・エラーが生じている様子を
示している。いずれの場合にも、適切にフォーカシング
されているものとする。

レーザ・スポットＰが光ディスク（81）の情報記録面に
当たり、その反射光の強度がピット（82）の存在によっ
て変調される。これには、ピット（82）の巾よりもスポ
ット・サイズの方がやや大きいのでピット（82）の底面
で反射する光とピット（82）以外の部分で反射すると光
とが存在し、ピット（82）の深さが1/4λ（λはレーザ
光の波長）程度に設定されていることにより、上記の２
種類の反射光の間にπの位相差が生じて互いに打消し合
い、光強度が小さくなるという説明や、ピット（82）の
縁部で光の散乱が生じこれにより受光される反射光強度
が小さくなるという説明などがある。いずれにしても、
ピット（82）の存在によって受光部（30）に受光される
光強度は小さくなる。

受光素子（31）と（32）は光軸を境として左右に分割さ
れている。レーザ・スポットＰの中心とピット（82）の
巾方向の中心とが一致している場合には、受光素子（3
1）と（32）に受光される光量は等しく、差動増幅器（7
2）の出力は零である。

第１０図（Ｂ）に示すように、レーザ・スポットＰがピ
ット（82）の左側にずれた場合には、受光素子（31）に
受光される光量の方が多くなり、差動増幅器（72）から
は正の出力が発生する。逆に、第１０図（Ｃ）に示すよ
うに、レーザ・スポットＰがピット（82）の右側にずれ
ると差動増幅器（72）には負の出力が生じる。

このようにして、差動増幅器（72）の出力によりビーム
・スポットＰが光ディスク（81）のトラックに正確に沿
っているか、トラッキング・エラーが生じているか、そ
れは左、右のどちらにずれたエラーかが検出される。

（７）フォーカシングおよびトラッキング駆動機構 第１１図から第１３図はフォーカシング駆動機構および
トラッキング駆動機構を示している。

支持板（100）の一端部に支持部材（101）が立設されて
いる。この支持部材（101）の両側下端部は切欠かれて
いる（符号（102））。支持板（100）の他端部上方には
可動部材（103）が位置している。上下方向に弾性的に
屈曲しうる４つの板バネ（121）（122）の一端は支持部
材（101）の上端両側および下部切欠き（102）に固定さ
れており、他端は可動部材（103）の上端および下端の
両側にそれぞれ固定されている。したがって、可動部材
（103）はこれらの板バネ（121）（122）を介して上下
方向に運動しうる状態で支持部材（101）に支持されて
いる。

光ピックアップ・ヘッド（９）を載置したステージ（11
0）は、上部の方形枠（112）、方形枠（112）の両端か
ら下方に延びた両脚（114）（115）および方形枠（11
2）の中央部から下方にのびた中央脚（113）から構成さ
れている。方形枠（112）上に光ピックアップ・ヘッド
（９）が載置固定されている。横方向に弾性的に屈曲し
うる４つの板バネ（131）の一端は可動部材（103）の両
側上、下部に固定され、他端はステージ（110）の中央
脚（113）の両側上、下部に固定されている。ステージ
（110）は、これらの板バネ（131）を介して横方向（第
１０図の左右方向と一致する）に、運動しうる状態で支
持されている。したがって、ステージ（110）は、上下
方向（フォーカシング）および横方向（トラッキング）
に移動自在である。

支持板（100）、支持部材（101）、可動部材（103）お
よびステージ（110）は非磁性材料、たとえばプラスチ
ックにより構成されている。

支持部材（101）および可動部材（103）の内面にはヨー
ク（104）（105）が固定されている。ヨーク（104）
は、支持部材（101）に固定された垂直部分（104a）
と、これと間隔をおいて位置するもう１つの垂直部分
（104b）と、これらの両部分（104a）（104b）をそれら
の下端で結合させる水平部分とから構成されている。ヨ
ーク（105）もヨーク（104）と全く同じ形状であり、一
定の間隔をおいて離れた２つの垂直部分（105a）（105
b）を備えている。

これらのヨーク（104）（105）の垂直部分（104a）（10
5a）の内面には、この内面側をたとえばＳ極とする永久
磁石（106）がそれぞれ固定されている。そして、ヨー
ク（104）（105）の他方の垂直部分（104b）（105b）と
永久磁石（106）との間に、ステージ（110）の脚（11
4）（115）がそれらに接しない状態でそれぞれ入り込ん
でいる。

ステージ（110）の両脚（114）（115）のまわりにはフ
ォーカシング駆動用コイル（123）が水平方向に巻回さ
れている。またこれらの脚（114）（115）の一部には、
永久磁石（106）と対向する部分において上下方向に向
う部分を有するトラッキング駆動用コイル（133）が巻
回されている。

フォーカシング駆動機構は第１２図に最もよく示されて
いる。永久磁石（106）から発生した磁束Ｈは鎖線で示
されているようにヨーク（104）（105）の垂直部分（10
4b）（105b）にそれぞれ向う。この磁界を横切って水平
方向に配設されたコイル（123）に、たとえば第１２図
において紙面に向う方向に駆動電流が流されると、上方
に向う力Ｆｆが発生する。この力Ｆｆによってステージ
（110）は上方に移動する。ステージ（110）の移動量は
コイル（123）に流される電流の大きさによって調整す
ることができる。したがって、上述した差動増幅器（7
1）の出力信号に応じてこの駆動電流の方向を切換える
ことにより、および電流の大きさを調整するまたは電流
をオン、オフすることにより、フォーカシング制御を行
なうことができる。

トラッキング駆動機構は第１３図に最もよく表わされて
いる。コイル（133）の磁界Ｈを上下方向に横切って配
設された部分に、たとえば第１３図で紙面に向う方向に
（第１１図で下方に向って）駆動電流を流すと、第１３
図において上方に向う力（第１１図において横方向に向
う力）Ｆｔが発生し、ステージ（110）は同方向に移動
する。上述した差動増幅器（72）の出力信号に応じてコ
イル（133）に流す電流をオン、オフしたり、電流の方
向、必要ならばその大きさを調整することにより、トラ
ッキング制御を行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は光ピックアップ・ヘッドを示す斜視図である。 第２図は半導体レーザと光導波層との光結合部分を示す
斜視図である。 第３図はフレネル型グレーティング・レンズを示す斜視
図である。 第４図はブラッグ型グレーティング・レンズを示す斜視
図である。 第５図はルネブルグ・レンズを示すもので、（Ａ）は平
面図、（Ｂ）は断面図である。 第６図はジオデシック・レンズを示すもので、（Ａ）は
平面図、（Ｂ）は断面図である。 第７図はカップリング・レンズの他の実施例を示す斜視
図である。 第８図は、光ディスクと光ピックアップ・ヘッドとの位
置関係を示す断面図である。 第９図は、受光部上におけるフォーカシング・エラーの
検出原理を示す図である。 第１０図は、トラッキング・エラーの検出原理を示す図
である。 第１１図から第１３図は、フォーカシングおよびトラッ
キング駆動機構を示すもので、第１１図は斜視図、第１
２図は第１１図のXII−XII線にそう断面図、第１３図は
光ピックアップ・ヘッドを除去して示す平面図である。 （９）…光ピックアップ・ヘッド、（10）…基台、（1
1）…半導体レーザ、（12）（13）…基板、（21）…光
導波層、（22）…コリメーティング・レンズ、（23）…
カップリング・レンズ、（30）…受光部、（31）〜（3
4）…受光素子、（104）（105）…ヨーク、（106）…永
久磁石、（110）…ステージ、（121）（122）（131）…
板ばね、（123）…フォーカシング駆動用コイル、（13
3）…トラッキング駆動用コイル。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森 和彦 京都府京都市右京区花園土堂町10番地 立 石電機株式会社内 (72)発明者 田口 功 京都府京都市右京区花園土堂町10番地 立 石電機株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−79441（ＪＰ，Ａ)

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体， この支持体に第１のばねを介して第１の方向に移動自在
   に保持された可動体， この可動体に第２のばねを介して上記第１の方向と直交
   する第２の方向に移動自在に保持されたステージ， このステージ上に固定的に設けられた光ピックアップ・
   ヘッド， 上記光ピックアップ・ヘッドの受光信号から得られるフ
   ォーカシング・エラー信号に基づいて付勢される第１の
   コイルと第１の永久磁石とを含み，上記ステージの位置
   を上記第１の方向または第２の方向のいずれか一方に調
   整するフォーカシング駆動機構，ならびに 上記光ピックアップ・ヘッドの受光信号から得られるト
   ラッキング・エラー信号に基づいて付勢される第２のコ
   イルと第２の永久磁石とを含み，上記ステージの位置を
   上記第１の方向または第２の方向のいずれか他方に調整
   するトラッキング駆動機構を備え， 上記光ピックアップ・ヘッドが， 基板上に形成された光導波路， 光導波路に導光するレーザ光の光源， 光導波路上に形成され，光導波路を伝播する光を斜め上
   方に出射させかつ集光するレンズ手段， 斜め上方から反射してくる上記光を受光し，読取信号，
   フォーカシング・エラー信号およびトラッキング・エラ
   ー信号を生成するための受光信号を出力する受光手段，
   ならびに レーザ光源，基板および受光手段が設けられた基台から
   構成されている， 光情報処理装置。
2. 【請求項２】光導波路，レンズ手段および受光手段が同
   一基板上に形成されている，特許請求の範囲第(1)項に
   記載の光情報処理装置。