JPH0622061B2 - 光情報処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の要約 光と磁気を利用して光磁気ディスクに磁気的にデータを
書込むまたは同ディスクから読出すための装置であり，
書込み，読出し用の第１の光学系と第１の光学系のスポ
ットを光磁気ディスクの案内溝にそわせるためのエラー
検出用の第２の光学系とを備えており，これらの光学系
は使用される光に対して透明な基板上に設けられてい
る。いずれの光学系も，拡散する光を基板の一方の面に
対してほぼ垂直に投射する光源および投射された光を基
板の他方の面から斜め上方に出射させかつ２次元的に集
光するオフ・アクシス・レンズ手段を備えている。第１
の光学系はさらに，斜め上方からの反射光を受光する少
なくとも２つの受光素子と，これらの受光素子上に主軸
が互いに90゜ずらして配置された検光子とを備えてい
る。第２の光学系には斜め上方から反射してくる光を受
光してトラッキング・エラーおよびフォーカシング・エ
ラーを検出するための手段が設けられている。

発明の背景 （１）技術分野 この発明は，きわめて高密度のデータの記録，再生，消
去が自在で将来その実用化が期待されている光磁気ディ
スクにデータを書込む（記録，消去）および／または読
出す（再生）ための光情報処理装置に関する。

（２）従来技術 光磁気ディスクは，光ディスクで困難とされていたデー
タの書込み／読出しが自在にできるという特徴を持つた
めに，その研究が盛んに行なわれており，いくつかのタ
イプの記録再生装置が試作されている。

光磁気ディスクの記録原理は次のようなものである。光
磁気ディスク等の記録媒体に光を照射して局部的にその
温度を上昇させると同時に外部から磁気を与えて，その
局部の磁化の向きを変える。レーザ光を集光すると温度
を上昇させる領域を直径１μｍ程度のきわめて小さな範
囲とすることができるので，高密度の記録が可能とな
る。磁気記録に必要な磁界は記録媒体の温度が高くなる
につれて一般に小さくなり，きわめて弱い磁界でも記録
が可能となる。

現在のところ記録，消去には２つの方式が考えられてい
る。一方は磁界変調方式であり，これはレーザ光を記録
媒体に常に照射しておき，印加する磁界を記録すべきデ
ータに応じて変えるものである。他方は光変調方式で常
に直流磁界を与えておき照射するレーザ光をデータに応
じて点滅するものである。

光再生方式には直接光再生方式と間接光再生方式とがあ
るとされている。直接光再生方式は記録場所に直線偏光
を直接に照射し，その反射光（または透過光）の偏光方
向が磁気光学効果によって回転することを利用してい
る。間接光再生方式は記録パターンを磁性薄膜に転写し
たのちこれを光で読出すものである。

いずれにしても，現在までに試作されている光磁気記録
再生装置とくにその再生部分は，光ディスクに照射する
光と光ディスクからの反射光とを分離するアイソレータ
光学系，光ディスクに照射される光を１μｍ径程度のス
ポットに集束させるビーム集光光学系，フォーカシング
・エラーやトラッキング・エラーを検出するためのエラ
ー検出光学系等を備えており，これらの光学系は，光源
としての半導体レーザ，各種レンズ類，プリズム類，回
折格子，ミラー，１／４波長板，フォト・ダイオード，
偏光子，検光子などの素子を適宜組合せることにより構
成されるので，光学系が複雑で光軸合わせがめんどうで
あるとともに，振動により光軸がずれやすい，部品点数
が多く，組立てに時間がかかる，光学部品が高価である
ために全体としても高価になる，光学部品が大きいため
に光ピックアップ装置も大型となり，光学部品を保持す
る機構も必要であるから全体として重くなる等の問題点
をもっている。

発明の概要 （１）発明の目的 この発明は，小型かつ軽量でしかも簡単な構成の光情報
処理装置を提供することを目的とする。

（２）発明の構成，および効果 この発明による光情報処理装置は，光磁気ディスクへの
データの書込みおよび／または光磁気ディスクからのデ
ータの読出しを行なうための装置であり，書込みおよび
／または読出しのために光磁気ディスク上に焦点を結ぶ
光スポットを投射しかつその反射光を受光する第１の光
学系と，この第１の光学系の光スポットを光磁気ディス
クの案内溝に追従させるためにエラーを検出する第２の
光学系とを有し，これらの第１と第２の光学系は使用さ
れる光に対して透明な基板上に設けられている。第１の
光学系は，拡散する光を基板の一方の面に対してほぼ垂
直に投射する光源，投射された光を基板の他方の面から
斜め上方に出射させかつ２次元的に集光するレンズ手
段，斜め上方から反射してくる光を受光する少なくとも
２つの受光素子を有する受光手段，および上記受光素子
上に主軸が互いに90゜ずらして配置された検光子を備え
ている。第２の光学系は，拡散する光を基板の一方の面
に対してほぼ垂直に投射する光源，投射された光を基板
の他方の面から斜め上方に出射させかつ２次元的に集光
するレンズ手段，斜め上方から反射してくる光を受光す
る手段を備えていることを特徴とする。

この発明は，上述した磁界変調方式および光変調方式の
両方の記録方式に適用可能であり，また直接光再生方式
に適用することができる。記録する場合には磁界を与え
るコイルが設けられるのはいうまでもない。

この発明においては，光学部品としてのレンズ，プリズ
ム，回折格子，ミラー，１／４波長板等が用いられてい
ないので，装置の小型化，軽量化を図ることができる。
とくに，書込み，読出し用の第１の光学系とエラー検出
用の第２の光学系のいずれもが基板からレーザ光を斜め
上方に出射させかつ斜め上方からの反射光を受光するよ
うに構成されているから，アイソレータ光学系を省略す
ることができる。さらにこの発明においては，光源から
の光を基板の一面に投射し，基板を厚さ方向に透過させ
て基板の他面から出射させているので，基板上に光導波
路を作成する必要がなく，構成がきわめて簡素となり，
その作製も容易となる。

実施例の説明 （１）ヘッドの構成の概要 第１図は光磁気書込み，読取り用ヘッド９の構成の一例
を示している。この図には光学系のみが示され，光磁気
書込みに必要な磁界を発生するコイルは図示されていな
い。

基台10上に適当な支持部材19を介して基板11が設けられ
かつ固定されている。基板11は使用される光，すなわち
半導体レーザ12,32の出力光に対して透明な材料，たと
えばガラスで形成される。

まず，フォーカシング・エラーおよびトラッキング・エ
ラー検出用の光学系（第２の光学系）について説明す
る。

基板11表面上の一部にはオフ・アクシス(off-axis)グレ
ーティング・レンズ13が形成されている。このグレーテ
ィング・レンズ13の下方には光源としての半導体レーザ
12が配置され，適当な手段（図示略）により基台10上に
固定されている。グレーティング・レンズ13は下方の半
導体レーザ12から出射しかつ広がりながら基板を透過し
てレンズ13に達した光を基板11の上面から斜め上方に出
射させるとともに，２次元的に集光（フォーカシング）
するものである。出射したレーザ光が集光してスポット
（１μｍ径程度）を形成する点がＰで示されている。こ
のレーザ・スポットは後述する読取り，書込み用のレー
ザ・スポットと同一点にあり，この点Ｐが光磁気ディス
クの情報記録面上とくにその案内溝内に位置するよう
に，このヘッド９が配置される。

基板11上のグレーティング・レンズ13から適当な距離は
なれた箇所に受光部20が形成されている。受光部20は，
光磁気ディスクの面からの反射光を受光するためのもの
であり，上述のレーザ・スポットＰの位置から斜め下方
に反射してくる光を受光できる位置に配置されている。

受光部20は，４つの独立した受光素子21〜24からなる。
受光素子21，22は中央に隣接して配置され，これらの受
光素子21，22の前後に他の受光素子23，24が設けられて
いる。これらの受光素子21〜24は，たとえばアモルファ
スSiを基板11に蒸着することにより形成されている。受
光素子21〜24の出力信号は，基板11上に形成された配線
パターン（図示略）により外部に取出される。

受光素子としてはアモルファスSiの他に，CdTeやCdSな
どを用いることができる。

光磁気ディスクのデータの書込みおよび読取り用の光学
系（第１の光学系）もまた上述の光学系と同じように，
半導体レーザ32，グレーティング・レンズ33，および受
光部40を有している。半導体レーザ33からの出射光は広
がりながら基板11の下面に照射され基板11をその厚さ方
向に透過したのち，グレーティング・レンズ33から空中
に出射し，上述の点Ｐに焦点を結ぶ。そして，光磁気デ
ィスクの磁気記録面からの反射光が受光部40で受光され
る。

グレーティング・レンズ33上には偏光子片34が貼付され
ている。この偏光子片34はグレーティング・レンズ33か
ら出射する光を直線偏光に変換するものである。

受光部40は，多数の受光素子41a,42aを有している（第
６図参照）。これらの受光素子41a,42aもまた受光素子2
1〜24と同じようにしてつくられる。これらの受光素子4
1a,42a上には検光子片41，42がそれぞれ貼付されてい
る。検光子片41と42はそれらの主軸が互いに90゜ずれる
ように配置されている。また，互いに90゜ずれるように
配置された検光子片41,42が交互に設けられている。

エラー検出用の光学系として第１図には１ビーム方式が
採用されているが，２ビーム方式，３ビーム方式として
もよい。この場合には，グレーティング・レンズ13に加
えてまたは代えて光を２または３の光ビームに分離する
手段および必要ならば（グレーティング・レンズ33が無
い場合）２または３に分離された光を独立に空中に出射
させ，別個の位置に集光させる手段を設ければよい。２
または３の光ビームのスポットは，書込み，読取り用の
光学系のスポットＰの近傍に形成されるようにする。３
ビームの光学系の一例が，本願と同日出願の同一出願人
および同一代理人による特許願(2)に記載されている。
ここでは上記分離手段としてラマン−ナス回折を起こす
グレーティングが示されており，これはレンズ13に対向
する位置に設けられている。この光学系によると，もち
ろんフォーカシング・エラーおよびトラッキング・エラ
ーの検出が可能である。

第２図は半導体レーザ12の取付けのやり方の他の例を示
している（半導体レーザ32についても同じ）。基板11と
して第１図に示すものよりも厚いものが用いられてい
る。基板11表面に形成されたグレーティング・レンズ13
の真下の位置において基板11の下面には凹部18が形成さ
れ，この凹部18内に半導体レーザ12が収められかつ基板
11に接着されることにより固定されている。このように
半導体レーザ12を基板11の下面に設けることにより，光
ピックアップ・ヘッド９の構成が一層簡素になる。

半導体レーザ12の位置決めは次のようにして行なえばよ
い。Ｘ，Ｙ，Ｚおよびθ方向に微調整可能なステージに
半導体レーザ12を支持させかつ凹部18に収めておき，半
導体レーザ12から出射しグレーティング・レンズ13によ
り集光された光が調整用光磁気ディスクの面で反射する
ように，調整用光磁気ディスクに対してこのヘッド９を
配置しておく。調整用光磁気ディスクからの反射光を受
光部20で受光する。一方，調整用光磁気ディスク上の光
スポットのフォーカシングおよびトラッキングが最適に
なったときに受光部20から出力されるであろう電圧に相
当する基準電圧を発生する回路を設けておく。受光部20
の出力電圧とこの基準電圧とを比較し，その差が極小に
なるように上記ステージを動かし半導体レーザ12の位置
を微調整する。半導体レーザ12の位置が最適になったと
ころで，たとえば瞬間接着剤を用いて半導体レーザ12を
基板11に固定する。

第３図は受光部20の他の側を示している。受光部20を構
成する４つの受光素子21〜24は，基板11とは別体のチッ
プ25に形成されている。これらの受光素子21〜24はたと
えば，Siチップ25に４つの独立したＰＮ接合（フォトダ
イオード）をつくることにより形成される。受光部チッ
プ25は基板11上に接着されている。このチップ25の位置
決めも上述のやり方と同じようにして行なわれる。半導
体レーザ12の位置を固定しておき，チップ25の位置を調
整しながら受光部20の出力電圧が最大になった位置でチ
ップ25を固定する。受光部40の受光素子41a，42aも同じ
ように構成することができる。

（２）オフ・アクシス集光レンズ 第４図および第５図はグレーティング・レンズ13の構成
を示すものである（グレーティング・レンズ33も同じ構
成）。このグレーティング・レンズ13は，電子ビーム・
リソグラフィにより作製することができる。すなわち，
ガラス基板11上に導電性膜16を形成しその上に電子ビー
ム・レジストを一様に塗布する。そして，コンピュータ
により制御された電子ビーム描画装置により所定の干渉
縞パターンをレジスト上に描画する。この後レジストを
現像すればレジストの一部17が残り，上記干渉縞パター
ンの凹凸（コルゲーション）をもつグレーティング・レ
ンズ構造ができる。

上記の干渉縞パターンは，半導体レーザ12から出射され
る拡散する光と，レンズ13から斜めに出射されかつ収束
する光との干渉縞パターンとしてコンピュータによって
計算される。

レジスト17によるコルゲーションに代えてSnO₂やInO₂の
コルゲーションを基板11上に形成してこれをグレーティ
ング・レンズとしてもよい。この場合には，これらの材
料上に上述のレジスト・パターンをマスクとして形成
し，ドライエッチング技術等により上記材料のマスクさ
れていない部分をエッチングし，最後にレジスト・パタ
ーンを除去すればよい。

オフ・アクシス集光レンズとしては上述のグレーティン
グ・レンズに限らない。たとえば基板11上にオプティカ
ル・レンズとしての半球面状の凸部または凹部を形成し
てもよい。光を斜め上方に出射させるオフ・アクシスの
オプティカル・レンズであるから，その凸面または凹面
の曲率を場所に応じて変化させる必要がある。

このようなオフ・アクシス集光レンズを基板11の上面で
はなく下面に形成してももちろんよい。

（３）書込みおよび読取りの原理 光磁気ディスクのデータの書込みは，磁界変調方式また
は光変調方式に依る。この場合にはレーザ・スポットＰ
の近傍にコイルが配置される。

光磁気ディスクからのデータの読取りは直接光再生方式
に依る。

第８図の矢印ａ，ｂは検光子片41,42の主軸方向を示し
ている。このように検光子片41，42の主軸の方向は90゜
異なっている。

第７図は読取り回路の一例を示している。一方の検光子
片41の下にある受光素子41aの出力信号（端子A1〜A5）
は加算回路51に入力し相互に加算される。他方の検光子
片42の下にある受光素子42aの出力信号（端子B1〜B5）
は加算回路52に入力し，相互に加算される。これらの加
算回路51，52の出力は差動増巾回路53に送られその差が
演算される。

グレーティング・レンズ33から出射され偏光子34によっ
て直線偏光に変換された光は光磁気ディスク面に当って
反射し，検光子片41，42を通して受光素子41a,42aによ
って検知される。第９図(A)における太い実線の矢印ｃ
は，光磁気ディスクのデータの記録されていない部分で
反射した光の偏光方向を示している。検光子片41，42の
主軸方向に対してこの反射光の偏光方向が±45゜傾いて
いるものとする。この場合には加算回路51，52の出力の
大きさは等しく，これをIoとする。光磁気ディスクの磁
気記録部分に光が当ると磁気光学効果（カー効果）によ
って反射光の偏光面がある角度θだけ回転する。このと
きの反射光の偏光方向が第９図(B)に矢印ｃで示されて
いる。このときの加算回路51，52の出力はそれぞれ（Io
＋Ａθ），（Io−Ａθ）となる。ここでＡは定数であ
る。したがって，差動増巾回路53の出力信号は2Aθとな
る。これが読取り信号であり，この信号の大きさは光磁
気ディスクに記録されている信号の大きさに比例してい
る。

（４）フォーカシング・エラーの検出 光磁気ディスクの情報記録面にはそのトラックにそって
データの書込み，読取りのガイドとなる案内溝が形成さ
れている。第10図は，光磁気ディスク81と書込み，読取
り用ヘッド９との位置関係を光磁気ディスク81をその周
方向にそって切断して示すものである。グレーティング
・レンズ13から出射したレーザ光は光磁気ディスク81の
情報記録面（第10図では案内溝82を含む部分）で反射し
て受光部20で受光される。第11図は，光磁気ディスク81
からの反射光が受光部20を照射するその範囲を示してい
る。

第10図において，実線で示された光磁気ディスク81およ
び案内溝82は，ディスク81とヘッド９との間の距離が最
適であり，出射光のディスク81上へのフォーカシングが
正しく行なわれている様子を示すものである。このとき
の受光部20における反射光の照射領域がＱで示されてい
る。この照射領域Ｑは中央の受光素子21，22上に位置し
ており，他の受光素子23，24には反射光は受光されな
い。

光磁気ディスク81とヘッド９との間の距離が相対的に大
きくまたは小さくなって適切なフォーカシングが行なわ
れない場合のディスク81の位置が第10図に鎖線で示され
ている。ディスク81とヘッド９との間の距離が相対的に
小さくなった場合（−△dの変位）には，反射光の照射
領域（Ｑ１で表わされている）は受光素子23側に寄る。
受光素子23は差動増幅器71の負側に，受光素子24は正側
にそれぞれ接続されているから，この場合には差動増幅
器71の出力は負の値を示し，この値は変位量−△dの大
きさを表わしている。

ディスク81とヘッド９との間の距離が相対的に大きくな
った場合（＋△dの変位）には，反射光の照射領域（Ｑ
２で表わされている）は受光素子24側に寄る。差動増幅
器71の出力は正の値を示し，かっこの値は変位量＋△d
を表わす。

このようにして，ヘッド９からの出射光ビームのフォー
カシングが適切であるかどうか，フォーカシング・エラ
ーが生じている場合にはエラーの方向と大きさが差動増
幅器71の出力から検知される。フォーカシング・エラー
が無い場合には差動増幅器71の出力は零である。

（５）トラッキング・エラーの検出 第12図は，光磁気ディスク81に形成された案内溝82と受
光部20の受光素子21，22とを同一平面上に配置して示し
たものであり，いわば光磁気ディスク81をその面方向に
透視して受光素子21，22をみた図である。差動増幅器72
は受光素子21，22との電気的接続関係を明らかにする目
的で図示されている。第12図(A)は，レーザ・ビーム・
スポットＰがトラック（案内溝82）の巾方向の中心上に
正確に位置している様子を示している。第12図(B)(C)は
スポットＰがトラック（案内溝82）の左右にそれぞれ若
干ずれ，トラッキング・エラーが生じている様子を示し
ている。いずれの場合にも，適切にフォーカシングされ
ているものとする。

レーザ・スポットＰが光磁気ディスク81の情報記録面に
当たり，その反射光の強度が案内溝82の存在によって変
調される。すなわち案内溝82の存在によって受光部20に
受光される光強度は小さくなる。

受光素子21と22は光軸を境として左右に分割されてい
る。レーザ・スポットＰの中心と案内溝82の巾方向の中
心とが一致している場合には，受光素子21と22に受光さ
れる光量は等しく，差動増幅器72の出力は零である。

第12図(B)に示すように，レーザ・スポットＰが案内溝8
2の左側にずれた場合には，受光素子21に受光される光
量の方が多くなり，差動増幅器72からは正の出力が発生
する。逆に，第12図(C)に示すように，レーザ・スポッ
トＰが案内溝82の右側にずれると差動増幅器72には負の
出力が生じる。

このようにして，差動増幅器72の出力によりビーム・ス
ポットＰがディスク81のトラックに正確に沿っている
か，トラッキング・エラーが生じているか，それは左，
右のどちらにずれたエラーかが検出される。

（６）フォーカシングおよびトラッキング駆動機構 第13図から第15図はフォーカシング駆動機構およびトラ
ッキング駆動機構を示している。

支持板100の一端部に支持部材101が立設されている。こ
の支持部材101の両側下端部は切欠かれている（符号10
2）。支持板100の他端部上方には可動部材103が位置し
ている。上下方向に弾性的に屈曲しうる４つの板ばね12
1,122の一端は支持部材101の上端両側および下部切欠き
102に固定されており，他端は可動部材103の上端および
下端の両側にそれぞれ固定されている。したがって，可
動部材103はこれらの板ばね121,122を介して上下方向に
運動しうる状態で支持部材101に支持されている。

ヘッド９を載置したステージ110は，上部の方形枠112,
方形枠112の両端から下方にのびた両脚114,115および方
形枠112の中央部から下方にのびた中央脚113から構成さ
れている。方形枠112上にヘッド９が載置固定されてい
る。横方向に弾性的に屈曲しうる４つの板ばね131の一
端は可動部材103の両側上，下部に固定され，他端はス
テージ110の中央脚113の両側上，下部に固定されてい
る。ステージ110は，これらの板ばね131を介して横方向
（第12図の左右方向と一致する）に，運動しうる状態で
支持されている。したがって，ステージ110は，上下方
向（フォーカシング）および横方向（トラッキング）に
移動自在である。

支持板100，支持部材101，可動部材103およびステージ1
10は非磁性材料，たとえばプラスチックにより構成され
ている。

支持部材101および可動部材103の内面にはヨーク104,10
5が固定されている。ヨーク104は，支持部材101に固定
された垂直部分104aと，これと間隔をおいて位置するも
う１つの垂直部分104bと，これらの両部分104a,104bを
それらの下端で結合させる水平部分とから構成されてい
る。ヨーク105もヨーク104と全く同じ形状であり，一定
の間隔をおいて離れた２つの垂直部分105a,105bを備え
ている。

これらのヨーク104,105の垂直部分104a,105aの内面に
は，この内面側をたとえばＳ極とする永久磁石106がそ
れぞれ固定されている。そして，ヨーク104,105の他方
の垂直部分104b,105bと永久磁石106との間に，ステージ
110の脚114,115がそれらに接しない状態でそれぞれ入り
込んでいる。

ステージ110の両脚114,115のまわりにはフォーカシング
駆動用コイル123が水平方向に巻回されている。またこ
れらの脚114,115の一部には，永久磁石106と対向する部
分において上下方向に向う部分を有するトラッキング駆
動用コイル133が巻回されている。

フォーカシング駆動機構は第14図に最もよく示されてい
る。永久磁石106から発生した磁束Ｈは鎖線で示されて
いるようにヨーク104,105の垂直部分104b,105bにそれぞ
れ向う。この磁界を横切って水平方向に配設されたコイ
ル123に，たとえば第14図において紙面に向う方向に駆
動電流が流されると，上方に向う力Ｆｆが発生する。こ
の力Ｆｆによってステージ110は上方に移動する。ステ
ージ110の移動量はコイル123に流される電流の大きさに
よって調整することができる。したがって，上述した差
動増幅器71の出力信号に応じてこの駆動電流の方向を切
換えることにより，および電流の大きさを調整するまた
は電流をオン，オフすることにより，フォーカシング制
御を行なうことができる。

トラッキング駆動機構は第15図に最もよく表わされてい
る。コイル133の磁界Ｈを上下方向に横切って配設され
た部分に，たとえば第15図で紙面に向う方向に（第13図
で下方に向って）駆動電流を流すと，第15図において上
方に向う力（第13図において横方向に向う力）Ｆｔが発
生し，ステージ110は同方向に移動する。上述した差動
増幅器72の出力信号に応じてコイル133に流す電流をオ
ン，オフしたり，電流の方向，必要ならばその大きさを
調整することにより，トラッキング制御を行なうことが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は光磁気書込み，読取り用ヘッドを示す斜視図で
ある。 第２図は半導体レーザの配置の他の例を示す断面図であ
る。 第３図は受光部の他の例を示す斜視図である。 第４図および第５図はグレーティング・レンズを示すも
ので，第４図は平面図，第５図は断面図である。 第６図は読取り用受光部の構成を示す平面図である。 第７図は読取り回路を示している。 第８図は検光子片の主軸の方向を示す図，第９図は反射
光の基準偏光方向および磁気光学効果によって回転され
た偏光方向を示す図である。 第10図は，光磁気ディスクと光磁気書込み読取りヘッド
との位置関係を示す断面図である。 第11図は，受光部上におけるフォーカシング・エラーの
検出原理を示す図である。 第12図は，トラッキング・エラーの検出原理を示す図で
ある。 第13図から第15図は，フォーカシングおよびトラッキン
グ駆動機構を示すもので，第13図は斜視図，第14図は第
13図のXIV−XIV線にそう断面図，第15図はヘッドを除去
して示す平面図である。 9……光磁気書込み読取りヘッド，11……基板， 12,32……半導体レーザ， 13,33……グレーティング・レンズ， 20,40……受光部， 21〜24,41a,42a……受光素子， 41,42……検光子片。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光磁気ディスクへのデータの書込みおよび
   ／または光磁気ディスクからのデータの読出しを行なう
   ための光情報処理装置であり， 書込みおよび／または読出しのために光磁気ディスク上
   に焦点を結ぶ光スポットを投射しかつその反射光を受光
   する第１の光学系と， この第１の光学系の光スポットを光磁気ディスクの案内
   溝に追従させるためにエラーを検出する第２の光学系と
   を有し， これらの第１および第２の光学系は使用される光に対し
   て透明な基板上に設けられており， 第１の光学系が， 拡散する光を基板の一方の面に対してほぼ垂直に投射す
   る光源， 投射された光を基板の他方の面から斜め上方に出射させ
   かつ２次元的に集光するレンズ手段， 斜め上方から反射してくる光を受光する少なくとも２つ
   の受光素子を有する受光手段，および 上記受光素子上に主軸が互いに90゜ずらして配置された
   検光子を備え， 第２の光学系が， 拡散する光を基板の一方の面に対してほぼ垂直に投射す
   る光源， 投射された光を基板の他方の面から斜め上方に出射させ
   かつ２次元的に集光するレンズ手段，および 斜め上方から反射してくる光を受光する手段を備えてい
   る， 光情報処理装置。