JPS61269237A - 光情報処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の要約 光と磁気を利用して光磁気ディスクに磁気的にデータを
書込むまたは同ディスクから読出すための装置であり、
書込み、読出し用の第１の光学系と第１の光学系のスポ
ットを光磁気ディスクの案内溝にそわせるためのエラー
検出用の第２の光学系とを備えており、これらの光学系
は使用される光に対して透明な基板上に設けられている
。いずれの光学系も、拡散する光を基板の一方の面に対
してほぼ垂直に投射する光源および投射された光を基板
の他方の面から斜め上方に出射させかつ２次元的に集光
するオフ中アクシス・レンズ手段を備えている。第１の
光学系はさらに、斜め上方からの反射光を受光する少な
くとも２つの受光素子と、これらの受光素子上に主軸が
互いに９０″ずらして配置された検光子とを備えている
。第２の光学系には斜め上方から反射してくる光を受光
してトラッキング・エラーおよびフォーカシング・エラ
ーを検出するための手段が設けられている。

発明の背景 （１）技術分野 この発明は、きわめて高密度のデータの記録。

再生、消去が自在で将来その実用化が期待されている光
磁気ディスクにデータを書込む（記録、消去）および／
または読出す（再生）ための光情報処理装置に関する。

（２）従来技術 光磁気ディスクは、光ディスクで困難とされていたデー
タの書込み／読出しが自在にできるという特徴を持つた
めに、その研究が盛んに行なわれており、いくつかのタ
イプの記録再生装置が試作されている。

光磁気ディスクの記録原理は次のようなものである。光
磁気ディスク等の記録媒体に光を照射して局部的にその
温度を上昇させると同時に外部から磁気を与えて、その
局部の磁化の向きを変える。レーザ光を集光すると温度
を上昇させる領域を直径１μｍ程度のきわめて小さな範
囲とすることができるので、高密度の記録が可能となる
。磁気記録に必要な磁界は記録媒体の温度が高くなるに
つれて一般に小さくなり、きわめて弱い磁界でも記録が
可能となる。

現在のところ記録、消去には２つの方式が考えられてい
る。一方は磁界変調方式であり、これはレーザ光を記録
媒体に常に照射しておき、印加する磁界を記録すべきデ
ータに応じて変えるものである。他方は光変調方式で常
に直流磁界を与えておき照射するレーザ光をデータに応
じて点滅するものである。

光再生方式には直接光再生方式と間接光再生方式とがあ
るとされている。直接光再生方式は記録場所に直線偏光
を直接に照射し、その反射光（または透過光）の偏光方
向が磁気光学効果によって回転することを利用している
。間接光再生方式は記録パターンを磁性薄膜に転写した
のちこれを光で読出すものである。

いずれにしても、現在までに試作されている光磁気記録
再生装置とくにその再生部分は、先ディスクに照射する
光と光ディスクからの反射光とを分離するアイソレータ
光学系、光ディスクに照射される光を１μｍ径程度のス
ポットに集束させるビーム集光光学系、フォーカシング
・エラーやトラッキング・エラーを検出するためのエラ
ー検出光学系等を備えており、これらの光学系は、光源
としての半導体レーザ、各種レンズ類、プリズム類２回
折格子、ミラー、１／４波長板、フォト・ダイオード、
偏光子、検光子などの素子を適宜組合せることにより構
成されるので、光学系が複雑で光軸合わせかめんどうで
あるとともに、振動により光軸がずれやすい１部品点数
が多く２組立てに時間がかかる。光学部品が高価である
ために全体としても高価になる。光学部品が大きいため
に光ピツクアップ装置も大型となり、光学部品を保持す
る機構も必要であるから全体として重くなる等の問題点
をもっている。

発明の概要 （１）発明の目的 この発明は、小型かつ軽量でしかも簡単な構成の光情報
処理装置を提供することを目的とする。

（２）発明の構成、および効果 この発明による光情報処理装置は、光磁気ディスクへの
データの書込みおよび／または光磁気ディスクからのデ
ータの読出しを行なうための装置であり、書込みおよび
／または読出しのために光磁気ディスク上に焦点を結ぶ
光スポットを投射しかつその反射光を受光する第１の光
学系と、この第１の光学系の光スポットを光磁気ディス
クの案内溝に追従させるためにエラーを検出する第２の
光学系とを有し、これらの第１と第２の光学系は使用さ
れる光に対して透明な基板上に設けられている。第１の
光学系は、拡散する光を基板の一方の面に対してほぼ垂
直に投射する光源、投射された光を基板の他方の面から
斜め上方に出射させかつ２次元的に集光するレンズ手段
、斜め上方から反射してくる光を受光する少なくとも２
つの受光素子を有する受光手段、および上記受光素子上
に主軸が互いに９０″ずらして配置された検光子を備え
ている。第２の光学系は、拡散する光を基板の一方の面
に対してほぼ垂直に投射する光源、投射された光を基板
の他方の面から斜め上方に出射させかつ２次元的に集光
するレンズ手段、および斜め上方から反射してくる光を
受光する手段を備えていることを特徴とする。

この発明は、上述した磁界変調方式および光変調方式の
両方の記録方式に適用可能であり、また直接光再生方式
に適用することができる。記録する場合には磁界を与え
るコイルが設けられるのはいうまでもない。

この発明においては、光学部品としてのレンズ、プリズ
ム、回折格子、ミラー、１／４波長板等が用いられてい
ないので、装置の小型化、軽量化を図ることができる。

とくに、書込み、読出し用の第１の光学系とエラー検出
用の第２の光学系のいずれもが基板からレーザ光を斜め
上方に出射させかつ斜め上方からの反射光を受光するよ
うに構成されているから、アイソレータ光学系を省略す
ることができる。さらにこの発明においては。

光源からの光を基板の一面に投射し、基板を厚さ方向に
透過させて基板の他面から出射させているので、基板上
に先導波路を作成する必要がなく。

構成がきわめて簡素となり、その作製も容易となる。

実施例の説明 （１）ヘッドの構成の概要 第１図は光磁気書込み、読取り用ヘッド９の構成の一例
を示している。この図には光学系のみが示され、光磁気
書込みに必要な磁界を発生するコイルは図示されていな
い。

基台ｌＯ上に適当な支持部材１９を介して基板１１が設
けられかつ固定されている。基板【１は使用される光、
すなわち半導体レーザ１２．３２の出力光に対して透明
な材料、たとえばガラスで形成される。

まず、フォーカシング・エラーおよびトラッキング・エ
ラー検出用の光学系（第２の光学系）について説明する
。

基板１１表面上の一部にはオフ・アクシス（ｏｆｆ−ａ
ｘｌｓ）グレーティング・レンズ１３が形成されている
。このグレーティング・レンズ１３の下方には晃源とし
ての半導体レーザ１２が配置され、適当な手段（図示略
）により基台ｌＯ上に固定されている。

グレーティング・レンズ１８は下方の半導体レーザＩ２
から出射しかつ広がりながら基板１１を透過してレンズ
１３に達した光を基板１１の上面から斜め−に一方に出
射させるとともに、２次元的に集光（フォーカシング）
するものである。出射したレーザ光が集光してスポット
（１μｍ径程度）を形成する点がＰで示されている。こ
のレーザ・スポットは後述する読取り、書込み用のレー
ザ・スポットと同一点にあり、この点Ｐが光磁気ディス
クの情報記録面上とくにその案内溝内に位置するように
、このヘッド９が配置される。

基板ｌｌ上のグレーティング・レンズ１３から適当な距
離はなれた箇所に受光［２０が形成されている。受光部
２０は、光磁気ディスクの面からの反射光を受光するた
めのものであり、上述のレーザ・スポットＰの位置から
斜め下方に反射してくる光を受光できる位置に配置され
ている。

受光部２０は、４つの独立した受光素子２１〜２４から
なる。受光素子２１．２２は中央に隣接して配置され、
これらの受光素子２１．２２の前後に他の受光素子２３
．２４が設けられている。これらの受光素子２１〜２４
は、たとえばアモルファスＳ１を基板１１に蒸着するこ
とにより形成されている。受光素子２１〜２４の出力信
号は、基板１■上に形成された配線パターン（図示略）
により外部に取出される。

受光素子としてはアモルファスＳ１の他に、　ＣｄＴｃ
やＣｄＳなどを用いることができる。

光磁気ディスクのデータの書込みおよび涜取り用の光学
系（第１の光学系）もまた上述の光学系と同じように、
半導体レーザ３２．グレーティング・レンズ８８．およ
び受光部４０を有している。半導体レーザ３３からの出
射光は広がりながら基板１１の下面に照射され基板口を
その厚さ方向に透過したのち、グレーティング・レンズ
３３から空中に出射し、上述の点Ｐに焦点を結ぶ。そし
て、光磁気ディスクの磁気記録面からの反射光が受光部
４０で受光される。

グレーティング・レンズ３３上には偏光子片３４が貼付
されている。この偏光子片３４はグレーティング・レン
ズ３３から出射する光を直線偏光に変換するものである
。

受光部４０は、多数の受光素子４１ａ、４２ａを有して
いる（第６図参照）。これらの受光素子４１ａ、４２ａ
もまた受光素子２１〜２４と同じようにしてつくられる
。これらの受光素子４１ａ、４２ａ上には検光子片４１
、４２がそれぞれ貼付されている。検光子片４１と４２
はそれらの主軸が互いに９０″ずれるように配置されて
いる。また、互いに９０＠ずれるように配置された検光
子片４１．４２が交互に設けられている。

エラー検出用の光学系として第１図には１ビ一ム方式が
採用されているが、２ビ一ム方式、３ビーム方式として
もよい。この場合には、グレーティング・レンズ１３に
加えてまたは代えて光を２または３の光ビームに分離す
る手段および必要ならば（グレーティング・レンズ３３
が無い場合）２または３に分離された光を独立に空中に
出射させ。

別個の位置に集光させる手段を設ければよい。２または
３の光ビームのスポットは、書込み、読取り用の光学系
のスポットＰの近傍に形成されるようにする。３ビーム
の光学系の一例が１本願と同日出願の同一出願人および
同一代理人による特許願（２）に記載されている。ここ
では上記分離手段としてラマン−ナス回折を起こすグレ
ーティングが示されており、これはレンズ１３に対向す
る位置に設けられている。この光学系によると、もちろ
んフォーカシング・エラーおよびトラッキング・エラー
の検出が可能である。

第２図は半導体レーザＩ２の取付けのやり方の他の例を
示している（半導体レーザ３２についても同じ）。基板
１１として第１図に示すものよりも厚いものが用いられ
ている。基板１１表面に形成されたグレーティング・レ
ンズ１３の真下の位置において基板１■の下面には凹部
Ｉ８が形成され、この四部１８内に半導体レーザ■２が
収められかつ基板１１に接着されることにより固定され
ている。このように半導体レーザ１２を基板１１の下面
に設けることにより。

光ピツクアップ・ヘッド９の構成が一層簡素になる。

半導体レーザエ２の位置決めは次のようにして行なえば
よい。ｘ、ｙ、ｚおよびθ方向に微調整可能なステージ
に半導体レーザ１２を支持させかつ凹部１８に収めてお
き、半導体レーザ１２から出射しグレーティング・レン
ズ１３により集光された光が調整用光磁気ディスクの面
で反射するように、調整用光磁気ディスクに対してこの
ヘッド９を配置しておく。調整用光磁気ディスクからの
反射光を受光部２０で受光する。一方、調整用光磁気デ
ィスク上の光スポットのフォーカシングおよびトラッキ
ングが最適になったときに受光部２０から出力されるで
あろう電圧に相当する基準電圧を発生する回路を設けて
おく。受光部２０の出力電圧とこの基準電圧とを比較し
、その差が極小になるように上記ステージを動かし半導
体レーザ１２の位置を微調整する。半導体レーザ１２の
位置が最適になったところで、たとえば瞬間接着剤を用
いて半導体レーザエ２を基板１■に固定する。

第３図は受光部２０の他の側を示している。受光部２０
を構成する４つの受光素子２１〜２４は、基板１１とは
別体のチップ２５に形成されている。これらの受光素子
２１〜２４はたとえば、　８１チツプ２５に４つの独立
したＰＮ接合（フォトダイオード）をつくることにより
形成される。受光部チップ２５は基板■１上に接着され
ている。このチップ２５の位置決めも上述のやり方と同
じようにして行なわれる。半導体レーザ１２の位置を固
定しておき、チップ２５の位置を調整しながら受光部２
０の出力電圧が最大になった位置でチップ２５を固定す
る。受光部４０の受光素子４１ａ、　４２ａも同じよう
に構成することができる。

（２）オフ・アクシス集光レンズ 第４図および第５図はグレーティングΦレンズ１３の構
成を示すものである（グレーティング・レンズ３３も同
じ構成）。このグレーティング・レンズ１３は、電子ビ
ーム会リソグラフィにより作製することができる。すな
わち、ガラス基板ｌｌ上に導電性＠１６を形成しその上
に電子ビーム・レジストを一様に塗布する。そして、コ
ンピュータにより制御された電子ビーム描画装置により
所定の干渉縞パターンをレジスト上に描画する。この後
レジストを現像すればレジストの一部１７が残り、上記
干渉縞パターンの凹凸（コルゲーション）をもつグレー
ティング・レンズ構造ができる。

上記の干渉縞パターンは、半導体レーザ１２から出射さ
れる拡散する光と、レンズ１３から斜めに出射されかつ
収束する光との干渉縞パターンとじてコンビ二一夕によ
って計算される。

レジスト１７によるコルゲーションに代えてＳｎＯやｌ
　ｎ　０２のコルゲーションを基板ｌｌ上に形成してこ
れをグレーティング・レンズとしてもよい。この場合に
は、これらの材料上に上述のレジストやパターンをマス
クとして形成し、ドライエツチング技術等により上記材
料のマスクされていない部分をエツチングし、最後にレ
ジスト・パターンを除去すればよい。

オフ・アクシス集光レンズとしては上述のグレーティン
グ・レンズに限らない。たとえば基板１１］二にオプテ
ィカル・レンズとしての半球面状の凸部または凹部を形
成してもよい。光を斜め上方に出射させるオフやアクシ
スのオプティカル・レンズであるから、その凸面または
凹面の曲率を場所に応じて変化させる必要がある。

このようなオフ・アクシス集光レンズを基板１１の上面
ではなく下面に形成してももちろんよい。

（３）書込みおよび読取りの原理 光磁気ディスクのデータの書込みは、磁界変調方式また
は光変調方式に依る。この場合にはレーザ・スポットＰ
の近傍にコイルが配置される。

光磁気ディスクからのデータの読取りは直接光再生方式
に依る。

第８図の矢印ａ、ｂは検光子片４１．４２の主軸方向を
示している。このように検光子片４１．４２の主軸の方
向は９０°異なっている。

第７図は読取り回路の一例を示している。一方の検光子
片４１の下にある受光素子４１ａの出力信号（端子Ａｔ
−Ａ５）は加算回路５１に入力し相互に加算される。他
方の検光子片４２の下にある受光素子４２ａの出力信号
（端子Ｂ１〜Ｂ５＞は加算回路５２に入力し、相互に加
算される。これらの加算回路５１゜５２の出力は差動増
１１回路５３に送られその差が演算される。

グレーティング・レンズ３３から出射され偏光子３４に
よって直線偏光に変換された光は光磁気ディスク面に当
りて反射し、検光子片４１．４２を通して受光素子４１
ａ、４２ａによって検知される＠第９図（Ａ）における
太い実線の矢印Ｃは、光磁気ディスクのデータの記録さ
れていない部分で反射した光の偏光方向を示している。

検光子片４１．４２の主軸方向に対してこの反射光の偏
光方向が±４５″傾いているものとする。この場合には
加算回路５１．５２の出力の大きさは等しく、これをＩ
ｏとする。光磁気ディスクの磁気記録部分に光が当ると
磁気光学効果（カー効果）によって反射光の偏光面があ
る角度θだけ回転する。このときの反射光の偏光方向が
第９図（Ｂ）に矢印Ｃで示されている。このときの加算
回路５１．５２の出力はそれぞれ（Ｉｏ＋　Ａθ）、（
ｉｏ−Ａθ）となる。ここでＡは定数である。したがっ
て、差動増巾回路５３の出力信号は２Ａθとなる。これ
が読取り信号であり、この信号の大きさは光磁気ディス
クに記録されている信号の大きさに比例している。

（４）フォーカシングφエラーの検出 光磁気ディスクの情報記録面にはそのトラックにそって
データの書込み、読取りのガイドとなる案内溝が形成さ
れている。第１Ｏ図は、光磁気ディスク８１と書込み、
読取り用ヘッド９との位置関係を光磁気ディスク８１を
その周方向にそって切断して示すものである。グレーテ
ィング・レンズ１３から出射したレーザ光は光磁気ディ
スク８１の情報記録面（第１０図では案内溝８２を含む
部分）で反射して受光部２０で受光される。第１１図は
、光磁気ディスク８１からの反射光が受光部２０を照射
するその範囲を示している。

第１Ｏ図において、実線で示された光磁気ディスク８■
および案内溝８２は、ディスク８１とヘッド９との間の
距離が最適であり、出射光のディスク８１上へのフォー
カシングが正しく行なわれている様子を示すものである
。このときの受光部２０における反射光の照射領域がＱ
で示されている。この照射領域Ｑは中央の受光素子２１
．２２上に位置しており。

他の受光素子２３．２４には反射光は受光されない。

光磁気ディスク８Ｉとへラド９との間の距離が相対的に
大きくまたは小さくなって適切なフォーカシングが行な
われない場合のディスク８１の位置が第１Ｏ図に鎖線で
示されている。ディスク８１とヘッド９との間の距離が
相対的に小さくなった場合（−Δｄの変位）には９反射
光の照射領域（Ｑｌで表わされている）は受光素子２３
側に寄る。受光素子２３は差動増幅器７１の負側に、受
光索子２４は正側にそれぞれ接続されているから、この
場合には差動増幅器７１の出力は負の値を示し、この値
は変位量−△ｄの大きさを表わしている。

ディスク８１とヘッド９との間の距離が相対的に大きく
なった場合（＋Δｄの変位）には１反射光の照射領域（
Ｑ２で表わされている）は受光素子２４側に寄る。差動
増幅器７１の出力は正の値を示し。

かっこの値は変位量＋Δｄを表わす。

このようにして、ヘッド９からの出射光ビームのフォー
カシングが適切であるかどうか、フォーカシング・エラ
ーが生じている場合にはエラーの方向と大きさが差動増
幅ｒＩ７１の出力から検知される。フォーカシング・エ
ラーが無い場合には差動増幅器７１の出力は零である。

（５）トラッキング・エラーの検出 第１２図は、光磁気ディスク８１に形成された案内溝８
２と受光部２０の受光素子２１．２２とを同一平面上に
配置して示したものであり、いわば光磁気ディスク８１
をその面方向に透視して受光素子２１．２２をみた図で
ある。差動増幅器７２は受光素子２１．２２との電気的
接続関係を明らかにする目的で図示されている。第１２
図（Ａ）は、レーザービーム・スポットＰがトラック（
案内溝８２）の巾方向の中心上に正確に位置している様
子を示している。第１２図（Ｂ）　（Ｃ）はスポットＰ
がトラック（案内溝８２）の左右にそれぞれ若干ずれ、
トラッキング・エラーが生じている様子を示している。

いずれの場合にも。

適切にフォーカシングされているものとする。

レーザースポットＰが光磁気ディスク８１の情報記録面
に当たり、その反射光の強度が案内溝８２の存在により
て変調される。すなわち案内溝８２の存在によって受光
部２０に受光される光強度は小さくなる。

受光素子２１と２２は光軸を境として左右に分割されて
いる。レーザ・スポットＰの中心と案内溝８２の巾方向
の中心とが一致している場合には、受光素子２１と２２
に受光される光Ｄは等しく、差動増幅器７２の出力は零
である。

第１２図（Ｂ）に示すように、レーザ・スポットＰが案
内溝８２の左側にずれた場合には、受光素子２■に受光
される光量の方が多くなり、差動増幅器７２からは正の
出力が発生する。逆に、第１２図（Ｃ）に示すように、
レーザ・スポットＰが案内溝８２の右側にずれると差動
増幅器７２には負の出力が生じる。

このようにして、差動増幅器７２の出力によりビーム・
スポットＰがディスク８Ｉのトラックに正確に沿ってい
るか、トラッキング−エラーが生じているか、それは左
、右のどちらにずれたエラーかが検出される。

（６）フォーカシングおよびトラッキング駆動機構 第１３図から第１５図はフォーカシング駆動機構および
トラッキング駆動機構を示している。

支持板１００の一端部に支持部材１０１が立設されてい
る。この支持部材１０１の両側下端部は切欠かれている
（符号１０２）。支持板１００の他端部上方には可動部
材１０３が位置している。上下方向に弾性的に屈曲しう
る４つの板ばね　１２１，１２２の一端は支持部材１０
１の上端両側および下部切欠き　１０２に固定されてお
り、他端は可動部材１０３の上端および下端の両側にそ
れぞれ固定されている。したがって、可動部材１０３は
これらの板ばね　１２１，１２２を介して上下方向に運
動しうる状態で支持部材１０１に支持されている。

ヘッド９を載置したステージ　１１０は、上部の方形枠
１１２．方形枠１１２の両端から下方にのびた両脚１１
４．１１５および方形枠１１２の中央部から下方にのび
た中央脚１１３から構成されている。方形枠１１２」二
にヘッド９が載置固定されている。横方向に弾性的に屈
曲しうる４つの板ばね　１３１の一端は可動部材１０３
の両側上、下部に固定され、他端はステージ　１１０の
中央脚ＩＨの両側上、下部に固定されている。ステージ
　１１０は、これらの板ばね　１３１を介して横方向（
第１２図の左右方向と一致する）に。

運動しうる状態で支持されている。したがって。

ステージ１１０は、上下方向（フォーカシング）および
横方向（トラッキング）に移動自在である。

支持板１００．支持部材　１０１．可動部材１０３およ
びステージ１１０は非磁性材料、たとえばプラスチック
により構成されている。

支持部材ｌｏｔおよび可動部月　１０３の内面にはヨー
ク　１０４，１０５が固定されている。ヨーク　１０４
は。

支持部材１０１に固定された垂直部分１０４ａと、これ
と間隔をおいて位置するもう１つの垂直部分１０４ｂと
、これらの画部分１０４ａ、　１０４ｂをそれらの下端
で結合させる水平部分とから構成されている。ヨーク　
１０５もヨーク　１０４と全く同じ形状であり、一定の
間隔をおいて離れた２つの垂直部分１０５ａ、ＬＯ５ｂ
を備えている。

これらのヨーク　１０４，１０５の垂直部分ＬＯ４ａ、
　１０５ａの内面には、この内面側をたとえばＳ極とす
る永久磁石１０６がそれぞれ固定されている。そして。

ヨーク　１０４，１０５の他方の垂直部分１０４ｂ、１
０５ｂと永久磁石１０６との間に、ステージ１１０の脚
１１４．１１５がそれらに接しない状態でそれぞれ入り
込んでいる。

ステージ　１１０の両脚１１４．１１５のまわりにはフ
ォーカシング駆動用コイル１２３が水平方向に巻回され
ている。またこれらの脚１１４．ｌＬ５の一部には。

永久磁石１０Ｂと対向する部分において上下方向に向う
部分を有するトラッキング駆動用コイル１３３が巻回さ
れている。

フォーカシング駆動機構は第１４図に最もよく示されて
いる。永久磁石１０Ｂから発生した磁束Ｈは鎖線で示さ
れているようにヨーク　１０４．１０５の垂直部分１０
４ｂ、１０５ｂにそれぞれ向う。この磁界を横切って水
平方向に配設されたコイル１２３に、たとえば第１４図
において紙面に向う方向に駆動電流が流されると、上方
に向う力Ｆｆが発生する。この力Ｆｆによってステージ
　１１０は上方に移動する。ステージ　１１０の移動口
はコイル１２３に流される電流の大きさによって調整す
ることができる。したがって、上述した差動増幅器７１
の出力信号に応じてこの駆動電流の方向を切換えること
により、および電流の大きさを調整するまたは電流をオ
ン、オフすることにより、フォーカシング制御を行なう
ことができる。

トラッキング駆動機構は第１５図に最もよく表わされて
いる。コイル１３３の磁界Ｈを上下方向に横切って配設
された部分に、たとえば第１５図で紙面に向う方向に（
第１３図で下方に向って）駆動電流　　−を流すと、第
１５図において上方に向う力（第１３図において横方向
に向う力）Ｆｔが発生し、ステージ　１１０は同方向に
移動する。上述した差動増幅器７２の出力信号に応じて
コイル１３３に流す電流をオン、オフしたり、電流の方
向、必要ならばその大きさを調整することにより、トラ
ッキング制御を行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は光磁気書込み、読取り用ヘッドを示す斜視図で
ある。 第２図は半導体レーザの配置の他の例を示す断面図であ
る。 第３図は受光部の他の例を示す斜視図である。 第４図および第５図はグレーティング・レンズを示すも
ので、第４図は平面図、第５図は断面図である。 第６図は読取り用受光部の構成を示す平面図である。 第７図は読取り回路を示している。 第８図は検光子片の主軸の方向を示す図、第９図は反射
光の基準偏光方向および磁気光学効果によって回転され
た偏光方向を示す図である。 第１Ｏ図は、光磁気ディスクと光磁気書込み読取りヘッ
ドとの位置関係を示す断面図である。 第１１図は、受光部上におけるフォーカシング９エラー
の検出原理を示す図である。 第１２図は、トラッキング・エラーの検出原理を示す図
である。 第１３図から第１５図は、フォーカシングおよびトラッ
キング駆動機構を示すもので、第１３図は斜視図、第１
４図は第１３図のＸＩＶ−ＸＩＶ線にそう断面図。 第１５図はヘッドを除去して示す平面図である。 ９・・・光磁気書込み読取りヘッド、　１１・・・基板
。 １２．３２・・・半導体レーザ。 １３．３３・・・グレーティング・レンズ。 ２０　、４０・・・受光部。 ２１〜２４．４１ａ、４２ａ・＝受光素子。 ４１．４２・・・検光子片。 以　　上 特許出願人　　立石電機株式会社 代　　理　　人　　　牛　　久　　健　　司外１名 １と 第３図 第４図 第５図 第８図 第９図 （Ａ）　　　　　　　　　　　　（Ｂ）第１１図 第１２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 光磁気ディスクへのデータの書込みおよび／または光磁
   気ディスクからのデータの読出しを行なうための光情報
   処理装置であり、 書込みおよび／または読出しのために光磁気ディスク上
   に焦点を結ぶ光スポットを投射しかつその反射光を受光
   する第１の光学系と、 この第１の光学系の光スポットを光磁気ディスクの案内
   溝に追従させるためにエラーを検出する第２の光学系と
   を有し、 これらの第１および第２の光学系は使用される光に対し
   て透明な基板上に設けられており、第１の光学系が、 拡散する光を基板の一方の面に対してほぼ垂直に投射す
   る光源、 投射された光を基板の他方の面から斜め上方に出射させ
   かつ２次元的に集光するレンズ手段、斜め上方から反射
   してくる光を受光する少なくとも２つの受光素子を有す
   る受光手段、および上記受光素子上に主軸が互いに９０
   °ずらして配置された検光子を備え、 第２の光学系が、 拡散する光を基板の一方の面に対してほぼ垂直に投射す
   る光源、 投射された光を基板の他方の面から斜め上方に出射させ
   かつ２次元的に集光するレンズ手段、および 斜め上方から反射してくる光を受光する手段を備えてい
   る、 光情報処理装置。