JPS61269236A - 光情報処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の要約 光と磁気を利用して光磁気ディスクに磁気的にデータを
書込むまたは同ディスクから読出すための装置であり、
書込み、読出し用の第１の光学系と第１の光学系のスポ
ットを光磁気ディスクの案内溝にそわせるためのエラー
検出用の第２の光学系とを備えている。いずれの光学系
も、基板上に形成された光導波路、この先導波路にレー
ザ光を導入するための光源および光導波路を伝播する光
を斜め上方に出射させかつ２次元的に集光するレンズ手
段を備えている。第１の光学系はさらに。

斜め上方からの反射光を受光する少なくとも２つの受光
素子と、これらの受光素子上に主軸が互いに９０″′ず
らして配置された検光子とを備えている。第２の光学系
には斜め上方から反射してくる光を受光してトラッキン
グ・エラーおよびフォーカシング・エラーを検出するた
めの手段が設けられている。

発明の背景 （１）技術分野 この発明は、きわめて高密度のデータの記録。

再生、消去が自在で将来その実用化が期待されている光
磁気ディスクにデータを書込む（記録、消去）および／
または読出す（再生）ための光情報処理装置に関する。

（２）従来技術 光磁気ディスクは、光ディスクで困難とされていたデー
タの書込み／読出しが自在にできるという特徴を持つた
めに、その研究が盛んに行なわれており、いくつかのタ
イプの記録再生装置が試作されている。

光磁気ディスクの記録原理は次のようなものである。光
磁気ディスク等の記録媒体に光を照射して局部的にその
温度を上昇させると同時に外部から磁気を与えて、その
局部の磁化の向きを変える。レーザ光を集光すると温度
を上昇させる領域を直径１μｍ程度のきわめて小さな範
囲とすることができるので、高密度の記録が可能となる
。磁気記録に必要な磁界は記録媒体の温度が高くなるに
つれて一般に小さくなり、きわめて弱い磁界でも記録が
可能となる。

現在のところ記録、消去には２つの方式が考えられてい
る。一方は磁界変調方式であり、これはレーザ光を記録
媒体に常に照射しておき、印加する磁界を記録すべきデ
ータに応じて変えるものである。他方は光変調方式で常
に直流磁界を与えておき照射するレーザ光をデータに応
じて点滅するものである。

光再生方式には直接光再生方式と間接光再生方式とがあ
るとされている。直接光再生方式は記録場所に直線偏光
を直接に照射し、その反射光（または透過光）の偏光方
向が磁気光学効果によって回転することを利用している
。間接光再生方式は記録パターンを磁性薄膜に転写した
のちこれを光で読出すものである。

いずれにしても、現在までに試作されている光磁気記録
再生装置とくにその再生部分は、光ディスクに照射する
光と先ディスクからの反射光とを分離するアイソレータ
光学系、光ディスクに照射される光を１μｍ径程度のス
ポットに集束させるビーム集光光学系、フォーカシング
・エラーやトラッキング・エラーを検出するためのエラ
ー検出光学系等を備えており、これらの光学系は、光源
としての半導体レーザ、各種レンズ類、プリズム類１回
折格子、ミラー、１／４波長板、フォト・ダイオード、
偏光子、検光子などの素子を適宜組合せることにより構
成されるので、光学系が複雑で光軸合わせかめんどうで
あるとともに、振動により光軸がずれやすい１部品点数
が多く１組立てに時間がかかる。光学部品が高価である
ために全体としても高価になる。光学部品が大きいため
に光ピツクアップ装置も大型となり、光学部品を保持す
る機構も必要であるから全体として重くなる等の問題点
をもっている。

発明の概要 （１）発明の目的 この発明は、小型かつ軽量でしかも簡単な構成の光情報
処理装置を提供することを目的とする。

（２）発明の構成、および効果 この発明による光情報処理装置は、光磁気ディスクへの
データの書込みおよび／または光磁気ディスクからのデ
ータの読出しを行なうための装置であり、書込みおよび
／または読出しのために光磁気ディスク上に焦点を結ぶ
光スポットを投射しかつその反射光を受光する第１の光
学系と、この第１の光学系の光スポットを光磁気ディス
クの案内溝に追従させるためにエラーを検出する第２の
光学系とを有し、第１の光学系が、基板上に形成された
光導波路、光導波路に導入されるレーザ光の光源、光導
波路上に形成され、光導波路を伝播する光を斜め上方に
出射させかつ２次元的に集光するレンズ手段、斜め上方
から反射してくる光を受光する少なくとも２つの受光素
子を有する受光手段、および上記受光素子上に主軸が互
いに９０゜ずらして配置された検光子を備え、第２の光
学系が、基板上に形成された先導波路、光導波路に導入
されるレーザ光の光源、光導波路上に形成され。

光導波路を伝播する光を斜め上方に出射させかつ２次元
的に集光するレンズ手段、および斜め上方から反射して
くる光を受光する手段を備えていることを特徴とする。

この発明は、上述した磁界変調方式および光変調方式の
両方の記録方式に適用可能であり、また直接光再生方式
に適用することができる。記録する場合には磁界を与え
るコイルが設けられるのはいうまでもない。

この発明においては、光学部品としてのレンズ、プリズ
ム、回折格子、ミラー、１７４波長板等が用いられてい
ないので、装置の小型化、軽量化を図ることができる。

とくに、書込み、読出し用の第１の光学系とエラー検出
用の第２の光学系のいずれもが先導波路からレーザ光を
斜め上方に出射させかつ斜め上方からの反射光を受光す
るように構成されているから、アイソレータ光学系を省
略することができる。

実施例の説明 （１）ヘッドの構成の概要 第１図は光磁気書込み、読取り用ヘッド９の構成の一例
を示している。この図には光学系のみが示され、光磁気
書込みに必要な磁界を発生するコイルは図示されていな
い。

まず、フォーカシング・エラーおよびトラッキング・エ
ラー検出用の光学系（第２の光学系）について説明する
。

試合１０上に、光源としての半導体レーザ１３および基
板１■が配置されかつ固定されている。

基板１１にはたとえばＳ１結晶が用いられ、この基板１
１上面に８１の熱酸化またはＳｉＯ２の蒸着もしくはス
パッタにより基板１１上面にＳ　ｉ　Ｏ２バッファ層が
形成されたのち、たとえばコーニング７０５９などのガ
ラスをスパッタすることにより先導波層１２が形成され
ている。半導体レーザ１３はバット・エツジ（ｂｕｔｔ
　ｅｄｇｅ）結合法により光導波層１２の一端に光結合
している。半導体レーザ１３から出射したレーザ光はこ
の光導波層１２に入射しかつ伝播する。

光導波層１２上にはコリメーティング・レンズ１４゜カ
ップリング・レンズ１５．漏洩光検知素子１Ｂ、漏洩光
遮断用溝１７および受光部２０がこの順序配列で設けら
れている。コリメーティング−レンズ１４は半導体レー
ザ１３から出射した広がりをもつレーザ・ビームを平行
光に変換するものである。コリメーティング・レンズに
は１図示されているようなフレネル・レンズの他に、ブ
ラッグ・グレーティング・レンズ、ルネブルグ・レンズ
、ジオデシック・レンズなどがある。カップリング・レ
ンズ１５は、光導波層１２を伝播してきたレーザ光を斜
め上方に出射させるとともに、２次元的に集光する（フ
ォーカシング）するものである。このカップリング・レ
ンズは、２次元フォーカシング・グレーティング・カブ
ラといわれているもので、１つのレンズで光の出射機能
と２次元集光機能をもつ。

これは、光の進行方向に向うほど周期（間隔）が小さく
なる円弧状のグレーティングから構成されている。出射
したレーザ光が集光してスポット（１μｍ径程度）を形
成する点がＰで示されている。このレーザ・スポットは
後述する読取り、書込み用のレーザ・スポットと同一点
にあり、この点Ｐが光磁気ディスクの情報記録面上とく
にその案内溝内に位置するように、このヘッド９が配置
される。

受光部２０は、光磁気ディスクの面からの反射光を受光
するためのものであり、上述のレーザ・スポットＰの位
置から斜め下方に反射してくる光を′受光できる位置に
配置されている。

受光部２０は、４つの独立した受光素子２１〜２４から
なる。受光素子２１．２２は中央に隣接して配置され、
これらの受光素子２１．２２の前後に他の受光素子２３
．２４が設けられている。これらの受光素子２１〜２４
を形成すべき部分を、バッファ層および光導波層１２を
形成するときにマスクで田っておいて先導波層１２が形
成されるのを排除しておく。そして。

この部分に不純物を拡散させてＰＮ接合（フォトダイオ
ード）をつくることにより、受光素子２１〜２４を構成
する。受光素子２１〜２４の出力信号は基板！ｌ上に形
成された配線パターン（図示路）により、外部に取出さ
れる。

光導波層１２を伝播する光のすべてがカップリング・レ
ンズ１５により出射（エア中カップリング）される訳で
はなく、出射されずにレンズ１５の位置を通過して受光
部２０の方に漏洩する光も存在する。

漏洩光検知素子１８は、この漏洩光の強度を検知するも
のである。先導波層１２を伝播する光の強度変動は漏洩
光の強度変動としても現われるから、漏洩光の強度を検
知することにより先導波層１２を伝播する光の強度が間
接的に検知される。この検知された強度信号は半導体レ
ーザ１３の駆動回路（図示路）にフィードバックされ、
半導体レーザ１３の出力光の安定化が図られる。検知素
子ＩＢとしてはアモルファス争シリコン（ａ−３ｔ）　
、　ＣｄＴｅ、　ＣｄＳなどが用いられ、ＣＶＤ法、蒸
着法、スパッタ法等により先導波層１２上に直接に形成
される。検知素子１６の検知信号は光導波層１２上に形
成された配線パターン（図示路）により外部に取出され
る。

カップリング・レンズ１５からの漏洩光のすべてが検知
素子ｌＧで消費されるとは限らない。受光部２０は同一
基板１１に形成されているから、検知素子１６の部分を
通過する漏洩光があればこれを検知してしまうおそれが
ある。

漏洩光遮断用溝１７は、検知素子１６と受光部２０との
間に設けられており、検知素子１６の位置を通過して受
光部２０に向う光の伝播を、溝１７の壁面での光の反射
や減衰により防止する役目をもっている。この溝１７は
、イオンビーム加工、電子ビーム加工またはレーザ加工
などにより基板１１の光導波層Ｉ２上に直接に形成すれ
ばよい。溝１７の長さは伝播する光の幅よりも大きい。

また溝１７の深さは光導波層１２の厚さ程度でよい。

光磁気ディスクのデータの書込みおよび読取り用の光学
系（第１の光学系）もまた上述の光学系す と同じように、半導体レーザ３３．コ襲メーティン。

グ・レンズ３４．カップリング・レンズ３５．漏洩光検
知素子３Ｂ、漏洩光遮断用溝１７および受光部４０を有
している。半導体レーザ３３からの出射光はコリメーテ
ィング・レンズ３４でコリメートされたのち。

カップリング・レンズ３５から空中に出射し、上述の点
Ｐに焦点を結ぶ。そして、光磁気ディスクの磁気記録面
からの反射光が受光部４０で受光される。

光検知素子３Ｂおよび遮断溝３７の役割は同１８．１７
のそれと同じである。

カップリング・レンズ３５上には偏光子片３８が貼付さ
れている。この偏光子片３８はカップリング・レンズ３
５から出射する光を直線偏光に変換するものである。

受光部４０は、多数の受光素子４１ａ、４２ａを有して
いる（第２図参照）。これらの受光素子４１ａ、４２ａ
もまた受光素子２１〜２４と同じようにしてつくられる
。これらの受光素子４１ａ、４２ａ上には検光子片４１
、４２がそれぞれ貼付されている。検光子片４１と４２
はそれらの主軸が瓦いに９０″ずれるように配置されて
いる。また、互いに９０°ずれるように配置された検光
子片４１，４２が交互に設けられている。

上記実施例では受光素子２１〜２４．４１ａ、４２ａの
部分には先導波層１２は形成されていないが、光導波層
１２上に直接にＣＶＤ法により受光素子となるアモルフ
ァス争シリコン（ａ−３１）を形成してもよい。

受光素子の材料としては、他にＣｄＴｅ、　ＣｄＳなど
を用いることができる。

カップリング・レンズを、平行光を光導波層■２上で集
束させる機能をもつフレネル型のグレーティング−レン
ズと、光導波層■２を伝播する光を空中に出射させると
ともに一直線状に集光する機能をもつチャーブ型グレー
ティング・カブラとの組合せにより構成することもでき
る。グレーティングΦカプラは光の進行方向に向って周
期（間隔）が小さくなる直線状のグレーティングである
。グレーティング・レンズの焦点とグレーティング・カ
ブラの焦点とが同一点Ｐにあれば、先導波層１２から出
射した光は点Ｐで１点に集光する。

第１図においては、１つの基板上に光を空中に出射させ
る光学系と受光光学系とが設けられているが、これらの
光学系をそれぞれ別個の基板に設けてもよい。また、受
光光学系が設けられる基板または基板部分には先導波層
を形成しなくてもよい。

さらに基板としてｎＧａＡｓ結晶を用い、この基板上面
にＡｌＧａＡｓ層を介してｐＧＨＡｓによる先導波層を
形成し、さらに半導体レーザを基板１に一体的に形成し
てもよい。

さらに、エラー検出用の光学系として第１図には１ビ一
ム方式が採用されているが、２ビ一ム方式、３ビーム方
式としてもよい。この場合には。

コリメーティング中レンズ１４によって平行化された光
を２または３の光ビームに分離し、これらを２または３
のカップリング・レンズによって独立に空中に出射させ
、別個の位置に集光させればよい。２または３の光ビー
ムのスポットは、書込み、読取り用の光学系のスポット
Ｐの近傍に形成されるようにする。３ビームの光学系の
一例が。

たとえば特願昭５９−１８４７７７号に記載されている
。

この光学系によると、もちろんフォーカシング書エラー
およびトラッキング・エラーの検出が可能である。

（２）書込みおよび読取りの原理 光磁気ディスクのデータの書込みは、磁界変調方式また
は光変調方式に依る。この場合にはレーザ・スポットＰ
の近傍にコイルが配置される。

光磁気ディスクからのデータの読取りは直接光再生方式
に依る。

第４図の矢印ａ、ｂは検光子片４１，４２の主軸方向を
示している。このように検光子片４１．４２の主軸の方
向は９０６異なっている。

第３図は読取り回路の一例を示している。一方の検光子
片４１の下にある受光素子４１ａの出力信号（端子ＡＩ
−Ａ５）は加算回路５１に入力し相互に加算される。他
方の検光子片４２の下にある受光素子４２ａの出力信号
（端子旧〜Ｂ５）は加算回路５２に人力し、相互に加算
される。これらの加算回路５１゜５２の出力は差動増巾
回路５３に送られその差が演算される。

カップリング・レンズ３５から出射され偏光子３８によ
って直線偏光に変換された光は光磁気ディスク面に当っ
て反射し、検光子片４１．４２を通して受光素子４１ａ
、４２ａによって検知される。第５図（＾）における太
い実線の矢印Ｃは、光磁気ディスクのデータの記録され
ていない部分で反射した光の偏光方向を示している。検
光子片４１．４２の主軸方向に対してこの反射光の偏光
方向が±４５°傾いているものとする。この場合には加
算回路５１．５２の出力の大きさは等しく、これを１０
とする。光磁気ディスクの磁気記録部分に光が当ると磁
気光学効果（カー効果）によって反射光の偏光面がある
角度θだけ回転する。このときの反射光の偏光方向が第
５図（Ｂ）に矢印Ｃで示されている。このときの加算回
路５１．５２の出力はそれぞれ（ｌｏ＋　Ａθ）。

（ｌｏ−Ａθ）となる。ここでＡは定数である。したが
って、差動増巾回路５３の出力信号は２八〇となる。こ
れが読取り信号であり、この信号の大きさは光磁気ディ
スクに記録されている信号の大きさに比例している。

（３）フォーカシング・エラーの検出 光磁気ディスクの情報記録面にはそのトラックにそって
データの書込み、読取りのガイドとなる案内溝が形成さ
れている。第６図は、光磁気ディスク８１と書込み、読
取り用へラド９との位置関係を光磁気ディスク８１をそ
の周方向にそって切断して示すものである。カップリン
グ・レンズ１５から出射したレーザ光は光磁気ディスク
８１の情報記録面（第６図では案内溝８２を含む部分）
で反射して受光部２０で受光される。第６図ではより分
りやすくするために受光素子２１〜２４がやや突出して
描かれている。第７図は、光磁気ディスク８１からの反
射光が受光部２０を照射するその範囲を示している。

第６図において、実線で示された光磁気ディスク８１お
よび案内溝８２は、ディスク８１とヘッド９との間の距
離が最適であり、出射光のディスク８１」ニへのフォー
カシングが正しく行なわれている様子を示すものである
。このときの受光部２０における反射光の照射領域がＱ
で示されている。この照射領域Ｑは中央の受光素子２１
．２２上に位置しており。

他の受光素子２３．２４には反射光は受光されない。

光磁気ディスク８１とヘッド９との間の距離が相対的に
大きくまたは小さくなって適切なフォーカシングが行な
われない場合のディスク８１の位置が第６図に鎖線で示
されている。ディスク８１とヘッド９との間の距離が相
対的に小さくなった場合（−△ｄの変位）には１反射光
の照射領域（Ｑｌで表わされている）は受光素子２３側
に寄る。受光素子２３は差動増幅器７１の負側に、受光
素子２４は正側にそれぞれ接続されているから、この場
合には差動増幅器７１の出力は負の値を示し、この値は
変位量−△ｄの大きさを表わしている。

ディスク８１とヘッド９との間の距離が相対的に大きく
なった場合（＋△ｄの変位）には１反射光の照射領域（
Ｑ２で表わされている）は受光索子２４側に寄る。差動
増幅器７１の出力は正の値を示し。

かつこの値は変位量＋Δｄを表わす。

このようにして、ヘッド９からの出射光ビームのフォー
カシングが適切であるかどうか、フォーカシング・エラ
ーが生じている場合にはエラーの方向と大きさが差動増
幅器７１の出力から検知される。フォーカシング・エラ
ーが無い場合には差動増幅器７１の出力は零である。

（４）トラッキング・エラーの検出 第８図は、光磁気ディスク８１に形成された案内溝８２
表受光部２０の受光素子２１．２２とを同一平面上に配
置して示したものであり、いわば光磁気ディスク８１を
その面方向に透視して受光素子２１．２２をみた図であ
る。差動増幅器７２は受光素子２１．２２との電気的接
続関係を明らかにする目的で図示されている。第８図（
Ａ）は、レーザ参ビーム・スポットＰがトラック（案内
溝８２）の巾方向の中心上に正確に位置している様子を
示している。第８図（Ｂ）　（Ｃ）はスポットＰがトラ
ック（案内溝８２）の左右にそれぞれ若干ずれ、トラッ
キング・エラーが生じている様子を示している。いずれ
の場合にも。

適切にフォーカシングされているものとする。

レーザ・スポットＰが光磁気ディスク８１の情報記録面
に当たり、その反射光の強度が案内溝８２の存在によっ
て変調される。すなわち案内溝８２の存在によって受光
部２０に受光される光強度は小さくなる。

受光素子２１と２２は光軸を境として左右に分割されて
いる。レーザ・スポットＰの中心と案内溝８２の巾方向
の中心とが一致している場合には、受光索子２１と２２
に受光される光量は等しく、差動増幅器７２の出力は零
である。

第８図（Ｂ）に示すように、レーザφスポットＰが案内
溝８２の左側にずれた場合には、受光索子２１に受光さ
れる光量の方が多くなり、差動増幅器７２からは正の出
力が発生する。逆に、第８図（Ｃ）に示すように、レー
ザ・スポットＰが案内溝８２の右側にずれると差動増幅
器７２には負の出力が生じる。

このようにして、差動増幅器７２の出力によりビーム・
スポットＰがディスク８１のトラックに正確に沿ってい
るか、トラッキング・エラーが生じているか、それは左
、右のどちらにずれたエラーかが検出される。

（５）フォーカシングおよびトラッキング駆動機構 第９図から第１１図はフォーカシング駆動機構およびト
ラッキング駆動機構を示している。

支持板１００の一端部に支持部材１０１が立設されてい
る。この支持部材１０１の両側下端部は切欠かれている
（符号１０２）。支持板１００の他端部上力には可動部
材１０３が位置している。上下方向に弾性的に屈曲しう
る４つの板ばね１２１．１２２の一端は支持部材１０１
の上端両側および下部切欠き　１０２に固定されており
、他端は可動部材１０３の上端および下端の両側にそれ
ぞれ固定されている。したがって、可動部材１０３はこ
れらの板ばね　１２１．１２２を介して上下方向に運動
しうる状態で支持部材１０１に支持されている。

ヘッド９を載置したステージ１１０は、上部の方形枠１
■２．方形枠１１２の両端から下方にのびた両脚１１４
．１１５および方形枠１１２の中央部がら下方にのびた
中央脚１１３から構成されている。方形枠１１２上にヘ
ッド９が載置固定されている。横方向に弾性的に屈曲し
うる４つの板ばね　１３１の一端は可動部材１０３の両
側上、下部に固定され、他端はステージ１１０の中央脚
１１３の両側上、下部に固定されている。ステージ　１
１０は、これらの板ばね　１３１を介して横方向（第８
図の左右方向と一致する）に。

運動しうる状態で支持されている。したがって。

ステージ　１１０は、上下方向（フォーカシング）およ
び横方向（トラッキング）に移動自在である。

支持板１００．支持部材１０１．可動部材１０３および
ステージ１１Ｇは非磁性材料、たとえばプラスチックに
より構成されている。

支持部材１０１および可動部材１０３の内面にはヨーク
　１０４．１０５が固定されている。ヨーク　１０４は
。

支持部材１０１に固定された垂直部分１０４ａと、これ
と間隔をおいて位置するもう１つの垂直部分１０４ｂと
、これらの画部分１０４ａ、　１０４ｂをそれらの下端
で結合させる水平部分とから構成されている。ヨーク　
１０５もヨーク　１０４と全く同じ形状であり、一定の
間隔をおいて離れた２つの垂直部分１０５ａ、　１０５
ｂを備えている。

これらのヨーク　１０４．１０５の垂直部分ＬＯ４ａ、
　１０５ａの内面には、この内面側をたとえばＳ極とす
る永久磁石ＩＨがそれぞれ固定されている。そして。

ヨーク　１０４．１０５の他方の垂直部分１０４ｂ、１
０５ｂと永久磁石１０６との間に、ステージ　１１０の
脚１１４．１１５がそれらに接しない状態でそれぞれ入
り込んでいる。

ステージ　１１０の両脚１１４．１１５のまわりにはフ
ォーカシング駆動用コイル１２３が水平方向に巻回され
ている。またこれらの脚１１４．１１５の一部には。

永久磁石１０Ｂと対向する部分において上下方向に向う
部分を有するトラッキング駆動用コイル１３３が巻回さ
れている。

フォーカシング駆動機構は第１Ｏ図に最もよく示されて
いる。永久磁石１０Ｂから発生した磁束Ｈは鎖線で示さ
れているようにヨーク　１０４．１０５の垂直部分１０
４ｂ、　ＬＯ５ｂにそれぞれ向う。この磁界を横切って
水平方向に配設されたコイル１２３に、たとえば第１Ｏ
図において紙面に向う方向に駆動電流が流されると、上
方に向う力Ｆｆが発生する。この力Ｆｆによってステー
ジ　１１０は上方に移動する。ステージ　１１０の移動
量はコイル１２３に流される電流の大きさによって［Ｅ
することができる。したがって、上述した差動増幅器７
１の出力信号に応じてこの駆動電流の方向を切換えるこ
とにより、および電流の大きさを調整するまたは電流を
オン、オフすることにより、フォーカシング制御を行な
うことができる。

トラッキング駆動機構は第ｉｔ図に最もよく表わされて
いる。コイル１３３の磁界Ｈを上下方向に横切って配設
された部分に、たとえば第１１図で紙面に向う方向に（
第９図で下方に向って）駆動電流を流すと、第１１図に
おいて上方に向う力（第９図において横方向に向う力）
Ｆｔが発生し、ステージ１１０は同方向に移動する。上
述した差動増幅器７２の出力信号に応じてコイル１３３
に流す電流をオン、オフしたり、電流の方向、必要なら
ばその大きさを調整することにより、トラッキング制御
を行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は光磁気書込み、読取り用ヘッドを示す斜視図で
ある。 第２図は読取り用受光部の構成を示す平面図である。 第３図は読取り回路を示している。 第４図は検光子片の主軸の方向を示す図、第５図は反射
光の基準偏光方向および磁気光学効果によって回転され
た偏光方向を示す図である。 第６図は、光磁気ディスクと光磁気書込み読取りヘッド
との位置関係を示す断面図である。 第７図は、受光部上におけるフォーカシング・エラーの
検出原理を示す図である。 第８図は、トラッキング・エラーの検出原理を示す図で
ある。 第９図から第１１図は、フォーカシングおよびトラッキ
ング駆動機構を示すもので、第９図は斜視図、第１Ｏ図
は第９図のＸ−Ｘ線にそう断面図、第１１図はヘッドを
除去して示す平面図である。 ９・・・光磁気書込み読取りヘッド、　１１・・・基板
。 １２・・・光導波路、　　　１３．３３・・・半導体レ
ーザ。 １４．３４・・・コリメーティングｅレンズ。 １５．３５・・・カップリング・レンズ。 ２０．４０　・＝−受光部、　　２１〜２４，４１ａ、
４２ａ−受光素子。 ４１．４２・・・検光子片、　　１０４．１０５・・・
ヨーク。 １０６・・・永久磁石、　　　　１１０・・・ステージ
。 １２１．１２２．１：Ｈ・・・板ばね。 １２３・・・フォーカシング駆動用コイル。 １３３・・・トラッキング駆動用コイル。 以　　上 特許出願人　　立石電機株式会社 代　　理　　人　　　牛　　久　　健　　ｍ４１名 第４図 第５図 （Ａ）　　　　　　　　　（Ｂ） 第７図 第８図 第１０図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 光磁気ディスクへのデータの書込みおよび／または光磁
   気ディスクからのデータの読出しを行なうための光情報
   処理装置であり、 書込みおよび／または読出しのために光磁気ディスク上
   に焦点を結ぶ光スポットを投射しかつその反射光を受光
   する第１の光学系と、 この第１の光学系の光スポットを光磁気ディスクの案内
   溝に追従させるためにエラーを検出する第２の光学系と
   を有し、 第１の光学系が、 基板上に形成された光導波路、 光導波路に導入されるレーザ光の光源、 光導波路上に形成され、光導波路を伝播する光を斜め上
   方に出射させかつ２次元的に集光するレンズ手段、 斜め上方から反射してくる光を受光する少なくとも２つ
   の受光素子を有する受光手段、および上記受光素子上に
   主軸が互いに９０°ずらして配置された検光子を備え、 第２の光学系が、 基板上に形成された光導波路、 光導波路に導入されるレーザ光の光源、 光導波路上に形成され、光導波路を伝播する光を斜め上
   方に出射させかつ２次元的に集光するレンズ手段、およ
   び 斜め上方から反射してくる光を受光する手段を備えてい
   る、 光情報処理装置。