JPH06104774B2 - ポリホスファゼンをベースとした床材用組成物 - Google Patents
ポリホスファゼンをベースとした床材用組成物Info
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- JPH06104774B2 JPH06104774B2 JP3352708A JP35270891A JPH06104774B2 JP H06104774 B2 JPH06104774 B2 JP H06104774B2 JP 3352708 A JP3352708 A JP 3352708A JP 35270891 A JP35270891 A JP 35270891A JP H06104774 B2 JPH06104774 B2 JP H06104774B2
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- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L85/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage in the main chain of the macromolecule containing atoms other than silicon, sulfur, nitrogen, oxygen and carbon; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L85/02—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage in the main chain of the macromolecule containing atoms other than silicon, sulfur, nitrogen, oxygen and carbon; Compositions of derivatives of such polymers containing phosphorus
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- E04F—FINISHING WORK ON BUILDINGS, e.g. STAIRS, FLOORS
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は非ハロゲン材料で構成さ
れる床材 (床被覆材) 用組成物、特に、航空機分野で使
用されるポリホスファゼンをベースとした床材用組成物
に関するものである。最も一般的に使用されている床材
はハロゲン化ポリマーを含む組成物、特にポリ塩化ビニ
ル（ＰＶＣ）をベースとした組成物である。これらの組
成物は種々の用途に適しているが、航空機の分野ではハ
ロゲン化ポリマーの使用が問題になりつつある。
れる床材 (床被覆材) 用組成物、特に、航空機分野で使
用されるポリホスファゼンをベースとした床材用組成物
に関するものである。最も一般的に使用されている床材
はハロゲン化ポリマーを含む組成物、特にポリ塩化ビニ
ル（ＰＶＣ）をベースとした組成物である。これらの組
成物は種々の用途に適しているが、航空機の分野ではハ
ロゲン化ポリマーの使用が問題になりつつある。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、航空
機分野でも使用可能な床材用組成物を提供することにあ
る。
機分野でも使用可能な床材用組成物を提供することにあ
る。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明の対象は、ポリホ
スファゼンで構成される結合剤を含むことを特徴とする
航空機分野でも使用可能な床材を製造するのに用いられ
る組成物にある。本発明は特に、高分子量のポリホスフ
ァゼン、特に架橋または加硫が可能なポリホスファゼン
を含む組成物を提供する。本発明は、組成物およびそれ
で作られた床材の耐火性を向上させることができる補強
用充填材、架橋剤または加硫剤、必要な場合には保護剤
(agent de protection)、可塑剤、顔料等のその他の添
加物をさらに含む組成物を提供する。本発明組成物に含
まれるポリホスファゼンは下記〔化２〕：
スファゼンで構成される結合剤を含むことを特徴とする
航空機分野でも使用可能な床材を製造するのに用いられ
る組成物にある。本発明は特に、高分子量のポリホスフ
ァゼン、特に架橋または加硫が可能なポリホスファゼン
を含む組成物を提供する。本発明は、組成物およびそれ
で作られた床材の耐火性を向上させることができる補強
用充填材、架橋剤または加硫剤、必要な場合には保護剤
(agent de protection)、可塑剤、顔料等のその他の添
加物をさらに含む組成物を提供する。本発明組成物に含
まれるポリホスファゼンは下記〔化２〕：
【０００４】
【化２】 （ここで、Ｒは炭素数12以下の有機基、特にハロゲン原
子、炭素数１から12のアルキル基、炭素数１〜６のアル
コキシル基で任意に置換されていてもよいアリール基Ｒ
1 またはアルケニルアリール基Ｒ2 を表し、互いに同一
でも異なってもよい）の繰り返し単位を有するポリマー
の中から選択することができる。アリール基Ｒ1 はフェ
ニル、パラ−エチルフェニル、パラ−ブチルフェニル、
パラ−メトキシフェニルまたはクロロフェニル基である
のが好ましく、アルケニルアリール基Ｒ2 はオルト−ア
リルフェニル基であるのが好ましい。一般には、置換基
Ｒ1 の大部分はアリール基で、アルケニルアリール基Ｒ
2 の比率が低い、例えば15％以下であるポリマーが好ま
しい。特に、分子量が10,000以上、好ましくは100,000
〜2,000,000 のポリマーが用いられるが、この値に限定
されるものではない。ポリホスファゼンの製造方法は種
々の文献中に記載されており、それ自体は本発明の対象
ではない。単なる情報として以下の点を記載する。上記
の式のポリホスファゼンは一般にポリジクロロホスファ
ゼンをアルカリ金属アリール化物（Ｒに対応）を用いて
置換して合成される。このポリジクロロホスファゼンは
種々の経路で合成できるが、ヘキサクロロシクロトリホ
スファゼンの重合 (例、アメリカ合衆国特許第 3,370,0
20号に記載のアルコック(Allcock) 法) またはＮ−（ジ
クロロホスホリル）トリクロロホスファゼンの重縮合
（例、アメリカ合衆国特許第 4,377,558号に記載のド・
ジェーガー(De Jeager) 法) によって合成することがで
きる。これら特許の内容は本明細書の一部を成すもので
ある。
子、炭素数１から12のアルキル基、炭素数１〜６のアル
コキシル基で任意に置換されていてもよいアリール基Ｒ
1 またはアルケニルアリール基Ｒ2 を表し、互いに同一
でも異なってもよい）の繰り返し単位を有するポリマー
の中から選択することができる。アリール基Ｒ1 はフェ
ニル、パラ−エチルフェニル、パラ−ブチルフェニル、
パラ−メトキシフェニルまたはクロロフェニル基である
のが好ましく、アルケニルアリール基Ｒ2 はオルト−ア
リルフェニル基であるのが好ましい。一般には、置換基
Ｒ1 の大部分はアリール基で、アルケニルアリール基Ｒ
2 の比率が低い、例えば15％以下であるポリマーが好ま
しい。特に、分子量が10,000以上、好ましくは100,000
〜2,000,000 のポリマーが用いられるが、この値に限定
されるものではない。ポリホスファゼンの製造方法は種
々の文献中に記載されており、それ自体は本発明の対象
ではない。単なる情報として以下の点を記載する。上記
の式のポリホスファゼンは一般にポリジクロロホスファ
ゼンをアルカリ金属アリール化物（Ｒに対応）を用いて
置換して合成される。このポリジクロロホスファゼンは
種々の経路で合成できるが、ヘキサクロロシクロトリホ
スファゼンの重合 (例、アメリカ合衆国特許第 3,370,0
20号に記載のアルコック(Allcock) 法) またはＮ−（ジ
クロロホスホリル）トリクロロホスファゼンの重縮合
（例、アメリカ合衆国特許第 4,377,558号に記載のド・
ジェーガー(De Jeager) 法) によって合成することがで
きる。これら特許の内容は本明細書の一部を成すもので
ある。
【０００５】架橋または加硫が可能という好ましい特性
を有するポリホスファゼン、特にアリルフェニル置換基
を有するポリホスファゼンの中からポリホスファゼンを
選択する場合には、活性化剤または促進剤と組み合わせ
て用いることができる硫黄、好ましくはフリーラジカル
開始剤を含むことができる。フリーラジカル開始剤とし
ては特にジベンゾイルパーオキシド、 2, 5-ジメチル-
2, 5-ジ (ターシャルブチルパーオキシ) ヘキサン、 1,
1-ジ−ターシャルブチルパーオキシ -3, 3, 5-トリメ
チルシクロヘキサン、ジクミルパーオキサイドまたはビ
ス（ターシャルブチルパーオキシ）ジイソプロピルベン
ゼンあるいはターシャルブチルパーベンゾエートのよう
なパーエステルを挙げられる。加硫剤または架橋剤の量
はポリホスファゼン 100重量部当たり10重量部以下が望
ましく、一般には 0.5〜５重量部用いる。
を有するポリホスファゼン、特にアリルフェニル置換基
を有するポリホスファゼンの中からポリホスファゼンを
選択する場合には、活性化剤または促進剤と組み合わせ
て用いることができる硫黄、好ましくはフリーラジカル
開始剤を含むことができる。フリーラジカル開始剤とし
ては特にジベンゾイルパーオキシド、 2, 5-ジメチル-
2, 5-ジ (ターシャルブチルパーオキシ) ヘキサン、 1,
1-ジ−ターシャルブチルパーオキシ -3, 3, 5-トリメ
チルシクロヘキサン、ジクミルパーオキサイドまたはビ
ス（ターシャルブチルパーオキシ）ジイソプロピルベン
ゼンあるいはターシャルブチルパーベンゾエートのよう
なパーエステルを挙げられる。加硫剤または架橋剤の量
はポリホスファゼン 100重量部当たり10重量部以下が望
ましく、一般には 0.5〜５重量部用いる。
【０００６】本発明組成物は補強用充填材、特に耐火性
を向上可能な無機充填材を含むのが好ましい。無機充填
材としては、アルミナ、水酸化マグネシウム、炭酸マグ
ネシウムが挙げられ、アルミナの中では特にアルミナ三
水和物が挙げられ、粒径が小さい、例えば粒径が２μm
以下の沈降アルミナが特に好ましく、被覆 (例えばステ
アリン酸コーティング) がされていないものが好まし
い。補強用充填材はカップリング剤と一緒に用いるか、
予めカップリング剤で処理した充填剤を用いるのが有利
である。カップリング剤は有機官能基を有するシランま
たはチタネートにすることができる。シランとしてはビ
ニルシラン、メルカプトシランまたはアミノシラン等に
することができる。補強用充填剤は混合物でもよく、こ
の混合物は耐火効果を有する充填材のみで構成するか、
耐火効果を有する充填材と耐火効果を有しない上記以外
の充填剤とで構成することもできる。すなわち、耐引裂
強度等の機械特性を改善する目的で沈降シリカを添加す
ることができる。一般的に、本発明組成物はポリホスフ
ァゼン 100重量部当たり 300重量部以下の充填剤を含
み、充填剤の少なくとも50重量％以上は上記のアルミ
ナ、水酸化物または炭酸塩の中から選択する。
を向上可能な無機充填材を含むのが好ましい。無機充填
材としては、アルミナ、水酸化マグネシウム、炭酸マグ
ネシウムが挙げられ、アルミナの中では特にアルミナ三
水和物が挙げられ、粒径が小さい、例えば粒径が２μm
以下の沈降アルミナが特に好ましく、被覆 (例えばステ
アリン酸コーティング) がされていないものが好まし
い。補強用充填材はカップリング剤と一緒に用いるか、
予めカップリング剤で処理した充填剤を用いるのが有利
である。カップリング剤は有機官能基を有するシランま
たはチタネートにすることができる。シランとしてはビ
ニルシラン、メルカプトシランまたはアミノシラン等に
することができる。補強用充填剤は混合物でもよく、こ
の混合物は耐火効果を有する充填材のみで構成するか、
耐火効果を有する充填材と耐火効果を有しない上記以外
の充填剤とで構成することもできる。すなわち、耐引裂
強度等の機械特性を改善する目的で沈降シリカを添加す
ることができる。一般的に、本発明組成物はポリホスフ
ァゼン 100重量部当たり 300重量部以下の充填剤を含
み、充填剤の少なくとも50重量％以上は上記のアルミ
ナ、水酸化物または炭酸塩の中から選択する。
【０００７】本発明組成物は、５重量部 (ポリホスファ
ゼン 100重量部当たり) 以下の抗酸化剤、例えばフェノ
ール誘導体を含むことができる。この添加剤の量は 2.5
重量部以下であるのが好ましい。本発明組成物はさらに
二酸化チタン等の光安定剤を含むことができ、これにさ
らにベンゾフェノン誘導体を組み合わせることもでき
る。一般に、光安定剤の量はポリホスファゼン 100重量
部当たり５重量部未満、好ましくは 0.5〜2.5 重量部使
用するのが好ましい。本発明組成物はさらに25重量部
(ポリホスファゼン 100重量部当たり) 以下、好ましく
は15重量部以下の可塑剤を含むことができる。この可塑
剤はホスフェート、ポリホスフェートおよびホスフォネ
ートの中から選択することができる。特に、トリクレシ
ルホスフェート、トリフェニルホスフェート、クレシル
ジフェニルホスフェート、ジフェニルホスフェート、イ
ソデシルホスフェート、2-エチルヘキシルジフェニルホ
スフェートを挙げることができる。本発明組成物は公知
の顔料および染料をポリホスファゼン 100重量部当たり
０〜５重量部の割合で含むこともできる。
ゼン 100重量部当たり) 以下の抗酸化剤、例えばフェノ
ール誘導体を含むことができる。この添加剤の量は 2.5
重量部以下であるのが好ましい。本発明組成物はさらに
二酸化チタン等の光安定剤を含むことができ、これにさ
らにベンゾフェノン誘導体を組み合わせることもでき
る。一般に、光安定剤の量はポリホスファゼン 100重量
部当たり５重量部未満、好ましくは 0.5〜2.5 重量部使
用するのが好ましい。本発明組成物はさらに25重量部
(ポリホスファゼン 100重量部当たり) 以下、好ましく
は15重量部以下の可塑剤を含むことができる。この可塑
剤はホスフェート、ポリホスフェートおよびホスフォネ
ートの中から選択することができる。特に、トリクレシ
ルホスフェート、トリフェニルホスフェート、クレシル
ジフェニルホスフェート、ジフェニルホスフェート、イ
ソデシルホスフェート、2-エチルヘキシルジフェニルホ
スフェートを挙げることができる。本発明組成物は公知
の顔料および染料をポリホスファゼン 100重量部当たり
０〜５重量部の割合で含むこともできる。
【０００８】本発明組成物は各構成成分を混合して製造
することができる。好ましくはロール混合機、例えば１
〜５mmの厚さのケーキが得られる２本の摩擦型ロールを
備えたロール混合機を用い、得られたケーキをロール混
合機に縦方向すなわちロール軸線に対して直角に再投入
して均一化するが好ましい。この混練・再投入操作を例
えば４〜10回繰り返して行うのが好ましい。構成成分の
最初の導入操作は以下の順序で行うのが好ましい：ポリ
ホスファゼン／保護剤、顔料、可塑剤、シリカ／耐火性
充填材／過酸化物 (必要な場合には少量の充填材に希釈
して導入する) 。この混合操作は一般に20℃〜80℃の温
度で行う。この温度はロール混合機に水を循環させる等
によって冷却して維持する。混合操作の終了後にはケー
キを例えば24時間放置するのが好ましい。その後、所望
の厚さのシートが得るようにロール間摩擦を低く調節し
たロール混合機を通す。こうして得られた組成物は一般
に 120〜220 ℃で架橋または加硫される。この架橋また
は加硫は、床材の形状に適したキャビテーを有する金型
中で一般に 107〜３×107 Paの圧力下で行われる。
することができる。好ましくはロール混合機、例えば１
〜５mmの厚さのケーキが得られる２本の摩擦型ロールを
備えたロール混合機を用い、得られたケーキをロール混
合機に縦方向すなわちロール軸線に対して直角に再投入
して均一化するが好ましい。この混練・再投入操作を例
えば４〜10回繰り返して行うのが好ましい。構成成分の
最初の導入操作は以下の順序で行うのが好ましい：ポリ
ホスファゼン／保護剤、顔料、可塑剤、シリカ／耐火性
充填材／過酸化物 (必要な場合には少量の充填材に希釈
して導入する) 。この混合操作は一般に20℃〜80℃の温
度で行う。この温度はロール混合機に水を循環させる等
によって冷却して維持する。混合操作の終了後にはケー
キを例えば24時間放置するのが好ましい。その後、所望
の厚さのシートが得るようにロール間摩擦を低く調節し
たロール混合機を通す。こうして得られた組成物は一般
に 120〜220 ℃で架橋または加硫される。この架橋また
は加硫は、床材の形状に適したキャビテーを有する金型
中で一般に 107〜３×107 Paの圧力下で行われる。
【０００９】本発明組成物は航空機の床被覆材を製造す
るのに特に適しており、本発明で得られる床被覆材は航
空機分野の全ての規定を満足する。この利用分野は本発
明の具体例を示すためのものであって、本発明を限定す
るものではなく、航空機の床被覆材と同じような他の用
途に本発明組成物が応用できるということは理解できよ
う。以下、本発明の具体的実施例を説明する。なお、
“部”は重量部を表す。
るのに特に適しており、本発明で得られる床被覆材は航
空機分野の全ての規定を満足する。この利用分野は本発
明の具体例を示すためのものであって、本発明を限定す
るものではなく、航空機の床被覆材と同じような他の用
途に本発明組成物が応用できるということは理解できよ
う。以下、本発明の具体的実施例を説明する。なお、
“部”は重量部を表す。
【００１０】
【実施例】実施例１ 摩擦比が1.33である水冷機能を備えた２本のロールを有
する混合機に下記のものを順次導入する： (1) 分子量 (光散乱で求めた重量平均分子量) が 1,200,000 である〔化２〕で表わされるポリホスファゼン 100 部 (Ｒの90％はフェニル基、10％はオルト−アリルフェニル基) (2) 平均粒径が 1.5〜２μm であるアルミナ三水和物 110 部 (3) 平均粒径が 0.02 μm である沈降シリカ 30 部 (4) ジクミルパーオキサイド 2 部 混合温度は50〜70℃に維持し、ロール間隙は 1.5〜2.5m
m に調節する。ロール出口の所で得られたケーキをドク
ターブレードを用いて掻き取り、縦方向からロールに再
投入する。この操作を６回反復する。24時間放置後、ロ
ール間隙間を約１mmに狭め、摩擦を無くしたロール間に
ケーキを再度通すと、厚さが３〜５mmのシートが得られ
る。このシートを金型に入れ、2.2 ×107 Paの圧力(金
型の型締圧力) 且つ 170℃の温度で12分間成形する。こ
うして、 200×200 ×1.5mm の寸法を有するスラブが得
られる。得られたスラブの測定値および特性、規格、航
空機材料推奨規準は表１にまとめて示してある。
する混合機に下記のものを順次導入する： (1) 分子量 (光散乱で求めた重量平均分子量) が 1,200,000 である〔化２〕で表わされるポリホスファゼン 100 部 (Ｒの90％はフェニル基、10％はオルト−アリルフェニル基) (2) 平均粒径が 1.5〜２μm であるアルミナ三水和物 110 部 (3) 平均粒径が 0.02 μm である沈降シリカ 30 部 (4) ジクミルパーオキサイド 2 部 混合温度は50〜70℃に維持し、ロール間隙は 1.5〜2.5m
m に調節する。ロール出口の所で得られたケーキをドク
ターブレードを用いて掻き取り、縦方向からロールに再
投入する。この操作を６回反復する。24時間放置後、ロ
ール間隙間を約１mmに狭め、摩擦を無くしたロール間に
ケーキを再度通すと、厚さが３〜５mmのシートが得られ
る。このシートを金型に入れ、2.2 ×107 Paの圧力(金
型の型締圧力) 且つ 170℃の温度で12分間成形する。こ
うして、 200×200 ×1.5mm の寸法を有するスラブが得
られる。得られたスラブの測定値および特性、規格、航
空機材料推奨規準は表１にまとめて示してある。
【００１１】
【表１】 上記スラブをＡＳＴＭ規格Ｅ662 に従ってＮＢＳチャン
バー中で有炎または無炎で熱分解試験した。結果は表２
に示してある。
バー中で有炎または無炎で熱分解試験した。結果は表２
に示してある。
【００１２】
【表２】 上記スラブの燃焼生成物の分析結果は表３に示してあ
る。
る。
【００１３】
【表３】
【００１４】実施例２ 実施例１の２ロール式混合機に下記のものを順次導入す
る： (1) 実施例１のポリホスファゼン 100 部 (2) 沈降シリカ（実施例１） 25 部 TiO2 5 部 フェノール誘導体 0.5 部 (イルガノックス、登録商標 Irganox 1010 ） ホスフェート 1 部 (サンティサイザー、登録商標 Santicizer 141) (3) アルミナ三水和物 (実施例１) 110 部 (4) ビス (ターシャルブチルパーオキシ) ジイソプロピルベンゼン 1 部 混合および成形操作は実施例１に記載の方法に従って行
うが、成形時間は19分にした。得られた結果は表４に示
してある。
る： (1) 実施例１のポリホスファゼン 100 部 (2) 沈降シリカ（実施例１） 25 部 TiO2 5 部 フェノール誘導体 0.5 部 (イルガノックス、登録商標 Irganox 1010 ） ホスフェート 1 部 (サンティサイザー、登録商標 Santicizer 141) (3) アルミナ三水和物 (実施例１) 110 部 (4) ビス (ターシャルブチルパーオキシ) ジイソプロピルベンゼン 1 部 混合および成形操作は実施例１に記載の方法に従って行
うが、成形時間は19分にした。得られた結果は表４に示
してある。
【００１５】
【表４】
【００１６】実施例３ 実施例１の混合機に下記のものを順次導入する: (1) 実施例１のポリホスファゼン 100 部 (2) 実施例２のホスフェート ０または
10部 (3) 実施例１のアルミナ三水和物 150 部 (4) ジクミルパーオキサイド 2 部 実施例１に記載の方法で混合操作を行った後、 200×20
0 ×1.5 mm寸法のスラブを 170℃で、 2.2×107 Paの圧
力 (鋳型の型締圧力) で10分間成形する。得られたスラ
ブについて測定した結果は表５に示してある。
10部 (3) 実施例１のアルミナ三水和物 150 部 (4) ジクミルパーオキサイド 2 部 実施例１に記載の方法で混合操作を行った後、 200×20
0 ×1.5 mm寸法のスラブを 170℃で、 2.2×107 Paの圧
力 (鋳型の型締圧力) で10分間成形する。得られたスラ
ブについて測定した結果は表５に示してある。
【００１７】
【表５】
Claims (13)
- 【請求項１】 ポリホスファゼンで構成されるバインダ
ーを含むことを特徴とする航空機分野でも使用可能な床
材を製造するのに用いられる組成物。 - 【請求項２】 ポリホスファゼンが架橋可能または加硫
化可能な高分子量のポリホスファゼンである請求項１に
記載の組成物。 - 【請求項３】 組成物および床材の耐火性を向上させる
ことができる強化用充填材と、架橋剤または加硫剤と、
必要に応じて添加される保護剤、可塑剤、顔料等のその
他の添加剤とを上記バインダー以外に含む請求項１また
は２に記載の組成物。 - 【請求項４】 ポリホスファゼンが下記〔化１〕： 【化１】 （ここで、Ｒは炭素数12以下の有機基、特にハロゲン原
子、炭素数１から12のアルキル基、炭素数１〜６のアル
コキシル基で任意に置換されていてもよいアリール基Ｒ
1 またはアルケニルアリール基Ｒ2 を表し、互いに同一
でも異なってもよい）の繰り返し単位を有するポリマー
の中から選択される請求項１〜３のいずれか一項に記載
の組成物。 - 【請求項５】 〔化１〕のＲの大部分がフェニル、パラ
−エチルフェニル、パラ−ブチルフェニル、クロロフェ
ニルまたはパラ−メトキシフェニルのようなアリール基
Ｒ1 の１つを表し、その15％以下がオルト−アリルフェ
ニル基のようなアルケニルアリール基Ｒ2 である請求項
４に記載の組成物。 - 【請求項６】 ポリホスファゼンの分子量が10,000以
上、好ましくは 100,000〜2,000,000 である請求項１〜
５のいずれか一項に記載の組成物。 - 【請求項７】 加硫剤または架橋剤が活性化剤または促
進剤と組合されていてもよい硫黄およびフリーラジカル
開始剤、特に過酸化物またはパーエステルによって構成
される群の中から選択される請求項３に記載の組成物。 - 【請求項８】 加硫剤または架橋剤をポリホスファゼン
100部当たり10重量部以下含む請求項７に記載の組成
物。 - 【請求項９】 耐火性を向上させることができる強化用
充填材がアルミナ、水酸化マグネシウムおよび炭酸マグ
ネシウムによって構成される群の中から選択される請求
項１〜８のいずれか一項に記載の組成物。 - 【請求項１０】 強化用充填材をポリホスファゼン 100
重量部当たり 300重量部以下含み、その少なくとも半分
が耐火性を向上させることができる強化用充填材である
請求項９に記載の組成物。 - 【請求項１１】 耐火性を向上させることができる強化
用充填材と、沈降シリカとを含む請求項10に記載の組成
物。 - 【請求項１２】 請求項１〜11のいずれか一項に記載の
組成物の各成分を混合し、成形することを特徴とする床
材の製造方法。 - 【請求項１３】 請求項１〜11のいずれか一項に記載の
組成物で作られた床被覆材。
Applications Claiming Priority (2)
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