JPH06104637B2 - シクロヘキサノン及びシクロヘキサノールの混合物から不純物を除去する方法 - Google Patents
シクロヘキサノン及びシクロヘキサノールの混合物から不純物を除去する方法Info
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- JPH06104637B2 JPH06104637B2 JP2091639A JP9163990A JPH06104637B2 JP H06104637 B2 JPH06104637 B2 JP H06104637B2 JP 2091639 A JP2091639 A JP 2091639A JP 9163990 A JP9163990 A JP 9163990A JP H06104637 B2 JPH06104637 B2 JP H06104637B2
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- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はシクロヘキサンを酸化することにより得られる
シクロヘキサノンとシクロヘキサノールの混合物からシ
クロヘキサノールと沸点の近い不純物を効率的に分離す
る方法に関するものである。
シクロヘキサノンとシクロヘキサノールの混合物からシ
クロヘキサノールと沸点の近い不純物を効率的に分離す
る方法に関するものである。
［従来の技術］ シクロヘキサン（沸点81℃）を分子状酸素含有ガスで液
相酸化することによりシクロヘキサンからシクロヘキサ
ノン（沸点156.5℃）とシクロヘキサノール（沸点161
℃）を製造する際に、目的の主生成物であるシクロヘキ
サノン、シクロヘキサノールの他に多数の副生物が生成
する。
相酸化することによりシクロヘキサンからシクロヘキサ
ノン（沸点156.5℃）とシクロヘキサノール（沸点161
℃）を製造する際に、目的の主生成物であるシクロヘキ
サノン、シクロヘキサノールの他に多数の副生物が生成
する。
この副生物として生成する主なものとしては、カルボン
酸類、アルデヒド類、ケトン類、エステル類、エーテル
類、アルコール類等の酸素含有化合物や、炭化水素類が
ある。これらの不純物は全て未酸化の過剰のシクロヘキ
サン中に溶解している。これら不純物のうち、例えば、
カルボン酸類のような酸性の反応生成物、あるいは水へ
の溶解性の高い低級アルコール類などは、水で抽出する
ことにより、このシクロヘキサン溶液から除去できる。
また、この水抽出工程で除去できなかったカルボン酸類
及びエステル類のうち鹸化されやすい化合物は、アルカ
リ水溶液により鹸化され、除去される。これらの工程で
除去されない不純物は、その後の蒸留工程に供せられ
る。これら不純物の多くは、シクロヘキサノンあるいは
シクロヘキサノールとは沸点に大きな違いがあり、低沸
点成分もしくは、高沸残分として分離することが可能で
ある。
酸類、アルデヒド類、ケトン類、エステル類、エーテル
類、アルコール類等の酸素含有化合物や、炭化水素類が
ある。これらの不純物は全て未酸化の過剰のシクロヘキ
サン中に溶解している。これら不純物のうち、例えば、
カルボン酸類のような酸性の反応生成物、あるいは水へ
の溶解性の高い低級アルコール類などは、水で抽出する
ことにより、このシクロヘキサン溶液から除去できる。
また、この水抽出工程で除去できなかったカルボン酸類
及びエステル類のうち鹸化されやすい化合物は、アルカ
リ水溶液により鹸化され、除去される。これらの工程で
除去されない不純物は、その後の蒸留工程に供せられ
る。これら不純物の多くは、シクロヘキサノンあるいは
シクロヘキサノールとは沸点に大きな違いがあり、低沸
点成分もしくは、高沸残分として分離することが可能で
ある。
しかしながら、水への溶解性も小さく、鹸化もうけにく
く、主成分蒸留条件下で、シクロヘキサノンとシクロヘ
キサノールの沸点の間、もしくは、シクロヘキサノール
の沸点に非常に近接する点で沸騰する成分が存在する。
即ち、主成分であるシクロヘキサノン、シクロヘキサノ
ールをその混合物から蒸留分離するために、通常、経済
性を考慮し、工業的に採用される塔頂圧20〜400Torr、
塔頂温度70〜130℃の蒸留条件下では分離不可能な少量
の不純物がある。これらの代表的なものとして、例え
ば、ブチルシクロヘキシルエーテル、ｎ−ペンチルシク
ロヘキサン、酢酸シクロヘキシルなどがある。
く、主成分蒸留条件下で、シクロヘキサノンとシクロヘ
キサノールの沸点の間、もしくは、シクロヘキサノール
の沸点に非常に近接する点で沸騰する成分が存在する。
即ち、主成分であるシクロヘキサノン、シクロヘキサノ
ールをその混合物から蒸留分離するために、通常、経済
性を考慮し、工業的に採用される塔頂圧20〜400Torr、
塔頂温度70〜130℃の蒸留条件下では分離不可能な少量
の不純物がある。これらの代表的なものとして、例え
ば、ブチルシクロヘキシルエーテル、ｎ−ペンチルシク
ロヘキサン、酢酸シクロヘキシルなどがある。
公知のシクロヘキサノンとシクロヘキサノールの混合物
から純粋なシクロヘキサノンの製造は次のように実施す
る。シクロヘキサノンよりも低沸点の成分を第１留分と
して第１蒸留塔で蒸留分離した後、シクロヘキサノンの
大部分をシクロヘキサノン精溜塔、すなわち第２蒸留塔
で第２留分として溜出する。第３蒸留塔で溜出する第３
留分中にはシクロヘキサノンの残りと全てのシクロヘキ
サノール、及びシクロヘキサノンとシクロヘキサノール
の沸点の間、もしくはシクロヘキサノールの沸点に非常
に近接する点で沸騰する成分が含有される。高沸点不純
物は残分として残る。ついで、第３蒸留塔で溜出させた
シクロヘキノールを主成分とする第３留分を脱水素反応
帯域へと導き、シクロヘキサノールを脱水素してシクロ
ヘキサノンとし、第１蒸留塔に循環させる。通常、この
脱水素反応は気相でCu系の触媒を用い、250〜400℃の間
で行なわれ、シクロヘキサノールの転換率は、60〜80％
に保持される。この脱水素反応の条件では、前述した蒸
留で分離不可能な不純物の多くは反応の前後で変化しな
い。従って、これら不純物を含む成分を単に循環してい
るとシクロヘキサノン蒸留系、脱水素反応系において蓄
積増加することになる。たとえば、該不純物は、蒸留系
に最初に導入されるシクロヘキサノン及びシクロヘキサ
ノールの混合物中に通常数100ppmを含むのみであるが、
この循環が進むことにより液中の不純物量は増加し、10
数パーセントまで上昇することがある。従って、この場
合は、製造プロセスの系を部分的又は完全に止めること
によって無害化を行なわなければならず多大な手間とロ
スを要していた。
から純粋なシクロヘキサノンの製造は次のように実施す
る。シクロヘキサノンよりも低沸点の成分を第１留分と
して第１蒸留塔で蒸留分離した後、シクロヘキサノンの
大部分をシクロヘキサノン精溜塔、すなわち第２蒸留塔
で第２留分として溜出する。第３蒸留塔で溜出する第３
留分中にはシクロヘキサノンの残りと全てのシクロヘキ
サノール、及びシクロヘキサノンとシクロヘキサノール
の沸点の間、もしくはシクロヘキサノールの沸点に非常
に近接する点で沸騰する成分が含有される。高沸点不純
物は残分として残る。ついで、第３蒸留塔で溜出させた
シクロヘキノールを主成分とする第３留分を脱水素反応
帯域へと導き、シクロヘキサノールを脱水素してシクロ
ヘキサノンとし、第１蒸留塔に循環させる。通常、この
脱水素反応は気相でCu系の触媒を用い、250〜400℃の間
で行なわれ、シクロヘキサノールの転換率は、60〜80％
に保持される。この脱水素反応の条件では、前述した蒸
留で分離不可能な不純物の多くは反応の前後で変化しな
い。従って、これら不純物を含む成分を単に循環してい
るとシクロヘキサノン蒸留系、脱水素反応系において蓄
積増加することになる。たとえば、該不純物は、蒸留系
に最初に導入されるシクロヘキサノン及びシクロヘキサ
ノールの混合物中に通常数100ppmを含むのみであるが、
この循環が進むことにより液中の不純物量は増加し、10
数パーセントまで上昇することがある。従って、この場
合は、製造プロセスの系を部分的又は完全に止めること
によって無害化を行なわなければならず多大な手間とロ
スを要していた。
また、この不純物の分離方法として特公昭60−39656に
記載あるように、抽出による分離法があるが、分離する
不純物量に対して多量の抽剤を使用するので分離のため
のエネルギーコストが極めて大きいという問題がある。
記載あるように、抽出による分離法があるが、分離する
不純物量に対して多量の抽剤を使用するので分離のため
のエネルギーコストが極めて大きいという問題がある。
［発明が解決しようとする課題］ このような不純物の増加には、次の三つの重要な欠点が
必然的に伴う。
必然的に伴う。
（１） シクロヘキサノン蒸留系において不純物の含有
量が一定の量を越えると、シクロヘキサノンとの分離が
困難となり、純粋なシクロヘキサノンはこの不純物で汚
染されるので、シクロヘキサノンの品質に影響を与え
る。
量が一定の量を越えると、シクロヘキサノンとの分離が
困難となり、純粋なシクロヘキサノンはこの不純物で汚
染されるので、シクロヘキサノンの品質に影響を与え
る。
（２） これら不純物が存在する分だけ脱水素にかけら
れるシクロヘキサノールの量が減ぜられる。即ち、脱水
素の作用度が低下する。
れるシクロヘキサノールの量が減ぜられる。即ち、脱水
素の作用度が低下する。
（３） これら不純物がシクロヘキサノン蒸留系、脱水
素反応系を循環することで、これらを蒸発させる為の熱
負荷などが上昇する。
素反応系を循環することで、これらを蒸発させる為の熱
負荷などが上昇する。
［課題を解決するための手段］ 本発明者らは、上記欠点を解決するために詳細な研究を
行なった結果、シクロヘキサノン蒸留系において、シク
ロヘキサノールと沸点の近い不純物が最も濃縮される場
所、即ち第２蒸留塔の塔底から、すでに循環している不
純物以外で新たに系に供給される不純物量に見合う液量
を抜きだして、シクロヘキサノン及び、シクロヘキサノ
ールを分離するために通常採用される蒸留操作圧力より
も数倍〜数十倍の圧力下で蒸留を行なえば、これら不純
物の分離が可能であることを見出し本発明に到達した。
行なった結果、シクロヘキサノン蒸留系において、シク
ロヘキサノールと沸点の近い不純物が最も濃縮される場
所、即ち第２蒸留塔の塔底から、すでに循環している不
純物以外で新たに系に供給される不純物量に見合う液量
を抜きだして、シクロヘキサノン及び、シクロヘキサノ
ールを分離するために通常採用される蒸留操作圧力より
も数倍〜数十倍の圧力下で蒸留を行なえば、これら不純
物の分離が可能であることを見出し本発明に到達した。
すなわち、本発明の要旨は、シクロヘキサンの酸化によ
り製造されたシクロヘキサノン及びシクロヘキサノール
の混合物から不純物を除去するに当り、 （ａ） 該シクロヘキサノン及びシクロヘキサノールの
混合物を第１蒸留塔に供給して軽沸物を留去し、 （ｂ） 第１蒸留塔の塔底液を第２蒸留塔に供給してシ
クロヘキサノンを留去し、 （ｃ） 第２蒸留塔の塔底液を第３蒸留塔に供給してシ
クロヘキサノールを主体とする成分を留去し、 （ｄ） 第３蒸留塔の留出物を脱水素反応帯域を経て第
１蒸留塔に循環させるプロセスにおいて、 （ｅ） 第１〜第３蒸留塔の塔頂圧力を20〜400Torrに
保ち、 （ｆ） 第２蒸留塔の塔底液の一部を塔頂圧力が500〜2
500Torrの第４蒸留塔に供給して軽沸物を留去し、 （ｇ） 第４蒸留塔の溜出液を第１〜第３蒸留塔及び脱
水素反応帯域の少なくとも１つに循環し、 （ｈ） 第３〜第４蒸留塔の塔底液を循環系から除去す
ることを特徴とするシクロヘキサノン及びシクロヘキサ
ノールの混合物から不純物を除去する方法に存する。
り製造されたシクロヘキサノン及びシクロヘキサノール
の混合物から不純物を除去するに当り、 （ａ） 該シクロヘキサノン及びシクロヘキサノールの
混合物を第１蒸留塔に供給して軽沸物を留去し、 （ｂ） 第１蒸留塔の塔底液を第２蒸留塔に供給してシ
クロヘキサノンを留去し、 （ｃ） 第２蒸留塔の塔底液を第３蒸留塔に供給してシ
クロヘキサノールを主体とする成分を留去し、 （ｄ） 第３蒸留塔の留出物を脱水素反応帯域を経て第
１蒸留塔に循環させるプロセスにおいて、 （ｅ） 第１〜第３蒸留塔の塔頂圧力を20〜400Torrに
保ち、 （ｆ） 第２蒸留塔の塔底液の一部を塔頂圧力が500〜2
500Torrの第４蒸留塔に供給して軽沸物を留去し、 （ｇ） 第４蒸留塔の溜出液を第１〜第３蒸留塔及び脱
水素反応帯域の少なくとも１つに循環し、 （ｈ） 第３〜第４蒸留塔の塔底液を循環系から除去す
ることを特徴とするシクロヘキサノン及びシクロヘキサ
ノールの混合物から不純物を除去する方法に存する。
本発明の実施態様フローチャートを第１図に示す。第１
図において、Ａは第１蒸留塔、Ｂは第２蒸留塔、Ｃは第
３蒸留塔、Ｄは第４蒸留塔、Ｅは脱水素反応器を示す。
図において、Ａは第１蒸留塔、Ｂは第２蒸留塔、Ｃは第
３蒸留塔、Ｄは第４蒸留塔、Ｅは脱水素反応器を示す。
以下、本発明を第１図に従って更に詳細に説明する。
第１蒸留塔Ａには、導管１からシクロヘキサノン及びシ
クロヘキサノールの混合物が供給され、同時に、導管８
より脱水素反応器Ｅからの循環液が供給される。蒸留塔
Ａの塔頂からの留出する軽沸物は導管２より留去され
る。一方、塔底液には導管３により取り出され、第２蒸
留塔Ｂに供給される。
クロヘキサノールの混合物が供給され、同時に、導管８
より脱水素反応器Ｅからの循環液が供給される。蒸留塔
Ａの塔頂からの留出する軽沸物は導管２より留去され
る。一方、塔底液には導管３により取り出され、第２蒸
留塔Ｂに供給される。
蒸留塔Ｂでは、塔頂からシクロヘキサノンが導管４によ
り留去される。一方、塔底液は導管５により取り出さ
れ、導管６を通って、第３蒸留塔Ｃに供給される。
り留去される。一方、塔底液は導管５により取り出さ
れ、導管６を通って、第３蒸留塔Ｃに供給される。
蒸留塔Ｃでは、塔頂からのシクロヘキサノールを主体と
する留出物は導管７を通って脱水素反応器Ｅに供給され
る。
する留出物は導管７を通って脱水素反応器Ｅに供給され
る。
脱水素反応器Ｅの反応液は、導管８を通って第１蒸留塔
に循環される。
に循環される。
蒸留塔A,B,Cの操作条件は、いづれも塔頂圧力20〜400To
rrであり、好ましくはA,B,Cの順で順次圧力を低下させ
る。たとえば、蒸留塔Ａが200〜400Torr、蒸留塔Ｂが50
〜200Torr、蒸留塔Ｃが20〜100Torrの塔頂圧力で操作さ
れる。塔頂温度は塔頂圧力に相応して、通常70〜130℃
の範囲に制御される。
rrであり、好ましくはA,B,Cの順で順次圧力を低下させ
る。たとえば、蒸留塔Ａが200〜400Torr、蒸留塔Ｂが50
〜200Torr、蒸留塔Ｃが20〜100Torrの塔頂圧力で操作さ
れる。塔頂温度は塔頂圧力に相応して、通常70〜130℃
の範囲に制御される。
また、蒸留塔Ｃの塔底より高沸物が導管９より循環系外
に除去される。
に除去される。
蒸留塔Ｂの塔底液の一部は導管10より第４蒸留塔Ｄに供
給される。ここで蒸留塔Ｄに送られる液量は、該不純物
が新たに系内に循環蓄積される量に見合った量として全
塔底液の通常0.5〜３％である。
給される。ここで蒸留塔Ｄに送られる液量は、該不純物
が新たに系内に循環蓄積される量に見合った量として全
塔底液の通常0.5〜３％である。
蒸留塔Ｄの操作条件は、塔頂圧力を500〜2500Torr、好
ましくは、600〜1000Torr、最も好ましくは大気圧付近
である。すなわち、蒸留塔Ｄの塔頂圧力を、蒸留塔A,B
及びＣの20〜400Torrより高圧の条件の500〜2500Torrと
することにより該不純物の分離が可能となる。操作圧力
が500Torr以下では、該不純物の分離が悪くなるので好
ましくない。また2500Torr以上では、蒸留温度が通常工
業的に用いられる温度範囲を越えるし、また、塔内温が
高温になることでハルツ化が促進されるので好ましくな
い。蒸留塔Ｄの塔頂温度は塔頂圧力に相応して、通常15
0〜220℃の範囲に制御される。
ましくは、600〜1000Torr、最も好ましくは大気圧付近
である。すなわち、蒸留塔Ｄの塔頂圧力を、蒸留塔A,B
及びＣの20〜400Torrより高圧の条件の500〜2500Torrと
することにより該不純物の分離が可能となる。操作圧力
が500Torr以下では、該不純物の分離が悪くなるので好
ましくない。また2500Torr以上では、蒸留温度が通常工
業的に用いられる温度範囲を越えるし、また、塔内温が
高温になることでハルツ化が促進されるので好ましくな
い。蒸留塔Ｄの塔頂温度は塔頂圧力に相応して、通常15
0〜220℃の範囲に制御される。
蒸留塔Ｄの留出液は蒸留塔Ｃの留出液と共に脱水素反応
器Ｅに供給され、一方塔底液は導管12より循環系外に除
去する。蒸留塔Ｄの留出液はシクロヘキサノールが主成
分であるので、第１図のように導管11及び導管７を通っ
て脱水素反応器Ｅに循環させることが好ましいが、第１
〜第３蒸留塔に直接循環することもできる。
器Ｅに供給され、一方塔底液は導管12より循環系外に除
去する。蒸留塔Ｄの留出液はシクロヘキサノールが主成
分であるので、第１図のように導管11及び導管７を通っ
て脱水素反応器Ｅに循環させることが好ましいが、第１
〜第３蒸留塔に直接循環することもできる。
［実施例］ 以下に実施例によって本発明を具体的に説明するが、本
発明はその要旨を越えない限りこれらの実施例に限定さ
れるものではない。
発明はその要旨を越えない限りこれらの実施例に限定さ
れるものではない。
実施例１ 第１図に示すフローチャートに従って実施した。
シクロヘキサンの酸化により得たシクロヘキサノンとシ
クロヘキサノールを含む混合物と脱水素反応器Ｅからの
循環液を混合し（シクロヘキサノン36％、シクロヘキサ
ノール53％）、これを100部/Hrの流量で第１蒸留塔Ａに
供給した。蒸留塔Ａの塔頂圧力200Torr、還流比20の条
件下で軽沸物を除去した後、塔底液を99.3部/Hrで第２
蒸留塔Ｂに供給した。蒸留塔Ｂの塔頂圧力50Torr、還流
比４の条件下で蒸留してシクロヘキサノンを33.5部/Hr
で回収した。一方、塔底液（シクロヘキサノン３％、シ
クロヘキサノール81％）を65.1部/Hrで第３蒸留塔Ｃに
供給した。蒸留塔Ｃの塔頂圧力30Torr、還流比２の条件
下で塔底の高沸物を1.2部/Hrで除去した。また、留出分
を64.6部/Hrで銅系の触媒を充てんした脱水素反応器Ｅ
に導入し、気相で250℃の温度でシクロヘキサノールの
脱水素反応を行ない、更に反応物は上記の第１蒸留塔Ａ
に循環させた。
クロヘキサノールを含む混合物と脱水素反応器Ｅからの
循環液を混合し（シクロヘキサノン36％、シクロヘキサ
ノール53％）、これを100部/Hrの流量で第１蒸留塔Ａに
供給した。蒸留塔Ａの塔頂圧力200Torr、還流比20の条
件下で軽沸物を除去した後、塔底液を99.3部/Hrで第２
蒸留塔Ｂに供給した。蒸留塔Ｂの塔頂圧力50Torr、還流
比４の条件下で蒸留してシクロヘキサノンを33.5部/Hr
で回収した。一方、塔底液（シクロヘキサノン３％、シ
クロヘキサノール81％）を65.1部/Hrで第３蒸留塔Ｃに
供給した。蒸留塔Ｃの塔頂圧力30Torr、還流比２の条件
下で塔底の高沸物を1.2部/Hrで除去した。また、留出分
を64.6部/Hrで銅系の触媒を充てんした脱水素反応器Ｅ
に導入し、気相で250℃の温度でシクロヘキサノールの
脱水素反応を行ない、更に反応物は上記の第１蒸留塔Ａ
に循環させた。
一方、第２蒸留塔Ｂの塔底液の約１％の量を0.7部/Hrで
第４蒸留塔Ｄに供給し、塔頂圧力が大気圧の760Torr、
還流比５の条件下で操作した。塔底から不純物を0.1部/
Hrで除去し、留出分は0.6部/Hrで脱水素反応器Ｅへ供給
した。
第４蒸留塔Ｄに供給し、塔頂圧力が大気圧の760Torr、
還流比５の条件下で操作した。塔底から不純物を0.1部/
Hrで除去し、留出分は0.6部/Hrで脱水素反応器Ｅへ供給
した。
蒸留開始後100日経過して定常状態に達した際の脱水素
反応混合物の組成は次の通りであった。
反応混合物の組成は次の通りであった。
また、このときの蒸留塔Ｂの塔底液と、蒸留塔Ｄの留出
分及び塔底液の組成を第１表に示す。
分及び塔底液の組成を第１表に示す。
比較例１ 第２図に示すフローチャートに従って実施した。第２図
において、Ａは第１蒸留塔、Ｂは第２蒸留塔、Ｃは第３
蒸留塔、Ｅは脱水素反応器を示す。すなわち、第１図の
フローチャート中の第４蒸留塔Ｄに分枝する工程がない
場合である。
において、Ａは第１蒸留塔、Ｂは第２蒸留塔、Ｃは第３
蒸留塔、Ｅは脱水素反応器を示す。すなわち、第１図の
フローチャート中の第４蒸留塔Ｄに分枝する工程がない
場合である。
蒸留塔Ｄの部分を除き、実施例１と同様の条件で操作し
たところ、蒸留開始後150日経過して定常状態に達した
際の脱水素反応混合物の組成は次の通りであった。
たところ、蒸留開始後150日経過して定常状態に達した
際の脱水素反応混合物の組成は次の通りであった。
実施例２ 第１図に示すフローチャートに従って実施した。操作条
件は、蒸留塔Ｄの塔頂圧力を1000Torrとした以外は実施
例１と同一である。
件は、蒸留塔Ｄの塔頂圧力を1000Torrとした以外は実施
例１と同一である。
定常状態での水素反応混合物の組成は次の通りであっ
た。
た。
比較例２ 第１に示すフローチャートに従って実施した。操作条件
は、蒸留塔Ｄの塔頂圧力を300Torrとした以外は実施例
１と同一である。
は、蒸留塔Ｄの塔頂圧力を300Torrとした以外は実施例
１と同一である。
実施の際、蒸留塔Ｄでの不純物の分離は認められず、蒸
留開始100において、脱水素反応混合物の不純物の濃度
が10％を越えた。
留開始100において、脱水素反応混合物の不純物の濃度
が10％を越えた。
［発明の効果］ 本発明方法によりシクロヘキサノン蒸留、脱水素反応系
を循環蓄積する不純物の蓄積レベル低下させると、留出
シクロヘキサノン中の該不純物の濃度レベルの低下が可
能となる。又、脱水素作用度の上昇、即ち、供給液中の
不純物レベルの低下した分だけシクロヘキサノールが増
加するので同一液空間速度（LHSV）でシクロヘキサノン
製造量を増加させることが可能である。並びに、該不純
物がシクロヘキサノン蒸留、及び脱水素系を循環するた
めに消費していた熱負荷の低下等も可能となる。シクロ
ヘキサノン、シクロヘキサノール類は極めて大規模に生
産されているので、その工業的価値は多大なものとな
る。
を循環蓄積する不純物の蓄積レベル低下させると、留出
シクロヘキサノン中の該不純物の濃度レベルの低下が可
能となる。又、脱水素作用度の上昇、即ち、供給液中の
不純物レベルの低下した分だけシクロヘキサノールが増
加するので同一液空間速度（LHSV）でシクロヘキサノン
製造量を増加させることが可能である。並びに、該不純
物がシクロヘキサノン蒸留、及び脱水素系を循環するた
めに消費していた熱負荷の低下等も可能となる。シクロ
ヘキサノン、シクロヘキサノール類は極めて大規模に生
産されているので、その工業的価値は多大なものとな
る。
第１図は本発明の実施における実施態様の一例を示すフ
ローチャートであり、A:第１蒸留塔、B:第２蒸留塔、C:
第３蒸留塔、D:第４蒸留塔、E:脱水素反応器を示す。 第２図は比較例１の実施態様を示すフローチャートであ
り、A:第１蒸留塔、B:第２蒸留塔、C:第３蒸留塔、E:脱
水素反応器を示す。
ローチャートであり、A:第１蒸留塔、B:第２蒸留塔、C:
第３蒸留塔、D:第４蒸留塔、E:脱水素反応器を示す。 第２図は比較例１の実施態様を示すフローチャートであ
り、A:第１蒸留塔、B:第２蒸留塔、C:第３蒸留塔、E:脱
水素反応器を示す。
Claims (1)
- 【請求項１】シクロヘキサンの酸化により製造されたシ
クロヘキサノン及びシクロヘキサノールの混合物から不
純物を除去するに当り、 （ａ） 該シクロヘキサノン及びシクロヘキサノールの
混合物を第１蒸留塔に供給して軽沸物を留去し、 （ｂ） 第１蒸留塔の塔底液を第２蒸留塔に供給してシ
クロヘキサノンを留去し、 （ｃ） 第２蒸留塔の塔底液を第３蒸留塔に供給してシ
クロヘキサノールを主体とする成分を留去し、 （ｄ） 第３蒸留塔の留出物を脱水素反応帯域を経て第
１蒸留塔に循環させるプロセスにおいて、 （ｅ） 第１〜第３蒸留塔の塔頂圧力を20〜400Torrに
保ち、 （ｆ） 第２蒸留塔の塔底液の一部を塔頂圧力が500〜2
500Torrの第４蒸留塔に供給して軽沸物を留去し、 （ｇ） 第４蒸留塔の溜出液を第１〜第３蒸留塔及び脱
水素反応帯域の少なくとも１つに循環し、 （ｈ） 第３〜第４蒸留塔の塔底液を循環系から除去す
ることを特徴とするシクロヘキサノン及びシクロヘキサ
ノールの混合物から不純物を除去する方法。
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|---|---|---|---|
| JP2091639A JPH06104637B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | シクロヘキサノン及びシクロヘキサノールの混合物から不純物を除去する方法 |
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| EP91104924A EP0450498B1 (en) | 1990-04-06 | 1991-03-27 | Process for removing impurities from the mixture of cyclohexanone and cyclohexanol |
| DE69106195T DE69106195T2 (de) | 1990-04-06 | 1991-03-27 | Prozess zur Entfernung von Verunreinigungen aus einem Gemisch von Cyclohexanon und Cyclohexanol. |
| KR1019910005529A KR0127674B1 (ko) | 1990-04-06 | 1991-04-06 | 시클로헥사논 및 시클로헥산올의 혼합물로 부터 불순물의 제거방법 |
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|---|---|---|---|
| JP2091639A JPH06104637B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | シクロヘキサノン及びシクロヘキサノールの混合物から不純物を除去する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPH03291246A JPH03291246A (ja) | 1991-12-20 |
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Family
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Family Applications (1)
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| WO2019005273A1 (en) | 2017-06-28 | 2019-01-03 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | PRODUCTS CONTAINING CYCLOHEXANONE AND METHODS OF MAKING THE SAME |
| CN114315522B (zh) * | 2021-12-31 | 2024-02-13 | 昌德新材科技股份有限公司 | 环己醇的提纯方法及环己酮的制备方法 |
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| DE1233858B (de) * | 1959-12-16 | 1967-02-09 | Basf Ag | Verfahren zur Gewinnung von reinem Cyclohexanon und Cyclohexanol |
| BE790104A (fr) * | 1971-10-14 | 1973-04-13 | Stamicarbon | Procede continu d'obtention de cyclohexanone |
| NL7904651A (nl) * | 1979-06-14 | 1980-12-16 | Stamicarbon | Werkwijze voor het verwijderen van alkalimetaalcarboxy- laten uit cycloalkanon en cycloalkanol bevattende meng- sels verkregen bij oxidatie van cycloalkanen. |
| JPS6039656A (ja) * | 1983-08-12 | 1985-03-01 | Canon Inc | マイクロカプセル絶縁性非磁性トナ− |
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1990
- 1990-04-06 JP JP2091639A patent/JPH06104637B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-03-22 US US07/673,388 patent/US5168983A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-27 EP EP91104924A patent/EP0450498B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-27 DE DE69106195T patent/DE69106195T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-06 KR KR1019910005529A patent/KR0127674B1/ko not_active IP Right Cessation
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|---|---|
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| KR0127674B1 (ko) | 1998-04-03 |
| JPH03291246A (ja) | 1991-12-20 |
| DE69106195T2 (de) | 1995-08-10 |
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| KR910018332A (ko) | 1991-11-30 |
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