JPH06104373A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH06104373A JPH06104373A JP4252490A JP25249092A JPH06104373A JP H06104373 A JPH06104373 A JP H06104373A JP 4252490 A JP4252490 A JP 4252490A JP 25249092 A JP25249092 A JP 25249092A JP H06104373 A JPH06104373 A JP H06104373A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor
- semiconductor device
- circuit element
- lead frame
- power supply
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体回路素子外のリードフレーム上に外部
から与えられた電源電圧を変化させる機能を備えた半導
体装置を提供する。 【構成】 リードフレーム5,6を抵抗素子11(抵抗
値R1)を介して接続し、リードフレーム6,5’とを
抵抗素子12(抵抗値R2)を介してそれぞれ接続し
た。半導体装置に与えられた高電位の電源VDDはリード
フレーム5に、低電位の電源VSSはリードフレーム5’
にそれぞれ与えられ、ボンディングワイヤー3を介して
ボンディングパッド8に与えられる。 【効果】 半導体回路素子内に電圧降下回路を備える必
要がなくなり、そのために半導体素子回路の面積が増大
することがない。
から与えられた電源電圧を変化させる機能を備えた半導
体装置を提供する。 【構成】 リードフレーム5,6を抵抗素子11(抵抗
値R1)を介して接続し、リードフレーム6,5’とを
抵抗素子12(抵抗値R2)を介してそれぞれ接続し
た。半導体装置に与えられた高電位の電源VDDはリード
フレーム5に、低電位の電源VSSはリードフレーム5’
にそれぞれ与えられ、ボンディングワイヤー3を介して
ボンディングパッド8に与えられる。 【効果】 半導体回路素子内に電圧降下回路を備える必
要がなくなり、そのために半導体素子回路の面積が増大
することがない。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置に外部より
供給される高電位の電源と低電位の電源との電位差(以
下単に電源電圧という)を変化させたものを内部の半導
体回路素子の電源電圧として利用する半導体装置に関す
るものである。
供給される高電位の電源と低電位の電源との電位差(以
下単に電源電圧という)を変化させたものを内部の半導
体回路素子の電源電圧として利用する半導体装置に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体回路素子のプロセスの微細
化が進み、半導体回路素子のトランジスタサイズも細か
くなってきた。さまざまな半導体装置を組み合わせてシ
ステムを構築していくにあたり、半導体装置に与えられ
る電源電圧は従来通りの電源電圧を与えるように設計さ
れることが多い。使用電圧が変わらなければ、プロセス
微細化が進んだ半導体回路素子内部の電界は増大し、信
頼性に対する劣化ストレスとしては厳しいものとなって
いる。
化が進み、半導体回路素子のトランジスタサイズも細か
くなってきた。さまざまな半導体装置を組み合わせてシ
ステムを構築していくにあたり、半導体装置に与えられ
る電源電圧は従来通りの電源電圧を与えるように設計さ
れることが多い。使用電圧が変わらなければ、プロセス
微細化が進んだ半導体回路素子内部の電界は増大し、信
頼性に対する劣化ストレスとしては厳しいものとなって
いる。
【0003】そのため、半導体回路素子のプロセス微細
化が進んだ半導体装置は半導体回路素子内部に電圧降下
回路を備え、その回路により発生させた電圧を半導体回
路素子内の回路を動作させる電源電圧として用いるよう
設計されている。
化が進んだ半導体装置は半導体回路素子内部に電圧降下
回路を備え、その回路により発生させた電圧を半導体回
路素子内の回路を動作させる電源電圧として用いるよう
設計されている。
【0004】以下に従来の半導体装置について説明す
る。図3は従来の半導体装置の内部図の一部である。
る。図3は従来の半導体装置の内部図の一部である。
【0005】図3において、1は半導体回路素子、2は
半導体回路素子内部の電圧降下回路部分、3、4はボン
ディングワイヤー、5、6はリードフレーム、7、8は
ボンディングパッドである。
半導体回路素子内部の電圧降下回路部分、3、4はボン
ディングワイヤー、5、6はリードフレーム、7、8は
ボンディングパッドである。
【0006】半導体装置に与えられた高電位の電源
VDD,低電位の電源VSSはリードフレーム5、6からボ
ンディングワイヤー3、4がボンディングパッド7、8
を介して半導体回路素子内部の電圧降下回路2に供給さ
れ、その回路により発生された電圧VDDおよびVSSは、
半導体回路素子の内部配線により、半導体回路素子内の
回路に供給される。
VDD,低電位の電源VSSはリードフレーム5、6からボ
ンディングワイヤー3、4がボンディングパッド7、8
を介して半導体回路素子内部の電圧降下回路2に供給さ
れ、その回路により発生された電圧VDDおよびVSSは、
半導体回路素子の内部配線により、半導体回路素子内の
回路に供給される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では、半導体回路素子内部に電圧降下回路を備
えるために、その電圧降下回路の分、半導体回路素子面
積が増大するという欠点を有していた。電源電圧供給端
子を複数個備える半導体装置においてはその欠点はさら
に顕著なものとなる。
来の構成では、半導体回路素子内部に電圧降下回路を備
えるために、その電圧降下回路の分、半導体回路素子面
積が増大するという欠点を有していた。電源電圧供給端
子を複数個備える半導体装置においてはその欠点はさら
に顕著なものとなる。
【0008】また、外部から与えられる電源電圧が半導
体回路素子内で使用される電圧と同じ場合、つまり電源
電圧の降下が必要でない場合と、電源電圧の降下が必要
である場合との双方に対応する機能を同一半導体回路素
子で実現しようとした場合には、さらにそのための回路
が必要となる。このため、その回路分の半導体回路素子
面積が増大する。
体回路素子内で使用される電圧と同じ場合、つまり電源
電圧の降下が必要でない場合と、電源電圧の降下が必要
である場合との双方に対応する機能を同一半導体回路素
子で実現しようとした場合には、さらにそのための回路
が必要となる。このため、その回路分の半導体回路素子
面積が増大する。
【0009】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、半導体回路素子外のリードフレーム上に外部から与
えられた電源電圧を変化させる機能を備えた半導体装置
を提供することを目的としたものである。
で、半導体回路素子外のリードフレーム上に外部から与
えられた電源電圧を変化させる機能を備えた半導体装置
を提供することを目的としたものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の半導体装置は、半導体回路素子外のリードフ
レームは外部から与えられた電源電圧を変化させる機能
を備える構成を有している。
に本発明の半導体装置は、半導体回路素子外のリードフ
レームは外部から与えられた電源電圧を変化させる機能
を備える構成を有している。
【0011】
【作用】本発明では上記の構成より、半導体回路素子外
のリードフレームに電圧降下回路を備え、その回路によ
り発生させた電圧を半導体回路素子内の回路を動作させ
る電源電圧として用いることにより、半導体回路素子面
積の増大を抑えることができる。
のリードフレームに電圧降下回路を備え、その回路によ
り発生させた電圧を半導体回路素子内の回路を動作させ
る電源電圧として用いることにより、半導体回路素子面
積の増大を抑えることができる。
【0012】また、外部から与えられる電源電圧が半導
体回路素子内で使用される電圧と同じ場合、つまり電源
電圧の降下が必要でない場合と、電源電圧の降下が必要
である場合との双方に対応する機能を、同一半導体回路
素子で実現しようとする場合であっても、リードフレー
ムを外部から与えられた電源電圧を変化させる機能を備
えたものから、それを備えていないものへと交換する動
作だけで済み、半導体回路素子上に新たな回路を必要と
せず半導体回路素子面積の増大することはない。
体回路素子内で使用される電圧と同じ場合、つまり電源
電圧の降下が必要でない場合と、電源電圧の降下が必要
である場合との双方に対応する機能を、同一半導体回路
素子で実現しようとする場合であっても、リードフレー
ムを外部から与えられた電源電圧を変化させる機能を備
えたものから、それを備えていないものへと交換する動
作だけで済み、半導体回路素子上に新たな回路を必要と
せず半導体回路素子面積の増大することはない。
【0013】
【実施例】以下、本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。
照しながら説明する。
【0014】図1は半導体装置の内部図の一部であり、
1は半導体回路素子、3、4はボンディングワイヤー、
7、8はボンディングパッド、5、5’、6はリードフ
レーム、11、12は抵抗素子である。
1は半導体回路素子、3、4はボンディングワイヤー、
7、8はボンディングパッド、5、5’、6はリードフ
レーム、11、12は抵抗素子である。
【0015】以下にその動作を説明する。リードフレー
ム5とリードフレーム6とは抵抗素子11(抵抗値
R1)を介して接続されており、リードフレーム6とリ
ードフレーム5’とは抵抗素子12(抵抗値R2)を介
して接続されている。
ム5とリードフレーム6とは抵抗素子11(抵抗値
R1)を介して接続されており、リードフレーム6とリ
ードフレーム5’とは抵抗素子12(抵抗値R2)を介
して接続されている。
【0016】半導体装置に与えられた高電位の電源VDD
はリードフレーム5に、低電位の電源VSSはリードフレ
ーム5’にそれぞれ与えられ、ボンディングワイヤー3
を介してボンディングパッド8に与えられる。
はリードフレーム5に、低電位の電源VSSはリードフレ
ーム5’にそれぞれ与えられ、ボンディングワイヤー3
を介してボンディングパッド8に与えられる。
【0017】リードフレーム6より、ボンディングワイ
ヤー7を介して、抵抗素子11と抵抗素子22とにより
抵抗分割された電圧VDD1=(VDD−VSS)×R2/(R
1+R2)がボンディングパッド7に与えられる。
ヤー7を介して、抵抗素子11と抵抗素子22とにより
抵抗分割された電圧VDD1=(VDD−VSS)×R2/(R
1+R2)がボンディングパッド7に与えられる。
【0018】こうして半導体回路素子に半導体装置に与
えられた電源電圧VDDを降下させたVDD1が供給され
る。
えられた電源電圧VDDを降下させたVDD1が供給され
る。
【0019】よって半導体回路素子内に電圧降下回路を
備える必要がなくなり、そのために半導体素子回路の面
積が増大することがない。
備える必要がなくなり、そのために半導体素子回路の面
積が増大することがない。
【0020】以下、本発明の別の一実施例について、図
面を参照しながら説明する。図2は半導体装置の内部の
構成の一部を示す。図において、1は半導体回路素子、
3、4はボンディングワイヤー、7、8はボンディング
パッド、5はリードフレーム、13〜17はリードフレ
ームの一部分、18、19は図中に示す斜線、網掛け模
様でリードフレームを構成する導体が別の種類であるこ
とを示している。
面を参照しながら説明する。図2は半導体装置の内部の
構成の一部を示す。図において、1は半導体回路素子、
3、4はボンディングワイヤー、7、8はボンディング
パッド、5はリードフレーム、13〜17はリードフレ
ームの一部分、18、19は図中に示す斜線、網掛け模
様でリードフレームを構成する導体が別の種類であるこ
とを示している。
【0021】以下にその動作を説明する。ここに示され
ているリードフレーム5は導電率の異なる2種類の導体
18、19から構成されている。導体18は導電率が高
く、導体19は導電率が低い。リードフレーム5の領域
16、17の部分は導体19であり、それ以外の部分は
導体18で構成されている。
ているリードフレーム5は導電率の異なる2種類の導体
18、19から構成されている。導体18は導電率が高
く、導体19は導電率が低い。リードフレーム5の領域
16、17の部分は導体19であり、それ以外の部分は
導体18で構成されている。
【0022】半導体装置に与えられた高電位の電源VDD
はリードフレーム5の領域13の部分に、低電位の電源
VSSはリードフレーム4の領域14の部分に与えられ、
ボンディングワイヤー3を介して、ボンディングパッド
7に与えられる。
はリードフレーム5の領域13の部分に、低電位の電源
VSSはリードフレーム4の領域14の部分に与えられ、
ボンディングワイヤー3を介して、ボンディングパッド
7に与えられる。
【0023】領域16の部分の抵抗値R3と領域17の
部分の抵抗値R4により抵抗分割された電圧VDD2=(V
DD−VSS)×R4/(R3+R4)が、リードフレーム5
の領域15の部分より、ボンディングワイヤー4を介し
てボンディングパッド8に与えられる。こうして半導体
回路素子に半導体装置に与えられた電源電圧VDDを降下
したVDD2が供給される。
部分の抵抗値R4により抵抗分割された電圧VDD2=(V
DD−VSS)×R4/(R3+R4)が、リードフレーム5
の領域15の部分より、ボンディングワイヤー4を介し
てボンディングパッド8に与えられる。こうして半導体
回路素子に半導体装置に与えられた電源電圧VDDを降下
したVDD2が供給される。
【0024】よって半導体回路素子内に電圧降下回路を
備える必要がなくなり、そのために半導体素子回路の面
積が増大することがない。
備える必要がなくなり、そのために半導体素子回路の面
積が増大することがない。
【0025】
【発明の効果】以上のように本発明は、半導体装置に外
部から与えられた電源電圧を変化させる機能を半導体回
路素子の外に備える構成を有していることにより、半導
体回路素子の面積を増大させることがない優れた半導体
装置を実現できるものである。
部から与えられた電源電圧を変化させる機能を半導体回
路素子の外に備える構成を有していることにより、半導
体回路素子の面積を増大させることがない優れた半導体
装置を実現できるものである。
【図1】本発明の一実施例における半導体装置の構成の
主要部分を示す部分平面図
主要部分を示す部分平面図
【図2】本発明の他の実施例における半導体装置の構成
の主要部分を示す部分平面図
の主要部分を示す部分平面図
【図3】従来の半導体装置の構成の主要部分を示す部分
平面図
平面図
1 半導体回路素子 3、4 ボンディングワイヤー 5、5’、6 リードフレーム 7、8 ボンディングパッド 11、12 抵抗素子
Claims (2)
- 【請求項1】半導体回路素子と、前記半導体回路素子に
形成されたボンディングパッドと、前記ボンディングパ
ッドとボンディングワイヤーを介して接続された第1の
リードフレームと第2のリードフレームを備え、前記第
1のリードフレームと前記第2のリードフレームが抵抗
素子によって接続されていることを特徴とする半導体装
置。 - 【請求項2】前記第1のリードフレームと前記第2のリ
ードフレームとの接続に前記第1、2のリードフレーム
の抵抗率より高い第3のリードフレームを備えたことを
特徴とする請求項1記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4252490A JPH06104373A (ja) | 1992-09-22 | 1992-09-22 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4252490A JPH06104373A (ja) | 1992-09-22 | 1992-09-22 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06104373A true JPH06104373A (ja) | 1994-04-15 |
Family
ID=17238100
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4252490A Pending JPH06104373A (ja) | 1992-09-22 | 1992-09-22 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06104373A (ja) |
-
1992
- 1992-09-22 JP JP4252490A patent/JPH06104373A/ja active Pending
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |