JPH06100565A - カルバペネム誘導体又はその塩 - Google Patents

カルバペネム誘導体又はその塩

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JPH06100565A
JPH06100565A JP4276578A JP27657892A JPH06100565A JP H06100565 A JPH06100565 A JP H06100565A JP 4276578 A JP4276578 A JP 4276578A JP 27657892 A JP27657892 A JP 27657892A JP H06100565 A JPH06100565 A JP H06100565A
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JP
Japan
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group
lower alkyl
substituted
compound
ring
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Application number
JP4276578A
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English (en)
Inventor
Tetsuya Maeda
哲哉 前田
Tokuo Koide
徳雄 小出
Hidekazu Nakai
英一 中居
Masaki Yokota
正樹 横田
Tomio Araki
富雄 新木
Osamu Yamamoto
治 山本
Seiji Washisaki
清司 鷲崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】 下記式で示されるカルバペネム誘導体又はそ
の塩 〔式中, R:1乃至2個の水酸基,低級アルコキシ基,アミノ
基,モノ−若しくはジ−低級アルキルアミノ基又はハロ
ゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基 R:低級アルキル基 Y:カルボキシル基又は薬学的に許容し得るそのエステ
ル R:下記に示す基 :低級アルキル基, R,R,R:(置換)低級アルキル基 R:水素又は低級アルキル基を示す〕 【効果】 抗菌活性を有し,医薬として有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は医薬,殊に抗菌剤として
有用な新規カルバペネム誘導体又はその塩に関する。
【0002】
【従来の技術】カルバペネム化合物は,ペニシリン骨格
の硫黄原子が炭素原子に置換され,2位に不飽和結合を
有する化合物の総称である。この化合物はβ−ラクタマ
ーゼに比較的耐性を示す反面,腎臓における分解酵素デ
ヒドロペプチダーゼ(DHP−1)に感受性がある点が
難点である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は,優れた抗菌
活性を有するカルバペネム誘導体の提供を目的とするも
のである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者等は,グラム陽
性及び陰性の広範囲の菌に対し優れた抗菌活性を有する
とともに,生体内における感染防御作用が強力はカルバ
ペネム誘導体を提供すべく研究を重ねた結果,ペネム環
の2位に置換プロペニル基を有する化合物が,新規であ
り,しかも,グラム陽性及び陰性,殊に緑膿菌を含むグ
ラム陰性の広範囲の菌に対し,優れた抗菌活性を有する
ことを見出し本発明を完成した。即ち,本発明は下記一
般式(I)で示されるカルバペネム誘導体又はその塩で
ある。
【0005】
【化3】
【0006】(式中の記号は以下の意味を有する。 R1 :1乃至2個の水酸基,低級アルコキシ基,アミノ
基,モノ−若しくはジ−低級アルキルアミノ基又はハロ
ゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基 R2 :低級アルキル基 Y:カルボキシル基又は薬学的に許容し得るそのエステ
ル R3 :下記式で示される基
【0007】
【化4】
【0008】(式中の基は以下の意味を有する。 A環:窒素原子を1乃至4個有し,更に酸素原子若しく
は硫黄原子を有していてもよい置換されていてもよい飽
和若しくは不飽和の複素環 B環:窒素原子を1乃至4個有し、更に酸素原子もしく
は硫黄原子を有していてもよい置換されていてもよい飽
和複素環 D環:窒素原子を1乃至4個有し,更に酸素原子若しく
は硫黄原子を有していてもよい置換されていてもよい単
環若しくは二環式芳香族複素環 R4 :低級アルキル基 R5 ,R6 ,R7 :同一又は異なりて置換されていても
よい低級アルキル基 R8 :水素原子又は低級アルキル基) 波線:シス又はトランス体であることを意味する。以下
同様。)
【0009】式(I)の記号の意味をさらに説明すると
次の通りである。本明細書の一般式の定義に置いて『低
級』なる用語は炭素数が1乃至6個の直鎖又は分枝状の
炭素鎖を意味する。従って,『低級アルキル基』として
は 具体的には例えばメチル基,エチル基,プロピル
基,イソプロピル基,ブチル基,イソブチル基,sec
−ブチル基,tert−ブチル基,ペンチル(アミル)
基,イソペンチル基,ネオペンチル基,tert−ペン
チル,1−メチルブチル基,2−メチルブチル基,1,
2−ジメチルプロピル基,ヘキシル基,イソヘキシル
基,1−メチルペンチル基,2−メチルペンチル基,3
−メチルペンチル基,1,1−ジメチルブチル基,1,
2−ジメチルブチル基,2,2−ジメチルブチル基,
1,3−ジメチルブチル基,2,3−ジメチルブチル
基,3,3−ジメチルブチル基,1−エチルブチル基,
2−エチルブチル基,1,1,2−トリメチルプロピル
基,1,2,2−トリメチルプロピル基,1−エチル−
1−メチルプロピル基,1−エチル−2−メチルプロピ
ル基等が挙げられる。
【0010】R1 は,1乃至2個の水酸基,低級アルコ
キシ基,アミノ基,上記低級アルキル基で置換されたア
ミノ基であるモノ−もしくはジ−低級アルキル基又はハ
ロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基を意
味する。具体的には,前記の低級アルキル基あるいはそ
の任意の位置に1〜2個の同一又は異なってもよい上記
置換基を有する低級アルキル基が挙げられる。置換基を
有する低級アルキル基の好ましい例としては,1−ヒド
ロキシエチル基,1−ヒドロキシプロピル基,1−メト
キシエチル基,1−メトキシプロピル基,1−エトキシ
エチル基,1−フロロエチル基,1−フロロ−1−メチ
ルエチル基,1−アミノエチル基又は1−(ジメチルア
ミノ)エチル基等が挙げられる。より好ましくは,(1
R)−1−ヒドロキシエチル基である。
【0011】R2 は,水素原子又は上記の低級アルキル
基を意味し,より好ましくはメチル基が挙げられる。R
3 は以下の式で示される基を意味する。
【0012】
【化5】
【0013】の意味する窒素原子を1乃至4個有し,更
に酸素原子若しくは硫黄原子を有していてもよい置換さ
れていてもよい複素環基としては,例えば,次のような
基が挙げられる。
【0014】
【化6】
【0015】
【化7】
【0016】の意味する窒素原子1乃至4個を有し,更
に酸素原子若しくは硫黄原子を有していてもよい置換さ
れていてもよい複素環基としては次のような基が挙げら
れる。
【0017】
【化8】
【0018】
【化9】
【0019】の意味する窒素原子1乃至4個を有し,更
に酸素原子若しくは硫黄原子を有していてもよい単環若
しくは二環式芳香族複素環基としては,次のような基が
挙げられる。
【0020】
【化10】
【0021】ここでR5 ,R6 及びR7 の意味する置換
されていてもよい低級アルキル基における置換基として
は例えば,炭素数3〜6個のシクロアルキル基,アリー
ル(Aryl)基,アミノ基,モノ−又はジ−置換アミ
ノ基,低級アルコキシ基,ハロゲン原子,カルボキシ
基,低級アルコキシカルボニル基,アシル基,カルバモ
イル基,シアノ基,ニトロ基,N−低級アルキル置換カ
ルバモイル基,水酸基,,低級アルキルチオ基,スルホ
ニル基,低級アルキルスルホニル基,スルフィニル基又
は低級アルキルスルフィニル基等が,
【0022】また,上記A環,B環又はD環における置
換基としては,例えば,炭素数3〜6個のシクロアルキ
ル基,アリール(Aryl)基,アミノ基,モノ−又は
ジ−置換アミノ基,低級アルコキシ基,ハロゲン原子,
カルボキシ基,低級アルコキシカルボニル基,アシル
基,カルバモイル基,シアノ基,ニトロ基,N−低級ア
ルキル置換カルバモイル基,水酸基,低級アルキルチオ
基,スルホニル基,低級アルキルスルホニル基,スルフ
ィニル基又は低級アルキルスルフィニル基等及びこれら
の基で置換されていてもよい低級アルキル基,低級アル
ケニル基又は低級アルキニル基等が挙げられる。これら
の置換基は同一のもの又は異なったものが1乃至3個を
置換されていてもよい。又は低級アルキル基が隣接して
置換するときは相互に結合して炭素数3乃至6個の環を
形成してもよい。
【0023】これらの置換基についてさらに具体的に説
明すると以下の通りである。「炭素数3〜6個のシクロ
アルキル基」としては,シクロプロピル基,シクロブチ
ル基,シクロペンチル基,シクロヘキシル基等が,「ア
リール基」として例えばフェニル基又はナフチル基等が
挙げられる。「モノ−又はジ−置換アミノ基」として
は,低級アルキル基,アリール基,アラルキル基等から
選ばれる1乃至2個の置換基を有するアミノ基等が挙げ
られる。「低級アルコキシ基」として例えばメトキシ
基,エトキシ基,プロポキシ基又はブトキシ基等が挙げ
られる。「低級アルコキシカルボニル基」として例えば
メトキシカルボニル基,エトキシカカルボニル基,プロ
ポキシカルボニル基,イソプロポキシカルボニル基又は
ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
【0024】「アシル基」として例えばアセチル基,プ
ロピオニル基,ベンゾイル基等が挙げられる。「N−低
級アルキル置換カルバモイル基」としては例えばN−メ
チルカルバモイル基,N−エチルカルバモイル基,N−
プロピルカルバモイル基,N,N−ジメチルカルバモイ
ル基又はN,N−ジエチルカルバモイル基等が挙げられ
る。
【0025】「低級アルキルチオ基」として例えばメチ
ルチオ基,エチルチオ基,プロピルチオ基,イソプロピ
ルチオ基又はブチルチオ基等が挙げられる。「低級アル
キルスルホニル基」として例えばメチルスルホニル基,
エチルスルホニル基,プロピルスルホニル基,イソプロ
ピルスルホニル基又はブチルスルホニル基等が挙げられ
る。
【0026】「低級アルキルスルフィニル基」として例
えばメチルスルフィニル基,エチルスルフィニル基,ブ
チルスルフィニル基又はイソプロピルスルフィニル基等
が挙げられる。「低級アルケニル基」は炭素数が2乃至
6個の直鎖又は分岐状のアルケニル基であり,具体的に
はビニル基,アリル基,1−プロペニル基,1−ブテニ
ル基,2−メチル−1−プロペニル基,2−メチルアリ
ル基,1−メチル−1−プロペニル基,1−メチルビニ
ル基,1−ペンテニル基,2−ペンテニル基,3−メチ
ル−1−ブテニル基,2−メチル−2−ブテニル基,1
−メチル−2−ブテニル基,1,2−ジメチル−1−プ
ロペニル基,1−エチル−1−プロペニル基,1−エチ
ル−2−プロペニル基,1−ヘキセニル基,1,1−ジ
メチル−2−ブテニル基,3,3−ジメチル−1−ブテ
ニル基,1−メチル−2−ペンテニル基等が挙げられ
る。
【0027】「低級アルキニル基」は,炭素数が2乃至
6個の直鎖又は分岐のアルキニル基であって,エチニル
基,1−プロピニル基,2−プロピニル基,1−ブチニ
ル基,2−ブチニル基,1−メチル−2−プロピニル
基,1−ペンチニル基,2−ペンチニル基,3−メチル
−1−ブチニル基,1−メチル−2−ブチニル基,1,
1−ジメチル−2−プロピニル基,1−ヘキシニル基,
2−ヘキシニル基等が挙げられる。これらのR3 の置換
基のうち,A環としてはアミノ基で置換されたイミダゾ
ール環が,B環としてはピロリジン環が,C環としては
ピリジン環,ヒドロキシ低級アルキル基で置換されてい
てもよいイミダゾ[1,2−b]ピリダジン環,イミダ
ゾ[1,2−a]ピリミジン環等が挙げられる。更に,
Yの意味する薬学的に許容し得るエステルとしては従
来,経口用セファロスポリンの分野で使われている代表
的な吸収性エステル残基−(DOR)であり,このよう
な基(R)としては例えば,アセトキシメチル基
【0028】
【化11】
【0029】ピバロイルオキシメチル基(R=−CH2
OCOC(CH33 ),−シクロヘキシルオキシカル
ボニルオキシエチル基
【0030】
【化12】
【0031】等のアシルオキシアルキル基;エトキシカ
ルボニルオキシメチル基,α−エトキシカルボニルオキ
シエチル基のようなアルコキシカルボニルオキシアルキ
ル基;ジメチルアミノメチル基,ジエチルアミノエチル
基のようなジアルキルアミノアルキル基,フタリジル
基,ジメトキシフタリジル基のようなラクトン基等であ
る。
【0032】本発明化合物は酸及び塩基と塩を形成す
る。酸との塩としては塩酸,臭化水素酸,ヨウ化水素
酸,硫酸,硝酸,リン酸等の鉱酸や,ギ酸,酢酸,プロ
ピオン酸,シュウ酸,マロン酸,コハク酸,フマール
酸,マレイン酸,乳酸,リンゴ酸,クエン酸,酒石酸,
炭酸 ,ピクリン酸,メタンスルホン酸,エタンスルホ
ン酸,グルタミン酸等の有機酸との酸付加塩を挙げるこ
とができる。
【0033】また塩基との塩としては例えばナトリウ
ム,カリウム,マグネシウム,カルシウム,アルミニウ
ム等無機塩基,メチルアミン,エチルアミン,エタノー
ルアミン等の有機塩基,リジン,オルニチン等の塩基性
アミノ酸との塩やアンモニウム塩が挙げられる。また本
発明化合物には不斉炭素原子及び二重結合が存在するた
め,光学異性体,ラセミ体,ジアステレオマー,シス,
トランス等の複数の異性体が存在する。本発明は,これ
らの異性体の分離したもの又は混合物を含む。更に本発
明化合物は,置換基の種類によっては,その分子内塩の
状態もとることができる。本発明のカルバペネム環にお
ける好ましい異性体は次式で示される,1R,5S及び
6Sの立体配置を有するものである。
【0034】
【化13】
【0035】(製造法)以下に本発明化合物の製造法に
ついて説明する。 第1製法
【0036】
【化14】
【0037】
【化15】
【0038】R9 は,ジフェニルホスホリル基,低級ア
ルキルスルホニル基,トリハロゲノメチルスホニル基を
R´ は,容易に除去し得るカルボキシル基の保護基を
+ は金属陽イオンをXは,ハロゲン原子,低級アルキ
ルスルホニルオキシ基又はトリハロゲノメチルスルホニ
ルオキシ基を意味する。以下同様)本発明化合物のう
ち,一般式(Ia)で示される化合物は,上記反応式で
示される工程により得ることができる。
【0039】第1工程 本製法の第1工程は式(II)で示される化合物にジフェニ
ルホスホリルクロリド等のリン酸エステル化剤又はスル
ホン酸エステル化剤を反応させる工程である。この反応
に用いられる溶媒としては,アセトン,メチルエチルケ
トン等のケトン類,ジメチルホルムアミド,ジメチルア
セトアミド,ジメチルスルホキシド,テトラヒドロフラ
ン,ジクロロメエタン,クロロホルム,アセトニトリル
あるいはこれらの混合溶媒であってもよい。また,本反
応では反応を促進するために塩基を添加することができ
る。この場合の塩としては,トリエチルアミン,ジイソ
プロピルエチルアミン,DBU,N−メチルモルホリ
ン,キヌクリジン等の有機塩基,水酸化カリウム,水酸
化ナトリウム,炭酸カリウム等の無機塩基,ナトリウム
メトキシド等の金属アルコラート等である。反応温度
は,冷却下乃至室温下,好ましくは冷却下に設定され
る。
【0040】第2工程 次に,得られた化合物(III)は,一般式(IV)で示され
る化合物と置換反応を行う。尚,化合物(III) は一旦単
離してもよいし,第1工程の反応を行ったのち単離せ
ず,化合物(IV)との反応を行ってもよい。本工程の溶媒
としては,好ましくは第1工程で述べた溶媒が用いられ
る。また,本工程は塩基の存在下に反応を行ってもよ
く,この場合の塩基としては第1工程で述べた塩基が挙
げられる。また,Mの意味する金属としては,リチウ
ム,カリウム,ナトリウム,銀等が挙げられる。本工程
で得られた化合物(V)は,次工程の原料化合物として
も使用できるが,自体抗菌活性を有する有用な化合物で
ある。 第3工程 更に化合物(V)は,本第3工程において,i)リン酸
エステル化剤又はスルホン酸エステル化剤を反応させた
のち,ii)i)において化合物(V)にリン酸エステ
ル化剤を反応させた場合には,ハロゲン供与体を反応さ
せることにより,化合物(VI)とする。リン酸エステル化
剤又はスルホン酸エステル化剤との反応は,第1工程で
述べた方法が適宜採用される。また,リン酸エステル化
剤と反応した場合には,ヨウ化カリウム,ヨウ化ナトリ
ウム等のハロゲン化剤と反応させ,2−(3−ハロゲノ
−1−プロペニル)チオ基を有する化合物とした方が以
降の反応に好ましい結果を与える。
【0041】第4工程 本製法の第4工程は,化合物(VI)に種々のアミン試薬と
置換反応させ,保護基を除去する工程である。アミン試
薬との置換反応は,例えばテトラヒドロフラン,アセト
ニトリル,ジオキサン,ジメチルスルホキシド,ジメチ
ルホルムアミド,メチレンクロライド,ジブリム,ジメ
トキシエタン等の反応に不活性な溶媒中,中間体(VI)に
対して適量乃至やや過剰量のアミン試薬を反応させて行
われる。
【0042】次に,保護基の除去は,p−ニトロベンジ
ル基,ベンジル基,ベンズヒドリル基等を有する場合,
これらの保護基の除去は化合物(VI)を1)亜鉛又は鉄を
使用する還元,2)液安還元又は3)パラジウム−炭素
又は水酸化パラジウム−炭素を用いる接触還元すること
によって行うことができる。上記1)の還元法は化合物
(VI)を緩衝液(必要に応じて不活性溶媒を添加する)中
に加え,次いで反応対応量もしくは過剰量の亜鉛を添加
し冷却下乃至加温下撹拌することにより行うことができ
る。2)の還元法は化合物(VI)を液体アンモニア中に加
え,次いで金属ナトリウム添加し撹拌することにより行
うことができる。また,3)の還元法はパラジウム−炭
素又は水酸化パラジウム−炭素のような触媒存在下,冷
却下乃至室温下に行うことができる。 第2製法
【0043】
【化16】
【0044】本製法は,化合物(VII) に化合物(VIII)を
反応させ,その後保護基を除去する方法である。化合物
(VIII)との反応は,第1製法第2工程で用いた方法が適
宜採用され,保護基の除去も同第4工程で用いた方法が
採用される。 第3製法
【0045】
【化17】
【0046】(式中,R10は3個のフェニル基,低級ア
ルキル基又は低級アルコキシ基を意味する。以下同様
) 次ぎに本発明化合物(Ia)又はその塩は,化合物(IX)
又はその塩を分子内wittig反応に付したのち,保
護基を除去することにより得ることができる。分子内
Wittig反応は,ベンゼン,トルエン等の不活性溶
媒中,加熱下に行うことができる。また,保護基の除去
は,第1製法第4工程で述べた方法が採用される。尚,
上記化合物(IX)は,化合物(X)に
【0047】
【化18】
【0048】を反応させることにより得ることができ
る。反応液から目的物質の単離,精製は,有機溶媒によ
る抽出,クロマトグラフィー,結晶化等を適宜組み合わ
せることによって行われる。
【0049】
【発明の効果】本発明化合物は種々の抗グラム陰性菌及
び抗グラム陽性菌活性,殊に緑濃菌を含むグラム陰性の
広範囲の菌に対し,優れた抗菌活性を有する。更に,腎
における分解酵素デヒドロペプチダーゼ(DHP−1)
に安定であり,生物学的安定性が高い。
【0050】一般式(I)で示された化合物の1種又は
2種以上を有効成分として含有する製剤は,通常製剤化
に用いられる担体や賦形剤,その他の添加剤を用いて調
剤される。製剤用の担体や賦形剤としては,固体又は液
体の何れでもよく,例えば乳糖,ステアリン酸マグネシ
ウム,スターチ,タルク,ゼラチン,寒天,ペクチン,
アラビアゴム,オリーブ油,ゴマ油,カカオバター,エ
チレングリコール等やその他常用のものが挙げられる。
【0051】投与は錠剤,丸剤,カプセル剤,顆粒剤,
散剤,液剤等による経口投与あるいは静注,筋注等の注
射剤,坐剤,経皮剤等による非経口投与の何れの形態で
あってもよい。投与量は症状,投与対象の年齢,性別等
を考慮して個々の場合に応じて適宜決定される。
【0052】
【実施例】以上,本発明化合物及びその製造法について
説明したが,以下に実施例を掲記し,本発明化合物を更
に詳細に説明する。
【0053】
【化19】
【0054】1)(4R)−2−ジアゾ−4−[(2
R,3S)−3−((1R)−1−ヒドロキシエチル)
−4−オキソアゼチジン−2−イル]−3−オキソペン
タン酸パラニトロベンジル5.0gをトルエン55ml
に加え,アルゴン気流下95℃にて,酢酸ロジウム(II)
二量体2mgを加え,同温度にて20分撹拌した後,ト
ルエンを減圧留去する。得られた粗パラニトロベンジル
(1R,3R,5R,6S)−6−[(1R)−1−
ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−オキソカルバペ
ナム−3−カルボキシレートにアセトニトリル100m
lを加え,アルゴン気流下,−5℃にて,ジイソプロピ
ルエチルアミン2.35ml,次いでジフェニルリン酸
クロリド2.80mlを加えて−5℃で2時間撹拌す
る。
【0055】2)(Z)−3−(トリフェニルメチルチ
オ)アリルアルコール7.70g,テトラヒドロフラン
100ml,メタノール250ml及びピリジン2.1
gを加えた溶液に,10mlの水に溶かした硝酸銀5.
2gを徐々に加えて室温で90分撹拌する。析出した沈
殿物を濾取し減圧乾燥した後,アセトニトリル220m
l及びヨウ化リチウム6.84gを加えて30分撹拌す
る。 3)1)で得られた溶液中に2)で得られた溶液を0℃
で混合した後,10℃で90分撹拌する。溶媒を留去し
て得られた残留物に酢酸エチル及びpH7.0の冷リン
酸緩衝液を加えた後,酢酸エチル層を水洗し,硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。
【0056】溶媒を減圧留去して得られた残留物をシリ
カゲルクロマトグラフィーに付しクロロホルムーメタノ
ール(10:1)で溶出し,パラニトロベンジル (1
R,5S,6S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエ
チル]−1−メチル−2−[(Z)−3−ヒドロキシ−
1−プロペン−1−イル]チオカルバペン−2−エム−
3−カルボキシレート3.38gを得る。
【0057】理化学的性状 NMR(CDCl3 ,δppm);1.24(3H,
d),1.34(3H,d),3.32(1H,d
d),3.6(1H,m),4.2−4.4(4H,
m),5.40(2H,ABq.),5.92−6.4
4(2H,d),7.64(2H,d),8.20(2
H,d)
【0058】
【化20】
【0059】4)3)で得られた化合物100mgをテ
トラヒドロフラン15ml,pH7.0の0.05M燐
酸緩衝液5ml及び10%パラジウム炭素100mgを
加えて,室温で3時間水素添加する。触媒を濾過した溶
液に水100mlを加え,酢酸エチル50mlで洗浄
後,水層を50mlまで減圧濃縮し,ダイヤイオンHP
−20に吸着させる。水,次いで10%アセトニトリル
−水にて溶出し,目的分画を集めて減圧濃縮した後,凍
結乾燥して,(1R,5S,6S)−6−[(1R)−
1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−[(Z)−
3−ヒドロキシ−1−プロペン−1−イル]チオカルバ
ペン−2−エム−3−カルボキシレートのナトリウム塩
32mgを得る。
【0060】理化学的性状 NMR(DMSO−d6 ,δppm);1.00(3
H,d),1.16(3H,d),3.06(1H,A
Bq.),3.26−3.60(1H,m),3.8−
4.3(4H,m),5.79(1H,dt),6.3
9(1H,d,J=9.9Hz) MS:322(M+ +1) 実施例2
【0061】
【化21】
【0062】1)パラニトロベンジル (1R,5S,
6S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−1
−メチル−2−[(Z)−3−ヒドロキシ−1−プロペ
ン−1−イル]チオカルバペン−2−エム−3−カルボ
キシレート237mgをピリジン1.0mlに溶かし,
氷冷下メタンスルホニルクロリド51μlを滴下した
後,室温にて2時間撹拌する。
【0063】溶媒を減圧留去して得られた残留物にエー
テル50mlを加えて析出した粉末を濾取した後,減圧
乾燥してパラニトロベンジル (1R,5S,6S)−
6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル
−2−[(Z)−3−(ピリジン−1−イオ)−1−プ
ロペン−1−イル]チオカルバペン−2−エム−3−カ
ルボキシレートの塩化物395mgを得る。 理化学的性状 IR(KBr):1776cm-1
【0064】
【化22】
【0065】2)1)で得られた化合物390mgをテ
トラヒドロフラン10ml,pH6.1の0.35M燐
酸緩衝液20ml及び亜鉛900mgを加えて,室温で
2時間撹拌する。濾過して得られた水溶液に水50ml
を加えて酢酸エチル50mlで洗浄した後,水層をアン
バーライトIR120B(オルガノ社製)の樹脂カラム
クロマトグラフィーに付し,水200mlで溶出させ
る。溶液を50mlまで減圧濃縮した後,ダイヤイオン
HP−20に吸着させ水,次いで10%アセトン−水に
て溶出させ,目的分画を集めて減圧濃縮した後,凍結乾
燥して,(1R,5S,6S)−6−[(1R)−1−
ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−[(Z)−3−
(ピリジン−1−イオ)−1−プロペン−1−イル]チ
オカルバペン−2−エム−3−カルボキシレート79m
gを得る。
【0066】理化学的性状 NMR(DMSO−d6 ,δppm);0.99(3
H,d,J=6.8Hz),1.14(3H,d,J=
5.6Hz),3.07(1H,d),3.35(1
H,t),3.90(1H,t),4.01(1H,d
d),5.2−5.4(2H,m),5.96(1H,
dt),6.96(1H,d,J=10.0Hz),
8.17(2H,t),8.60(1H,t),9.0
5(2H,d) MS:361(M+ +1) 実施例3
【0067】
【化23】
【0068】1)パラニトロベンジル (1R,5S,
6S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−1
−メチル−2−[(Z)−3−ヒドロキシ−1−プロペ
ン−1−イル]チオカルバペン−2−エム−3−カルボ
キシレート326mgのジクロロメタン6ml溶液に,
アルゴン気流下,−40℃にて4−ジメチルアミノピリ
ジン0.10g及びジフェニル燐酸クロリド0.165
mlを加え,−20℃で1時間撹拌する。
【0069】反応後,ジクロロメタン50mlを加え
て,冷水,冷炭酸水素ナトリウム水溶液,冷0.5N塩
酸水及び冷水の順に洗浄した後,無水硫酸マグネシウム
にて乾燥する。濾過後,溶媒を減圧留去して,パラニト
ロベンジル (1R,5S,6S)−6−[(1R)−
1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−[(Z)−
3−ジフェニルホスホリルオキシ−1−プロペン−1−
イル]チオカルバペン−2−エム−3−カルボキシレー
ト458mgを得る。 理化学的性状 IR(KBr):1770cm-1
【0070】
【化24】
【0071】2)1)で得られた化合物450mgにア
セトニトリル9ml及びヨウ化ナトリウム135mgを
加えて室温で40分間撹拌した後,3−アミノピリジン
85mgを加えて更に室温で30分間撹拌する。エーテ
ル80mlを加えて析出した沈澱物を濾取し,減圧乾燥
後20%アセトニトリル水溶液180mlに溶かし,ダ
イヤイオンHP−20に吸着させ,水,20%アセトニ
トリル水,次いで40%アセトニトリル水にて溶出さ
せ,目的分画を集めて減圧濃縮した後,凍結乾燥してパ
ラニトロベンジル (1R,5S,6S)−6−[(1
R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−
[(Z)−3−(3−アミノピリジン−1−イオ)−1
−プロペン−1−イル]チオカルバペン−2−エム−3
−カルボキシレートのヨウ化物154mgを得る。
【0072】理化学的性状 MS:511(M+
【0073】
【化25】
【0074】3)2)で得られた化合物150mgにテ
トラヒドロフラン10ml、pH6.1の0.35M燐
酸緩衝10ml及び亜鉛400mgを加えて、室温で7
0分間撹拌する。セライト濾過した溶液に水100ml
を加えて、酢酸エチル50mlで洗浄後、水層をアンバ
ーライトIR120B樹脂カラムクロマトグラフィーに
付し、水150mlで溶出させる。溶液を50mlまで
減圧濃縮し、ダイヤイオンHP−20に吸着させ水、次
いで10%アセトニトリル水にて溶出させ、目的分画を
集めて減圧濃縮し、凍結乾燥して、(1R,5S,6
S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−1−
メチル−2−[(Z)−3−(3−アミノピリジン−1
−イオ)−1−プロペン−1−イル]チオカルバペン−
2−エム−3−カルボキシレート68mgを得る。
【0075】理化学的性状 NMR(DMSO−d6,δppm);1.00(3
H,d,J=6.4Hz),1.14(3H,d,J=
6.4Hz),3.11(1H,m),3.34(1
H,m),3.91(1H,t),4.03(1H,
d),5.06(1H,d),5.13(1H,d),
5.90(1H,dt),6.87(1H,d),7.
65(1H,d),7.67(1H,dd),8.06
(1H,d),8.19(1H,s) IR(KBr):1756cm-1 MS:376(M++1) 実施例4
【0076】
【化26】
【0077】実施例3と同様にして,(1R,5S,6
S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−1−
メチル−2−[(Z)−3−(1−メチルピロリジン−
1−イオ)−1−プロペン−1−イル]チオカルバペン
−2−エム−3−カルボキシレートを得る。
【0078】理化学的性状 NMR(DMSO−d6,δppm);0.98(3
H,d,J=7.2Hz),1.14(3H,d,J=
6.4Hz),2.09(4H,t),2.96(1
H,s),3.00(2H,s),3.08(1H,
m),3.37−3.52(5H,m),3.89(1
H,t),4.01(2H,m),4.12(1H,
d),5.87(1H,ABq),7.06(1H,
d), MS:367(M++1) 実施例5
【0079】
【化27】
【0080】実施例3と同様にして,(1R,5S,6
S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−1−
メチル−2−[(Z)−3−カルバモイルメチルエチル
メチルアンモニオ−1−プロペン−1−イル]チオカル
バペン−2−エム−3−カルボキシレートを得る。
【0081】理化学的性状 NMR(DMSO−d6,δppm);1.00(3
H,d),1.14(3H,d),1.27(3H,
t),3.05−3.17(4H,m),3.36(1
H,m),3.53(2H,q),3.89−4.26
(6H,m),5.80(1H,dd),7.00(1
H,d), IR(KBr):1758cm-1 MS:398(M++1) 実施例6
【0082】
【化28】
【0083】実施例3と同様にして,(1R,5S,6
S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−1−
メチル−2−[(Z)−3−(イミダゾ[1,2−b]
ピリダジン−1−イオ)−1−プロペン−1−イル]チ
オカルバペン−2−エム−3−カルボキシレートを得
る。
【0084】理化学的性状 NMR(DMSO−d6,δppm);1.00(3
H,d),1.14(3H,d),3.10(1H,
d),3.36(1H,t),3.91(1H,t),
4.02(1H,dd),5.21(1H,d),5.
27(1H,t),5.89(1H,q),6.87
(1H,d),7.99(1H,dd),8.53(1
H,d),8.80(1H,d),8.87(1H,
d),9.10(1H,t) MS:401(M++1) 実施例7
【0085】
【化29】
【0086】実施例3と同様にして,(1R,5S,6
S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−1−
メチル−2−[(Z)−3−(3−ヒドロキシメチルイ
ミダゾ[1,2−a]ピリミジン−1−イオ)−1−プ
ロペン−1−イル]チオカルバペン−2−エム−3−カ
ルボキシレートを得る。
【0087】理化学的性状 NMR(DMSO−d6,δppm);0.99(3
H,d),1.15(3H,d),3.05(1H,
d),3.37(1H,t),3.89(1H,t),
3.97(1H,d),4.91(2H,s),5.1
2(1H,d),5.18(1H,d),5.92(1
H,dt),6.80(1H,d),7.77(1H,
d),8.38(1H,s),9.15(1H,d),
9.34(1H,d) MS:431(M++1) 実施例8
【0088】
【化30】
【0089】1)パラニトロベンジル (1R,5S,
6S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−1
−メチル−2−[(Z)−3−ジフェニルホスホロオキ
シ−1−プロペン−1−イル]チオカルバペン−2−エ
ム−3−カルボキシレート721mgにアセトニトリル
13ml及びヨウ化ナトリウム224mgを加えて室温
で40分間撹拌する。析出した沈殿物を濾過して得た溶
液を減圧濃縮した後,ジメチルスルホキシド8ml及び
2−アミノイミダゾールのナトリウム塩136mgを加
えて室温で3時間撹拌する。
【0090】酢酸エチル200mlを加えて,冷水した
10%塩化ナトリウム水100mlで3回洗浄し,硫酸
マグネシウムで乾燥した後,溶媒を留去して,パラニト
ロベンジル (1R,5S,6S)−6−[(1R)−
1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−[(Z)−
3−(2−アミノイミダゾール−1−イル)−1−プロ
ペン−1−イル]チオカルバペン−2−エム−3−カル
ボキシレート470mgを得る。 理化学的性状 IR(KBr):1772cm-1 MS:500(M++1)
【0091】
【化31】
【0092】2)1)で得られた化合物157mgテト
ラヒドロフラン6ml,pH6.1の燐酸緩衝液6ml
及び亜鉛500mgを加えて室温で3時間撹拌する。セ
ライト濾過して得られた溶液に,水100mlを加え酢
酸エチル50mlで洗浄した後,水層を,アンバーライ
トIR120Bの樹脂カラムクロマトグラフィーに付
し,水150mlで溶出させる。溶液を50mlまで減
圧濃縮し,ダイヤイオンHP−20に吸着させ水,次い
で10%アセトニトリル水にて溶出させた目的分画を集
めて減圧濃縮し,凍結乾燥して(1R,5S,6S)−
6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル
−2−[(Z)−3−(2−アミノイミダゾール−1−
イル)−1−プロペン−1−イル]チオカルバペン−2
−エム−3−カルボキシレートのナトリウム塩25mg
を得る。
【0093】理化学的性状 NMR(DMSO−d6,δppm);1.00(3
H,d),1.14(3H,d),3.06(1H,
d),3.32(1H,m),3.90(1H,d
d),3.98(2H,dd),4.35(1H,
m),5.75(1H,t),6.37(1H,s),
6.47(1H,s),6.64(1H,d) IR(KBr):1756cm-1 MS:387(M++1)
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/415 9360−4C 31/425 9360−4C 31/435 9360−4C 31/445 9360−4C 31/47 9360−4C 31/495 9360−4C 31/50 9360−4C 31/505 9360−4C 31/535 9360−4C 31/54 9360−4C (72)発明者 横田 正樹 茨城県つくば市二の宮2ー5ー9 ルーミ ー筑波315 (72)発明者 新木 富雄 茨城県つくば市二の宮2−5−9 ルーミ ー筑波316 (72)発明者 山本 治 茨城県つくば市二の宮2−5−9 ルーミ ー筑波406 (72)発明者 鷲崎 清司 埼玉県上尾市富士見1−11−30

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式で示されるカルバペネム誘導
    体又はその塩。 【化1】 (式中の記号は以下の意味を有する。 R1 :1乃至2個の水酸基,低級アルコキシ基,アミノ
    基,モノ−若しくはジ−低級アルキルアミノ基又はハロ
    ゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基 R2 :低級アルキル基 Y:カルボキシル基又は薬学的に許容し得るそのエステ
    ル R3 :下記式で示される基 【化2】 (式中の基は以下の意味を有する。 A環:窒素原子を1乃至4個有し,更に酸素原子若しく
    は硫黄原子を有していてもよい置換されていてもよい飽
    和若しくは不飽和の複素環 B環:窒素原子を1乃至4個有し、更に酸素原子もしく
    は硫黄原子を有していてもよい置換されていてもよい飽
    和複素環 D環:窒素原子を1乃至4個有し,更に酸素原子若しく
    は硫黄原子を有していてもよい置換されていてもよい単
    環若しくは二環式芳香族複素環 R4 :低級アルキル基 R5 ,R6 ,R7 :同一又は異なりて置換されていても
    よい低級アルキル基 R8 :水素原子又は低級アルキル基) 波線:シス又はトランス体であることを意味する。)
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