JPH059399A - ジスアゾ顔料の製造法 - Google Patents
ジスアゾ顔料の製造法Info
- Publication number
- JPH059399A JPH059399A JP19100391A JP19100391A JPH059399A JP H059399 A JPH059399 A JP H059399A JP 19100391 A JP19100391 A JP 19100391A JP 19100391 A JP19100391 A JP 19100391A JP H059399 A JPH059399 A JP H059399A
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- pigment
- water
- coupling
- slurry
- disazo pigment
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 隠蔽力に優れたジスアゾ顔料の製造方法を提
供する。 【構成】 ベンジジン類のテトラゾ溶液とアセトアセト
アニリド類を含むカップラー液とをカップリングさせた
ジスアゾ顔料スラリーを加熱処理するジスアゾ顔料の製
造法において、カップリング終了後のあるいはカップリ
ング終了後アルカリ領域に調整した顔料スラリーからス
ラリー中に含まれる水溶性不純物を除去した後リスラリ
ーしたものを上記加熱処理することを特徴とするジスア
ゾ顔料の製造方法。
供する。 【構成】 ベンジジン類のテトラゾ溶液とアセトアセト
アニリド類を含むカップラー液とをカップリングさせた
ジスアゾ顔料スラリーを加熱処理するジスアゾ顔料の製
造法において、カップリング終了後のあるいはカップリ
ング終了後アルカリ領域に調整した顔料スラリーからス
ラリー中に含まれる水溶性不純物を除去した後リスラリ
ーしたものを上記加熱処理することを特徴とするジスア
ゾ顔料の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ジスアゾ顔料の製造法
に関し、特に隠蔽力のある粒径に調節することができる
ジスアゾ顔料の製造法に関する。
に関し、特に隠蔽力のある粒径に調節することができる
ジスアゾ顔料の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ジスアゾ顔料の合成におけるカップリン
グ後の顔料一次粒子は非常に微細なため、この状態のま
ま濾別し乾燥すると強固な凝集を起こし、インキ作成の
際、一次粒子まで分散させることは不可能である。これ
に伴い隠蔽力等が不満足なものとなる。それゆえ、一般
的にカップリング後のスラリーを熱処理して顔料一次粒
子を成長させる方法がとられている。しかし、加熱の温
度を高くしたり時間を長くするだけでは隠蔽力などに限
界があった。
グ後の顔料一次粒子は非常に微細なため、この状態のま
ま濾別し乾燥すると強固な凝集を起こし、インキ作成の
際、一次粒子まで分散させることは不可能である。これ
に伴い隠蔽力等が不満足なものとなる。それゆえ、一般
的にカップリング後のスラリーを熱処理して顔料一次粒
子を成長させる方法がとられている。しかし、加熱の温
度を高くしたり時間を長くするだけでは隠蔽力などに限
界があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ジスアゾ顔
料の製造方法において、特に水性フレキソインキに用い
ると隠蔽力の優れたインキを得ることができるジスアゾ
顔料の製造方法に関するものである。
料の製造方法において、特に水性フレキソインキに用い
ると隠蔽力の優れたインキを得ることができるジスアゾ
顔料の製造方法に関するものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明はベンジジン類の
テトラゾ溶液とアセトアセトアニリド類を含むカップラ
ー液とをカップリングさせたジスアゾ顔料スラリーを加
熱処理するジスアゾ顔料の製造方法において、カップリ
ング終了後のあるいはカップリング終了後アルカリ領域
に調整した顔料スラリーからスラリー中に含まれる水溶
性不純物を除去した後リスラリーしたものを上記加熱処
理することを特徴とするジスアゾ顔料の製造方法に関す
る。
テトラゾ溶液とアセトアセトアニリド類を含むカップラ
ー液とをカップリングさせたジスアゾ顔料スラリーを加
熱処理するジスアゾ顔料の製造方法において、カップリ
ング終了後のあるいはカップリング終了後アルカリ領域
に調整した顔料スラリーからスラリー中に含まれる水溶
性不純物を除去した後リスラリーしたものを上記加熱処
理することを特徴とするジスアゾ顔料の製造方法に関す
る。
【０００５】本発明によれば、まず３，３′−ジクロロ
ベンジジンや２，２′，５，５′−テトラクロルベンジ
ジンのようなテトラゾ成分とアセトアセトアニリド類か
ら選ばれるカップリング成分とをカップリングさせて顔
料スラリーを得る。アセトアセトアニリド類の具体例と
しては、例えばアセトアセトアニリド、アセトアセト−
ｏ−トルイジド、アセトアセト−ｍ−キシリジド、アセ
トアセト−ｏ−アニシジド、アセトアセト−２，５−ジ
メトキシアニリド、アセトアセト−ｐ−アニシジド、ア
セトアセト−２，５−ジメトキシ−４−クロロアニリ
ド、アセトアセト−ｏ−クロロアニリド等がある。カッ
プリング方法は公知の方法でよい。
ベンジジンや２，２′，５，５′−テトラクロルベンジ
ジンのようなテトラゾ成分とアセトアセトアニリド類か
ら選ばれるカップリング成分とをカップリングさせて顔
料スラリーを得る。アセトアセトアニリド類の具体例と
しては、例えばアセトアセトアニリド、アセトアセト−
ｏ−トルイジド、アセトアセト−ｍ−キシリジド、アセ
トアセト−ｏ−アニシジド、アセトアセト−２，５−ジ
メトキシアニリド、アセトアセト−ｐ−アニシジド、ア
セトアセト−２，５−ジメトキシ−４−クロロアニリ
ド、アセトアセト−ｏ−クロロアニリド等がある。カッ
プリング方法は公知の方法でよい。
【０００６】カップリングして得られた顔料スラリーを
濾過後、顔料の１０〜２００倍量の水を用いて洗浄し、
この顔料ケーキを水にリスラリーした後、加熱する。加
熱温度は特に限定されないが、４０〜１３０℃、好まし
くは７０〜１００℃である。加熱時間は、３０分以上で
あればよい。次いで顔料スラリーを濾過、水洗して本発
明のジスアゾ顔料が得られる。
濾過後、顔料の１０〜２００倍量の水を用いて洗浄し、
この顔料ケーキを水にリスラリーした後、加熱する。加
熱温度は特に限定されないが、４０〜１３０℃、好まし
くは７０〜１００℃である。加熱時間は、３０分以上で
あればよい。次いで顔料スラリーを濾過、水洗して本発
明のジスアゾ顔料が得られる。
【０００７】カップリングして得られた顔料スラリーを
濾過、水洗する上記の工程において、顔料スラリーをア
ルカリ側にpH調整した後、同様の処理を行ってもよい。
この際のアルカリ側pHとは、pH８からpH１３までの範囲
である。
濾過、水洗する上記の工程において、顔料スラリーをア
ルカリ側にpH調整した後、同様の処理を行ってもよい。
この際のアルカリ側pHとは、pH８からpH１３までの範囲
である。
【０００８】以下、実施例により本発明を説明する。実
施例中、部、％は重量部、重量％を表わす。
施例中、部、％は重量部、重量％を表わす。
【０００９】（実施例１）３，３′−ジクロロベンジジ
ン２５．３部を常法に従ってテトラゾ化してテトラゾ溶
液を得た。一方、アセトアセトアニリド３５．４部の下
漬液を常法に従って調整し、この下漬液にテトラゾ溶液
をカップリングさせた。得られた顔料のスラリーを濾過
後、３リットルの水を用いて洗浄し、この顔料ケーキを
水にリスラリーした。次いで、９５℃に加熱し、６０分
放置後、濾過、水洗および乾燥した。
ン２５．３部を常法に従ってテトラゾ化してテトラゾ溶
液を得た。一方、アセトアセトアニリド３５．４部の下
漬液を常法に従って調整し、この下漬液にテトラゾ溶液
をカップリングさせた。得られた顔料のスラリーを濾過
後、３リットルの水を用いて洗浄し、この顔料ケーキを
水にリスラリーした。次いで、９５℃に加熱し、６０分
放置後、濾過、水洗および乾燥した。
【００１０】（実施例２）実施例１において、顔料ケー
キを水にリスラリーした後、オートクレーブ中、１２０
℃に加熱した。３０分放置後、このスラリーを濾過、水
洗および乾燥した。
キを水にリスラリーした後、オートクレーブ中、１２０
℃に加熱した。３０分放置後、このスラリーを濾過、水
洗および乾燥した。
【００１１】（比較例１）実施例１において、カップリ
ング後の顔料スラリーを９５℃に加熱した。６０分放置
後、このスラリーを濾過、水洗および乾燥した。
ング後の顔料スラリーを９５℃に加熱した。６０分放置
後、このスラリーを濾過、水洗および乾燥した。
【００１２】水溶性アクリル系フレキソインキ用ワニス
に、実施例１，２および比較例１で得られた顔料を、そ
れぞれ顔料分が１６％となるように配合してフレキソイ
ンキを調整した。プルーファーを用いて黒帯付き試験紙
に展色し、色相、光沢および隠蔽力について評価した。
光沢については６０度光沢を変角光沢計を用いて測定
し、隠蔽力については白地と黒地のＥ値の差を測色計を
用いて測定した。
に、実施例１，２および比較例１で得られた顔料を、そ
れぞれ顔料分が１６％となるように配合してフレキソイ
ンキを調整した。プルーファーを用いて黒帯付き試験紙
に展色し、色相、光沢および隠蔽力について評価した。
光沢については６０度光沢を変角光沢計を用いて測定
し、隠蔽力については白地と黒地のＥ値の差を測色計を
用いて測定した。
【００１３】結果は表１のとおりで、本発明によるもの
のほうが、隠蔽力について特に優れていた。 表１ 水溶性アクリル系フレキソインキでの評価結果
のほうが、隠蔽力について特に優れていた。 表１ 水溶性アクリル系フレキソインキでの評価結果
【００１４】
【表１】
【００１５】
【発明の効果】顔料スラリーの加熱処理は、顔料結晶を
成長させて整粒させると同時に乾燥凝集を防止する効果
を有する。カップリング終了時に存在する不純物を除去
することにより、顔料の結晶成長が円滑に行われるよう
になり、その結果、光沢、隠蔽力等が良好となった。
成長させて整粒させると同時に乾燥凝集を防止する効果
を有する。カップリング終了時に存在する不純物を除去
することにより、顔料の結晶成長が円滑に行われるよう
になり、その結果、光沢、隠蔽力等が良好となった。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成３年８月３０日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００５】本発明によれば、まず３，３′−ジクロロ
ベンジジンや２，２′，５，５′−テトラクロロベンジ
ジンのようなテトラゾ成分とアセトアセトアニリド類か
ら選ばれるカップリング成分とをカップリングさせて顔
料スラリーを得る。アセトアセトアニリド類の具体例と
しては、例えばアセトアセトアニリド、アセトアセト−
ｏ−トルイジド、アセトアセト−ｍ−キシリジド、アセ
トアセト−ｏ−アニシジド、アセトアセト−２，５−ジ
メトキシアニリド、アセトアセト−ｃ−アニシジド、ア
セトアセト−２，５−ジメトキシー４−クロロアニリ
ド、アセトアセト−ｏ−クロロアニリド等がある。カッ
プリング方法は公知の方法でよい。
ベンジジンや２，２′，５，５′−テトラクロロベンジ
ジンのようなテトラゾ成分とアセトアセトアニリド類か
ら選ばれるカップリング成分とをカップリングさせて顔
料スラリーを得る。アセトアセトアニリド類の具体例と
しては、例えばアセトアセトアニリド、アセトアセト−
ｏ−トルイジド、アセトアセト−ｍ−キシリジド、アセ
トアセト−ｏ−アニシジド、アセトアセト−２，５−ジ
メトキシアニリド、アセトアセト−ｃ−アニシジド、ア
セトアセト−２，５−ジメトキシー４−クロロアニリ
ド、アセトアセト−ｏ−クロロアニリド等がある。カッ
プリング方法は公知の方法でよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１２】水溶性アクリル系フレキソインキ用ワニス
に、実施例１，２および比較例１で得られた顔料を、そ
れぞれ顔料分が１６％となるように配合してフレキソイ
ンキを調整した。プルーファーを用いて黒帯付き試験紙
に展色し、色相、光沢および隠蔽力について評価した。
光沢については６０度光沢を変角光沢計を用いて測定
し、隠蔽力については白地と黒地のΔＥ値の差（Δ（Δ
Ｅ））を測色計を用いて測定した。
に、実施例１，２および比較例１で得られた顔料を、そ
れぞれ顔料分が１６％となるように配合してフレキソイ
ンキを調整した。プルーファーを用いて黒帯付き試験紙
に展色し、色相、光沢および隠蔽力について評価した。
光沢については６０度光沢を変角光沢計を用いて測定
し、隠蔽力については白地と黒地のΔＥ値の差（Δ（Δ
Ｅ））を測色計を用いて測定した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１４】
【表１】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 ベンジジン類のテトラゾ溶液とアセトア
セトアニリド類を含むカップラー液とをカップリングさ
せたジスアゾ顔料スラリーを加熱処理するジスアゾ顔料
の製造法において、カップリング終了後のあるいはカッ
プリング終了後アルカリ領域に調整した顔料スラリーか
らスラリー中に含まれる水溶性不純物を除去した後リス
ラリーしたものを上記加熱処理することを特徴とするジ
スアゾ顔料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19100391A JPH059399A (ja) | 1991-07-05 | 1991-07-05 | ジスアゾ顔料の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19100391A JPH059399A (ja) | 1991-07-05 | 1991-07-05 | ジスアゾ顔料の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH059399A true JPH059399A (ja) | 1993-01-19 |
Family
ID=16267254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19100391A Pending JPH059399A (ja) | 1991-07-05 | 1991-07-05 | ジスアゾ顔料の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH059399A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5052126A (ja) * | 1973-01-19 | 1975-05-09 | ||
| JPS5052124A (ja) * | 1973-01-19 | 1975-05-09 |
-
1991
- 1991-07-05 JP JP19100391A patent/JPH059399A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5052126A (ja) * | 1973-01-19 | 1975-05-09 | ||
| JPS5052124A (ja) * | 1973-01-19 | 1975-05-09 |
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