JPH0593073A - ポリシラメチレノシラン系重合体又は共重合体の製造方法 - Google Patents
ポリシラメチレノシラン系重合体又は共重合体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 式（Ｉ）
【化１３】
（Ｒ1 は各々メチル基又は塩素原子を表す）で示される
２，４，６−トリシラヘプタン単独又はこれとジメチル
ジクロロシランの混合物、あるいは、２，４，６−トリ
シラヘプタン、ジメチルジクロロシラン及びＲ2 ＳｉＣ
ｌ3(Ｒ2 はメチル基、ヘキシル基、オクタデシル基、ビ
ニル基、アリル基、フェニル基又はトリメチルシリル基
を表す）の混合物を、アルカリ金属を用い、脱塩素化反
応させるポリシラメチレノシラン系重合体又は共重合体
の製造方法。 【効果】 得られた共重合体は、精密セラミック材料に
使用する炭化ケイ素の先駆物質として有用である。
２，４，６−トリシラヘプタン単独又はこれとジメチル
ジクロロシランの混合物、あるいは、２，４，６−トリ
シラヘプタン、ジメチルジクロロシラン及びＲ2 ＳｉＣ
ｌ3(Ｒ2 はメチル基、ヘキシル基、オクタデシル基、ビ
ニル基、アリル基、フェニル基又はトリメチルシリル基
を表す）の混合物を、アルカリ金属を用い、脱塩素化反
応させるポリシラメチレノシラン系重合体又は共重合体
の製造方法。 【効果】 得られた共重合体は、精密セラミック材料に
使用する炭化ケイ素の先駆物質として有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、精密セラミック材料に
使用する炭化ケイ素の先駆物質として有用に使用するこ
とができるポリシラメチレノシラン系重合体又は共重合
体の製造方法に関する。
使用する炭化ケイ素の先駆物質として有用に使用するこ
とができるポリシラメチレノシラン系重合体又は共重合
体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】１９４９年にバーカード（C. A. Burkha
rd）はジメチルジクロロシランを金属ナトリウムと反応
させて、ポリジメチルシランを得た。これを、次の反応
式に示す［J. Am. Chem. Soc.,71 964 (1949)］。
rd）はジメチルジクロロシランを金属ナトリウムと反応
させて、ポリジメチルシランを得た。これを、次の反応
式に示す［J. Am. Chem. Soc.,71 964 (1949)］。
【０００３】 ｘＭｅ2 ＳｉＣｌ2 ＋２ｘＮａ → −（Ｍｅ2 Ｓｉ）x −
【０００４】［式中、Ｍｅはメチル基を表す（以下、同
じ）］
じ）］
【０００５】しかしながら、ポリジメチルシランは白色
の固体で有機溶媒に不溶であり、１９７０年代中頃まで
は、工業的な用途が開発できなかった。
の固体で有機溶媒に不溶であり、１９７０年代中頃まで
は、工業的な用途が開発できなかった。
【０００６】１９７５年に、ヤジマ（S. Yajima ）と彼
の共同研究者らは、ポリジメチルシランを４７０℃で熱
処理して、ポリカーボシランを得た。このポリカーボシ
ランは熱を加えれば溶融する固体であり、エーテル、テ
トラヒドロフラン、ベンゼン等のような有機溶媒に良く
溶ける。これを溶かして繊維状に引き出した後、表面を
酸化させて強度を高め、８００〜１，３５０℃の高温で
熱分解し、ベータ型の炭化ケイ素繊維を得たと報告して
いる［J. AmCeram. Soc., 59 324 (1976)］。
の共同研究者らは、ポリジメチルシランを４７０℃で熱
処理して、ポリカーボシランを得た。このポリカーボシ
ランは熱を加えれば溶融する固体であり、エーテル、テ
トラヒドロフラン、ベンゼン等のような有機溶媒に良く
溶ける。これを溶かして繊維状に引き出した後、表面を
酸化させて強度を高め、８００〜１，３５０℃の高温で
熱分解し、ベータ型の炭化ケイ素繊維を得たと報告して
いる［J. AmCeram. Soc., 59 324 (1976)］。
【０００７】これを次の反応式に示す。
【０００８】
【化５】
【０００９】ポリジメチルシランの製造方法において、
脱塩素化に使用する金属のナトリウムとカリウムとでは
類似した結果を与える。しかし、ナトリウムとカリウム
の合金（カリウム：７８重量％）は常温で液体であるか
ら、使用が簡便であるが、ナトリウムだけを単独に使用
したものに比べれば価格が高い。ナトリウムは他のアル
カリ金属に比べ価格が低廉で工業的に多量に生産され、
取扱いが比較的容易である。ナトリウムはトルエンのよ
うな不活性溶媒に細かく分散させて使用し、その使用量
はＳｉ−Ｃｌモル数に対し、２０％程度過量に使用する
のが良い。
脱塩素化に使用する金属のナトリウムとカリウムとでは
類似した結果を与える。しかし、ナトリウムとカリウム
の合金（カリウム：７８重量％）は常温で液体であるか
ら、使用が簡便であるが、ナトリウムだけを単独に使用
したものに比べれば価格が高い。ナトリウムは他のアル
カリ金属に比べ価格が低廉で工業的に多量に生産され、
取扱いが比較的容易である。ナトリウムはトルエンのよ
うな不活性溶媒に細かく分散させて使用し、その使用量
はＳｉ−Ｃｌモル数に対し、２０％程度過量に使用する
のが良い。
【００１０】溶媒はアルカリ金属又は塩化シランと反応
してはならないから、酸性の水素を有することはできな
い。また、溶媒の沸点が、金属ナトリウムの融点９８℃
以下では、ナトリウムを使用する反応には適当でない。
この反応には、トルエンが適切な溶媒であるが、オクタ
ン、キシレン等の溶媒も使用することができる。
してはならないから、酸性の水素を有することはできな
い。また、溶媒の沸点が、金属ナトリウムの融点９８℃
以下では、ナトリウムを使用する反応には適当でない。
この反応には、トルエンが適切な溶媒であるが、オクタ
ン、キシレン等の溶媒も使用することができる。
【００１１】反応中は激しくかき混ぜないと、生成する
塩が凝固する。反応進行中に、副生する塩化ナトリウム
が金属ナトリウム表面に凝固すれば、そのナトリウムは
反応に関与することができない。反応が終了して、反応
物を冷却した後、若干の水を含有するテトラヒドロフラ
ンを使用するか、低級アルコール又は低級有機酸を使用
して、活性を有する金属を破壊しなければならない。こ
の反応は生成物もまた固体であるから反応條件を均一に
維持するのが非常に難しく、収率も良好でなく６０〜７
０％程度である。
塩が凝固する。反応進行中に、副生する塩化ナトリウム
が金属ナトリウム表面に凝固すれば、そのナトリウムは
反応に関与することができない。反応が終了して、反応
物を冷却した後、若干の水を含有するテトラヒドロフラ
ンを使用するか、低級アルコール又は低級有機酸を使用
して、活性を有する金属を破壊しなければならない。こ
の反応は生成物もまた固体であるから反応條件を均一に
維持するのが非常に難しく、収率も良好でなく６０〜７
０％程度である。
【００１２】この反応で最も難しい点は、水分と反応性
の高い金属ナトリウムを使用することである。アルカリ
金属は水と反応し水素を放出し、また、水素は空気中の
酸素と接触し爆発するから、金属ナトリウムは取扱い
に、注意が必要で、更に、生成物のポリジメチルシラン
又は副生物の塩化ナトリウムに金属ナトリウムが付着し
ているのを除去しようとすれば、引火性の有るアルコー
ルを使用するため、その分、工程が難しく、また、収率
が高くないため経済性が劣る。
の高い金属ナトリウムを使用することである。アルカリ
金属は水と反応し水素を放出し、また、水素は空気中の
酸素と接触し爆発するから、金属ナトリウムは取扱い
に、注意が必要で、更に、生成物のポリジメチルシラン
又は副生物の塩化ナトリウムに金属ナトリウムが付着し
ているのを除去しようとすれば、引火性の有るアルコー
ルを使用するため、その分、工程が難しく、また、収率
が高くないため経済性が劣る。
【００１３】ウェスト（West）は米国特許第４，２６
０，７８０号及び第４，３２４，９０１号各明細書で、
ジメチルジクロロシランに、所定量のメチルフェニルジ
クロロシランを混ぜて、脱塩素化反応により有機溶媒に
可溶な樹脂形態のポリメチルフェニルシランを得ること
を開示した。
０，７８０号及び第４，３２４，９０１号各明細書で、
ジメチルジクロロシランに、所定量のメチルフェニルジ
クロロシランを混ぜて、脱塩素化反応により有機溶媒に
可溶な樹脂形態のポリメチルフェニルシランを得ること
を開示した。
【００１４】
【化６】
【００１５】［式中、Ｐｈはフェニル基を表す（以下、
同じ）］
同じ）］
【００１６】ポリメチルフェニルシランは、容易に乾留
で、ナトリウム等の金属又はその金属塩から分離するこ
とができ、溶媒を除去した後、熱処理して炭化ケイ素繊
維を得るか、多孔性セラミック材料の結合とか表面処理
に使用することができるとしている。この工程は固体の
ポリマーを得る場合に比較すれば、簡単で収率がより高
いものとして知られている。しかし、ポリフェニルメチ
ルシランは紫外線を照射すれば、光反応によりゲルを形
成する。これは生成物の貯蔵とか工程管理の困難性を示
している。この高分子物質の原料である、メチルフェニ
ルジクロロシランはジメチルジクロロシランに比べ価格
が高く、また、有機基の含有比率が高いから炭化ケイ素
の生成量が理論的に５０％未満であり実際には３０％に
止まるのみである。
で、ナトリウム等の金属又はその金属塩から分離するこ
とができ、溶媒を除去した後、熱処理して炭化ケイ素繊
維を得るか、多孔性セラミック材料の結合とか表面処理
に使用することができるとしている。この工程は固体の
ポリマーを得る場合に比較すれば、簡単で収率がより高
いものとして知られている。しかし、ポリフェニルメチ
ルシランは紫外線を照射すれば、光反応によりゲルを形
成する。これは生成物の貯蔵とか工程管理の困難性を示
している。この高分子物質の原料である、メチルフェニ
ルジクロロシランはジメチルジクロロシランに比べ価格
が高く、また、有機基の含有比率が高いから炭化ケイ素
の生成量が理論的に５０％未満であり実際には３０％に
止まるのみである。
【００１７】シリング（Schilling)と彼の共同研究者ら
は、米国特許第４，４１４，４０３号明細書でビニル基
を持つ有機シランとクロロメチル基を持つ有機シランと
を適当量ずつ混合し、トリメチルクロロシランと共に金
属ナトリウムか金属カリウムで脱塩素化反応させて、直
接ポリカーボシランを得た。
は、米国特許第４，４１４，４０３号明細書でビニル基
を持つ有機シランとクロロメチル基を持つ有機シランと
を適当量ずつ混合し、トリメチルクロロシランと共に金
属ナトリウムか金属カリウムで脱塩素化反応させて、直
接ポリカーボシランを得た。
【００１８】
【化７】
【００１９】このポリカーボシランは枝の付いたカーボ
シランの高分子で、有機溶媒に可溶で、熱分解すれば炭
化ケイ素が得られることが示されている。
シランの高分子で、有機溶媒に可溶で、熱分解すれば炭
化ケイ素が得られることが示されている。
【００２０】彼らは更に、ジメチルジクロロシラン、ビ
ニルメチルジクロロシラン、メチルジクロロシラン及び
トリメチルクロロシランをテトラヒドロフランとトルエ
ンの混合溶液中で金属ナトリウムで脱塩素化反応させ、
有機溶媒に可溶のポリシランを合成した（米国特許第
４，４７２，５９１号明細書）。このポリシランは、ビ
ニル基とケイ素−水素結合を併せ持ち、これを２００℃
程度に加熱すれば、付加反応を起しカーボシラン結合を
形成する。ポリジメチルシランが溶媒に溶けないので、
４５０℃に加熱しないと、有機溶媒に可溶なカーボシラ
ンに転換することができないことに比較すれば、極め
て、有利な方法であると主張している。また、２００℃
で架橋したポリシランは、更に、１，２００℃で熱分解
して高い収率で炭化ケイ素を得ることができた。しか
し、この方法ではケイ素とケイ素の原子間に２つのメチ
レン基があるから、熱分解工程でも骨格にある過量の炭
素が抜け出るのが困難であるため、炭化ケイ素生成物に
過量の炭素が、含有され、炭化ケイ素のベータ結晶構造
の形成に障碍となる。
ニルメチルジクロロシラン、メチルジクロロシラン及び
トリメチルクロロシランをテトラヒドロフランとトルエ
ンの混合溶液中で金属ナトリウムで脱塩素化反応させ、
有機溶媒に可溶のポリシランを合成した（米国特許第
４，４７２，５９１号明細書）。このポリシランは、ビ
ニル基とケイ素−水素結合を併せ持ち、これを２００℃
程度に加熱すれば、付加反応を起しカーボシラン結合を
形成する。ポリジメチルシランが溶媒に溶けないので、
４５０℃に加熱しないと、有機溶媒に可溶なカーボシラ
ンに転換することができないことに比較すれば、極め
て、有利な方法であると主張している。また、２００℃
で架橋したポリシランは、更に、１，２００℃で熱分解
して高い収率で炭化ケイ素を得ることができた。しか
し、この方法ではケイ素とケイ素の原子間に２つのメチ
レン基があるから、熱分解工程でも骨格にある過量の炭
素が抜け出るのが困難であるため、炭化ケイ素生成物に
過量の炭素が、含有され、炭化ケイ素のベータ結晶構造
の形成に障碍となる。
【００２１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
を解決し、有機溶媒に可溶で、貯蔵安定性があり、ケイ
素原子間に１個のみのメチレン基を有し、容易に、か
つ、効率的に炭化ケイ素に転換することのできる有機シ
リコーン重合体の製造方法を提供することを目的とす
る。
を解決し、有機溶媒に可溶で、貯蔵安定性があり、ケイ
素原子間に１個のみのメチレン基を有し、容易に、か
つ、効率的に炭化ケイ素に転換することのできる有機シ
リコーン重合体の製造方法を提供することを目的とす
る。
【００２２】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、このため
鋭意検討を重ねた結果、カーボシラン結合を持つ特定の
２，４，６−トリシラヘプタンを単独又は適当量の有機
クロロシランと混合し、アルカリ金属で脱塩素化反応さ
せて得られるポリシラメチレノシラン系重合体は有機溶
媒に良く溶けるだけでなく、大気圧下で熱分解すれば直
接炭化ケイ素を良い収率で得ることができることを見出
し、本発明を完成するに至った。
鋭意検討を重ねた結果、カーボシラン結合を持つ特定の
２，４，６−トリシラヘプタンを単独又は適当量の有機
クロロシランと混合し、アルカリ金属で脱塩素化反応さ
せて得られるポリシラメチレノシラン系重合体は有機溶
媒に良く溶けるだけでなく、大気圧下で熱分解すれば直
接炭化ケイ素を良い収率で得ることができることを見出
し、本発明を完成するに至った。
【００２３】すなわち、本発明は、一般式（Ｉ）
【００２４】
【化８】
【００２５】（式中、Ｒ1 は各々メチル基又は塩素原子
を表す）で示される１種又は２種の２，４，６−トリシ
ラヘプタン、ジメチルジクロロシラン及び一般式（II）
を表す）で示される１種又は２種の２，４，６−トリシ
ラヘプタン、ジメチルジクロロシラン及び一般式（II）
【００２６】 Ｒ2 ＳｉＣｌ3 （II）
【００２７】（式中、Ｒ2 はメチル基、ヘキシル基、オ
クタデシル基、ビニル基、アリル基、フェニル基又はト
リメチルシリルメチル基を表す）で示されるトリクロロ
シランを、アルカリ金属を用いて、脱塩素化反応させる
ことを特徴とする、一般式（III)、（IV）及び（Ｖ）で
示される構造単位からなるポリシラメチレノシラン系共
重合体の製造方法である。
クタデシル基、ビニル基、アリル基、フェニル基又はト
リメチルシリルメチル基を表す）で示されるトリクロロ
シランを、アルカリ金属を用いて、脱塩素化反応させる
ことを特徴とする、一般式（III)、（IV）及び（Ｖ）で
示される構造単位からなるポリシラメチレノシラン系共
重合体の製造方法である。
【００２８】
【化９】
【００２９】（式中、Ｒ1 は前記と同じ）
【００３０】
【化１０】
【００３１】
【化１１】
【００３２】（式中、Ｒ2 は前記と同じ）
【００３３】ここで、２，４，６−トリシラヘプタン
（Ｉ）のみを、上記のように脱塩素化反応させて得られ
る、構造単位（III)のみからなるポリシラメチレノシラ
ン系重合体、あるいは、２，４，６−トリシラヘプタン
（Ｉ）とジメチルジクロロシランとを、同様に脱塩素化
反応させて得られる、構造単位（III)及び（IV）からな
るポリシラメチレノシラン系共重合体の製造方法も、本
発明の製造方法を構成するものである。
（Ｉ）のみを、上記のように脱塩素化反応させて得られ
る、構造単位（III)のみからなるポリシラメチレノシラ
ン系重合体、あるいは、２，４，６−トリシラヘプタン
（Ｉ）とジメチルジクロロシランとを、同様に脱塩素化
反応させて得られる、構造単位（III)及び（IV）からな
るポリシラメチレノシラン系共重合体の製造方法も、本
発明の製造方法を構成するものである。
【００３４】本発明に使用する一般式２，４，６−トリ
シラヘプタン（Ｉ）の代表例を挙げれば、４，４−ジク
ロロ−２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−ト
リシラヘプタン、２，４，４，６−テトラクロロ−２，
６−ジメチル−２，４，６−トリシラヘプタン等であ
る。
シラヘプタン（Ｉ）の代表例を挙げれば、４，４−ジク
ロロ−２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−ト
リシラヘプタン、２，４，４，６−テトラクロロ−２，
６−ジメチル−２，４，６−トリシラヘプタン等であ
る。
【００３５】構造単位（III)のみからなるポリシラメチ
レノシラン系重合体の場合、上記４，４−ジクロロ−
２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−トリシラ
ヘプタンより由来する、Ｒ1 が２個ともメチル基である
構造単位と、上記２，４，４，６−テトラクロロ−２，
６−ジメチル−２，４，６−トリシラヘプタンより由来
する、Ｒ1 が２個とも塩素原子である構造単位の組成割
合が、それぞれ、４５〜５５モル％及び５５〜４５モル
％よりなる重合体は、有機溶媒可溶性及び炭化ケイ素へ
の転換性の点で好ましい。
レノシラン系重合体の場合、上記４，４−ジクロロ−
２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−トリシラ
ヘプタンより由来する、Ｒ1 が２個ともメチル基である
構造単位と、上記２，４，４，６−テトラクロロ−２，
６−ジメチル−２，４，６−トリシラヘプタンより由来
する、Ｒ1 が２個とも塩素原子である構造単位の組成割
合が、それぞれ、４５〜５５モル％及び５５〜４５モル
％よりなる重合体は、有機溶媒可溶性及び炭化ケイ素へ
の転換性の点で好ましい。
【００３６】２，４，６−トリシラヘプタン（Ｉ）の製
造法については、ミロノフ（V. F.Mironov)と彼の共同
研究者らによれば、一般式（VI）のクロロメチル基を有
するシランを銅触媒の存在下でケイ素と反応させれば、
２個のメチレン基の間にジクロロケイ素の入った２，
４，６−トリシラヘプタン（Ｉ）を得ることができると
報告している［Zh. Obsch. Khim. 12 1362 (1972）］。
造法については、ミロノフ（V. F.Mironov)と彼の共同
研究者らによれば、一般式（VI）のクロロメチル基を有
するシランを銅触媒の存在下でケイ素と反応させれば、
２個のメチレン基の間にジクロロケイ素の入った２，
４，６−トリシラヘプタン（Ｉ）を得ることができると
報告している［Zh. Obsch. Khim. 12 1362 (1972）］。
【００３７】
【化１２】
【００３８】（式中、Ｒ1 は各々メチル基又は塩素原子
を表す）
を表す）
【００３９】これに対し、本発明者らは、この反応につ
いて、流動型反応槽を使用して、反応させるか、らせん
型撹拌機を持つ反応槽で、上から、気化したシランを下
に流し出しながら生成物と共に下へ流れ出るように反応
させることで、沸点の高い生成物等を反応槽外へ、効果
的に除去しケイ素の反応性を高く維持し、副反応を少な
くして、経済性を高めることができることを提案した
（韓国特許出願第１０５５明細書、１９９１．１．２
２）。
いて、流動型反応槽を使用して、反応させるか、らせん
型撹拌機を持つ反応槽で、上から、気化したシランを下
に流し出しながら生成物と共に下へ流れ出るように反応
させることで、沸点の高い生成物等を反応槽外へ、効果
的に除去しケイ素の反応性を高く維持し、副反応を少な
くして、経済性を高めることができることを提案した
（韓国特許出願第１０５５明細書、１９９１．１．２
２）。
【００４０】２，４，６−トリシラヘプタン（Ｉ）に混
合して共重合させるには、ジメチルジクロロシラン又は
ジメチルジクロロシランとトリクロロシラン（II）が、
使用されるが、トリクロロシラン（II）の代表例を挙げ
ればメチルトリクロロシラン、ヘキシルトリクロロシラ
ン、オクタデシルトリクロロシラン、ビニルトリクロロ
シラン、アリルトリクロロシラン、フェニルトリクロロ
シラン、トリメチルシリルメチルトリクロロシラン等で
ある。
合して共重合させるには、ジメチルジクロロシラン又は
ジメチルジクロロシランとトリクロロシラン（II）が、
使用されるが、トリクロロシラン（II）の代表例を挙げ
ればメチルトリクロロシラン、ヘキシルトリクロロシラ
ン、オクタデシルトリクロロシラン、ビニルトリクロロ
シラン、アリルトリクロロシラン、フェニルトリクロロ
シラン、トリメチルシリルメチルトリクロロシラン等で
ある。
【００４１】構造単位（III)、（IV）及び（Ｖ）の３成
分よりなるポリシラメチレノシラン系共重合体において
は、各構造単位の組成割合は、それぞれ、２０〜５０モ
ル％、４０〜７５モル％及び５〜１５モル％であること
が、有機溶媒可溶性及び炭化ケイ素への転換性の点で好
ましい。
分よりなるポリシラメチレノシラン系共重合体において
は、各構造単位の組成割合は、それぞれ、２０〜５０モ
ル％、４０〜７５モル％及び５〜１５モル％であること
が、有機溶媒可溶性及び炭化ケイ素への転換性の点で好
ましい。
【００４２】また、構造単位（III)及び（IV）の２成分
よりなるポリシラメチレノシラン系共重合体において
は、その組成割合が、それぞれ、８〜８０モル％及び２
０〜９２モル％であることが、上記と同じ理由で好まし
い。
よりなるポリシラメチレノシラン系共重合体において
は、その組成割合が、それぞれ、８〜８０モル％及び２
０〜９２モル％であることが、上記と同じ理由で好まし
い。
【００４３】通常、トリクロロシラン（II）を適当量混
合し重合させればポリシラメチレノシラン系共重合体の
分子量が増加し、ジメチルジクロロシランを適当量混合
し重合させればポリシラメチレノシラン系共重合体分子
量は減少し、かつ、有機溶媒に対する溶解度が増加す
る。
合し重合させればポリシラメチレノシラン系共重合体の
分子量が増加し、ジメチルジクロロシランを適当量混合
し重合させればポリシラメチレノシラン系共重合体分子
量は減少し、かつ、有機溶媒に対する溶解度が増加す
る。
【００４４】本発明に使用する有機溶媒には、無極性溶
媒すなわち、トルエン、キシレン、ベンゼン等を使用す
ることができ、この中でトルエンが好ましい。また、極
性溶媒のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）は単独又は無極
性溶媒と混合して使用することができる。無極性溶媒と
ＴＨＦとの混合は、重量比で８０：２０が好ましい。
媒すなわち、トルエン、キシレン、ベンゼン等を使用す
ることができ、この中でトルエンが好ましい。また、極
性溶媒のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）は単独又は無極
性溶媒と混合して使用することができる。無極性溶媒と
ＴＨＦとの混合は、重量比で８０：２０が好ましい。
【００４５】アルカリ金属としては、リチウム、ナトリ
ウム、カリウム及びナトリウムとカリウムの合金を使用
することができる。
ウム、カリウム及びナトリウムとカリウムの合金を使用
することができる。
【００４６】本発明のポリシラメチレノシラン系重合体
又は共重合体を得るための脱塩素化反応は、実験室で使
用するようなガラス器具を使用してもよいが、通常、商
用化した反応槽を使用する。反応装置は不活性気体雰囲
気下で、原料を徐々に注入することのできる装置を有
し、かつ、撹拌機及び加熱・冷却器を備える必要があ
る。しかし、この重合方法は、装置又は反応圧力等によ
って、限定されるものではない。
又は共重合体を得るための脱塩素化反応は、実験室で使
用するようなガラス器具を使用してもよいが、通常、商
用化した反応槽を使用する。反応装置は不活性気体雰囲
気下で、原料を徐々に注入することのできる装置を有
し、かつ、撹拌機及び加熱・冷却器を備える必要があ
る。しかし、この重合方法は、装置又は反応圧力等によ
って、限定されるものではない。
【００４７】本発明の典型的な製造方法は、不活性気体
雰囲気下で、乾燥した溶媒を注入し、所定量のナトリウ
ムを添加して、この溶液を加熱し還流させながら、激し
くかき混ぜ、ナトリウムを微細粒子に分散させる。この
ナトリウムの微細分散液に、脱塩素化するジメチルジク
ロロシラン又はジメチルジクロロシランとトリクロロシ
ラン（II）の混合物を注入する。この反応は、相当な発
熱反応であるから、これらクロロシランの注入速度を調
節し、外部から加熱しないで還流状態にすることができ
る。反応温度は、常にナトリウムの融点より高く、好ま
しくは１００〜１５０℃に維持し、副生する塩が凝固し
ないよう、十分に激しく撹拌する必要がある。これらク
ロロシランの注入が終った後、反応を完結させるために
一定時間撹拌を継続する。反応終了後、溶液を冷却し、
乾留して、固形分をろ過し、分離する。
雰囲気下で、乾燥した溶媒を注入し、所定量のナトリウ
ムを添加して、この溶液を加熱し還流させながら、激し
くかき混ぜ、ナトリウムを微細粒子に分散させる。この
ナトリウムの微細分散液に、脱塩素化するジメチルジク
ロロシラン又はジメチルジクロロシランとトリクロロシ
ラン（II）の混合物を注入する。この反応は、相当な発
熱反応であるから、これらクロロシランの注入速度を調
節し、外部から加熱しないで還流状態にすることができ
る。反応温度は、常にナトリウムの融点より高く、好ま
しくは１００〜１５０℃に維持し、副生する塩が凝固し
ないよう、十分に激しく撹拌する必要がある。これらク
ロロシランの注入が終った後、反応を完結させるために
一定時間撹拌を継続する。反応終了後、溶液を冷却し、
乾留して、固形分をろ過し、分離する。
【００４８】得られた重合体は、使用したジメチルジク
ロロシラン又はジメチルクロロシランとトリクロロシラ
ン（II）の種類及び混合比により、低粘度のオイルから
固体まで多様な形態をとる。好ましい重合体は、有機溶
媒に良く溶解し、溶融紡糸又は溶液に紡糸で容易に繊維
状となり、また、製膜性も良好でなければならない。更
に、得られた重合体は、それ自体で又は他の材料と共に
１，２００℃以上に加熱したとき、炭化ケイ素に容易に
転換されることが必要である。
ロロシラン又はジメチルクロロシランとトリクロロシラ
ン（II）の種類及び混合比により、低粘度のオイルから
固体まで多様な形態をとる。好ましい重合体は、有機溶
媒に良く溶解し、溶融紡糸又は溶液に紡糸で容易に繊維
状となり、また、製膜性も良好でなければならない。更
に、得られた重合体は、それ自体で又は他の材料と共に
１，２００℃以上に加熱したとき、炭化ケイ素に容易に
転換されることが必要である。
【００４９】
【実施例】以下、実施例を挙げ、本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００５０】実施例１ ５００ml三つ口フラスコに、滴下漏斗、凝縮器及び機械
的撹拌器を設備して、凝縮器の端部には乾燥した窒素が
通過するようにし、全装置が窒素雰囲気下に維持できる
ようにした。フラスコに乾燥したトルエン１２０mlを入
れ、次いで、金属ナトリウム１０g(４３５mmol）を細か
く切って、乾燥したトルエンで洗浄した後添加した。機
械的撹拌器を用い、内容物を激しくかき混ぜながら、電
気マントルを使用し、トルエンが還流するように加熱し
た後、その状態で約３０分間維持すると、金属ナトリウ
ムは小さい粒子に分散した。
的撹拌器を設備して、凝縮器の端部には乾燥した窒素が
通過するようにし、全装置が窒素雰囲気下に維持できる
ようにした。フラスコに乾燥したトルエン１２０mlを入
れ、次いで、金属ナトリウム１０g(４３５mmol）を細か
く切って、乾燥したトルエンで洗浄した後添加した。機
械的撹拌器を用い、内容物を激しくかき混ぜながら、電
気マントルを使用し、トルエンが還流するように加熱し
た後、その状態で約３０分間維持すると、金属ナトリウ
ムは小さい粒子に分散した。
【００５１】２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−
ジメチル−２，４，６−トリシラヘプタン１２．６g(４
０mmol）とジメチルジクロロシラン１５．５g(１２０mm
ol）の混合物（混合モル比２５：７５）を滴下漏斗を用
い、約１時間に亙って添加した。この溶液を、８時間撹
拌しながら還流させて、反応させた後、反応物をアルコ
ール及び水で洗浄することなく、ガラスろ過器でろ過
し、有機溶液層を、塩化ナトリウム及び未反応の金属ナ
トリウムと分離した。ろ別した固形物を、乾燥蒸留した
トルエンで洗浄し、その洗浄液を有機溶液層と合わせ
た。この溶液を３０mmHgで減圧蒸留し、有機溶媒のトル
エンを除去した。
ジメチル−２，４，６−トリシラヘプタン１２．６g(４
０mmol）とジメチルジクロロシラン１５．５g(１２０mm
ol）の混合物（混合モル比２５：７５）を滴下漏斗を用
い、約１時間に亙って添加した。この溶液を、８時間撹
拌しながら還流させて、反応させた後、反応物をアルコ
ール及び水で洗浄することなく、ガラスろ過器でろ過
し、有機溶液層を、塩化ナトリウム及び未反応の金属ナ
トリウムと分離した。ろ別した固形物を、乾燥蒸留した
トルエンで洗浄し、その洗浄液を有機溶液層と合わせ
た。この溶液を３０mmHgで減圧蒸留し、有機溶媒のトル
エンを除去した。
【００５２】得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチ
レノシラン系共重合体量は１２．１８g であり、収率は
８８．１％で、乳色の粘度の高い液体であるが、徐々に
加熱すれば少しずつ透明になる。ＧＰＣ分析による平均
分子量は１１，０００であった。その赤外線吸収スペク
トルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1
にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1付近及び１，４
００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが
観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析によれば０．２pp
m でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、
４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当するピークが観
察できた。
レノシラン系共重合体量は１２．１８g であり、収率は
８８．１％で、乳色の粘度の高い液体であるが、徐々に
加熱すれば少しずつ透明になる。ＧＰＣ分析による平均
分子量は１１，０００であった。その赤外線吸収スペク
トルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1
にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1付近及び１，４
００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが
観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析によれば０．２pp
m でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、
４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当するピークが観
察できた。
【００５３】実施例２ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタン単独を反応させた以外
は、実施例１と同様に実施した。得られた、有機溶媒に
可溶のポリシラメチレノシラン系重合体の収率は９３．
７％であり、平均分子量は２７，０００であった。この
ものの赤外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳ
ｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０
００cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −
Ｓｉに該当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共
鳴分析によれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm
でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それ
ぞれ該当するピークが観察できた。
２，４，６−トリシラヘプタン単独を反応させた以外
は、実施例１と同様に実施した。得られた、有機溶媒に
可溶のポリシラメチレノシラン系重合体の収率は９３．
７％であり、平均分子量は２７，０００であった。この
ものの赤外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳ
ｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０
００cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −
Ｓｉに該当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共
鳴分析によれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm
でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それ
ぞれ該当するピークが観察できた。
【００５４】実施例３ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンの混合比率をモル比で４４：５６とした以外は、実施
例１と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は８７．４％で
あり、平均分子量は４４，０００であった。
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンの混合比率をモル比で４４：５６とした以外は、実施
例１と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は８７．４％で
あり、平均分子量は４４，０００であった。
【００５５】実施例４ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンの混合比率をモル比で８：９２とした以外は、実施例
１と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は２４．１％であ
り、平均分子量は７，０００であった。
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンの混合比率をモル比で８：９２とした以外は、実施例
１と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は２４．１％であ
り、平均分子量は７，０００であった。
【００５６】実施例５ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンの混合比率をモル比で８０：２０とした以外は、実施
例１と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は９５．４％で
あり、平均分子量は１１，０００であった。
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンの混合比率をモル比で８０：２０とした以外は、実施
例１と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は９５．４％で
あり、平均分子量は１１，０００であった。
【００５７】実施例６ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタン、ジメチルジクロロシラ
ン及びメチルトリクロロシランの３成分を用い、その混
合比率をモル比で２５：７０：５とした以外は、実施例
１と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は９０．０％であ
り、平均分子量は１，９００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０００cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，１００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当
するピークが観察できた。
２，４，６−トリシラヘプタン、ジメチルジクロロシラ
ン及びメチルトリクロロシランの３成分を用い、その混
合比率をモル比で２５：７０：５とした以外は、実施例
１と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は９０．０％であ
り、平均分子量は１，９００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０００cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，１００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当
するピークが観察できた。
【００５８】実施例７ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンとメチルトリクロロシランの混合比率をモル比で２
５：６５：１０とした以外は、実施例６と同様に実施し
た。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシラ
ン系共重合体の収率は７１．３％であり、平均分子量は
３，３００であった。
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンとメチルトリクロロシランの混合比率をモル比で２
５：６５：１０とした以外は、実施例６と同様に実施し
た。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシラ
ン系共重合体の収率は７１．３％であり、平均分子量は
３，３００であった。
【００５９】実施例８ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンとメチルトリクロロシランの混合比率をモル比で２
０：７５：５とした以外は、実施例６と同様に実施し
た。得られた有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシラン
系共重合体の収率は８１．４％であり、平均分子量は
２，３００であった。
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンとメチルトリクロロシランの混合比率をモル比で２
０：７５：５とした以外は、実施例６と同様に実施し
た。得られた有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシラン
系共重合体の収率は８１．４％であり、平均分子量は
２，３００であった。
【００６０】実施例９ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンとメチルトリクロロシランの混合比率をモル比で２
０：７０：１０とした以外は、実施例６と同様に実施し
た。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシラ
ン系共重合体の収率は８７．３％であり、平均分子量は
３，５００であった。
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンとメチルトリクロロシランの混合比率をモル比で２
０：７０：１０とした以外は、実施例６と同様に実施し
た。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシラ
ン系共重合体の収率は８７．３％であり、平均分子量は
３，５００であった。
【００６１】実施例１０ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタン、ジメチルジクロロシラ
ン及びフェニルトリクロロシランの３成分を用い、その
混合比率をモル比で２５：７０：５とした以外は、実施
例１と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は９１．３％で
あり、平均分子量は２，８００であった。このものの赤
外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば、０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ
−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、７．３ppmで
Ｓｉ−Ｐｈに、それぞれ該当するピークが、観察でき
た。
２，４，６−トリシラヘプタン、ジメチルジクロロシラ
ン及びフェニルトリクロロシランの３成分を用い、その
混合比率をモル比で２５：７０：５とした以外は、実施
例１と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は９１．３％で
あり、平均分子量は２，８００であった。このものの赤
外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば、０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ
−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、７．３ppmで
Ｓｉ−Ｐｈに、それぞれ該当するピークが、観察でき
た。
【００６２】実施例１１ ５モル％のフェニルトリクロロシランの代りに５モル％
のヘキシルトリクロロシランを使用した以外は、実施例
１０と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は８９．０％で
あり、平均分子量は２，７００であった。このものの赤
外線吸収スペクトルには、２，０９０cm -1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば、０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ
−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、１．３ppm で
Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ13に、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
のヘキシルトリクロロシランを使用した以外は、実施例
１０と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は８９．０％で
あり、平均分子量は２，７００であった。このものの赤
外線吸収スペクトルには、２，０９０cm -1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば、０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ
−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、１．３ppm で
Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ13に、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
【００６３】実施例１２ ５モル％のフェニルトリクロロシランの代りに５モル％
のビニルトリクロロシランを使用した以外は、実施例１
０と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は９３．０％であ
り、平均分子量は５，８００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、６．０ppm でＳ
ｉ−ＣＨ＝ＣＨ2 に、それぞれ該当するピークが観察で
きた。
のビニルトリクロロシランを使用した以外は、実施例１
０と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は９３．０％であ
り、平均分子量は５，８００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、６．０ppm でＳ
ｉ−ＣＨ＝ＣＨ2 に、それぞれ該当するピークが観察で
きた。
【００６４】実施例１３ ５モル％のフェニルトリクロロシランの代りに５モル％
のアリルトリクロロシランを使用した以外は、実施例１
０と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は９３．０％であ
り、平均分子量は３，７００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、５．０ppm と
５．８ppm でＳｉ−ＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ2 に、それぞれ
該当するピークが観察できた。
のアリルトリクロロシランを使用した以外は、実施例１
０と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は９３．０％であ
り、平均分子量は３，７００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、５．０ppm と
５．８ppm でＳｉ−ＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ2 に、それぞれ
該当するピークが観察できた。
【００６５】実施例１４ ５モル％のフェニルトリクロロシランの代りに５モル％
のトリメチルシリルメチルトリクロロシランを使用した
以外は、実施例１０と同様に実施した。得られた、有機
溶媒に可溶のポリシラメチレノシラン系共重合体の収率
は９２．９％であり、平均分子量は５，０００であっ
た。このものの赤外線吸収スペクトルには、２，０９０
cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そし
て１，０００cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが観察された。６０MHz
核磁気共鳴分析によれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、
１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−
Ｈに、それぞれ該当するピークが観察できた。
のトリメチルシリルメチルトリクロロシランを使用した
以外は、実施例１０と同様に実施した。得られた、有機
溶媒に可溶のポリシラメチレノシラン系共重合体の収率
は９２．９％であり、平均分子量は５，０００であっ
た。このものの赤外線吸収スペクトルには、２，０９０
cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そし
て１，０００cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが観察された。６０MHz
核磁気共鳴分析によれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、
１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−
Ｈに、それぞれ該当するピークが観察できた。
【００６６】実施例１５ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンとメチルトリクロロシランの混合比率をモル比で２
５：６０：１５とした以外は、実施例６と同様に実施し
た。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシラ
ン系共重合体の収率は８３．０％であり、平均分子量は
４，０００であった。
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンとメチルトリクロロシランの混合比率をモル比で２
５：６０：１５とした以外は、実施例６と同様に実施し
た。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシラ
ン系共重合体の収率は８３．０％であり、平均分子量は
４，０００であった。
【００６７】実施例１６ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンの代りに４，４−ジクロ
ロ−２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−トリ
シラヘプタンを使用した以外は、実施例１と同様に実施
した。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシ
ラン系共重合体の収率は６８．３％であり、平均分子量
は１，４００であった。このものの赤外線吸収スペクト
ルには、２，０００cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1に
Ｓｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1付近及び１，４０
０cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが観
察された。６０MHz 核磁気共鳴分析によれば、０．２pp
m でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、
４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当するピークが観
察できた。
２，４，６−トリシラヘプタンの代りに４，４−ジクロ
ロ−２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−トリ
シラヘプタンを使用した以外は、実施例１と同様に実施
した。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシ
ラン系共重合体の収率は６８．３％であり、平均分子量
は１，４００であった。このものの赤外線吸収スペクト
ルには、２，０００cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1に
Ｓｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1付近及び１，４０
０cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが観
察された。６０MHz 核磁気共鳴分析によれば、０．２pp
m でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、
４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当するピークが観
察できた。
【００６８】実施例１７ ４，４−ジクロロ−２，２，６，６−テトラメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンの混合比率をモル比で５０：５０とした以外は、実施
例１６と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶の
ポリシラメチレノシラン系共重合体の収率は９７．５％
であり、平均分子量は１，６００であった。このものの
赤外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−
Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００
cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ
に該当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分
析によれば、０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm で
Ｓｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞ
れ該当するピークが観察できた。
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンの混合比率をモル比で５０：５０とした以外は、実施
例１６と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶の
ポリシラメチレノシラン系共重合体の収率は９７．５％
であり、平均分子量は１，６００であった。このものの
赤外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−
Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００
cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ
に該当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分
析によれば、０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm で
Ｓｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞ
れ該当するピークが観察できた。
【００６９】実施例１８ ４，４−ジクロロ−２，２，６，６−テトラメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンの混合比率をモル比で８０：２０とした以外は、実施
例１６と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶の
ポリシラメチレノシラン系共重合体の収率は９７．０％
であり、平均分子量は１，４００であった。
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンの混合比率をモル比で８０：２０とした以外は、実施
例１６と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶の
ポリシラメチレノシラン系共重合体の収率は９７．０％
であり、平均分子量は１，４００であった。
【００７０】実施例１９ ４，４−ジクロロ−２，２，６，６−テトラメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ン及びメチルトリクロロシランの３成分を用い、その混
合比率をモル比で５０：４５：５とした以外は、実施例
１６と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は８１．１％で
あり、平均分子量は２，１００であった。このものの赤
外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば、０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ
−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該
当するピークが観察できた。
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ン及びメチルトリクロロシランの３成分を用い、その混
合比率をモル比で５０：４５：５とした以外は、実施例
１６と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は８１．１％で
あり、平均分子量は２，１００であった。このものの赤
外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば、０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ
−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該
当するピークが観察できた。
【００７１】実施例２０ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンの代りに４，４−ジクロ
ロ−２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−トリ
シラヘプタンを使用した以外は、実施例２と同様に実施
した。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシ
ラン系重合体の収率は９７．３％であり、平均分子量は
７８０であった。このものの赤外線吸収スペクトルに
は、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ
−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1付近及び１，４００cm
-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが観察さ
れた。６０MHz 核磁気共鳴分析によれば、０．２ppm で
Ｓｉ−ＣＨ、１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０
ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
２，４，６−トリシラヘプタンの代りに４，４−ジクロ
ロ−２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−トリ
シラヘプタンを使用した以外は、実施例２と同様に実施
した。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシ
ラン系重合体の収率は９７．３％であり、平均分子量は
７８０であった。このものの赤外線吸収スペクトルに
は、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ
−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1付近及び１，４００cm
-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが観察さ
れた。６０MHz 核磁気共鳴分析によれば、０．２ppm で
Ｓｉ−ＣＨ、１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０
ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
【００７２】実施例２１ ４，４−ジクロロ−２，２，６，６−テトラメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンとメチルトリクロロシランのの混合比率をモル比で５
０：４０：１０とした以外は、実施例１９と同様に実施
した。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシ
ランの収率は９３．３％であり、平均分子量は２，４０
０であった。このものの赤外線吸収スペクトルには、
２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−Ｃ
Ｈ3 、そして１，０００cm-1付近及び１，４００cm-1付
近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが観察され
た。６０MHz 核磁気共鳴分析によれば、０．２ppm でＳ
ｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０
ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシラ
ンとメチルトリクロロシランのの混合比率をモル比で５
０：４０：１０とした以外は、実施例１９と同様に実施
した。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシ
ランの収率は９３．３％であり、平均分子量は２，４０
０であった。このものの赤外線吸収スペクトルには、
２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−Ｃ
Ｈ3 、そして１，０００cm-1付近及び１，４００cm-1付
近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが観察され
た。６０MHz 核磁気共鳴分析によれば、０．２ppm でＳ
ｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０
ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
【００７３】実施例２２ ５モル％のメチルトリクロロシランを使用する代りに５
モル％のフェニルトリクロロシランを使用した以外は、
実施例１９と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可
溶のポリシラメチレノシラン系共重合体の収率は８３．
０％であり、平均分子量は１，８００であった。このも
のの赤外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ
−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，００
０cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓ
ｉに該当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴
分析によれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm で
Ｓｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、７．３pp
m でＳｉ−Ｐｈに、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
モル％のフェニルトリクロロシランを使用した以外は、
実施例１９と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可
溶のポリシラメチレノシラン系共重合体の収率は８３．
０％であり、平均分子量は１，８００であった。このも
のの赤外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ
−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，００
０cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓ
ｉに該当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴
分析によれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm で
Ｓｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、７．３pp
m でＳｉ−Ｐｈに、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
【００７４】実施例２３ ５モル％のフェニルトリクロロシランの代りに５モル％
のヘキシルトリクロロシランを使用した以外は、実施例
２２と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は８７．０％で
あり、平均分子量は１，８００であった。このものの赤
外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば、０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ
−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、１．３ppm で
Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ13に、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
のヘキシルトリクロロシランを使用した以外は、実施例
２２と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は８７．０％で
あり、平均分子量は１，８００であった。このものの赤
外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば、０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ
−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、１．３ppm で
Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ13に、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
【００７５】実施例２４ ５モル％のフェニルトリクロロシランの代りに５モル％
のビニルトリクロロシランを使用した以外は、実施例２
２と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は９３．０％であ
り、平均分子量は２，２００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば、０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3、１．１ppm でＳｉ
−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、６．０ppm で
Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ2 に、それぞれ該当するピークが観察
できた。
のビニルトリクロロシランを使用した以外は、実施例２
２と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は９３．０％であ
り、平均分子量は２，２００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば、０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3、１．１ppm でＳｉ
−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、６．０ppm で
Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ2 に、それぞれ該当するピークが観察
できた。
【００７６】実施例２５ ５モル％のフェニルトリクロロシランの代りに５モル％
のアリルトリクロロシランを使用した以外は、実施例２
２と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は９２．０％であ
り、平均分子量は１，９００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、５．０ppm と
５．８ppm でＳｉ−ＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ2 に、それぞれ
該当するピークが観察できた。
のアリルトリクロロシランを使用した以外は、実施例２
２と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は９２．０％であ
り、平均分子量は１，９００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、５．０ppm と
５．８ppm でＳｉ−ＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ2 に、それぞれ
該当するピークが観察できた。
【００７７】実施例２６ ５モル％のフェニルトリクロロシランの代りに５モル％
のトリメチルシリルメチルトリクロロシランを使用した
以外は、実施例２２と同様に実施した。得られた、有機
溶媒に可溶のポリシラメチレノシラン系共重合体の収率
は９３．７％であり、平均分子量は２，３００であっ
た。このものの赤外線吸収スペクトルには、２，０９０
cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そし
て１，０００cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが観察された。６０MHz
核磁気共鳴分析によれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、
１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−
Ｈに、それぞれ該当するピークが観察できた。
のトリメチルシリルメチルトリクロロシランを使用した
以外は、実施例２２と同様に実施した。得られた、有機
溶媒に可溶のポリシラメチレノシラン系共重合体の収率
は９３．７％であり、平均分子量は２，３００であっ
た。このものの赤外線吸収スペクトルには、２，０９０
cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そし
て１，０００cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが観察された。６０MHz
核磁気共鳴分析によれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、
１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−
Ｈに、それぞれ該当するピークが観察できた。
【００７８】実施例２７ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンと４，４−ジクロロ−
２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−トリシラ
ヘプタンとを５０：５０のモル比で混合して、使用した
以外は、実施例１と同様に実施した。得られた、有機溶
媒に可溶のポリシラメチレノシラン系共重合体の収率は
９２．７％であり、平均分子量が２，０００であった。
このものの赤外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1
にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして
１，０００cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−Ｃ
Ｈ2 −Ｓｉに該当するピークが観察された。６０MHz 核
磁気共鳴分析によれば０．２ppmでＳｉ−ＣＨ3 、１．
１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ
に、それぞれ該当するピークが観察できた。
２，４，６−トリシラヘプタンと４，４−ジクロロ−
２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−トリシラ
ヘプタンとを５０：５０のモル比で混合して、使用した
以外は、実施例１と同様に実施した。得られた、有機溶
媒に可溶のポリシラメチレノシラン系共重合体の収率は
９２．７％であり、平均分子量が２，０００であった。
このものの赤外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1
にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして
１，０００cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−Ｃ
Ｈ2 −Ｓｉに該当するピークが観察された。６０MHz 核
磁気共鳴分析によれば０．２ppmでＳｉ−ＣＨ3 、１．
１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ
に、それぞれ該当するピークが観察できた。
【００７９】実施例２８ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンと４，４−ジクロロ−
２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−トリシラ
ヘプタンとジメチルジクロロシランを２０：１０：７０
のモル比で混合して使用した以外は、実施例１と同様に
実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレ
ノシラン系共重合体の収率は９２．０％であり、平均分
子量は２，７００であった。このものの赤外線吸収スペ
クトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm
-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1付近及び１，
４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピーク
が観察された。６０MHz核磁気共鳴分析によれば、０．
２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓ
ｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当するピーク
が観察できた。
２，４，６−トリシラヘプタンと４，４−ジクロロ−
２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−トリシラ
ヘプタンとジメチルジクロロシランを２０：１０：７０
のモル比で混合して使用した以外は、実施例１と同様に
実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレ
ノシラン系共重合体の収率は９２．０％であり、平均分
子量は２，７００であった。このものの赤外線吸収スペ
クトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm
-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1付近及び１，
４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピーク
が観察された。６０MHz核磁気共鳴分析によれば、０．
２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓ
ｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当するピーク
が観察できた。
【００８０】実施例２９ ２，４，４，６−テトラクロロ−２，６−ジメチル−
２，４，６−トリシラヘプタンと４，４−ジクロロ−
２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−トリシラ
ヘプタンとジメチルジクロロシラン及びメチルトリクロ
ロシランの４成分を用い、その混合比率を２０：１０：
６５：５とした以外は、実施例２８と同様に実施した。
得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシラン系
共重合体の収率は８７．６％であり、平均分子量は３，
１００であった。このものの赤外線吸収スペクトルに
は、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ
−ＣＨ3、そして１，０００cm-1付近及び１，４００cm
-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが観察さ
れた。６０MHz 核磁気共鳴分析によれば、０．２ppm で
Ｓｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．
０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当するピークが観察で
きた。
２，４，６−トリシラヘプタンと４，４−ジクロロ−
２，２，６，６−テトラメチル−２，４，６−トリシラ
ヘプタンとジメチルジクロロシラン及びメチルトリクロ
ロシランの４成分を用い、その混合比率を２０：１０：
６５：５とした以外は、実施例２８と同様に実施した。
得られた、有機溶媒に可溶のポリシラメチレノシラン系
共重合体の収率は８７．６％であり、平均分子量は３，
１００であった。このものの赤外線吸収スペクトルに
は、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ
−ＣＨ3、そして１，０００cm-1付近及び１，４００cm
-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該当するピークが観察さ
れた。６０MHz 核磁気共鳴分析によれば、０．２ppm で
Ｓｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．
０ppm でＳｉ−Ｈに、それぞれ該当するピークが観察で
きた。
【００８１】実施例３０ ５モル％のメチルトリクロロシランの代りに５モル％の
ビニルトリクロロシランを使用した以外は、実施例２９
と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリシ
ラメチレノシラン系共重合体の収率は８５．０％であ
り、平均分子量は４，１００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2−Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、６．０ppm でＳ
ｉ−ＣＨ＝ＣＨ2 に、それぞれ該当するピークが観察で
きた。
ビニルトリクロロシランを使用した以外は、実施例２９
と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリシ
ラメチレノシラン系共重合体の収率は８５．０％であ
り、平均分子量は４，１００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2−Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、６．０ppm でＳ
ｉ−ＣＨ＝ＣＨ2 に、それぞれ該当するピークが観察で
きた。
【００８２】実施例３１ ５モル％のメチルトリクロロシランの代りに５モル％の
アリルトリクロロシランを使用した以外は、実施例２９
と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリシ
ラメチレノシラン系共重合体の収率は９０．０％であ
り、平均分子量は３，９００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2−Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、５．０ppm と
５．８ppm でＳｉ−ＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ2 に、それぞれ
該当するピークが観察できた。
アリルトリクロロシランを使用した以外は、実施例２９
と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリシ
ラメチレノシラン系共重合体の収率は９０．０％であ
り、平均分子量は３，９００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2−Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、５．０ppm と
５．８ppm でＳｉ−ＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ2 に、それぞれ
該当するピークが観察できた。
【００８３】実施例３２ ５モル％のメチルトリクロロシランの代りに５モル％の
オクタデシルトリクロロシランを使用した以外は、実施
例２９と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶の
ポリシラメチレノシラン系共重合体の収率は８９．０％
であり、平均分子量は２，８００であった。このものの
赤外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−
Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００
cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ
に該当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分
析によれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳ
ｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、７．３ppm
でＳｉ−Ｐｈに、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
オクタデシルトリクロロシランを使用した以外は、実施
例２９と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶の
ポリシラメチレノシラン系共重合体の収率は８９．０％
であり、平均分子量は２，８００であった。このものの
赤外線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−
Ｈ、１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００
cm-1付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ
に該当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分
析によれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳ
ｉ−ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、７．３ppm
でＳｉ−Ｐｈに、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
【００８４】実施例３３ ５モル％のメチルトリクロロシランの代りに５モル％の
フェニルトリクロロシランを使用した以外は、実施例２
９と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は８３．０％であ
り、平均分子量は３，２００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、７．３ppm でＳ
ｉ−Ｐｈに、それぞれ該当するピークが観察できた。
フェニルトリクロロシランを使用した以外は、実施例２
９と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポリ
シラメチレノシラン系共重合体の収率は８３．０％であ
り、平均分子量は３，２００であった。このものの赤外
線吸収スペクトルには、２，０９０cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、７．３ppm でＳ
ｉ−Ｐｈに、それぞれ該当するピークが観察できた。
【００８５】実施例３４ 溶媒をトルエンのみを使用した代りにテトラヒドロフラ
ンをトルエンに２０重量％混合使用した以外は、実施例
２３と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は８２．０％で
あり、平均分子量は３，４００であった。このものの赤
外線吸収スペクトルには、２，０００cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、１．３ppm でＳ
ｉ−Ｃ6 Ｈ13に、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
ンをトルエンに２０重量％混合使用した以外は、実施例
２３と同様に実施した。得られた、有機溶媒に可溶のポ
リシラメチレノシラン系共重合体の収率は８２．０％で
あり、平均分子量は３，４００であった。このものの赤
外線吸収スペクトルには、２，０００cm-1にＳｉ−Ｈ、
１，２５０cm-1にＳｉ−ＣＨ3 、そして１，０００cm-1
付近及び１，４００cm-1付近にＳｉ−ＣＨ2 −Ｓｉに該
当するピークが観察された。６０MHz 核磁気共鳴分析に
よれば０．２ppm でＳｉ−ＣＨ3 、１．１ppm でＳｉ−
ＣＨ2 −Ｓｉ、４．０ppm でＳｉ−Ｈ、１．３ppm でＳ
ｉ−Ｃ6 Ｈ13に、それぞれ該当するピークが観察でき
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 延 昇 浩 大韓民国京畿道▲み▼金市坪内洞103−２ 三昌アパート106−503 (72)発明者 石 美 妍 大韓民国ソウル特別市道峰区水踰５洞519 −59
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1 は各々メチル基又は塩素原子を表す）で示
される１種又は２種の２，４，６−トリシラヘプタン、
ジメチルジクロロシラン及び一般式（II） Ｒ2 ＳｉＣｌ3 （II） （式中、Ｒ2 はメチル基、ヘキシル基、オクタデシル
基、ビニル基、アリル基、フェニル基又はトリメチルシ
リルメチル基を表す）で示されるトリクロロシランを、
アルカリ金属を用いて、脱塩素化反応させることを特徴
とする、一般式（III)、（IV）及び（Ｖ）で示される構
造単位からなるポリシラメチレノシラン系共重合体の製
造方法。 【化２】 （式中、Ｒ1 は前記と同じ） 【化３】 【化４】 （式中、Ｒ2 は前記と同じ） - 【請求項２】 一般式（III)、（IV）及び（Ｖ）で示さ
れる構造単位の組成割合が、それぞれ、２０〜５０モル
％、４０〜７５モル％及び５〜１５モル％である請求項
１のポリシラメチレノシラン系共重合体の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１の一般式（Ｉ）の２，４，６−
トリシラヘプタンを、アルカリ金属を用いて脱塩素化反
応させることを特徴とする請求項１の一般式（III)の構
造単位からなるポリシラメチレノシラン系重合体の製造
方法。 - 【請求項４】 一般式（III)の構造単位で、Ｒ1 が２個
ともメチル基である構造単位と、Ｒ1 が２個とも塩素原
子である構造単位とからなり、それぞれの組成割合が、
４５〜５５モル％及び５５〜４５モル％である請求項２
のポリシラメチレノシラン系重合体の製造方法。 - 【請求項５】 請求項１の一般式（Ｉ）の１種又は２種
の２，４，６−トリシラヘプタンとジメチルジクロロシ
ランとを、アルカリ金属を用いて脱塩素化反応させるこ
とを特徴とする請求項１の一般式（III)及び（IV）の構
造単位からなるポリシラメチレノシラン系共重合体の製
造方法。 - 【請求項６】 一般式（III)及び（IV）の構造単位の組
成割合が、それぞれ、８〜８０モル％及び２０〜９２モ
ル％である請求項５のポリシラメチレノシラン系共重合
体の製造方法。
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|---|---|
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7688597B2 (en) | 2003-05-16 | 2010-03-30 | Power Systems Technologies Gmbh | Power supply circuit with three-dimensionally arranged circuit carriers, and production method |
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Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3418458B2 (ja) * | 1993-08-31 | 2003-06-23 | 富士通株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| US6403750B1 (en) * | 1999-06-03 | 2002-06-11 | Edward J. A. Pope | Apparatus and process for making ceramic composites from photo-curable pre-ceramic polymers |
| JP4334790B2 (ja) * | 2001-09-19 | 2009-09-30 | 独立行政法人科学技術振興機構 | ＳｉＣ系複合材料用ＳｉＣ強化繊維の製造 |
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| WO2011038229A2 (en) * | 2009-09-25 | 2011-03-31 | Ferrotec (Usa) Corporation | High strength bonding and coating mixture |
| US9080018B2 (en) * | 2012-03-07 | 2015-07-14 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing polydialkylsilane |
| CN104662068A (zh) * | 2012-08-02 | 2015-05-27 | 汉高股份有限公司 | 聚碳硅烷和包含其的用于led封装剂的可固化组合物 |
| EP3953416B1 (en) * | 2019-04-08 | 2022-10-26 | Merck Patent GmbH | Composition comprising block copolymer, and method for producing siliceous film using the same |
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Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4260780A (en) * | 1979-11-27 | 1981-04-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Phenylmethylpolysilane polymers and process for their preparation |
| US4414403A (en) * | 1980-11-21 | 1983-11-08 | Union Carbide Corporation | Branched polycarbosilanes and their use in the production of silicon carbide |
| US4324901A (en) * | 1981-04-29 | 1982-04-13 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Soluble polysilastyrene and method for preparation |
| US4590253A (en) * | 1981-08-26 | 1986-05-20 | Kurosaki Refractoris Co., Ltd. | Organosilicon polymer and process for production thereof |
| US4472591A (en) * | 1983-03-28 | 1984-09-18 | Union Carbide Corporation | Hydrosilyl-modified polycarbosilane precursors for silicon carbide |
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| US4962175A (en) * | 1986-12-22 | 1990-10-09 | Dow Corning Corporation | Alkylpoly (polysilyl) azane preceramic polymers |
| US4962176A (en) * | 1986-12-22 | 1990-10-09 | Dow Corning Corporation | Polysilane preceramic polymers |
| DE3841348A1 (de) * | 1988-12-08 | 1990-06-13 | Kali Chemie Ag | Verfahren zur herstellung von polycarbosilanen und neue polycarbosilane |
-
1991
- 1991-02-25 KR KR1019910003019A patent/KR940007325B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-12-23 US US07/813,231 patent/US5138080A/en not_active Expired - Fee Related
-
1992
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- 1992-02-21 JP JP4070137A patent/JPH0662774B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7688597B2 (en) | 2003-05-16 | 2010-03-30 | Power Systems Technologies Gmbh | Power supply circuit with three-dimensionally arranged circuit carriers, and production method |
| JP2015531797A (ja) * | 2012-07-13 | 2015-11-05 | ベーヨットエス・セラミクス・ゲーエムベーハー | ポリシランの製造方法 |
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