JPH0590028A - インダクタンス素子およびトランス - Google Patents

インダクタンス素子およびトランス

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JPH0590028A
JPH0590028A JP25205291A JP25205291A JPH0590028A JP H0590028 A JPH0590028 A JP H0590028A JP 25205291 A JP25205291 A JP 25205291A JP 25205291 A JP25205291 A JP 25205291A JP H0590028 A JPH0590028 A JP H0590028A
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JP
Japan
Prior art keywords
spiral
insertion hole
integrated circuit
inductor pattern
inductor
Prior art date
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Pending
Application number
JP25205291A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaaki Kawamura
雅明 川村
Mitsuaki Yamakawa
光明 山川
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Toshiba Lighting and Technology Corp
Original Assignee
Toshiba Lighting and Technology Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Lighting and Technology Corp filed Critical Toshiba Lighting and Technology Corp
Priority to JP25205291A priority Critical patent/JPH0590028A/ja
Publication of JPH0590028A publication Critical patent/JPH0590028A/ja
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】インダクタンスまたは結合係数を高めると共
に、軽薄短小化を進めて高密度実装を図る。 【構成】混成集積回路基板31上に、導体により渦巻状
のインダクタパターン32を形成する。このインダクタ
パターン32の渦巻中心部において、混成集積回路基板
31に挿入孔を穿設し、この挿入孔内にフェライトコア
37を挿入する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、混成集積回路基板上に
厚膜や薄膜等により形成されるインダクタンス素子およ
びトランスに係り、特に、インダクタンスと結合係数の
向上とを図ったインダクタンス素子およびトランスに関
する。
【0002】
【従来の技術】近年は、情報の高度化ないし情報量の増
加に伴い、信号周波数帯域も高域化され、例えば移動体
無線等の分野においては、高周波集積回路が使用されつ
つある。
【0003】そして、この移動体無線等の分野では軽薄
短小化が要求されているために、インダクタンス素子と
しては例えば図8に示すものが使用され、また、トラン
スとしては図9、図10に示すものが採用されている。
【0004】このインダクタンス素子1はアルミナ等の
セラミックス製等の混成集積回路基板2の図中上面上
に、厚膜や薄膜等により、導体を渦巻状に形成して、イ
ンダクタパターン3を形成している。
【0005】さらに、このインダクタパターン3の渦巻
中心端3aを、絶縁体層4上に積層された上部導体5を
介して回路パターンの接続端子6に接続している。
【0006】一方、図9で示すトランス10はフェライ
ト等の磁性体より成るEIコア11に、所要線径のフォ
ルマル線12により、一次、二次巻線を巻き、これら巻
線の各端末を各接続端子13に巻き付けた後、半田付け
している。
【0007】また、図10で示すトランス20は台座2
1上に立設された合成樹脂製等の絶縁ボビン22の外周
面上に、所要線径のフォルマル線23により、一次、二
次巻線を巻き、これら巻線の端末を各接続端子24に巻
き付けた後半田付けしている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
従来の渦巻状のインダクタンス素子1を、厚膜により形
成したときのインダクタンスは次の(1)式で表わすこ
とができる。
【0009】 L=85×10-10 1/2 5/3 [H]……(1) S:コイルの表面積(cm2 ) N:コイルの巻数 したがって、このインダクタンス素子1により高いイン
ダクタンスを得るためにはインダクタパターン3の巻数
(以下ターン数という)を多くしなければならない。
【0010】しかし、ターン数を多くすることはインダ
クタパターン3の大形化を招き、軽薄短小化に反する。
【0011】また、インダクタパターン3のターン数を
多くしても、インダクタンスのアップは大して見込めな
いという課題がある。
【0012】一方、従来のトランス10,20ではEI
コア11や絶縁ボビン22にフォルマル線3を一々巻き
付けなければならず、作業が容易でなく作業性も劣る。
【0013】それに加えて、EIコア11や絶縁ボビン
22が立脚しているので、高さも例えば約1.6mm程度
に小さくするのが限界であり、高密度実装を困難にして
いるという課題がある。
【0014】そこで本発明はこのような事情を考慮して
なされたもので、その目的は高インダクタンス、または
高結合係数でかつ高密度実装を図ることができるインダ
クタンス素子およびトランスを提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために次のように構成される。
【0016】本願の請求項1に記載の発明(以下、第1
の発明という)は、混成集積回路基板上に、導体により
渦巻状のインダクタパターンを形成し、このインダクタ
パターンの渦巻中心部にて前記基板に挿入孔を穿設し、
この挿入孔内に磁性体を挿入したことを特徴とする。
【0017】また、本願の請求項2に記載の発明(以
下、第2の発明という)は、混成集積回路基板の表裏両
面に、導体により渦巻状の一次、二次インダクタパター
ンを同心状に形成し、この両インダクタパターンの渦巻
中心部にて前記基板に挿入孔を穿設し、この挿入孔内に
磁性体を挿入したことを特徴とする。
【0018】
【作用】〈第1の発明〉インダクタパターンの渦巻中心
部に磁性体を挿入するので、インダクタンスを高めるこ
とができる。
【0019】また、インダクタパターンの導体ターン数
を多くする必要がないので、軽薄短小化を図り、高密度
実装を行なうことができる。
【0020】〈第2の発明〉一次、二次のインダクタパ
ターンの渦巻中心部に磁性体を挿入するので、一次、二
次の両インダクタパターンの結合係数を高めることがで
きる。
【0021】また、本発明は混成集積回路基板に、一
次、二次インダクタパターンを厚膜や薄膜等により形成
し、従来例のEIコアや絶縁ボビンを使用しないので、
軽薄短小化を図ることができ、高密度実装を行なうこと
ができる。
【0022】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
【0023】図1は第1の発明の一実施例の斜視図、図
2は図1のII−II線に沿う断面図であり、図において、
インダクタンス素子30は、例えばセラミックス製等の
混成集積回路基板31の上面上に、銅や金、銀、パラジ
ウム等の導体ペーストを例えば印刷し、さらに焼成して
所要形の渦巻状のインダクタパターン32を形成する。
【0024】そして、インダクタパターン32の渦巻中
心端32aを、これと隣り合う回路パターンの接続端子
33に電気的に接続するために、まず、インダクタパタ
ーン32の一部上に、その一部を径方向で横断するよう
に誘電体ペーストを印刷して焼成し、誘電体層34を形
成する。
【0025】次に、この誘電体層34の上面上に、銅や
金、銀、パラジウム等の導体ペーストを印刷焼成して、
上部導体層(ジャンパパターン)35を形成し、この上
部導体層35によりインダクタパターン32の渦巻中心
端32aを回路パターンの接続端子33に電気的に接続
している。
【0026】そして、図2に示すように、混成集積回路
基板31に、その板厚方向に貫通する挿入孔36を、イ
ンダクタパターン32の渦巻中心部の空間部において穿
設する。この挿入孔36内には例えば平頭リベット状の
磁性体より成るフェライトコア37の軸部を密に嵌入
し、平頭部によりインダクタパターン32の渦巻中心部
およびその周辺部を覆う。
【0027】したがって本実施例によれば、インダクタ
パターン32の渦巻中心部にフェライトコア32を挿入
したので、空芯コイルに比して、インダクタンスを高め
ることができる。
【0028】また、インダクタパターン32のターン数
を多くする必要がないので、軽薄短小化を進め、高密度
実装を図ることができる。
【0029】なお、フェライトコア37は、前記実施例
に限定されるものではなく、例えば図3に示すように、
上下一対の平頭リベット状のフェライトコア38a,3
8bの各軸部を、混成集積回路基板31の挿入孔36内
に、表裏両面側から挿入してもよく、さらに図4に示す
ように平頭リベット状のフェライトコア37を円柱状の
フェライトコア39に置換してもよく、その形状には限
定されない。
【0030】また、前記実施例ではインダクタパターン
32を厚膜により形成した場合について説明したが、本
発明はこれに限られるものではなく、例えば薄膜により
形成してもよく、その形成方法には限定されない。
【0031】図5は本願第2の発明の一実施例の斜視
図、図6は図5のVI−VI線に沿う断面図であり、図にお
いて、トランス40は例えばセラミックス製の混成集積
回路基板41の表裏両面(図5、図6では上下両面)に
銅や金、銀、パラジウム等の導体ペーストを渦巻状に印
刷焼成して、一次、二次のインダクタパターン42,4
3を同心状に形成する。
【0032】そして、これらインダクタパターン42,
43の渦巻中心端42a,43aを、これに隣り合う回
路パターンの各接続端子44,45に電気的に接続する
ために、まず、誘電体ペーストを印刷焼成して誘電体層
46,47を形成する。
【0033】次に、この誘電体層46,47の外(上)
面上に、銅や金、銀、パラジウム等の導体ペーストを印
刷焼成して上部導体層(ジャンパパターン)48,49
を形成し、これら上部導体層48,49により、一次、
二次インダクタパターン42,43の渦巻中心端42
a,43aを回路パターンの各接続端子44,45に電
気的に接続している。
【0034】そして、図6に示すように混成集積回路基
板41に、その板厚方向に貫通する挿入孔50を、一
次、二次インダクタパターン42,43の渦巻中心部の
空間部において穿設する。この挿入孔50内には例えば
平頭リベット状の磁性体よりなる上下一対のフェライト
コア51,52の軸部を表裏両面方向から密に嵌入して
固定する。
【0035】したがって本実施例によれば、一次、二次
インダクタパターン42,43の渦巻中心部にフェライ
トコア51,52を挿入したので、空芯コイルに比して
結合係数を高めることができる。
【0036】また、一次、二次インダクタパターン4
2,43のターン数を多くする必要がないので、軽薄短
小化を図って、高密度実装を行なうことができる。
【0037】なお、上下一対のフェライトコア51,5
2は前記実施例に限定されるものではなく、例えば図7
に示すようにリベット状のフェライトコア51,52を
円柱状のフェライトコア53に置換してもよく、その形
状には限定されない。
【0038】また、前記実施例では一次、二次インダク
タパターン42,43を厚膜により形成した場合につい
て説明したが、薄膜により形成してもよく、その形成方
法には限定されない。
【0039】
【発明の効果】以上説明したように本願第1の発明は、
厚膜集積回路基板上に形成した渦巻状のインダクタパタ
ーンの渦巻中心部に、磁性体を挿入したので、インダク
タンスを高めることができる。
【0040】また、インダクタパターンのターン数を増
加させずにインダクタンスを高めることができるので、
軽薄短小化を図ることができ、高密度実装を行なうこと
ができる。
【0041】また、本願第2の発明は、混成集積回路基
板の表裏両面に同心状に形成した渦巻状の一次、二次イ
ンダクタパターンの渦巻中心部に、磁性体を挿入したの
で、一次、二次インダクタパターンの結合係数を高める
ことができる。
【0042】また、一次、二次インダクタパターンのタ
ーン数を増加させずに結合係数を高めることができるの
で、軽薄短小化を図ることができ、高密度実装を行なう
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願第1の発明に係るインダクタンス素子の一
実施例の斜視図。
【図2】図1のII−II線に沿う断面図。
【図3】本願第1の発明の他の実施例の縦断面図。
【図4】本願第1の発明のさらに他の実施例の縦断面
図。
【図5】本願第2の発明に係るトランスの一実施例の斜
視図。
【図6】図5のVI−VI線断面図。
【図7】本願第2の発明の他の実施例の縦断面図。
【図8】従来のインダクタンス素子の斜視図。
【図9】従来のトランスの一例の斜視図。
【図10】従来の他のトランスの斜視図。
【符号の説明】
30 インダクタンス素子 31 混成集積回路基板 32 インダクタパターン 36,50 挿入孔 37,38a,38b,39,51,52,53 フェ
ライトコア

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 混成集積回路基板上に、導体により渦巻
    状のインダクタパターンを形成し、このインダクタパタ
    ーンの渦巻中心部にて前記基板に挿入孔を穿設し、この
    挿入孔内に磁性体を挿入したことを特徴とするインダク
    タンス素子。
  2. 【請求項2】 混成集積回路基板の表裏両面に、導体に
    より渦巻状の一次、二次インダクタパターンを同心状に
    形成し、この両インダクタパターンの渦巻中心部にて前
    記基板に挿入孔を穿設し、この挿入孔内に磁性体を挿入
    したことを特徴とするトランス。
JP25205291A 1991-09-30 1991-09-30 インダクタンス素子およびトランス Pending JPH0590028A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012248804A (ja) * 2011-05-31 2012-12-13 Elna Co Ltd プリント配線板及びその製造方法
EP3550578A1 (en) * 2018-04-04 2019-10-09 BIOTRONIK SE & Co. KG Coil core in the form of a ferromagnetic rivet for spiral inductors on printed circuit boards

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012248804A (ja) * 2011-05-31 2012-12-13 Elna Co Ltd プリント配線板及びその製造方法
EP3550578A1 (en) * 2018-04-04 2019-10-09 BIOTRONIK SE & Co. KG Coil core in the form of a ferromagnetic rivet for spiral inductors on printed circuit boards
US11532422B2 (en) 2018-04-04 2022-12-20 Biotronik Se & Co. Kg Coil core in the form of a ferromagnetic rivet for spiral inductors on printed circuit boards

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