JPH058979B2 - - Google Patents
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- JPH058979B2 JPH058979B2 JP22327085A JP22327085A JPH058979B2 JP H058979 B2 JPH058979 B2 JP H058979B2 JP 22327085 A JP22327085 A JP 22327085A JP 22327085 A JP22327085 A JP 22327085A JP H058979 B2 JPH058979 B2 JP H058979B2
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- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 18
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 16
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/30—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides
- G01M11/31—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter and a light receiver being disposed at the same side of a fibre or waveguide end-face, e.g. reflectometers
- G01M11/3181—Reflectometers dealing with polarisation
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- Optical Communication System (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
《産業上の利用分野》
本発明は、OTDR法を用いた光フアイバ試験
装置の改善に関するものである。
装置の改善に関するものである。
《従来の技術》
第3図は従来のOTDR(Optical Time
Domain Reflectometer)法を用いた光フアイバ
試験装置(青山他「単一モード光フアイバ破断点
探索法の検討」電子通信学会技報CS81−43)を
示す構成ブロツク図である。パルス発生器12に
より駆動される半導体レーザ1からの光パルスは
方向性結合器110を通つて被測定フアイバ6に
入射し、フアイバ内のレイリー散乱によつて生じ
た後方散乱光は再び方向性結合器110を通つて
受光素子5に入射し光電変換される。受光素子5
の電気出力は増幅器9で増幅後、平均化処理回路
120で複数の光パルスに対応する検出信号が平
均化され、表示装置130で表示される。
Domain Reflectometer)法を用いた光フアイバ
試験装置(青山他「単一モード光フアイバ破断点
探索法の検討」電子通信学会技報CS81−43)を
示す構成ブロツク図である。パルス発生器12に
より駆動される半導体レーザ1からの光パルスは
方向性結合器110を通つて被測定フアイバ6に
入射し、フアイバ内のレイリー散乱によつて生じ
た後方散乱光は再び方向性結合器110を通つて
受光素子5に入射し光電変換される。受光素子5
の電気出力は増幅器9で増幅後、平均化処理回路
120で複数の光パルスに対応する検出信号が平
均化され、表示装置130で表示される。
上記の装置により光フアイバ内のレイリー散乱
によつて生ずる後方散乱光を観測することによ
り、光フアイバの破断点探索や光フアイバの損失
および接続損失の測定等を行うことができる。
によつて生ずる後方散乱光を観測することによ
り、光フアイバの破断点探索や光フアイバの損失
および接続損失の測定等を行うことができる。
上記の装置において光源となる半導体レーザか
らの光は直線偏波であり、これが例えば方解石の
ような異方性結晶からなる方向性結合器を通つて
光フアイバの入射端に到達する。光フアイバ6の
入射端で生ずる反射光は入射光と同じ偏波面を有
するので、受光素子5には入射しない。
らの光は直線偏波であり、これが例えば方解石の
ような異方性結晶からなる方向性結合器を通つて
光フアイバの入射端に到達する。光フアイバ6の
入射端で生ずる反射光は入射光と同じ偏波面を有
するので、受光素子5には入射しない。
《発明が解決しようとする問題点》
しかしながら、光フアイバ6の後方散乱光は無
偏波であるため、光方向性結合器における挿入損
失は理想的な場合でも3dBもある。これは非常に
微小な信号を観測する場合に、S/N比が悪化し
障害点探索距離が短くなるという問題点を生ず
る。
偏波であるため、光方向性結合器における挿入損
失は理想的な場合でも3dBもある。これは非常に
微小な信号を観測する場合に、S/N比が悪化し
障害点探索距離が短くなるという問題点を生ず
る。
本発明は上記の問題点を解決するためになされ
たもので、信号光の損失が少なく、S/N比の向
上により、信号処理部での負担が軽減され、障害
点探索距離の長い光フアイバ試験装置を実現する
ことを目的としている。
たもので、信号光の損失が少なく、S/N比の向
上により、信号処理部での負担が軽減され、障害
点探索距離の長い光フアイバ試験装置を実現する
ことを目的としている。
《問題点を解決するための手段》
本発明は光源からの光を被測定フアイバに入射
し被測定フアイバの後方散乱光を検出することに
より被測定フアイバの状態を観測する光フアイバ
試験装置に係るもので、その特徴とするところ
は、被測定フアイバの後方散乱光を入力して互い
に垂直な偏波面を有する2つの出力光に分離する
第1の偏光スプリツタと、この第1の偏光スプリ
ツタの一方の出力の偏波面を直角に回転する偏波
面変換手段と、この偏波面変換手段の出力を反射
する第2の偏光スプリツタと、この第2の偏光ス
プリツタの出力の偏光面を90゜回転させる1/2波長
板と、この1/2波長板の出力と前記第1の偏光ス
プリツタの他方の出力を合成する第3の偏光スプ
リツタと、この第3の偏光スプリツタの出力を受
光する受光素子と、前記光源および前記偏波面変
換手段を制御する手段とを備えた点にある。
し被測定フアイバの後方散乱光を検出することに
より被測定フアイバの状態を観測する光フアイバ
試験装置に係るもので、その特徴とするところ
は、被測定フアイバの後方散乱光を入力して互い
に垂直な偏波面を有する2つの出力光に分離する
第1の偏光スプリツタと、この第1の偏光スプリ
ツタの一方の出力の偏波面を直角に回転する偏波
面変換手段と、この偏波面変換手段の出力を反射
する第2の偏光スプリツタと、この第2の偏光ス
プリツタの出力の偏光面を90゜回転させる1/2波長
板と、この1/2波長板の出力と前記第1の偏光ス
プリツタの他方の出力を合成する第3の偏光スプ
リツタと、この第3の偏光スプリツタの出力を受
光する受光素子と、前記光源および前記偏波面変
換手段を制御する手段とを備えた点にある。
《作用》
上記のような構成によれば、第1および第2の
偏光スプリツタの出力を受光することにより後方
散乱光に含まれる2つの偏波成分を利用でき、よ
り強い観測信号を得ることができる。
偏光スプリツタの出力を受光することにより後方
散乱光に含まれる2つの偏波成分を利用でき、よ
り強い観測信号を得ることができる。
《実施例》
以下本発明を図面を用いて詳しく説明する。
第1図は本発明に係る光フアイバ試験装置の一
実施例を示す構成ブロツク図である。なお、図1
において図3と同一要素には同一符号を付して重
複する説明は省略する。図1において、21〜2
3は集光レンズ、32,31は前記光源からの光
路上に前記光源の出力と偏波面が同一方向となる
ように配置された偏光プリズムからなる第1、第
2の偏光スプリツタ、4はこの偏光スプリツタ3
1と32の間に配置された偏波面変換素子、7は
ミラー、8は第2の偏光スプリツタ31の出力の
偏光面を90゜回転させる1/2波長板、33は1/2波
長板8の出力と第1の偏光スプリツタ32の他方
の出力を合成する第3の偏光スプリツタ、11は
増幅器9の出力が接続する信号処理回路、13は
偏波面変換素子4を制御する制御回路、12は光
源1を駆動するとともに制御回路13および信号
処理回路11にトリガ信号を出力するパルス発生
器である。前記偏波面変換素子4としてここでは
電気的に制御することによつて偏波面を直交する
方向に変える、ポツケルス効果やカー効果などの
電気光学効果を利用したもの(PLZT、液晶な
ど)を用いている。
実施例を示す構成ブロツク図である。なお、図1
において図3と同一要素には同一符号を付して重
複する説明は省略する。図1において、21〜2
3は集光レンズ、32,31は前記光源からの光
路上に前記光源の出力と偏波面が同一方向となる
ように配置された偏光プリズムからなる第1、第
2の偏光スプリツタ、4はこの偏光スプリツタ3
1と32の間に配置された偏波面変換素子、7は
ミラー、8は第2の偏光スプリツタ31の出力の
偏光面を90゜回転させる1/2波長板、33は1/2波
長板8の出力と第1の偏光スプリツタ32の他方
の出力を合成する第3の偏光スプリツタ、11は
増幅器9の出力が接続する信号処理回路、13は
偏波面変換素子4を制御する制御回路、12は光
源1を駆動するとともに制御回路13および信号
処理回路11にトリガ信号を出力するパルス発生
器である。前記偏波面変換素子4としてここでは
電気的に制御することによつて偏波面を直交する
方向に変える、ポツケルス効果やカー効果などの
電気光学効果を利用したもの(PLZT、液晶な
ど)を用いている。
このような構成の光フアイバ試験装置の動作を
次に説明する。第2図は第1図装置の動作を説明
するためのタイムチヤートである。時刻t0でパル
ス発生器12の出力パルスが発生(第2図A)
し、この出力パルスが終了する時刻t1に制御回路
13の駆動出力がオンとなる。半導体レーザ1か
らの光パルス出力(第2図A)は直線偏光なので
レンズ21で集光されたのち偏光スプリツタ31
を通過する。このとき第2図Bに示すように、制
御回路13は偏波面変換素子4を駆動しないの
で、偏光スプリツタ31の出力光は偏波面変換素
子4をそのまま通過し、さらに偏光スプリツタ3
2、レンズ22を通過して被測定フアイバ6に入
射する。被測定フアイバ6内で生じた後方散乱光
は無偏光で、レンズ22を通つた後垂直偏波成分
(図の○マークのついた光)は偏光スプリツタ3
2内で反射し、偏光スプリツタ33に入射する。
水平偏波成分(図の|マークのついた光)は偏光
スプリツタ32内を直進して偏波面変換素子4に
入射する。このとき偏波面変換素子4は制御回路
13により駆動されている(第2図B)から、偏
光スプリツタ32からの水平偏波成分は偏波面を
回転されて垂直偏波成分となり、偏光スプリツタ
31で反射され、ミラー7を介して1/2波長板8
に入射し、ここで水平偏波成分に変えられる。偏
光スプリツタ32から出力される垂直偏波成分は
1/2波長板8からの水平偏波成分とともに第3
の偏光スプリツタ33で合成され、レンズ23で
受光素子5に集束する。受光素子5の電気出力は
増幅器9で増幅後、信号処理回路11で平均化処
理などを施される。
次に説明する。第2図は第1図装置の動作を説明
するためのタイムチヤートである。時刻t0でパル
ス発生器12の出力パルスが発生(第2図A)
し、この出力パルスが終了する時刻t1に制御回路
13の駆動出力がオンとなる。半導体レーザ1か
らの光パルス出力(第2図A)は直線偏光なので
レンズ21で集光されたのち偏光スプリツタ31
を通過する。このとき第2図Bに示すように、制
御回路13は偏波面変換素子4を駆動しないの
で、偏光スプリツタ31の出力光は偏波面変換素
子4をそのまま通過し、さらに偏光スプリツタ3
2、レンズ22を通過して被測定フアイバ6に入
射する。被測定フアイバ6内で生じた後方散乱光
は無偏光で、レンズ22を通つた後垂直偏波成分
(図の○マークのついた光)は偏光スプリツタ3
2内で反射し、偏光スプリツタ33に入射する。
水平偏波成分(図の|マークのついた光)は偏光
スプリツタ32内を直進して偏波面変換素子4に
入射する。このとき偏波面変換素子4は制御回路
13により駆動されている(第2図B)から、偏
光スプリツタ32からの水平偏波成分は偏波面を
回転されて垂直偏波成分となり、偏光スプリツタ
31で反射され、ミラー7を介して1/2波長板8
に入射し、ここで水平偏波成分に変えられる。偏
光スプリツタ32から出力される垂直偏波成分は
1/2波長板8からの水平偏波成分とともに第3
の偏光スプリツタ33で合成され、レンズ23で
受光素子5に集束する。受光素子5の電気出力は
増幅器9で増幅後、信号処理回路11で平均化処
理などを施される。
このような構成の装置によれば、後方散乱光の
うち従来利用していなかつた偏波成分も同時に受
光するのでより強い観測信号を得ることができ
る。この結果、S/N比は、光学系の損失がない
とした場合、従来より2倍改善され、障害点探索
距離を延ばすことができる。また、2つの偏波成
分を合成して、1つの受光素子で受光しているた
め、受光素子および増幅器のバラツキによる波形
ひずみ、遅れのない観測信号を得ることができ
る。
うち従来利用していなかつた偏波成分も同時に受
光するのでより強い観測信号を得ることができ
る。この結果、S/N比は、光学系の損失がない
とした場合、従来より2倍改善され、障害点探索
距離を延ばすことができる。また、2つの偏波成
分を合成して、1つの受光素子で受光しているた
め、受光素子および増幅器のバラツキによる波形
ひずみ、遅れのない観測信号を得ることができ
る。
なお上記の実施例では偏波面変換素子4として
電気光学効果を利用したものを用いているが、こ
れに限らず、フアラデー効果などの磁気光学効果
を利用したものを用いてもよい。
電気光学効果を利用したものを用いているが、こ
れに限らず、フアラデー効果などの磁気光学効果
を利用したものを用いてもよい。
また上記実施例装置において、偏波面変換素子
4のスイツチング時間遅れが問題になる場合に
は、レンズ22と被測定フアイバとの間にダミー
フアイバを挿入するとともにパルス発生器12の
出力に遅延回路を挿入して信号処理回路11への
トリガ信号を遅延することで時間遅れを補償する
ことができる。
4のスイツチング時間遅れが問題になる場合に
は、レンズ22と被測定フアイバとの間にダミー
フアイバを挿入するとともにパルス発生器12の
出力に遅延回路を挿入して信号処理回路11への
トリガ信号を遅延することで時間遅れを補償する
ことができる。
《発明の効果》
以上述べたように本発明によれば、信号光の損
失が少なく、S/N比の向上により、信号処理部
での負担が軽減され、障害点の探索距離の長い光
フアイバ試験装置を実現することができる。
失が少なく、S/N比の向上により、信号処理部
での負担が軽減され、障害点の探索距離の長い光
フアイバ試験装置を実現することができる。
第1図は本発明に係わる光フアイバ試験装置の
一実施例を示す構成ブロツク図、第2図は第1図
装置の動作を説明するためのタイムチヤート、第
3図は従来の光フアイバ試験装置を示す構成ブロ
ツク図である。 1……光源、4……偏波面変換素子、5……受
光素子、6……被測定フアイバ、8……1/2波長
板、13……制御回路、31……第2の偏光スプ
リツタ、32……第1の偏光スプリツタ、33…
…第3の偏光スプリツタ。
一実施例を示す構成ブロツク図、第2図は第1図
装置の動作を説明するためのタイムチヤート、第
3図は従来の光フアイバ試験装置を示す構成ブロ
ツク図である。 1……光源、4……偏波面変換素子、5……受
光素子、6……被測定フアイバ、8……1/2波長
板、13……制御回路、31……第2の偏光スプ
リツタ、32……第1の偏光スプリツタ、33…
…第3の偏光スプリツタ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 光源からの光を被測定フアイバに入射し被測
定フアイバの後方散乱光を検出することにより被
測定フアイバの状態を観測する光フアイバ試験装
置において、 被測定フアイバの後方散乱光を入力して互いに
垂直な偏波面を有する2つの出力光に分離する第
1の偏光スプリツタと、この第1の偏光スプリツ
タの一方の出力の偏波面を直角に回転する偏波面
変換手段と、この偏波面変換手段の出力を反射す
る第2の偏光スプリツタと、この第2の偏光スプ
リツタの出力の偏光面を90゜回転させる1/2波長板
と、この1/2波長板の出力と前記第1の偏光スプ
リツタの他方の出力を合成する第3の偏光スプリ
ツタと、この第3の偏光スプリツタの出力を受光
する受光素子と、前記光源および前記偏波面変換
手段を制御する手段とを備えたことを特徴とする
光フアイバ試験装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60223270A JPS6282338A (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | 光フアイバ試験装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60223270A JPS6282338A (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | 光フアイバ試験装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6282338A JPS6282338A (ja) | 1987-04-15 |
JPH058979B2 true JPH058979B2 (ja) | 1993-02-03 |
Family
ID=16795485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60223270A Granted JPS6282338A (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | 光フアイバ試験装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6282338A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0532746Y2 (ja) * | 1987-10-29 | 1993-08-20 | ||
US4899045A (en) * | 1988-05-24 | 1990-02-06 | Hi-Shear Corporation | Multiple channel fiber optic continuity test system |
JPH0529789U (ja) * | 1991-09-30 | 1993-04-20 | セーラー万年筆株式会社 | 筆記具用キヤツプ |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5712088A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-21 | Toa Gurauto Kogyo Kk | Stabilizing agent for excavation surface |
JPS6236529A (ja) * | 1985-08-12 | 1987-02-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光パルス試験器 |
-
1985
- 1985-10-07 JP JP60223270A patent/JPS6282338A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5712088A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-21 | Toa Gurauto Kogyo Kk | Stabilizing agent for excavation surface |
JPS6236529A (ja) * | 1985-08-12 | 1987-02-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光パルス試験器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6282338A (ja) | 1987-04-15 |
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