JPH0585994B2 - - Google Patents
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- JPH0585994B2 JPH0585994B2 JP2103246A JP10324690A JPH0585994B2 JP H0585994 B2 JPH0585994 B2 JP H0585994B2 JP 2103246 A JP2103246 A JP 2103246A JP 10324690 A JP10324690 A JP 10324690A JP H0585994 B2 JPH0585994 B2 JP H0585994B2
- Authority
- JP
- Japan
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- node
- transistor device
- word line
- electrode
- boost
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 20
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K19/00—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/408—Address circuits
- G11C11/4085—Word line control circuits, e.g. word line drivers, - boosters, - pull-up, - pull-down, - precharge
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K5/00—Manipulating of pulses not covered by one of the other main groups of this subclass
- H03K5/01—Shaping pulses
- H03K5/02—Shaping pulses by amplifying
- H03K5/023—Shaping pulses by amplifying using field effect transistors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Computing Systems (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Dram (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
- Dc-Dc Converters (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
A 産業上の利用分野
本発明は、電圧ブースト回路に関し、より詳し
くは半導体メモリ中のワード線クロツク回路用ブ
ースト回路に関する。
くは半導体メモリ中のワード線クロツク回路用ブ
ースト回路に関する。
B 従来の技術
従来のCMOSダイナミツクRAM設計では、セ
ルに対して完全な信号を復元するため、しばしば
ワード線が、n型アレイではVDD電源レベル以上
に、またp型アレイではVDDレベル以下にブース
トされる。第3図は、米国特許第4678941号明細
書に記載されている従来技術の設計を示す。第3
図で、負荷(LOAD)(ワード線、ノード2)
は、PMOSデバイス6がオフのとき、NMOSデ
バイス4及び8を介して大地に放電される。負荷
が充分に放電された後、ノード12が接地電位に
向うにつれて、デバイス8のゲートがデバイス1
0の|VTP|まで引き下げられる。次いで、ノー
ド16が接地電位に向うとき、ブースト・コンデ
ンサ14は、さらにゲートを負に引き下げる。デ
バイス8のゲートがオフになると、ノード18
は、デバイス4を除く残りの回路部分から分離さ
れ、フロートする。ノード22が接地電位に向う
につれて、ブースト・コンデンサ20は負荷を負
に引き下げる。
ルに対して完全な信号を復元するため、しばしば
ワード線が、n型アレイではVDD電源レベル以上
に、またp型アレイではVDDレベル以下にブース
トされる。第3図は、米国特許第4678941号明細
書に記載されている従来技術の設計を示す。第3
図で、負荷(LOAD)(ワード線、ノード2)
は、PMOSデバイス6がオフのとき、NMOSデ
バイス4及び8を介して大地に放電される。負荷
が充分に放電された後、ノード12が接地電位に
向うにつれて、デバイス8のゲートがデバイス1
0の|VTP|まで引き下げられる。次いで、ノー
ド16が接地電位に向うとき、ブースト・コンデ
ンサ14は、さらにゲートを負に引き下げる。デ
バイス8のゲートがオフになると、ノード18
は、デバイス4を除く残りの回路部分から分離さ
れ、フロートする。ノード22が接地電位に向う
につれて、ブースト・コンデンサ20は負荷を負
に引き下げる。
C 発明が解決しようとする課題
しかしながら第3図の従来の回路は、ワード線
ブーストのためのコンデンサ20及びワード線の
放電後MOSデバイス8のゲートをブーストしノ
ード18をフロートさせるためのコンデンサ14
の2個のコンデンサを必要とし、チツプの使用面
積が大きいという問題がある。また、ブースト・
コンデンサ20はワード線に直結されているた
め、ワード線の容量性負荷が大きくなり、動作速
度が遅いという問題がある。
ブーストのためのコンデンサ20及びワード線の
放電後MOSデバイス8のゲートをブーストしノ
ード18をフロートさせるためのコンデンサ14
の2個のコンデンサを必要とし、チツプの使用面
積が大きいという問題がある。また、ブースト・
コンデンサ20はワード線に直結されているた
め、ワード線の容量性負荷が大きくなり、動作速
度が遅いという問題がある。
従つて、本発明の目的は、ワード線電圧をブー
ストする改良された半導体メモリ・クロツク回路
を提供することにある。
ストする改良された半導体メモリ・クロツク回路
を提供することにある。
D 実施例
本開示は、MOSダイナミツクで使用できる2
種の新しいワード線ブースト・クロツクを記載す
るものである。上記の新しい回路は、ブースト・
コンデンサを1個しか必要とせず、ワード線の放
電速度が速く、ダイナミツクRAMのアクセス時
間を改善する。
種の新しいワード線ブースト・クロツクを記載す
るものである。上記の新しい回路は、ブースト・
コンデンサを1個しか必要とせず、ワード線の放
電速度が速く、ダイナミツクRAMのアクセス時
間を改善する。
本発明では、p型アレイを負の基板バイアスと
共に使用する高速CMOSダイナミツクRAMを開
示する。セルに対する完全な信号を復元するた
め、ワード線を、GND(接地電位)よりも少なく
ともアレイ転送デバイスのしきい電圧値だけ下に
ブーストする。ワード線クロツクのブースト期間
中、負の基板バイアスにより、NMOSデバイス
が負の電圧を処理させられる。本開示では、従来
技術の回路にまさる大きな利用を示すブースト・
ワード線クロツク回路の2つの実施例を記載す
る。本発明の新しい回路と第3図に示した従来技
術の回路の間の基本的相違の1つは、ブースト中
に負荷を負にドライブするNMOSデバイスのゲ
ートをフロートする方法にある。
共に使用する高速CMOSダイナミツクRAMを開
示する。セルに対する完全な信号を復元するた
め、ワード線を、GND(接地電位)よりも少なく
ともアレイ転送デバイスのしきい電圧値だけ下に
ブーストする。ワード線クロツクのブースト期間
中、負の基板バイアスにより、NMOSデバイス
が負の電圧を処理させられる。本開示では、従来
技術の回路にまさる大きな利用を示すブースト・
ワード線クロツク回路の2つの実施例を記載す
る。本発明の新しい回路と第3図に示した従来技
術の回路の間の基本的相違の1つは、ブースト中
に負荷を負にドライブするNMOSデバイスのゲ
ートをフロートする方法にある。
第1図及び第2図に、本発明の回路の単純化し
た実施例を示す。第1図で、NMOSデバイス2
4のゲートが、NMOSデバイス28を介してノ
ード26に接続されている。タイミング信号を受
取るノード36がハイ(高レベル)でノード38
がロー(低レベル)のとき、ノード30(ワード
線負荷)は、NMOSデバイス32及びNMOSデ
バイス24を介して放電される。ノード30が充
分に放電された後、ノード38がVDDに引き上げ
られて、NMOSデバイス28がオンになり、
PMOSデバイス40がオフになる。NMOSトラ
ンジスタ24は、そのゲートとドレインが互いに
接続されて、ダイオードを形成している。ブース
ト・コンデンサ42がノード26を負に引き下げ
ると、このダイオード構成によりデバイス24は
完全にオフのままとなり、ノード30はデバイス
32を介して負に引き下げられる。第2図で、デ
バイス32は、ブースト・コンデンサ42とノー
ド30の間に接続されている。ノード30のとこ
ろのワード線負荷は、デバイス40がオンで、デ
バイス28とデバイス32がオフのとき、デバイ
ス24を介して放電される。負荷が充分に放電さ
れた後、デバイス40はオフになるが、デバイス
28はオンとなつて、デバイス24をダイオード
にする。ノード74が接地電位まで引き下げられ
ると、ノード30はデバイス32がオンのとき負
に引き下げられる。第3図及び第1図の回路とは
違つて、第2図では、負荷がただ1個のNMOS
を介して放電し、したがつて他の2つの回路より
も速く放電する。
た実施例を示す。第1図で、NMOSデバイス2
4のゲートが、NMOSデバイス28を介してノ
ード26に接続されている。タイミング信号を受
取るノード36がハイ(高レベル)でノード38
がロー(低レベル)のとき、ノード30(ワード
線負荷)は、NMOSデバイス32及びNMOSデ
バイス24を介して放電される。ノード30が充
分に放電された後、ノード38がVDDに引き上げ
られて、NMOSデバイス28がオンになり、
PMOSデバイス40がオフになる。NMOSトラ
ンジスタ24は、そのゲートとドレインが互いに
接続されて、ダイオードを形成している。ブース
ト・コンデンサ42がノード26を負に引き下げ
ると、このダイオード構成によりデバイス24は
完全にオフのままとなり、ノード30はデバイス
32を介して負に引き下げられる。第2図で、デ
バイス32は、ブースト・コンデンサ42とノー
ド30の間に接続されている。ノード30のとこ
ろのワード線負荷は、デバイス40がオンで、デ
バイス28とデバイス32がオフのとき、デバイ
ス24を介して放電される。負荷が充分に放電さ
れた後、デバイス40はオフになるが、デバイス
28はオンとなつて、デバイス24をダイオード
にする。ノード74が接地電位まで引き下げられ
ると、ノード30はデバイス32がオンのとき負
に引き下げられる。第3図及び第1図の回路とは
違つて、第2図では、負荷がただ1個のNMOS
を介して放電し、したがつて他の2つの回路より
も速く放電する。
第4図は、ブースト・クロツク・システムに組
み込まれた第1図の回路を示し、第5図、第6
図、第7図は、様々なノードの波形を示してい
る。容量性負荷がノード30に接続されている。
この回路は、次のように動作する。
み込まれた第1図の回路を示し、第5図、第6
図、第7図は、様々なノードの波形を示してい
る。容量性負荷がノード30に接続されている。
この回路は、次のように動作する。
待機中 最初、NORゲート58の入力に接続さ
れたリード線106及び108上のタイミング
信号はハイであり、ノード36に接続された
NORゲート58の出力はローになつている。
PMOSデバイス34及びNMOSデバイス32
は、そのゲートがノード36に接続されている
が、それぞれオン及びオフになつており、負荷
はVDDに維持されている。ノード36は、2つ
の方式で、すなわち直接、及びインバータ6
2,64,66,68から構成されるインバー
タ連鎖を通過した後に、NANDゲート60に
接続されている。ゲート60の出力ノード70
がハイであり、ノード38はローになつてい
る。PMOSデバイス40はオン、NMOSデバ
イス28はオンになつており、ノード72は
VDDで、NMOSデバイス24がオンになつてい
る。ノード26はGNDにあるが、NMOSデバ
イス32はオフになつていて、負荷が接地電位
まで放電されるのを防止している。ノード74
はハイであり、インバータ78,80,82,
84,86,88,90から構成される遅延連
鎖のために、ノード38と反対の極性を有す
る。NMOSトランジスタ92はオンになつて
いて、デバイス94はオフになつており、ノー
ド96をVDD−VTNに保持する。NANDゲート
98は入力としてノード36及び74を有し、
その出力ノード100はハイになつていて、デ
バイス102をオフに保つ。ノード96と26
の間に接続されているブースト・コンデンサ4
2は、反転コンデンサである。コンデンサ42
は、そのゲートとソース/ドレインの両端間で
VDD−VTNの電圧降下を有し、完全にオンにな
つていて、キヤパシタンスが最大になつてい
る。
れたリード線106及び108上のタイミング
信号はハイであり、ノード36に接続された
NORゲート58の出力はローになつている。
PMOSデバイス34及びNMOSデバイス32
は、そのゲートがノード36に接続されている
が、それぞれオン及びオフになつており、負荷
はVDDに維持されている。ノード36は、2つ
の方式で、すなわち直接、及びインバータ6
2,64,66,68から構成されるインバー
タ連鎖を通過した後に、NANDゲート60に
接続されている。ゲート60の出力ノード70
がハイであり、ノード38はローになつてい
る。PMOSデバイス40はオン、NMOSデバ
イス28はオンになつており、ノード72は
VDDで、NMOSデバイス24がオンになつてい
る。ノード26はGNDにあるが、NMOSデバ
イス32はオフになつていて、負荷が接地電位
まで放電されるのを防止している。ノード74
はハイであり、インバータ78,80,82,
84,86,88,90から構成される遅延連
鎖のために、ノード38と反対の極性を有す
る。NMOSトランジスタ92はオンになつて
いて、デバイス94はオフになつており、ノー
ド96をVDD−VTNに保持する。NANDゲート
98は入力としてノード36及び74を有し、
その出力ノード100はハイになつていて、デ
バイス102をオフに保つ。ノード96と26
の間に接続されているブースト・コンデンサ4
2は、反転コンデンサである。コンデンサ42
は、そのゲートとソース/ドレインの両端間で
VDD−VTNの電圧降下を有し、完全にオンにな
つていて、キヤパシタンスが最大になつてい
る。
放電中及びブースト中 リード線106及び10
8上のタイミング信号がGNDまで降下すると、
ノード36がハイになつて、デバイス32をオ
ンに、デバイス34をオフにする。NANDゲ
ート60の出力ノード70は、インバータ62
〜68によつて決定される時間遅延後にノード
110がハイになるまで、ハイのままになつて
いる。このため、ノード72がハイに保たれ、
負荷がデバイス32及び24を介して接地電位
まで放電される。この時間遅延によつて負荷の
放電時間が決定されるが、この時間遅延はイン
バータ68とゲート60の間に偶数個のインバ
ータを追加することにより容易に変更できる。
ノード36がハイ状態になると、ただちに、ノ
ード100はローとなり、ゲート98のW/L
比がデバイス102の大きさに比べて比較的小
さいため、デバイス102がゆつくりとオンに
なる。このため、ノード96がVDD−VTNから
VDDまでゆつくりと引き上げられる。負荷がデ
バイス32及びデハイス24を介して放電する
と、ノード26がバンプアツプされる。このた
め、コンデンサ42を介する容量性結合によ
り、ノード96がバンプアツプされる。ただ
し、バンプはVTNよりも小さく、ノード96は
VDD以下にとどまつている。ノード96をVDD
−VTNではなく、VDDにまで予め充電させてお
いた場合は、バンプによつてノード96がVDD
を越えて高くなりすぎてしまうことになる。ノ
ード26におけるバンプが消えた後、ノード9
6がVDDまで完全に充電される。インバータ6
2〜68によつて決定される時間遅延の後に、
ノード70はローになる。このため、デバイス
28はオンになるが、デバイス40はオフにな
る。このとき、デバイス24はダイオード構成
になつている。ノード70でのロー状態が、イ
ンバータ連鎖78〜90を介してリツプルして
行き、ノード74を強制的にローにする。この
ため、デバイス92及び102を犠牲にしてデ
バイス94がオンになる。ノード96はデバイ
ス94を介してVDDからGNDへ放電され、した
がつて、ノード26は、ブースト・コンデンサ
42を介してGNDから負にブーストされる。
デバイス32がオンのとき、ノード30はノー
ド26と同じ電圧までブーストされる。
8上のタイミング信号がGNDまで降下すると、
ノード36がハイになつて、デバイス32をオ
ンに、デバイス34をオフにする。NANDゲ
ート60の出力ノード70は、インバータ62
〜68によつて決定される時間遅延後にノード
110がハイになるまで、ハイのままになつて
いる。このため、ノード72がハイに保たれ、
負荷がデバイス32及び24を介して接地電位
まで放電される。この時間遅延によつて負荷の
放電時間が決定されるが、この時間遅延はイン
バータ68とゲート60の間に偶数個のインバ
ータを追加することにより容易に変更できる。
ノード36がハイ状態になると、ただちに、ノ
ード100はローとなり、ゲート98のW/L
比がデバイス102の大きさに比べて比較的小
さいため、デバイス102がゆつくりとオンに
なる。このため、ノード96がVDD−VTNから
VDDまでゆつくりと引き上げられる。負荷がデ
バイス32及びデハイス24を介して放電する
と、ノード26がバンプアツプされる。このた
め、コンデンサ42を介する容量性結合によ
り、ノード96がバンプアツプされる。ただ
し、バンプはVTNよりも小さく、ノード96は
VDD以下にとどまつている。ノード96をVDD
−VTNではなく、VDDにまで予め充電させてお
いた場合は、バンプによつてノード96がVDD
を越えて高くなりすぎてしまうことになる。ノ
ード26におけるバンプが消えた後、ノード9
6がVDDまで完全に充電される。インバータ6
2〜68によつて決定される時間遅延の後に、
ノード70はローになる。このため、デバイス
28はオンになるが、デバイス40はオフにな
る。このとき、デバイス24はダイオード構成
になつている。ノード70でのロー状態が、イ
ンバータ連鎖78〜90を介してリツプルして
行き、ノード74を強制的にローにする。この
ため、デバイス92及び102を犠牲にしてデ
バイス94がオンになる。ノード96はデバイ
ス94を介してVDDからGNDへ放電され、した
がつて、ノード26は、ブースト・コンデンサ
42を介してGNDから負にブーストされる。
デバイス32がオンのとき、ノード30はノー
ド26と同じ電圧までブーストされる。
リセツト中 リセツトは、リード線106または
108上のタイミング信号をVDDまで引き上げ
ることによつて行なわれる。リセツト中、有害
な行き過ぎや変化不足は見られない。
108上のタイミング信号をVDDまで引き上げ
ることによつて行なわれる。リセツト中、有害
な行き過ぎや変化不足は見られない。
第8図は、ブースト・クロツク・システムに
組み込まれた第2図の回路を示し、第9図、第
10図は様々なノードの波形を示す。容量性負
荷がノード30に接続されている。この回路
は、次のように動作する。
組み込まれた第2図の回路を示し、第9図、第
10図は様々なノードの波形を示す。容量性負
荷がノード30に接続されている。この回路
は、次のように動作する。
待機中 最初、リード線106及び108上のタ
イミング信号はハイであり、ノード36に接続
されたNORゲート58の出力はローになつて
いる。このため、ノード26がハイになつて、
デバイス40がオフになる。デバイス34は、
そのゲートがノード36に接続されているが、
オンであつて、ノード30をVDDまで引き上
げ、このため、デバイス94及びデバイス12
4によつてノード72及び126が接地電位ま
で放電される。NANDゲート60の出力ノー
ド70はハイになつている。このため、ノード
74が強制的にハイになり、ノード128がロ
ーになる。その結果、デバイス28及び32は
オフになる。ノード30がハイ状態のため、強
制的にノード130がローになる。ノード74
と130の間に接続されているブースト・コン
デンサ42は、反転コンデンサである。コンデ
ンサ42は、そのゲートとソース/ドレインの
両端間でVDDだけ電圧が降下し、完全にオンに
なつていて、キヤパシタンスが最大になつてい
る。
イミング信号はハイであり、ノード36に接続
されたNORゲート58の出力はローになつて
いる。このため、ノード26がハイになつて、
デバイス40がオフになる。デバイス34は、
そのゲートがノード36に接続されているが、
オンであつて、ノード30をVDDまで引き上
げ、このため、デバイス94及びデバイス12
4によつてノード72及び126が接地電位ま
で放電される。NANDゲート60の出力ノー
ド70はハイになつている。このため、ノード
74が強制的にハイになり、ノード128がロ
ーになる。その結果、デバイス28及び32は
オフになる。ノード30がハイ状態のため、強
制的にノード130がローになる。ノード74
と130の間に接続されているブースト・コン
デンサ42は、反転コンデンサである。コンデ
ンサ42は、そのゲートとソース/ドレインの
両端間でVDDだけ電圧が降下し、完全にオンに
なつていて、キヤパシタンスが最大になつてい
る。
放電中及びブースト中 リード線106及び10
8上のタイミング信号がGNDまで降下すると、
ノード36がハイになつて、デバイス34をオ
フにする。NANDゲートの出力ノード70は、
6個のインバータ134,136,138,1
40,142,144によつて決定される時間
遅延の後に、ノード132がハイになるまで、
ハイのままになつている。ノード70がハイの
ままである限り、ノード26はローになつてい
て、ノード72をハイに引き上げて、デバイス
24をオンにする。デバイス40がノード72
をハイに引き上げて、デバイス94が完全にオ
ンになるように、デバイス94のW/Lを選定
する。デバイス24は、ノード30を完全に放
電させ、またデバイス124及び94を共にオ
フにする。インバータ134〜144によつて
決定される時間遅延の後に、ノード70がロー
になつて、強制的にノード26をハイにする。
このため、デバイス40は遮断されるが、デバ
イス150はオンになる。このため、デバイス
152のゲートとドレインが互いに接続され
て、ダイオード構成が形成される。ノード12
6と72が互いに接続され、デバイス152の
VTNまで放電される。ノード70でのロー状態
が、インバータ連鎖160,162,164,
166,168,170,172,174を介
してリツプルしていく。5個のインバータ遅延
の後、インバータ168の後に接続されたノー
ド176がハイになり、NANDゲート178
及びインバータ180を通過した後、デバイス
32及びデバイス28をオンにする。デバイス
28がオンのとき、デバイス24はダイオード
構成になつている。ノード176でのハイ状態
により、3個のインバータ遅延の後、ノード7
4が接地電位まで引き下げられ、このため、ノ
ード130がブースト・コンデンサ42を介し
て負にブーストされる。デバイス32がオンの
とき、ノード30はノード130と同じ電圧ま
でブーストされる。
8上のタイミング信号がGNDまで降下すると、
ノード36がハイになつて、デバイス34をオ
フにする。NANDゲートの出力ノード70は、
6個のインバータ134,136,138,1
40,142,144によつて決定される時間
遅延の後に、ノード132がハイになるまで、
ハイのままになつている。ノード70がハイの
ままである限り、ノード26はローになつてい
て、ノード72をハイに引き上げて、デバイス
24をオンにする。デバイス40がノード72
をハイに引き上げて、デバイス94が完全にオ
ンになるように、デバイス94のW/Lを選定
する。デバイス24は、ノード30を完全に放
電させ、またデバイス124及び94を共にオ
フにする。インバータ134〜144によつて
決定される時間遅延の後に、ノード70がロー
になつて、強制的にノード26をハイにする。
このため、デバイス40は遮断されるが、デバ
イス150はオンになる。このため、デバイス
152のゲートとドレインが互いに接続され
て、ダイオード構成が形成される。ノード12
6と72が互いに接続され、デバイス152の
VTNまで放電される。ノード70でのロー状態
が、インバータ連鎖160,162,164,
166,168,170,172,174を介
してリツプルしていく。5個のインバータ遅延
の後、インバータ168の後に接続されたノー
ド176がハイになり、NANDゲート178
及びインバータ180を通過した後、デバイス
32及びデバイス28をオンにする。デバイス
28がオンのとき、デバイス24はダイオード
構成になつている。ノード176でのハイ状態
により、3個のインバータ遅延の後、ノード7
4が接地電位まで引き下げられ、このため、ノ
ード130がブースト・コンデンサ42を介し
て負にブーストされる。デバイス32がオンの
とき、ノード30はノード130と同じ電圧ま
でブーストされる。
リセツト中 リセツトは、リード線106上また
はリード線108上のタイミング信号をVDDま
で引き上げることによつて行なわれる。ノード
36がローとなり、デバイス34がオンになつ
て、ノード30をハイに引き上げる。ゲート1
78は、その入力の1つとしてノード36を有
し、ノード128をローに引き下げることによ
つて、デバイス28及びデバイス32をオフに
する。NANDゲート178がない場合は、ノ
ード128はVDDのままとなるはずであり、ノ
ード30がVDDに引き上げられるとき、デバイ
ス32を介する容量性結合により、許容できな
いオーバシユートが生じることになる。リセツ
ト中、有害なオーバシユートやアンダシユート
は見られない。
はリード線108上のタイミング信号をVDDま
で引き上げることによつて行なわれる。ノード
36がローとなり、デバイス34がオンになつ
て、ノード30をハイに引き上げる。ゲート1
78は、その入力の1つとしてノード36を有
し、ノード128をローに引き下げることによ
つて、デバイス28及びデバイス32をオフに
する。NANDゲート178がない場合は、ノ
ード128はVDDのままとなるはずであり、ノ
ード30がVDDに引き上げられるとき、デバイ
ス32を介する容量性結合により、許容できな
いオーバシユートが生じることになる。リセツ
ト中、有害なオーバシユートやアンダシユート
は見られない。
第11図は第1図及び第2図の回路のノード3
0の電圧波形、並びに第3図の回路のノード2の
電圧波形を示している。
0の電圧波形、並びに第3図の回路のノード2の
電圧波形を示している。
この波形からわかるように、第1図及び第2図
の回路はワード線の放電速度が速く、メモリ・ア
クセス時間を短縮する。
の回路はワード線の放電速度が速く、メモリ・ア
クセス時間を短縮する。
第1図は、本発明によるブースト回路の第1の
実施例の概略図である。第2図は、本発明による
ブースト回路の第2の実施例の概略図である。第
3図は、従来技術によるブースト回路の概略図で
ある。第4図は、CMOSダイナミツクRAMシス
テムに組み込まれた第1図のブースト回路の概略
図である。第5図、第6図、及び第7図は、第4
図のシステムの動作を示す曲線である。第8図
は、CMOSダイナミツクRAMシステムに組み込
まれた第2図のブースト回路の概略図である。第
9図、及び第10図は、第8図のシステムの動作
を示す曲線である。第11図は第1図、第2図及
び第3図のブースト回路の出力ノードの電圧波形
図である。 14,20,42……ブースト・コンデンサ、
24,28,32,40……デバイス、26,3
0,36,38,74……ノード。
実施例の概略図である。第2図は、本発明による
ブースト回路の第2の実施例の概略図である。第
3図は、従来技術によるブースト回路の概略図で
ある。第4図は、CMOSダイナミツクRAMシス
テムに組み込まれた第1図のブースト回路の概略
図である。第5図、第6図、及び第7図は、第4
図のシステムの動作を示す曲線である。第8図
は、CMOSダイナミツクRAMシステムに組み込
まれた第2図のブースト回路の概略図である。第
9図、及び第10図は、第8図のシステムの動作
を示す曲線である。第11図は第1図、第2図及
び第3図のブースト回路の出力ノードの電圧波形
図である。 14,20,42……ブースト・コンデンサ、
24,28,32,40……デバイス、26,3
0,36,38,74……ノード。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ブースト・コンデンサ素子と、 それぞれソース電極、ドレイン電極、ゲート電
極を有する第1、第2、第3、第4、第5のトラ
ンジスタ・デバイスと、 供給電圧源及び基準電圧源とを含み、 上記第1、第5トランジスタ・デバイスが第1
の導電型であり、 上記第2、第3、第4トランジスタ・デバイス
は第2の導電型であり、 上記第1、第2トランジスタ・デバイスは、そ
の電極が共に第1ノードでメモリ・アレイのワー
ド線に接続されており、 上記第3トランジスタ・デバイスはその1つの
電極が上記第2トランジスタ・デバイスの1つの
電極に接続され、また1つの電極が上記ブース
ト・コンデンサ素子に接続されており、 上記第4トランジスタ・デバイスはその1つの
電極が上記第2トランジスタ・デバイスの1つの
電極に接続されており、 上記第5トランジスタ・デバイスはその1つの
電極が上記第4トランジスタ・デバイスの1つの
電極に接続されており、 上記第1、第5トランジスタ・デバイスはまた
その1つの電極が上記供給電圧源に接続され、上
記第1トランジスタ・デバイスはそのゲート電極
が第2ノードでタイミング信号源に接続されてお
り、 最初、上記第2ノードにおける上記タイミング
信号は第1レベル状態にあり、上記第1トランジ
スタ・デバイスはオン、上記第2トランジスタ・
デバイスはオフになつていて、上記第1ノードに
接続されている上記ワード線は供給電圧にあり、 上記タイミング信号が第2レベル状態になるの
に応じて、上記第1トランジスタ・デバイスがオ
フになり、上記第2トランジスタ・デバイスがオ
ンになり、上記第1ノードに接続されている上記
ワード線が少なくとも上記第2トランジスタ・デ
バイスを介して放電され、上記第1ノードのワー
ド線が上記第2トランジスタ・デバイスを介して
上記ブースト・コンデンサに接続され、したがつ
て上記ワード線の電圧レベルが上記基準電圧より
も負になることを特徴とする、 半導体メモリのためのワード線電圧ブースト・
クロツク回路。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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US344340 | 2008-12-26 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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JPH0585994B2 true JPH0585994B2 (ja) | 1993-12-09 |
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