JPH0585669B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、部分的にめつきされた繊維布帛の製
造法に関する。

従来の技術 従来、繊維布帛を部分的にメツキする方法とし
ては、布帛を部分的に疎水性にして表面を不活性
化する方法や熱拡散染料を用いて布帛上に予備的
な印捺を行うことにより不活性化する方法が知ら
れている。これらの方法は、部分的に不活性化処
理した繊維布帛を後処理により活性化するため、
不活性化した部分が汚染されたり、脱落したり
し、そのため金属の付着を完全に防止することが
できないという欠点を有する。従つて、逆に部分
的に活性化する方法がより直接的であり、完全な
部分めつきが可能である。このような方法として
は、プリント配線基盤の製造の際に、金属含有ペ
ーストを印捺し、ついでこの部分をめつきする方
法が確立されている。

発明が解決しようとする問題点 本発明は、前述した如き繊維布帛の部分めつき
方法における従来技術の問題点を解決しようとす
るものであつて、繊維布帛を部分的に不活性化す
るのではなく、部分的に活性化することによる、
簡便でより確実な方法を提供しようとするもので
ある。

問題点を解決するための手段 本発明によれば即ち繊維布帛の部分めつき方法
が提供されるのであつて、この方法は、塩化パラ
ジウムとサクシノニトリルまたはジベンゾニトリ
ル（以下、ニトリル基含有有機化合物という）と
を非プロトン極性有機溶剤に溶解した溶液を、水
溶性糊剤の水溶液に添加、混合して得られる印捺
機を用いて、繊維布帛上に印捺したのち、乾燥
し、湯洗によつて糊剤を除去し、次いでこの繊維
布帛を無電解めつきに付すことを特徴とする。

本発明方法の実施手順は以下のようである。

塩化パラジウムとニトリル基含有有機化合物と
を非プロトン極性有機溶剤に加熱溶解する。次い
で、この溶液を水溶性糊剤の水溶液と混合攪拌す
る。これにより得られた混合液を印捺糊として繊
維布帛上に印捺し、乾燥処理後、湯洗して糊剤を
除去する。

このようにして印捺部分だけが部分的に活性化
された繊維布帛を公知の無電解めつき液に浸漬し
てめつきを行うと、印捺部分だけをめつきするこ
とができるのである。

本発明が対象とする繊維布帛としては、ポリエ
チレンフタレート、ポリブチレンフタレート、６
−ナイロン、６，６−ナイロン、塩化ビニリデ
ン、ポリアクリロニトリル、ポリ−ｍ−フエニレ
ンイソフタルアミド、ポリ−ｐ−フエニレンテレ
フタルアミド、木綿、ガラス繊維等からなる布帛
がある。その形態は、織物状、不織布状、編物状
等いずれであつても良い。めつき処理前の活性化
を確実にするために、それぞれの繊維素材に適し
た前処理工程を行うのが望ましい。例えば、プラ
ズマ等の放電処理、アルカリ処理、酸処理等であ
る。

非プロトン性極性有機溶剤としてはジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルス
ルホキシド等が使用できる。塩化パラジウムおよ
びニトリル基含有有機化合物は、10^-4モル〜10^-2
モル％の濃度で上記溶剤に加熱溶解されるのが好
ましい。印捺媒体としての水溶性糊剤としては、
グアーガム系、デンプン系、セルロース系、アル
ギン系、合成糊剤等の常用の捺染糊剤を用いるこ
とができる。印捺の機械的手段は、フラツトスク
リーン、ロータリースクリーン、グラビアローラ
ー等いずれであつてもよい。もちろん、上記の活
性化部分以外の部分には、通常の染料を印捺する
ことも可能である。

印捺後の乾燥は、好ましくは、100゜〜180℃の
範囲で１〜３分間行ない、ついで湯洗によつて脱
糊する。この印捺布を乾燥することなく、濡れた
ままめつきしてもよいし、いつたん乾燥してから
めつきしても良い。めつき浴としては、無電解の
ニツケルや銅めつき浴が用いられ、印捺布を拡布
状でめつき浴に連続的に浸漬する方法が適当であ
る。

実施例 以下、実施例によつて本発明を具体的に説明す
る。

実施例 １ 塩化パラジウム10^-3モルとサクシノニトリル
10^-3モルを10mlのジメチルホルムアミドに加熱溶
解した。次いで、グアーガム系糊剤の６％水溶液
150ｇと混合攪拌し、印捺糊を得た。この印捺糊
により、ポリエステルポンジを５％アルカリ減量
した織物に対して、格子状にスクリーンプリント
した。印捺布を150℃で１分間乾燥したのち、80
℃で10分間湯洗した。次いで、ホウ素化合物を還
元剤とするニツケル無電解めつき浴に50℃で２分
間拡布状で浸漬し、めつき処理した。次いで、こ
の布帛を十分水洗処理し、120℃で２分間乾燥し
たところ、格子部分だけがニツケルめつきされた
織物を得た。

実施例 ２ 塩化パラジウム５×10^-3モルとサクシノニトリ
ル５×10^-3モルを10mlのジメチルホルムアミドに
加熱溶解した。これをデンプン系糊剤の５％水溶
液100ｇと混合攪拌した。この混合液を印捺糊と
して用いて、ポリ−ｍ−フエニレンイソフタルア
ミド織物に対してストライプ状に印捺した。印捺
布を180℃で１分間乾燥した後、80℃で10分間湯
洗し、糊剤を除去した。次いで、この布帛をホル
マリンを還元剤とする銅無電解めつき浴に50℃で
２分間浸漬した。水洗後、150℃で１分間乾燥し
たところ、ストライプ状に印捺した部分のみが銅
めつきされた織物を得た。

実施例 ３ 塩化パラジウム５×10^-3モルとベンゾニトリル
５×10^-3モルをジメチルスルホキシド10mlに加熱
して溶解した。冷却後、グアーガム系糊剤の６％
水溶液100ｇと混合攪拌して印捺糊を得た。次い
で、この糊により酸素プラズマで前処理したポリ
エステル織物上に巾１mmのストライプ模様を間隔
10cmで印捺した。次いで、Diamix Red KBSE5
％を含むグアーガム系糊剤水溶液を用いて、上記
の印捺ストライプ部分の間に巾２mmのストライプ
を間隔10cmで印捺した。120℃で１分間乾燥後、
180℃で３分間発色処理した。次に、80℃で10分
間湯洗し、リン系の還元剤を使用する無電解めつ
き浴に浸漬し、40℃で10分間処理した。水洗を十
分に行つた後、乾燥したところ、赤色部分とニツ
ケルめつき部分からなる交互ストライプ模様が得
られた。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 塩化パラジウムとサクシンニトリルまたはジ
   ベンゾニトリルとを非プロトン性有機溶剤に溶解
   した溶液を、水溶性糊剤の水溶液に添加、混合し
   て得られる印捺糊を用いて、繊維布帛上に印捺し
   たのち、乾燥し、湯洗によつて糊剤を除去し、次
   いでこの繊維布帛を無電解めつきに付すことを特
   徴とする、繊維布帛の部分めつき方法。