JPH05832A - ガラス系素材のエツチング加工方法 - Google Patents
ガラス系素材のエツチング加工方法Info
- Publication number
- JPH05832A JPH05832A JP17317691A JP17317691A JPH05832A JP H05832 A JPH05832 A JP H05832A JP 17317691 A JP17317691 A JP 17317691A JP 17317691 A JP17317691 A JP 17317691A JP H05832 A JPH05832 A JP H05832A
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- thin film
- paraffin
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 深さが１００μｍ以上の深いエッチング行
い、凹凸パターンを設けることが可能なガラス系素材へ
のエッチッグ方法を提供する。 【構成】 ガラス系素材１のエッチング面の全面に金
薄膜層２を形成し、上記金薄膜層のエッチング部分うマ
スクして該エッチング部分以外にパラフィン層５を設け
た後、エッチング部分の金薄膜層を除去し、金薄膜層と
パラフィン層とからなるエッチングパターンを形成した
後フッ化水素を用いて所望の深さにエッチングを行い、
しかる後パラフィン層と金薄膜層を除去して凹凸パター
ン８が設けられる。
い、凹凸パターンを設けることが可能なガラス系素材へ
のエッチッグ方法を提供する。 【構成】 ガラス系素材１のエッチング面の全面に金
薄膜層２を形成し、上記金薄膜層のエッチング部分うマ
スクして該エッチング部分以外にパラフィン層５を設け
た後、エッチング部分の金薄膜層を除去し、金薄膜層と
パラフィン層とからなるエッチングパターンを形成した
後フッ化水素を用いて所望の深さにエッチングを行い、
しかる後パラフィン層と金薄膜層を除去して凹凸パター
ン８が設けられる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガラス系素材へフッ化水
素によるエッチングを行って凹凸パターンを形成するエ
ッチング加工方法に関する。
素によるエッチングを行って凹凸パターンを形成するエ
ッチング加工方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ガラス系素材の表面を加工して凹
凸パターンを設ける手段の一つとして、フッ化水素がガ
ラスを腐食する点を利用したエッチング（蝕刻）方法が
知られている。上記エッチング方法は、通常形成しよう
とする凹凸パターンに対応するエッチングパターンをエ
ッチング不要の部分に耐フッ化水素性の層を形成して、
フッ化水素を用いて所望の部分のみ腐食して凹凸パター
ンが形成される。上記エッチングパターンの形成方法と
して、ガラス系素材の表面にフォトレジスト層を形成し
てマスクを通しパターン状に露光し、現像、固化してエ
ッチングパターンを設ける方法が用いられていた。
凸パターンを設ける手段の一つとして、フッ化水素がガ
ラスを腐食する点を利用したエッチング（蝕刻）方法が
知られている。上記エッチング方法は、通常形成しよう
とする凹凸パターンに対応するエッチングパターンをエ
ッチング不要の部分に耐フッ化水素性の層を形成して、
フッ化水素を用いて所望の部分のみ腐食して凹凸パター
ンが形成される。上記エッチングパターンの形成方法と
して、ガラス系素材の表面にフォトレジスト層を形成し
てマスクを通しパターン状に露光し、現像、固化してエ
ッチングパターンを設ける方法が用いられていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のレジストによるエッチングパターンの形成方法を用
いたエッチングは、レジスト層の耐フッ化水素性があま
りよくないために、エッチングの深さを深く形成しよう
とすると、エッチングパターンの部分がフッ化水素によ
り剥離してしまうために、通常１０〜２０μｍ程度の深
さまでしかエッチングを行うことが出来ないという問題
があった。本発明は上記従来技術の欠点を解消し、深さ
が１００μｍ以上の深いエッチングを行い凹凸パターン
を設けることが可能なガラス系素材のエッチング加工方
法を提供することを目的とする。
来のレジストによるエッチングパターンの形成方法を用
いたエッチングは、レジスト層の耐フッ化水素性があま
りよくないために、エッチングの深さを深く形成しよう
とすると、エッチングパターンの部分がフッ化水素によ
り剥離してしまうために、通常１０〜２０μｍ程度の深
さまでしかエッチングを行うことが出来ないという問題
があった。本発明は上記従来技術の欠点を解消し、深さ
が１００μｍ以上の深いエッチングを行い凹凸パターン
を設けることが可能なガラス系素材のエッチング加工方
法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明ガラス系素材のエ
ッチング加工方法は、ガラス系素材へエッチングパター
ンを形成した後、フッ化水素を用いエッチングを行い素
材表面に凹凸パターンを設けるエッチング加工方法にお
いて、ガラス系素材のエッチング面の全面に金薄膜層を
形成し、上記金薄膜層のエッチング部分をマスクして該
エッチング部分以外にパラフィン層を設けた後、エッチ
ング部分の金薄膜層を除去し、金薄膜層とパラフィン層
とからなるエッチングパターンを形成した後フッ化水素
を用いて所望の深さにエッチングを行い、しかる後パラ
フィン層と金薄膜層を除去して凹凸パターンを設ける方
法である。
ッチング加工方法は、ガラス系素材へエッチングパター
ンを形成した後、フッ化水素を用いエッチングを行い素
材表面に凹凸パターンを設けるエッチング加工方法にお
いて、ガラス系素材のエッチング面の全面に金薄膜層を
形成し、上記金薄膜層のエッチング部分をマスクして該
エッチング部分以外にパラフィン層を設けた後、エッチ
ング部分の金薄膜層を除去し、金薄膜層とパラフィン層
とからなるエッチングパターンを形成した後フッ化水素
を用いて所望の深さにエッチングを行い、しかる後パラ
フィン層と金薄膜層を除去して凹凸パターンを設ける方
法である。
【０００５】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき詳細に
説明する。図面は本発明の１例を示し、図１は本発明エ
ッチング加工方法の工程を示す説明図である。図１
（ａ）に示すように本発明方法は、先ず加工を行なおう
とするガラス系素材１の表面全面に金蒸着により金薄膜
層２を形成し、該金薄膜層２の表面に更にエッチングを
行う部分以外を切り抜いたマスクシート３を重ね該マス
クの空隙部分４にパラフィン系材料を加熱溶融して充填
した後マスクを除去して、パラフィン層５を形成する
〔同図（ｂ）〕。次いで、上記のパラフィン層５がなく
金薄膜層６が表面に露出している部分を除去して、同図
（ｃ）に示す如く金薄膜層６がパラフィン層５と同じパ
ターンに形成され、金薄膜層２とパラフィン層５が積層
してなるエッチングパターン７が設けられる、。エッチ
ングパターン７を設けた素材１は同図（ｃ）に示す点線
の部分を所望の深さまでフッ化水素からなるエッチング
液に浸漬して、エッチングを行い凹凸パターン８が形成
される。エッチングが終了したら、パラフィン層５を溶
剤で除去し、更に金薄膜層２を王水で除去して、同図
（ｄ）に示す如く、表面に所望の凹凸パターン８が設け
られたガラス系素材１が得られる。
説明する。図面は本発明の１例を示し、図１は本発明エ
ッチング加工方法の工程を示す説明図である。図１
（ａ）に示すように本発明方法は、先ず加工を行なおう
とするガラス系素材１の表面全面に金蒸着により金薄膜
層２を形成し、該金薄膜層２の表面に更にエッチングを
行う部分以外を切り抜いたマスクシート３を重ね該マス
クの空隙部分４にパラフィン系材料を加熱溶融して充填
した後マスクを除去して、パラフィン層５を形成する
〔同図（ｂ）〕。次いで、上記のパラフィン層５がなく
金薄膜層６が表面に露出している部分を除去して、同図
（ｃ）に示す如く金薄膜層６がパラフィン層５と同じパ
ターンに形成され、金薄膜層２とパラフィン層５が積層
してなるエッチングパターン７が設けられる、。エッチ
ングパターン７を設けた素材１は同図（ｃ）に示す点線
の部分を所望の深さまでフッ化水素からなるエッチング
液に浸漬して、エッチングを行い凹凸パターン８が形成
される。エッチングが終了したら、パラフィン層５を溶
剤で除去し、更に金薄膜層２を王水で除去して、同図
（ｄ）に示す如く、表面に所望の凹凸パターン８が設け
られたガラス系素材１が得られる。
【０００６】上記ガラス系素材１は、フッ化水素でエッ
チングすることの可能な材質であればいずれでもよく、
ガラス、石英等のガラス類、セラミック類等の材料が用
いられる。又、フッ化水素は、フッ化水素溶液に限らず
フッ化水素の各種化合物の溶液や、硫酸等との混合物で
もよい。金薄膜層２の形成方法は蒸着のみに限定されな
いが、蒸着により設けるのが好ましく、その厚さは通常
0.１μｍ程度である。マスクシート３はパラフィンを塗
布した場合にエッチング部分にパラフィン層５が形成さ
れないように設けるもので、上記のように所望の部分を
切り抜いたマスクシート３を必ずしも用いる必要はな
い。マスクは、エッチングパターンに応じて適宜手段を
選択すればよく、例えばエッチングパターンが直線的で
幾何学的な単純な形状である場合には、粘着テープ等を
貼着してマスクしてもよい。パラフィン層５に用いるパ
ラフィン系材料としては、パラフィン、タール系の材料
等が用いられている。パラフィン層５を形成する手段
は、エッチングパターンの形状に応じて適宜任意の手段
を用いることができる。例えば、パラフィン系材料の場
合には、加熱溶融して流動状態にして、マスクの空隙に
充填した後マスクシートを剥離する。尚、マスクシート
や粘着テープ等のマスクを剥離する時期は、パラフィン
系材料が溶融状態から半溶融状態になったところで行う
のが好ましい。これは、パラフィン系材料が完全に固体
状になる前に行うと、マスクの剥離が容易であり更に剥
離した界面がより綺麗に形成される。又、パラフィン層
５は材料を溶剤に溶解して液状にして塗工した後、溶剤
を揮発させてマスクを剥離する方法で形成することもで
きる。尚、この場合にも上記と同様に、溶剤が完全に揮
発してパラフィン層５が完全に固まる前にマスクを剥離
するのが好ましい。パラフィン層５の厚みは特に限定さ
れないが、通常0.５mm程度に形成するのがフッ化水素に
対する耐性やパターン形成が容易である点などの理由か
ら好ましい。
チングすることの可能な材質であればいずれでもよく、
ガラス、石英等のガラス類、セラミック類等の材料が用
いられる。又、フッ化水素は、フッ化水素溶液に限らず
フッ化水素の各種化合物の溶液や、硫酸等との混合物で
もよい。金薄膜層２の形成方法は蒸着のみに限定されな
いが、蒸着により設けるのが好ましく、その厚さは通常
0.１μｍ程度である。マスクシート３はパラフィンを塗
布した場合にエッチング部分にパラフィン層５が形成さ
れないように設けるもので、上記のように所望の部分を
切り抜いたマスクシート３を必ずしも用いる必要はな
い。マスクは、エッチングパターンに応じて適宜手段を
選択すればよく、例えばエッチングパターンが直線的で
幾何学的な単純な形状である場合には、粘着テープ等を
貼着してマスクしてもよい。パラフィン層５に用いるパ
ラフィン系材料としては、パラフィン、タール系の材料
等が用いられている。パラフィン層５を形成する手段
は、エッチングパターンの形状に応じて適宜任意の手段
を用いることができる。例えば、パラフィン系材料の場
合には、加熱溶融して流動状態にして、マスクの空隙に
充填した後マスクシートを剥離する。尚、マスクシート
や粘着テープ等のマスクを剥離する時期は、パラフィン
系材料が溶融状態から半溶融状態になったところで行う
のが好ましい。これは、パラフィン系材料が完全に固体
状になる前に行うと、マスクの剥離が容易であり更に剥
離した界面がより綺麗に形成される。又、パラフィン層
５は材料を溶剤に溶解して液状にして塗工した後、溶剤
を揮発させてマスクを剥離する方法で形成することもで
きる。尚、この場合にも上記と同様に、溶剤が完全に揮
発してパラフィン層５が完全に固まる前にマスクを剥離
するのが好ましい。パラフィン層５の厚みは特に限定さ
れないが、通常0.５mm程度に形成するのがフッ化水素に
対する耐性やパターン形成が容易である点などの理由か
ら好ましい。
【０００７】図２は本発明方法を用いて製造した製品の
１例を示す外観斜視図であり、図２の製品は加速度計で
ある。図示した加速度計１０は中央部１１が肉薄に形成
されているものであり、図２に示す点線で示した部分を
本発明エッチング方法を用いて製造したものである。図
３は図２に示す加速度計１０を本発明方法を用いてエッ
チングを行う工程を示す説明図であり、図２におけるＡ
−Ａ線縦断面を示している。上記の加速度計１０の点線
部分のエッチング加工は、先ず図３（ａ）に示す如く一
方の面の全面に金を蒸着して金薄膜層２を形成する。次
に石英からなる基材１２の肉薄に形成する部分に粘着テ
ープ１３を用いて金薄膜層２の上からマスキングを行
い、更に金薄膜層２と粘着テープ１３の上から全面にパ
ラフィンを溶融して塗布し、パラフィンが半固体状にな
り完全に固化する前に粘着テープ１３を剥離する。他の
一方の面についても、上記と同様の操作を繰り返して金
薄膜層２とパラフィン層５を設け、側面をパラフィン層
５で覆う。次に金薄膜層２の粘着テープ１３でマスキン
グした部分（パラフィン層を形成しないエッチングしよ
うとする部分）を王水によりエッチングして除去し、同
図（ｂ）に示すようにエッチングパターンを形成した
後、フッ化水素溶液に浸漬して深さＤが0.３mmになるま
で両側からエッチングを行い、先ずパラフィン層５を溶
剤で除去し次に金薄膜層２を王水で順次除去して、肉薄
部が２０〜３０μｍ程度の厚さに形成した加速度計を得
た〔図３（ｃ）〕。
１例を示す外観斜視図であり、図２の製品は加速度計で
ある。図示した加速度計１０は中央部１１が肉薄に形成
されているものであり、図２に示す点線で示した部分を
本発明エッチング方法を用いて製造したものである。図
３は図２に示す加速度計１０を本発明方法を用いてエッ
チングを行う工程を示す説明図であり、図２におけるＡ
−Ａ線縦断面を示している。上記の加速度計１０の点線
部分のエッチング加工は、先ず図３（ａ）に示す如く一
方の面の全面に金を蒸着して金薄膜層２を形成する。次
に石英からなる基材１２の肉薄に形成する部分に粘着テ
ープ１３を用いて金薄膜層２の上からマスキングを行
い、更に金薄膜層２と粘着テープ１３の上から全面にパ
ラフィンを溶融して塗布し、パラフィンが半固体状にな
り完全に固化する前に粘着テープ１３を剥離する。他の
一方の面についても、上記と同様の操作を繰り返して金
薄膜層２とパラフィン層５を設け、側面をパラフィン層
５で覆う。次に金薄膜層２の粘着テープ１３でマスキン
グした部分（パラフィン層を形成しないエッチングしよ
うとする部分）を王水によりエッチングして除去し、同
図（ｂ）に示すようにエッチングパターンを形成した
後、フッ化水素溶液に浸漬して深さＤが0.３mmになるま
で両側からエッチングを行い、先ずパラフィン層５を溶
剤で除去し次に金薄膜層２を王水で順次除去して、肉薄
部が２０〜３０μｍ程度の厚さに形成した加速度計を得
た〔図３（ｃ）〕。
【０００８】
【発明の効果】以上説明したように本発明方法は、金薄
膜層とパラフィン層とからなるパターンを形成した後
に、フッ化水素を用いたエッチングを行う方法を採用し
たことにより、従来のレジストパターンを形成した後に
エッチングを行う方法に比較して、パラフィン層はレジ
スト層に比較して非常にフッ化水素に対する耐性が良好
であり、エッチングを深く行うために長時間フッ化水素
に浸漬した場合でも、パラフィン層はフッ化水素酸によ
って侵されることがないために１mm程度の深いエッチン
グが可能である効果を有する。更に、本発明方法は金薄
膜層を先ず全面に形成した上にマスクを用いてパラフィ
ン層を形成した後、マスクを剥離して王水でエッチング
部分の金薄膜層を除去する方法を採用しているために、
パラフィン層のみでエッチングパターンを形成する方法
に比較して、パターンを精度良く形成することができ
る。又、本発明エッチング加工方法はエッチングパター
ンの形成に特別に複雑な操作を必要としないため、加工
作業性を低下させないで、精度の良いパターンを設ける
ことができる。
膜層とパラフィン層とからなるパターンを形成した後
に、フッ化水素を用いたエッチングを行う方法を採用し
たことにより、従来のレジストパターンを形成した後に
エッチングを行う方法に比較して、パラフィン層はレジ
スト層に比較して非常にフッ化水素に対する耐性が良好
であり、エッチングを深く行うために長時間フッ化水素
に浸漬した場合でも、パラフィン層はフッ化水素酸によ
って侵されることがないために１mm程度の深いエッチン
グが可能である効果を有する。更に、本発明方法は金薄
膜層を先ず全面に形成した上にマスクを用いてパラフィ
ン層を形成した後、マスクを剥離して王水でエッチング
部分の金薄膜層を除去する方法を採用しているために、
パラフィン層のみでエッチングパターンを形成する方法
に比較して、パターンを精度良く形成することができ
る。又、本発明エッチング加工方法はエッチングパター
ンの形成に特別に複雑な操作を必要としないため、加工
作業性を低下させないで、精度の良いパターンを設ける
ことができる。
【図１】本発明方法の１例の工程を示す説明図である。
【図２】本発明方法を用いて製造した製品の１例を示す
外観斜視図である。
外観斜視図である。
【図３】本発明方法を用いて図２に示す製品を製造する
際の工程を示す説明図である。
際の工程を示す説明図である。
１ ガラス系素材 ２ 金薄膜層 ３ マスクシート ５ パラフィン層 ７ エッチングパターン ８ 凹凸パターン １３ 粘着テープ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】ガラス系素材へエッチングパターンを形成
した後、フッ化水素を用いエッチングを行い素材表面に
凹凸パターンを設けるエッチング加工方法において、ガ
ラス系素材のエッチング面の全面に金薄膜層を形成し、
上記金薄膜層のエッチング部分をマスクして該エッチン
グ部分以外にパラフィン系塗膜からなるパラフィン層を
設けた後、エッチング部分の金薄膜層を除去し、金薄膜
層とパラフィン層とからなるエッチングパターンを形成
した後フッ化水素を用いて所望の深さにエッチングを行
い、しかる後パラフィン層と金薄膜層を除去して凹凸パ
ターンを設けることを特徴とするガラス系素材のエッチ
ング加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17317691A JPH05832A (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | ガラス系素材のエツチング加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17317691A JPH05832A (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | ガラス系素材のエツチング加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05832A true JPH05832A (ja) | 1993-01-08 |
Family
ID=15955504
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17317691A Pending JPH05832A (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | ガラス系素材のエツチング加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05832A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100244802B1 (ko) * | 1997-12-26 | 2000-02-15 | 정몽규 | 내마모성이 우수한 발수코팅유리 |
| WO2008123650A1 (en) * | 2007-04-05 | 2008-10-16 | Korea Institute Of Machinery And Materials | Preparation of super water repellent surface |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5319315A (en) * | 1976-08-09 | 1978-02-22 | Mitsubishi Electric Corp | Method of etching |
| JPH01172241A (ja) * | 1987-11-06 | 1989-07-07 | Seiko Instr & Electron Ltd | 石英ガラスのエッチング方法 |
-
1991
- 1991-06-18 JP JP17317691A patent/JPH05832A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5319315A (en) * | 1976-08-09 | 1978-02-22 | Mitsubishi Electric Corp | Method of etching |
| JPH01172241A (ja) * | 1987-11-06 | 1989-07-07 | Seiko Instr & Electron Ltd | 石英ガラスのエッチング方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100244802B1 (ko) * | 1997-12-26 | 2000-02-15 | 정몽규 | 내마모성이 우수한 발수코팅유리 |
| WO2008123650A1 (en) * | 2007-04-05 | 2008-10-16 | Korea Institute Of Machinery And Materials | Preparation of super water repellent surface |
| US8216483B2 (en) | 2007-04-05 | 2012-07-10 | Korea Institute Of Machinery And Materials | Preparation of super water repellent surface |
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