JPH0582494A

JPH0582494A - 基板搬送装置

Info

Publication number: JPH0582494A
Application number: JP23925291A
Authority: JP
Inventors: Kazu Imazeki; 和今関
Original assignee: Hitachi Device Engineering Co Ltd; Hitachi Ltd; Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Consumer Electronics Co Ltd; Japan Display Inc
Priority date: 1991-09-19
Filing date: 1991-09-19
Publication date: 1993-04-02

Abstract

(57)【要約】【目的】処理槽を貫通するようななシール軸受等を必
要とせず、また電動のモータを駆動源としないで基板を
搬送する。【構成】基板（８）を載置するローラ部（６１，６
１’）と、ローラ部（６１，６１’）の少なくとも一方
に併設固定された羽根部（２）とを有すると共に、羽根
部（２）に対して液体を噴出する噴出ノズル（３）を対
峙させてなり、噴出ノズル（３）から噴出される液体に
よる羽根部（２）を回転させて搬送ローラの駆動源とし
た。【効果】処理槽内に駆動機構を設置する必要がないた
め、塵埃等の発生が皆無であり、搬送ローラのシール軸
受などに液漏れ防止対策を施す必要がない。処理槽に動
力供給のための電気配線を必要とせず、全体として搬送
機構の構造が単純化できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、平板状の基板を第１の
位置から第２の位置に搬送する基板搬送装置に係り、特
に半導体製造あるいは液晶表示素子製造におけるウエハ
あるいはガラス基板の液体スプレー処理装置など、所謂
ウェット処理装置における基板搬送装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハあるいは液晶表示素子のガ
ラス基板等の基板（以下、基板と称する）を洗浄あるい
は薬液処理する，所謂ウェット処理装置における処理ス
テーション内あるいは処理ステーション間の基板搬送，
すなわち枚葉式基板搬送では、基板を搬送するための駆
動源として処理槽外部に設置したモータを用い、このモ
ータにより処理槽内の搬送ローラを駆動して当該搬送ロ
ーラに載置した基板を第１の位置から第２の位置に搬送
するのが一般的である。

【０００３】図１２は従来のローラ式基板搬送装置を説
明する要部断面図であって、３は処理液スプレーノズ
ル、４は処理液、５，５’は処理槽に貫通固定した軸受
け、６，６’は軸受けで指示された搬送ローラ対、７は
回転軸、８は搬送対象である基板、１２は処理槽、２０
は処理槽１２の外部に設置した駆動モータ、２１は同じ
く処理槽の外部に設置した駆動伝達機構である。

【０００４】基板８は複数の搬送ローラ対６，６’に載
置されて処理槽の入側から出側に（図の紙面に垂直な方
向）に搬送される。この搬送途上でスプレー３からスプ
レーされる純水あるいは薬液で洗浄処理あるいは所要の
薬液処理が施される。対をなす搬送ローラ６，６’は、
駆動モータ２０の駆動力をプーリまたはスプロケットホ
イールあるいは駆動ベルトまたはチェーンなどからなる
駆動機構２１介して回転される。

【０００５】この駆動モータ２０，駆動機構２１は処理
槽１２の外側に設置され、搬送ローラ６，６’を直接駆
動する回転軸７は処理槽１２の外壁を貫通しており、こ
の貫通部分をシール効果を有する軸受５で支持して処理
槽１２からの処理液の漏出を防止している。この種の従
来技術を開示したものとしては、例えば特開昭６２−３
５５３１号公報を挙げることができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ローラやベルトを用い
る基板搬送装置は、通常雰囲気で基板搬送を行うような
場合は特に問題とはならないが、基板を純水洗浄するた
めの洗浄装置、あるいはホトレジストの現像装置やエッ
チング装置等、水や薬液を使用する所謂ウエット処理装
置においては、前記図１２に示したように、モータ等の
駆動機構を水や薬品から保護するために処理槽外設置が
必要となり、使用する薬液によっては処理槽の前記シー
ル軸受部に特殊なシール部品を必要とする。そのため、
装置の構造が複雑となり価格も高いものにつく。

【０００７】更に、シールの磨耗等が異物（ゴミ）の発
生原因となり、製品歩留に影響を与え、この摩耗の結果
漏液が生じるという問題もある。また、モータを駆動源
とするために、液体を使用する処理槽は高度の電気絶縁
を施す必要があり、処理槽全体の構造を複雑にし、コス
トを上昇させるという問題があった。

【０００８】本発明の目的は上記従来技術の諸問題を解
消し、処理槽を貫通するようななシール軸受等を必要と
せず、また電動のモータを駆動源としない基板搬送装置
を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は羽根を有する搬送ローラと液体噴出ノズル
を用い、噴出される液体による羽根の回転を搬送ローラ
の駆動源として基板を搬送し、あるいは所定位置に停止
し、または移動量を調整する等の速度制御を行うことを
特徴とする。

【００１０】すなわち、本発明は、平板状の基板（８）
をウエット処理する液体処理槽（１２）中で前記基板を
複数の搬送ローラ対により第１の位置（例えば、処理槽
の入側）から第２の位置（例えば、処理槽の出側）に搬
送する基板搬送装置において、前記搬送ローラ対は前記
基板（８）を載置するローラ部（６１，６１’）と、前
記ローラ部（６１，６１’）の少なくとも一方に併設固
定された羽根部（２）とを有すると共に、前記羽根部
（２）に対して液体を噴出する噴出ノズル（３）を対峙
させてなり、前記噴出ノズル（３）から噴出される液体
による前記羽根部（２）の回転力を前記搬送ローラの駆
動源としたことを特徴とする。

【００１１】なお、羽根部（２）を有する搬送ローラ対
は相互に連結する回転軸（７）を用いることなく、それ
ぞれ処理槽（１２）の側壁に独立して設置され、それぞ
れの羽根部に対峙させて設けた噴出ノズルの液体噴出量
または噴出速度を制御して搬送姿勢をコントロールする
ようにも構成できる。さらに、液体噴出ノズルの一また
は複数対を処理槽とは独立した機枠に設置し、処理槽の
基板搬送方向に移動可能とする構成により基板を載置し
た搬送ローラのみを駆動する構成とすることも可能であ
る。

【００１２】

【作用】搬送ローラ対は基板の搬送方向に複数配置さ
れ、第１の位置（例えば、処理槽の入側）でそのローラ
部（６１，６１’）に基板（８）を載置する、ローラ部
（６１，６１’）の少なくとも一方に併設固定された羽
根部（２）は噴出ノズル（３）から噴出される液体によ
り回転される。この羽根部に固定的に併設されているロ
ーラ部は、羽根部（２）の回転で回転され、載置した基
板を第２の位置（例えば、処理槽の出側）方向に搬送す
る。このとき、液体の噴出量，あるいは噴出速度を制御
して基板の搬送速度をコントロールしたり、所定の場所
で基板を停止させることができる。

【００１３】羽根部（２）を有する搬送ローラ対をそれ
ぞれ処理槽（１２）の側壁に独立して設置して、それぞ
れの羽根部に対峙させて設けた噴出ノズルの液体噴出量
または噴出速度を制御することにより基板の搬送姿勢を
コントロールできる。さらに、液体噴出ノズルの一また
は複数対を処理槽とは独立した機枠に設置し、処理槽の
基板搬送方向に移動させることで基板を載置した搬送ロ
ーラのみを搬送に伴って順次回転させることによって噴
出液体を節約することも可能である。

【００１４】基板搬送の手段として羽根を有する搬送ロ
ーラと、搬送ローラに駆動力を与える噴出ノズルを利用
するため、処理装置内に全ての搬送機構を収容すること
が可能となる。装置そのものの構造が単純化でき、ま
た、処理槽内への部品持ち込みにより、槽内外の隔離用
のシールが不要となるため発塵の発生もない。

【００１５】

【実施例】以下、本発明の実施例につき、図面を参照し
て詳細に説明する。図１は本発明による基板搬送装置の
第１実施例を説明する概略断面図であって、１は羽根付
き搬送ローラ、２は羽根部、３は噴出ノズル、４は噴出
液体、５，５’は軸受け部、６は搬送ローラ、６１，６
１’はローラ部、７は回転軸、８は基板、１１は液量調
整用バルブ、１２は処理槽、１３は基板処理用の純水あ
るいは薬液を散布するためのスプレーノズルである。

【００１６】羽根付き搬送ローラ１および搬送ローラ６
はローラ対となるように回転軸７に固定されており、こ
の回転軸７は処理槽１２の側壁に設置した軸受け５，
５’で自由に回転するように支持されている。羽根付き
搬送ローラ１の羽根部２に対峙して設置した噴出ノズル
３から水もしくはスプレーノズル１３から散布される純
水あるいは薬液と同一液体（噴出液体４）を羽根部２に
噴射することにより、この羽根付き搬送ローラ１が回転
され、羽根付き搬送ローラ１のローラ部６１および搬送
ローラ６のローラ部６１’に載置された基板８が処理槽
１２の入側から出側方向に搬送される。

【００１７】このとき、液量調整用ノズル１１を制御す
ることで基板の搬送速度をコントロールでき、また基板
を所定位置に停止させることができる。なお、液量調整
用ノズル１１を制御することに変えて、羽根部２に対す
る噴出ノズル３の方向を変えて基板の搬送速度をコント
ロールし、あるいは基板を所定位置に停止させることも
できる。

【００１８】図２は図１に示した本発明による基板搬送
装置の実施例の要部側面図であって、噴出ノズル３から
羽根付き搬送ローラ１の羽根部２に噴射される液体は、
モータ９で駆動されるポンプ１０により供給される。こ
の噴出ノズル３からの液体の噴射により、図３に拡大し
て示したように羽根付き搬送ローラ１は図示の矢印Ａの
ように回転される。これにより、この羽根付き搬送ロー
ラ１に載置されている基板８は矢印Ｂ方向に搬送され
る。

【００１９】羽根付き搬送ローラ１は、基板を載置した
対またはその前後の限定された対のみを駆動するように
液量調整用バルブ１１を制御するようにしてもよい。図
４は図３に示した基板搬送機構部分を矢印Ｃ方向からみ
た正面図であって、基板８は羽根付き搬送ローラ１と搬
送ローラ６からなる搬送ローラ対のローラ部６１，６
１’上に載置される。羽根付き搬送ローラ１と搬送ロー
ラ６とは回転軸７に固定されており、羽根付き搬送ロー
ラ１の羽根部２に噴射される液体によって与えられる回
転力がこの回転軸７によって搬送ローラ６を羽根付き搬
送ローラ１と同時に回転させる構成とされている。

【００２０】この実施例によれば、搬送ローラ対の一方
の搬送ローラにのみ駆動源をもうけたため、噴射液の配
管等の構成を簡素化できる。図５は本発明による基板搬
送装置の第２の実施例を説明する第１図と同様の概略断
面図であって、上記第１実施例と同一符号は同一部分に
対応し、１，１’は各搬送ローラ対を構成する羽根付き
搬送ローラ、２，２’は羽根部、３，３’は液体噴出ノ
ズル、４，４’は噴出液体、１１，１１’は液量調整用
バルブである。

【００２１】この実施例では、搬送方向に沿って複数設
けられた搬送ローラ対の各搬送ローラを羽根付き搬送ロ
ーラ１，１’としたものであり、それぞれの羽根部２，
２’に対峙させて噴出ノズル３，３’および液量調整バ
ルブ１１，１１’を設けたものである。なお、この液量
調整バルブは共通の一個としてもよいことは言うまでも
ないが、搬送される基板８の姿勢を細かく制御するには
それぞれの噴出バルブ３，３’ごとに図示のごとく液量
調整バルブ１１，１１’を備えることが望ましい。

【００２２】この実施例によれば、搬送ローラに対して
均等に回転力を与えることができるため、よりスムーズ
に基板を搬送することができる。図６は本発明による基
板搬送装置の第３の実施例を説明する前記図１と同様の
断面図であり、また図７はその上面図である。同各図に
おいて、前記各実施例と同一符号は同一部分に対応し、
１４は噴出ノズル支持機構、１５は噴出ノズル移動機
構、１６は装置機枠、１７は液体分配部である。

【００２３】この実施例は、搬送ローラを処理槽１２に
取付けずに、この処理槽１２とは別個の噴出ノズル支持
機構１４で支持したものである。噴出ノズル３，３’
は、噴出ノズル支持機構１４でその互いに対向する方向
に相互の間隔Ｌを可変としてあり、液体分配部１７から
液体が分配され、処理する基板８の各種サイズに応じて
位置設定された搬送ローラ対の羽根部２，２’に液体が
噴出されるように調整される。

【００２４】噴出ノズル移動機構１５は、装置機枠１６
に設置されて基板８の搬送方向に移動可能とされ、この
噴出ノズル移動機構１５の移動に伴って基板８が所定の
方向に移動する。なお、この噴出ノズル移動機構１５に
換えて、多数の噴出ノズルを基板搬送方向に沿って配置
してもよい。

【００２５】この実施例によれば、処理槽１２には基板
搬送のための機構を設置する必要がなく、処理槽１２の
みを交換することで各種のウエット処理装置として機能
させることが可能である。図８，図９および図１０は本
発明による基板搬送装置の上記各実施例に用いられる搬
送ローラを構成する羽根部の一例を示す詳細図であり、
図８は全体側面図、図９は図８のＤ部拡大図、図１０は
図８の側面図である。

【００２６】同各図におて、羽根部２（２’）はこの例
では８枚の羽根２１とこの羽根２１を横面で横断的に連
結する側壁２２および軸部２３を有し、軸部２３におけ
る羽根２１間の形状を略々円状の曲面２４に形成されて
いる。側壁２２は前記ローラ部６１（６１’）とは反対
側に設けられ、噴出液体４が羽根２１に対して有効に作
用するように機能する。なお、この側壁２２は前記ロー
ラ部６１（６１’）側にも設けることができる。

【００２７】羽根部２（２’）の寸法例は図示したとお
り（単位はｍｍ）であるが、これに限らないことは言う
までもない。図１１は図６，図７における羽根付き搬送
ローラの組み付け構造を説明する断面図であって、５０
は噴出ノズル支持機構１４に固定された軸受け５
（５’）に搬送ローラを自由回転に支持するベアリン
グ、５１はローラ部６１（６１’）と羽根部２（２’）
を固定する固定シャフトである。

【００２８】なお、羽根付き搬送ローラは図１１に示し
た組み付け構造に限らず、既知の組み付け手段を採用し
てもよいものである。

【００２９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
水あるいはその他の液体を使用する基板のウエット処理
装置において、該基板を搬送するための搬送部品を全て
処理槽内にまたは処理槽とは別個に設置可能とすたた
め、従来のように処理槽の側壁に貫通させる部品が不要
となり、搬送ローラのシール軸受などに液漏れ防止対策
を施す必要がない。そのため、シール部分からの発塵及
び漏液の問題が皆無となると共に、搬送ローラの駆動源
を液体を用いた，所謂水車の如き機構を採用したため、
処理槽に動力供給のための電気配線を必要とせず、全体
として搬送機構の構造が単純化できるため、装置価格も
低減できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による基板搬送装置の第１実施例を説明
する概略断面図である。

【図２】図１に示した本発明による基板搬送装置の実施
例の要部側面図である。

【図３】本発明による基板搬送装置の第１実施例におけ
る基板搬送機構部分の側面図である。

【図４】図３に示した基板搬送機構部分を矢印Ｃ方向か
らみた正面図である。

【図５】本発明による基板搬送装置の第２の実施例を説
明する第１図と同様の概略断面図である。

【図６】本発明による基板搬送装置の第３の実施例を説
明する前記図１と同様の断面図である。

【図７】本発明による基板搬送装置の第３の実施例を説
明する図６の上面図である。

【図８】本発明による基板搬送装置の各実施例に用いら
れる搬送ローラを構成する羽根部の一例を示す全体側面
図である。

【図９】本発明による基板搬送装置の各実施例に用いら
れる搬送ローラを構成する羽根部の一例を示す図８のＤ
部拡大図である。

【図１０】本発明による基板搬送装置の各実施例に用い
られる搬送ローラを構成する羽根部の一例を示す図８の
側面図である。

【図１１】本発明の第３の実施例における羽根付き搬送
ローラの組み付け構造を説明する断面図である。

【図１２】従来のローラ式基板搬送装置を説明する要部
断面図である。

【符号の説明】

１・・・羽根付き搬送ローラ、２・・・羽根部、３・・
・噴出ノズル、４・・・噴出液体、５・・・軸受け部、
６・・・搬送ローラ、７・・・回転軸、８・・・基板、
１１・・・液量調整用バルブ、１２・・・処理槽、１３
・・・スプレーノズル。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】平板状の基板をウエット処理する液体処理
槽中で前記基板を複数の搬送ローラ対により第１の位置
から第２の位置に搬送する基板搬送装置において、前記搬送ローラ対は前記基板を載置するローラ部と、前
記ローラ部の少なくとも一方に併設固定された羽根部と
を有すると共に、前記羽根部に対して液体を噴出する噴
出ノズルを対峙させてなり、前記噴出ノズルから噴出さ
れる液体による前記羽根部の回転力を前記搬送ローラの
駆動源としたことを特徴とする基板搬送装置。