JPH0578876A - 真空洗浄方法と装置 - Google Patents
真空洗浄方法と装置Info
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- JPH0578876A JPH0578876A JP24608991A JP24608991A JPH0578876A JP H0578876 A JPH0578876 A JP H0578876A JP 24608991 A JP24608991 A JP 24608991A JP 24608991 A JP24608991 A JP 24608991A JP H0578876 A JPH0578876 A JP H0578876A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】良好な洗浄効果が得られる上に気化した有機溶
剤が大気中に拡散して消費するのを防止し、無公害、安
全で経済的な洗浄方法と装置を提供する。 【構成】密閉の洗浄槽２内を真空ポンプＶＰ1 ＶＰ2 を
作動して真空にし、電磁弁９を開けて洗浄槽２内へ洗浄
液タンク２０の洗浄液を供給するとともに加熱コイル５
で加熱して沸騰させ、ワークを煮沸洗浄した後、その沸
騰洗浄液を排液ポンプＰを作動して洗浄液タンク２０へ
戻し、次いで清浄液タンク２５の清浄な洗浄液を噴射ノ
ズル７から噴射してシャワー洗浄してから真空乾燥を行
ない、真空の洗浄槽２内で煮沸洗浄とシャワー洗浄した
ワークを真空乾燥するようにした真空洗浄装置１。
剤が大気中に拡散して消費するのを防止し、無公害、安
全で経済的な洗浄方法と装置を提供する。 【構成】密閉の洗浄槽２内を真空ポンプＶＰ1 ＶＰ2 を
作動して真空にし、電磁弁９を開けて洗浄槽２内へ洗浄
液タンク２０の洗浄液を供給するとともに加熱コイル５
で加熱して沸騰させ、ワークを煮沸洗浄した後、その沸
騰洗浄液を排液ポンプＰを作動して洗浄液タンク２０へ
戻し、次いで清浄液タンク２５の清浄な洗浄液を噴射ノ
ズル７から噴射してシャワー洗浄してから真空乾燥を行
ない、真空の洗浄槽２内で煮沸洗浄とシャワー洗浄した
ワークを真空乾燥するようにした真空洗浄装置１。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、電子部品、電気機器
部品、精密機械部品等を有機溶剤の洗浄液で真空洗浄す
る方法と装置に関する。
部品、精密機械部品等を有機溶剤の洗浄液で真空洗浄す
る方法と装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の有機溶剤の洗浄液によるワーク
（被洗浄物）の洗浄は、浸漬洗浄法と蒸気洗浄法が行な
われており、例えば、図３の簡略断面図に示す洗浄装置
が用いられている。
（被洗浄物）の洗浄は、浸漬洗浄法と蒸気洗浄法が行な
われており、例えば、図３の簡略断面図に示す洗浄装置
が用いられている。
【０００３】この洗浄装置は、３区画に画成した洗浄槽
５０を設け、第１槽は超音波発生装置５１を備えた温液
超音波侵漬槽５２、第２槽は冷液侵漬槽５３、第３槽は
加熱ヒータ５５を有する蒸気洗浄槽５４としていた。
５０を設け、第１槽は超音波発生装置５１を備えた温液
超音波侵漬槽５２、第２槽は冷液侵漬槽５３、第３槽は
加熱ヒータ５５を有する蒸気洗浄槽５４としていた。
【０００４】そして、ワークの出し入れに邪魔にならな
いように洗浄槽５０の上方の内周に冷却コイル５６を配
設してここに冷水を流し、気化した有機溶剤を凝縮液化
して、溶剤を再び洗浄槽５０へ戻すようにしていた。
いように洗浄槽５０の上方の内周に冷却コイル５６を配
設してここに冷水を流し、気化した有機溶剤を凝縮液化
して、溶剤を再び洗浄槽５０へ戻すようにしていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の洗浄装
置は、上部が開放した洗浄装置５０に有機溶剤の洗浄液
を貯えているので、その表面から気化した溶剤が大気中
に拡散して次第に減少し、ランニングコストを高価にす
るとともに環境を汚染する問題がある。通常、洗浄に使
用されている溶剤の７０％以上が大気中への拡散で消費
されていると言われており、この拡散防止が大きな課題
になっている。
置は、上部が開放した洗浄装置５０に有機溶剤の洗浄液
を貯えているので、その表面から気化した溶剤が大気中
に拡散して次第に減少し、ランニングコストを高価にす
るとともに環境を汚染する問題がある。通常、洗浄に使
用されている溶剤の７０％以上が大気中への拡散で消費
されていると言われており、この拡散防止が大きな課題
になっている。
【０００６】フッソ系の有機溶剤であるフロンは、耐熱
性、不燃性に優れ、引火性や腐食性、毒性がないという
特徴があるので、電子部品等の洗浄剤として多用されて
いるが、フロンは大気中に放出されても分解されずに蓄
積し、１０年近くかかって成層圏まで拡散していく。成
層圏に達したフロンは紫外線により分解されて次々とオ
ゾンを破壊する塩素原子を放出する。このオゾンホール
は地球の環境汚染の重大な問題であり、１９８９年１月
１日発効の「オゾンを減少させる物質に関するモントリ
オール議定書」により、１９９９年には原則として生産
量、消費量ともに１９８６年の５０％以下に規制すると
決められており、２０００年には全面的に廃止すること
が決定されている。
性、不燃性に優れ、引火性や腐食性、毒性がないという
特徴があるので、電子部品等の洗浄剤として多用されて
いるが、フロンは大気中に放出されても分解されずに蓄
積し、１０年近くかかって成層圏まで拡散していく。成
層圏に達したフロンは紫外線により分解されて次々とオ
ゾンを破壊する塩素原子を放出する。このオゾンホール
は地球の環境汚染の重大な問題であり、１９８９年１月
１日発効の「オゾンを減少させる物質に関するモントリ
オール議定書」により、１９９９年には原則として生産
量、消費量ともに１９８６年の５０％以下に規制すると
決められており、２０００年には全面的に廃止すること
が決定されている。
【０００７】更に従来の洗浄装置においては、洗浄液を
第１槽で加熱、第２槽で冷却、第３層で加熱するのであ
るから、効率が悪くエネルギーの損失が大きい上に、第
２槽で冷却したワークを蒸気によって仕上洗浄と乾燥を
行なっているので蒸気洗浄に長時間を費やし、作業能率
も悪い。
第１槽で加熱、第２槽で冷却、第３層で加熱するのであ
るから、効率が悪くエネルギーの損失が大きい上に、第
２槽で冷却したワークを蒸気によって仕上洗浄と乾燥を
行なっているので蒸気洗浄に長時間を費やし、作業能率
も悪い。
【０００８】そして、表面積の大きい薄板状のワークを
蒸気洗浄すると、ワークが短時間で蒸気温度に達するの
で蒸気による仕上洗浄が充分行なわれない。又、凹みの
あるワークを蒸気洗浄すると凹みに溜った凝縮液がその
ままワークとともに取り出される。この場合には溶剤の
損失だけでなく、取り出したワークの近くに熱源がある
と凝縮液の溶剤が分解して塩素ガスが発生する。塩素ガ
スは人体に猛毒である上にワークや建物等まで腐食する
ので大きな損失を招くことになる。
蒸気洗浄すると、ワークが短時間で蒸気温度に達するの
で蒸気による仕上洗浄が充分行なわれない。又、凹みの
あるワークを蒸気洗浄すると凹みに溜った凝縮液がその
ままワークとともに取り出される。この場合には溶剤の
損失だけでなく、取り出したワークの近くに熱源がある
と凝縮液の溶剤が分解して塩素ガスが発生する。塩素ガ
スは人体に猛毒である上にワークや建物等まで腐食する
ので大きな損失を招くことになる。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この発明は斯かる従来の
課題を総て解消するものであって、本発明の洗浄方法
は、密閉の洗浄槽にワークを入れて減圧し、真空の洗浄
槽に洗浄液タンクの洗浄液を供給するとともに洗浄液を
加熱して沸騰させ、ワークを煮沸洗浄した後、その沸騰
洗浄液を前記洗浄液タンクに戻し、次いで清浄な洗浄液
をワークに噴射してシャワー洗浄してから真空乾燥を行
ない、真空の洗浄槽内で煮沸洗浄とシャワー洗浄したワ
ークを真空乾燥することを特徴とするものである。
課題を総て解消するものであって、本発明の洗浄方法
は、密閉の洗浄槽にワークを入れて減圧し、真空の洗浄
槽に洗浄液タンクの洗浄液を供給するとともに洗浄液を
加熱して沸騰させ、ワークを煮沸洗浄した後、その沸騰
洗浄液を前記洗浄液タンクに戻し、次いで清浄な洗浄液
をワークに噴射してシャワー洗浄してから真空乾燥を行
ない、真空の洗浄槽内で煮沸洗浄とシャワー洗浄したワ
ークを真空乾燥することを特徴とするものである。
【００１０】又、本発明の洗浄装置は、洗浄液加熱コイ
ルと噴射ノズルを備えた密閉可能の蓋付洗浄槽と、洗浄
液を洗浄槽内へ供給．排出可能に接続した洗浄液タンク
と、洗浄後の汚れた洗浄液を清浄液に再生させる蒸留塔
と、排気を凝縮液化して有機溶剤を回収するベントコン
デンサを備えた清浄液タンクを配設し、前記洗浄槽と蒸
留塔を真空ポンプを介して接続して、真空の洗浄槽内で
煮沸洗浄とシャワー洗浄したワークを真空乾燥するよう
に構成したことを特徴とする真空洗浄装置である。
ルと噴射ノズルを備えた密閉可能の蓋付洗浄槽と、洗浄
液を洗浄槽内へ供給．排出可能に接続した洗浄液タンク
と、洗浄後の汚れた洗浄液を清浄液に再生させる蒸留塔
と、排気を凝縮液化して有機溶剤を回収するベントコン
デンサを備えた清浄液タンクを配設し、前記洗浄槽と蒸
留塔を真空ポンプを介して接続して、真空の洗浄槽内で
煮沸洗浄とシャワー洗浄したワークを真空乾燥するよう
に構成したことを特徴とする真空洗浄装置である。
【００１１】
【作用】この発明に係る洗浄方法と装置では、ワークは
密閉の真空洗浄槽で洗浄され、洗浄後の洗浄液は密閉の
洗浄液タンクに戻されて貯えられるのであるから気化し
た溶剤が大気中に拡散することはない。
密閉の真空洗浄槽で洗浄され、洗浄後の洗浄液は密閉の
洗浄液タンクに戻されて貯えられるのであるから気化し
た溶剤が大気中に拡散することはない。
【００１２】ワークは真空排気された後、溶剤の洗浄液
に浸漬されるので微少隙間まで溶剤が浸透する。その洗
浄液が真空下で加熱されるので低温で沸騰し、ワークは
溶剤の激しい撹拌と泡の発泡と消泡のバブル現象の煮沸
で洗浄されるので油脂等の汚れは完全に溶解される。
に浸漬されるので微少隙間まで溶剤が浸透する。その洗
浄液が真空下で加熱されるので低温で沸騰し、ワークは
溶剤の激しい撹拌と泡の発泡と消泡のバブル現象の煮沸
で洗浄されるので油脂等の汚れは完全に溶解される。
【００１３】そして万一洗浄後に洗浄液がワ〜クの凹み
等に溜っていても、真空乾燥の際に沸騰して蒸発するの
で乾燥が確実に行なわれる。
等に溜っていても、真空乾燥の際に沸騰して蒸発するの
で乾燥が確実に行なわれる。
【００１４】
【実施例】以下、この発明の真空洗浄装置１の一実施例
を図面に基づいて説明する。
を図面に基づいて説明する。
【００１５】洗浄槽２は、槽本体３の上端部に蓋４が上
方に旋回自在に取付けられていて、蓋４を閉めたときに
は洗浄槽２が密閉される。洗浄槽２の下方の内周に温水
で加熱される加熱コイル５を設け、槽底に洗浄液排出用
電磁弁６が取付けてある。
方に旋回自在に取付けられていて、蓋４を閉めたときに
は洗浄槽２が密閉される。洗浄槽２の下方の内周に温水
で加熱される加熱コイル５を設け、槽底に洗浄液排出用
電磁弁６が取付けてある。
【００１６】洗浄槽２の上方の内周に設けた噴射ノズル
７が洗浄液注入用電磁弁８と連結されている。洗浄槽２
の上方には洗浄液供給用電磁弁９、蒸気排出用電磁弁１
０、排気用電磁弁１１、大気導入用電磁弁１２が取付け
てある。
７が洗浄液注入用電磁弁８と連結されている。洗浄槽２
の上方には洗浄液供給用電磁弁９、蒸気排出用電磁弁１
０、排気用電磁弁１１、大気導入用電磁弁１２が取付け
てある。
【００１７】密閉の蒸留塔１４の上方に冷却コイル１５
の冷水によって蒸気を凝縮液化するコンデンサ１６を連
設し、下方には洗浄液を加熱する加熱コイル１７が設け
てある。蒸留塔１４内の洗浄液が蒸発して水位が低くな
ると、液面スイッチ１８の検知によって制御弁１９が開
いて洗浄液タンク２０の洗浄液が蒸留塔１４内へ供給さ
れ、所定の水位（図１の状態）になると、液面スイッチ
１８の検知指令によって制御弁１９が閉じるようになっ
ている。
の冷水によって蒸気を凝縮液化するコンデンサ１６を連
設し、下方には洗浄液を加熱する加熱コイル１７が設け
てある。蒸留塔１４内の洗浄液が蒸発して水位が低くな
ると、液面スイッチ１８の検知によって制御弁１９が開
いて洗浄液タンク２０の洗浄液が蒸留塔１４内へ供給さ
れ、所定の水位（図１の状態）になると、液面スイッチ
１８の検知指令によって制御弁１９が閉じるようになっ
ている。
【００１８】蒸留塔のコンデンサ１６で凝縮液化された
再生洗浄液は、樋２１に集められてコンデンサ１６に設
けた電磁弁２２から流出する。蒸留塔１４の底部には塔
内に濃縮した油脂等の混合汚液を取り出す汚液排出弁２
３が取付けてある。
再生洗浄液は、樋２１に集められてコンデンサ１６に設
けた電磁弁２２から流出する。蒸留塔１４の底部には塔
内に濃縮した油脂等の混合汚液を取り出す汚液排出弁２
３が取付けてある。
【００１９】密閉の清浄液タンク２５の上方に冷却コイ
ル２６の冷水で凝縮液化するベントコンデンサ２７を連
設し、ベントコンデンサ２７で液化した清浄な洗浄液が
清浄液タンク２５に貯留されるようになっている。清浄
液タンク２５と洗浄液タンク２０を溢流導管２８で接続
し、清浄液タンク２５から溢れた清浄な洗浄液が、洗浄
液タンク２０に流下するようになっている。
ル２６の冷水で凝縮液化するベントコンデンサ２７を連
設し、ベントコンデンサ２７で液化した清浄な洗浄液が
清浄液タンク２５に貯留されるようになっている。清浄
液タンク２５と洗浄液タンク２０を溢流導管２８で接続
し、清浄液タンク２５から溢れた清浄な洗浄液が、洗浄
液タンク２０に流下するようになっている。
【００２０】３０Ａ、３０Ｂは、活性炭を充填した２塔
式吸着塔で、吸着塔３０Ａ、３０Ｂ内に配設したコイル
３１Ａ、３１Ｂの一方には冷水を流して冷却コイルと
し、他方には温水を流して加熱コイルとして使用され
る。吸着塔３０Ａ、３０Ｂには、排気吸入用電磁弁３２
Ａ、３２Ｂ、溶剤吸出用電磁弁３３Ａ、３３Ｂと空気放
出用電磁弁３４Ａ、３４Ｂが取付けてある。
式吸着塔で、吸着塔３０Ａ、３０Ｂ内に配設したコイル
３１Ａ、３１Ｂの一方には冷水を流して冷却コイルと
し、他方には温水を流して加熱コイルとして使用され
る。吸着塔３０Ａ、３０Ｂには、排気吸入用電磁弁３２
Ａ、３２Ｂ、溶剤吸出用電磁弁３３Ａ、３３Ｂと空気放
出用電磁弁３４Ａ、３４Ｂが取付けてある。
【００２１】排気吸入用電磁弁３２Ａ、３２Ｂと前記ベ
ントコンデンサ２７を排気導管３５で接続し、溶剤吸出
用電磁弁３３Ａ、３３Ｂとベントコンデンサ２７を真空
ポンプＶＰ1 、高真空ポンプＶＰ2 を介して導管３６、
３７、３８で接続されていて、真空ポンプＶＰ1 ＶＰ2
を作動すると、気流が図１の矢印のように流れて排気中
に含まれている気化した溶剤が回収されるようになって
いる。
ントコンデンサ２７を排気導管３５で接続し、溶剤吸出
用電磁弁３３Ａ、３３Ｂとベントコンデンサ２７を真空
ポンプＶＰ1 、高真空ポンプＶＰ2 を介して導管３６、
３７、３８で接続されていて、真空ポンプＶＰ1 ＶＰ2
を作動すると、気流が図１の矢印のように流れて排気中
に含まれている気化した溶剤が回収されるようになって
いる。
【００２２】導管３６に洗浄槽２の排気用電磁弁１１の
導管を接続し、導管３７に蒸留塔１４の電磁弁２２を接
続する。そして洗浄槽２の蒸気排出用電磁弁１０と蒸留
塔のコンデンサ１６が導管３９で接続されていて、真空
ポンプＶＰ1、ＶＰ2 の駆動によって洗浄槽２内と蒸留塔
１４内が真空になる。
導管を接続し、導管３７に蒸留塔１４の電磁弁２２を接
続する。そして洗浄槽２の蒸気排出用電磁弁１０と蒸留
塔のコンデンサ１６が導管３９で接続されていて、真空
ポンプＶＰ1、ＶＰ2 の駆動によって洗浄槽２内と蒸留塔
１４内が真空になる。
【００２３】洗浄槽２の洗浄液供給用電磁弁９と洗浄液
タンク２０を洗浄液導管４０で接続し、洗浄液排出用電
磁弁６が排液ポンプＰを介して洗浄液導管４０に接続さ
れている。従って、電磁弁９を開けば洗浄液タンク２０
の洗浄液が洗浄槽２へ供給され、電磁弁６を開けて排液
ポンプＰを作動すると洗浄槽２内の洗浄後の洗浄液が洗
浄液タンクに戻される。
タンク２０を洗浄液導管４０で接続し、洗浄液排出用電
磁弁６が排液ポンプＰを介して洗浄液導管４０に接続さ
れている。従って、電磁弁９を開けば洗浄液タンク２０
の洗浄液が洗浄槽２へ供給され、電磁弁６を開けて排液
ポンプＰを作動すると洗浄槽２内の洗浄後の洗浄液が洗
浄液タンクに戻される。
【００２４】洗浄槽２の洗浄液注入用電磁弁８が清浄液
タンク２５とシャワー導管４２で接続されていて、電磁
弁８を開くと清浄液タンク２５の清純な洗浄液が噴射ノ
ズル７から噴射してワークをシャワー洗浄する。
タンク２５とシャワー導管４２で接続されていて、電磁
弁８を開くと清浄液タンク２５の清純な洗浄液が噴射ノ
ズル７から噴射してワークをシャワー洗浄する。
【００２５】蒸留塔１４の制御弁１９が前記洗浄液導管
４０と分岐導管４１で接続されていて、洗浄後の汚れた
洗浄液が洗浄液タンク２０から蒸留塔１４に送られて再
生され、清純になった洗浄液がベントコンデンサ２７、
清浄液タンク２５を経て洗浄液タンク２０に戻されるよ
うになっている。４５は洗浄するワークを保持するため
の金網状のバスケットである。
４０と分岐導管４１で接続されていて、洗浄後の汚れた
洗浄液が洗浄液タンク２０から蒸留塔１４に送られて再
生され、清純になった洗浄液がベントコンデンサ２７、
清浄液タンク２５を経て洗浄液タンク２０に戻されるよ
うになっている。４５は洗浄するワークを保持するため
の金網状のバスケットである。
【００２６】斯かる構成の真空洗浄装置１の作用を、ト
リクロエチレンの洗浄液でワークを洗浄する場合につい
て、図２を参照して説明する。
リクロエチレンの洗浄液でワークを洗浄する場合につい
て、図２を参照して説明する。
【００２７】トリクロエチレンの洗浄液で洗浄するとき
には、洗浄槽２の加熱コイル５、蒸留塔１４の加熱コイ
ル１７と一方の吸着塔例えば３０Ｂの加熱コイル３１Ｂ
は７５℃の温水で加熱され、ベントコンデンサ２７等の
冷却コイル１５、２６、３１Ａは冷水で冷却されてい
る。
には、洗浄槽２の加熱コイル５、蒸留塔１４の加熱コイ
ル１７と一方の吸着塔例えば３０Ｂの加熱コイル３１Ｂ
は７５℃の温水で加熱され、ベントコンデンサ２７等の
冷却コイル１５、２６、３１Ａは冷水で冷却されてい
る。
【００２８】洗浄するワークを入れたバスケット４５を
洗浄槽２内へ装入し、蓋４をして密閉にした後直ちに洗
浄槽２と蒸留塔１４内を真空にする。洗浄槽２の蒸気排
出用電磁弁１０、コンデンサ１６の電磁弁２２、吸着塔
３１Ａの排気吸入用電磁弁３２Ａ、空気放出用電磁弁３
４Ａ、吸着塔３１Ｂの溶剤吸出用電磁弁３３Ｂを開いて
真空ポンプＶＰ1 ＶＰ2 を作動して洗浄槽２内を約３０
Torrまで減圧する。
洗浄槽２内へ装入し、蓋４をして密閉にした後直ちに洗
浄槽２と蒸留塔１４内を真空にする。洗浄槽２の蒸気排
出用電磁弁１０、コンデンサ１６の電磁弁２２、吸着塔
３１Ａの排気吸入用電磁弁３２Ａ、空気放出用電磁弁３
４Ａ、吸着塔３１Ｂの溶剤吸出用電磁弁３３Ｂを開いて
真空ポンプＶＰ1 ＶＰ2 を作動して洗浄槽２内を約３０
Torrまで減圧する。
【００２９】真空ポンプＶＰ1 ＶＰ2 が作動すると図１
の矢印のように気流が流れ、真空ポンプの排気に含まれ
ていた溶剤は一方の吸着塔３０Ａの活性炭に吸着され、
清浄な空気だけが空気放出用電磁弁３４Ａから放出され
る。他方の吸着塔３０Ｂの活性炭に吸着されていた溶剤
は加熱吸引によって活性炭から脱離され、ベントコンデ
ンサ２７で凝縮液化されて清浄液タンク２５内へ回収さ
れる。
の矢印のように気流が流れ、真空ポンプの排気に含まれ
ていた溶剤は一方の吸着塔３０Ａの活性炭に吸着され、
清浄な空気だけが空気放出用電磁弁３４Ａから放出され
る。他方の吸着塔３０Ｂの活性炭に吸着されていた溶剤
は加熱吸引によって活性炭から脱離され、ベントコンデ
ンサ２７で凝縮液化されて清浄液タンク２５内へ回収さ
れる。
【００３０】約３０Torrに減圧され真空排気中の洗浄槽
２の洗浄液供給用電磁弁９を開けると、洗浄液タンク２
０内の洗浄液が洗浄槽２内へ供給される。所定量供給さ
れてバスケット４５のワークが浸漬すると（図１の仮想
線の水位）、図示しない液面スイッチに検知されて電磁
弁９が閉じられる。このときには、洗浄槽２内は約４０
０Torrの真空となり、洗浄液タンク２０の洗浄液は図１
の仮想線の水位まで下がる。
２の洗浄液供給用電磁弁９を開けると、洗浄液タンク２
０内の洗浄液が洗浄槽２内へ供給される。所定量供給さ
れてバスケット４５のワークが浸漬すると（図１の仮想
線の水位）、図示しない液面スイッチに検知されて電磁
弁９が閉じられる。このときには、洗浄槽２内は約４０
０Torrの真空となり、洗浄液タンク２０の洗浄液は図１
の仮想線の水位まで下がる。
【００３１】洗浄槽２内の洗浄液は加熱コイル５で加熱
されて昇温し、約６０℃になると約４００Torrの真空下
で激しく沸騰する。洗浄液の煮沸による激しい撹拌と、
泡の発泡、消泡のバブル現象でワークに付着していた油
脂等の汚れは完全に溶解される。
されて昇温し、約６０℃になると約４００Torrの真空下
で激しく沸騰する。洗浄液の煮沸による激しい撹拌と、
泡の発泡、消泡のバブル現象でワークに付着していた油
脂等の汚れは完全に溶解される。
【００３２】所定時間煮沸洗浄した後、洗浄槽２の蒸気
排出用電磁弁１０を閉じるとともに洗浄液排出用電磁弁
６を開けて排液ポンプＰを作動し、沸騰している洗浄液
を洗浄液タンク２０へ戻す。
排出用電磁弁１０を閉じるとともに洗浄液排出用電磁弁
６を開けて排液ポンプＰを作動し、沸騰している洗浄液
を洗浄液タンク２０へ戻す。
【００３３】洗浄槽２内の洗浄液を排液ポンプＰで排出
途中、又は全部排出したら洗浄液注入用電磁弁８を開け
て、噴射ノズル７から清浄液タンク５の清浄な洗浄液を
真空下のワークに噴射してシャワー洗浄する。シャワー
洗浄によってワークはきれいに仕上洗浄される。
途中、又は全部排出したら洗浄液注入用電磁弁８を開け
て、噴射ノズル７から清浄液タンク５の清浄な洗浄液を
真空下のワークに噴射してシャワー洗浄する。シャワー
洗浄によってワークはきれいに仕上洗浄される。
【００３４】洗浄槽２に洗浄液を供給して煮沸洗浄、シ
ャワー洗浄を行なっている間も、吸着塔３０Ｂの溶剤を
脱離させてベントコンデンサ２７で凝縮液化させる溶剤
の回収が行なわれているので、吸着塔３０Ｂの活性炭に
吸着されていた溶剤は殆ど全部回収され、清浄液タンク
２５の洗浄液は、純度の高い清浄な洗浄液となってい
る。
ャワー洗浄を行なっている間も、吸着塔３０Ｂの溶剤を
脱離させてベントコンデンサ２７で凝縮液化させる溶剤
の回収が行なわれているので、吸着塔３０Ｂの活性炭に
吸着されていた溶剤は殆ど全部回収され、清浄液タンク
２５の洗浄液は、純度の高い清浄な洗浄液となってい
る。
【００３５】シャワー洗浄が終ると排液ポンプＰを停止
し、洗浄液排出用電磁弁６、洗浄液注入用電磁弁８、コ
ンデンサ１６の電磁弁２２と吸着塔３０Ｂの溶剤吸出用
電磁弁３３Ｂを閉じ、洗浄槽２の排気用電磁弁１１を開
けて洗浄槽２内を真空ポンプＶＰ2 ＶＰ1 で高真空にし
て溶剤を気化蒸発させる。洗浄槽２内が１Torr程度迄減
圧したら排気用電磁弁１１を閉じるとともに大気又は不
活性ガス導入用電磁弁１２を開けて、約４００Torrまで
戻し、これを数回繰り返す。排気用電磁弁１１の開閉と
大気又は不活性ガス導入用電磁弁１２の閉開を数回繰り
返して乾燥すると、ワークと洗浄槽２内の完全な乾燥と
脱臭が迅速に行なわれる。
し、洗浄液排出用電磁弁６、洗浄液注入用電磁弁８、コ
ンデンサ１６の電磁弁２２と吸着塔３０Ｂの溶剤吸出用
電磁弁３３Ｂを閉じ、洗浄槽２の排気用電磁弁１１を開
けて洗浄槽２内を真空ポンプＶＰ2 ＶＰ1 で高真空にし
て溶剤を気化蒸発させる。洗浄槽２内が１Torr程度迄減
圧したら排気用電磁弁１１を閉じるとともに大気又は不
活性ガス導入用電磁弁１２を開けて、約４００Torrまで
戻し、これを数回繰り返す。排気用電磁弁１１の開閉と
大気又は不活性ガス導入用電磁弁１２の閉開を数回繰り
返して乾燥すると、ワークと洗浄槽２内の完全な乾燥と
脱臭が迅速に行なわれる。
【００３６】真空ポンプＶＰ2 の排気に含まれている溶
剤の一部は、ベントコンデンサ２７で凝縮液化して回収
され、残りの排気に含まれた溶剤の全部が吸着塔３０Ａ
の活性炭に吸着され、空気だけが空気放出用電磁弁３４
Ａから放出される。
剤の一部は、ベントコンデンサ２７で凝縮液化して回収
され、残りの排気に含まれた溶剤の全部が吸着塔３０Ａ
の活性炭に吸着され、空気だけが空気放出用電磁弁３４
Ａから放出される。
【００３７】乾燥の終りに大気導入用電磁弁の全開で洗
浄槽２内を大気圧に戻した後、蓋４を開けてワークを取
り出す。
浄槽２内を大気圧に戻した後、蓋４を開けてワークを取
り出す。
【００３８】以上のように煮沸洗浄、シャワー洗浄、真
空乾燥のサイクルを繰り返して多数のワークの洗浄が行
なわれるが、排気に含まれている溶剤は吸着塔３０Ａの
活性炭に吸着して回収され、洗浄槽２から洗浄液タンク
２０に戻された汚れた洗浄液は蒸留塔１４で再生されて
使用されるので、洗浄液タンク２０、清浄液タンク２５
内の洗浄液は長期間使用することができる。
空乾燥のサイクルを繰り返して多数のワークの洗浄が行
なわれるが、排気に含まれている溶剤は吸着塔３０Ａの
活性炭に吸着して回収され、洗浄槽２から洗浄液タンク
２０に戻された汚れた洗浄液は蒸留塔１４で再生されて
使用されるので、洗浄液タンク２０、清浄液タンク２５
内の洗浄液は長期間使用することができる。
【００３９】蒸留塔１４の底部に濃縮した油脂等の混合
汚液は、定期的に（例えば月１〜２回程度）汚液排出弁
２３を開けて排出し、洗浄液タンク２０へ新しい溶剤
（洗浄液）を補給する。
汚液は、定期的に（例えば月１〜２回程度）汚液排出弁
２３を開けて排出し、洗浄液タンク２０へ新しい溶剤
（洗浄液）を補給する。
【００４０】上記実施例における洗浄槽２等の加熱コイ
ル５、１７等の温水の温度は、溶剤の真空下の沸点に応
じて設定され、洗浄液は、塩素系、フッソ系の総ての有
機溶剤が使用できる。
ル５、１７等の温水の温度は、溶剤の真空下の沸点に応
じて設定され、洗浄液は、塩素系、フッソ系の総ての有
機溶剤が使用できる。
【００４１】
【発明の効果】この発明によれば、ワークを真空の洗浄
槽内で煮沸洗浄し、清純な洗浄液でシャワー洗浄するの
で、完全な洗浄が行なわれて極めて良好な洗浄効果が得
られる。そして密閉の真空洗浄槽でワークを洗浄し、洗
浄後の洗浄液は密閉の洗浄液タンク等に収容されて大気
に曝されないので、溶剤が気化して大気中に拡散して消
費することがない。従って、有機溶剤の消費量が大幅に
削減されて経済的である上に、無公害で安全であり、総
ての有機溶剤を安心して経済的に使用できる。
槽内で煮沸洗浄し、清純な洗浄液でシャワー洗浄するの
で、完全な洗浄が行なわれて極めて良好な洗浄効果が得
られる。そして密閉の真空洗浄槽でワークを洗浄し、洗
浄後の洗浄液は密閉の洗浄液タンク等に収容されて大気
に曝されないので、溶剤が気化して大気中に拡散して消
費することがない。従って、有機溶剤の消費量が大幅に
削減されて経済的である上に、無公害で安全であり、総
ての有機溶剤を安心して経済的に使用できる。
【図１】発明の一実施例を示す洗浄装置の簡略断面図で
ある。
ある。
【図２】トリクロエタンの洗浄液でワークを洗浄したと
きの洗浄槽内の圧力線図である。
きの洗浄槽内の圧力線図である。
【図３】従来の洗浄装置の一例を示す簡略断面図であ
る。
る。
１……洗浄装置 ２……洗浄槽 ５……加熱コイル ７……噴射ノズル １４…蒸留塔 １６…コンデンサ ２０…洗浄液タンク ２５…清浄液タンク ２７…ベントコンデンサ ＶＰ1 真空ポンプ ＶＰ2 高真空ポンプ
Claims (3)
- 【請求項１】 有機溶剤の洗浄液でワークを洗浄する方
法であって、密閉の洗浄槽にワークを入れて減圧し、真
空の洗浄槽に洗浄液タンクの洗浄液を供給するとともに
洗浄液を加熱して沸騰させ、ワークを煮沸洗浄した後、
その沸騰洗浄液を前記洗浄液タンクに戻し、次いで清浄
な洗浄液をワークに噴射してシャワー洗浄してから真空
乾燥を行ない、真空の洗浄槽内で煮沸洗浄とシャワー洗
浄したワークを真空乾燥することを特徴とする真空洗浄
方法。 - 【請求項２】 真空の洗浄槽内を更に減圧して高真空に
した後復圧して低真空にする、真空圧の減圧と復圧を複
数回繰り返してワークの真空乾燥をすることを特徴とす
る請求項１の真空洗浄方法。 - 【請求項３】 有機溶剤の洗浄液でワークを洗浄する装
置であって、洗浄液加熱コイルと噴射ノズルを備えた密
閉可能の蓋付洗浄槽と、洗浄液を洗浄槽内へ供給．排出
可能に接続した洗浄液タンクと、洗浄後の汚れた洗浄液
を清浄液に再生させる蒸留塔と、排気を凝縮液化して有
機溶剤を回収するベントコンデンサを備えた清浄液タン
クを配設し、前記洗浄槽と蒸留塔を真空ポンプを介して
接続して、真空の洗浄槽内で煮沸洗浄とシャワー洗浄し
たワークを真空乾燥するように構成したことを特徴とす
る真空洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24608991A JPH0578876A (ja) | 1991-09-25 | 1991-09-25 | 真空洗浄方法と装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24608991A JPH0578876A (ja) | 1991-09-25 | 1991-09-25 | 真空洗浄方法と装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0578876A true JPH0578876A (ja) | 1993-03-30 |
Family
ID=17143329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24608991A Withdrawn JPH0578876A (ja) | 1991-09-25 | 1991-09-25 | 真空洗浄方法と装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0578876A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07243073A (ja) * | 1994-02-28 | 1995-09-19 | Nippon Enbairo Kogyo Kk | 洗浄装置 |
| JPH0975873A (ja) * | 1995-09-19 | 1997-03-25 | Japan Field Kk | 被洗浄物の洗浄及び乾燥方法 |
| JP2011242035A (ja) * | 2010-05-17 | 2011-12-01 | Act Five Kk | 真空乾燥装置 |
| JP5676033B1 (ja) * | 2014-04-15 | 2015-02-25 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の洗浄方法 |
| CN111842320A (zh) * | 2020-06-09 | 2020-10-30 | 上海天粹自动化设备有限公司 | 一种有机溶剂真空汽相清洗设备及清洗方法 |
-
1991
- 1991-09-25 JP JP24608991A patent/JPH0578876A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07243073A (ja) * | 1994-02-28 | 1995-09-19 | Nippon Enbairo Kogyo Kk | 洗浄装置 |
| JPH0975873A (ja) * | 1995-09-19 | 1997-03-25 | Japan Field Kk | 被洗浄物の洗浄及び乾燥方法 |
| JP2011242035A (ja) * | 2010-05-17 | 2011-12-01 | Act Five Kk | 真空乾燥装置 |
| JP5676033B1 (ja) * | 2014-04-15 | 2015-02-25 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の洗浄方法 |
| JP2015202463A (ja) * | 2014-04-15 | 2015-11-16 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の洗浄方法 |
| CN111842320A (zh) * | 2020-06-09 | 2020-10-30 | 上海天粹自动化设备有限公司 | 一种有机溶剂真空汽相清洗设备及清洗方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981203 |