JPH0576811A

JPH0576811A - 液処理槽および液処理装置

Info

Publication number: JPH0576811A
Application number: JP24171691A
Authority: JP
Inventors: Yoshiharu Takizawa; 芳治滝沢
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1991-09-20
Filing date: 1991-09-20
Publication date: 1993-03-30

Abstract

(57)【要約】【目的】ガラス基板やシリコン基板の洗浄処理、および
洗浄，現像，剥離，エッチング後の濯ぎ処理に用いる液
処理槽において、持ち込まれる液による処理液の清浄度
の低下を防止し、処理装置の処理槽数を削減し、処理装
置の全長を短くし、装置コストを低減する。【構成】基板を水平に搬送して処理を行う処理槽内を分
割し、基板を受け入れる側に排出口を設け、回収する処
理液と排水する処理液を分離する。【効果】処理槽に持ち込む処理液を低減させることが出
来るため、洗浄後の濯ぎにおいては濯ぎ水の清浄度をた
もつことが可能であり、濯ぎのための処理槽の数を低減
できる。それにより、これらの処理槽を持つ処理装置の
全長を低減出来る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板の液処理槽に係わ
り、特にガラス基板やシリコン基板の洗浄処理、および
洗浄，現像，剥離，エッチング後の濯ぎ処理に用いる液
処理槽に係わる。

【０００２】

【従来の技術】従来技術では「’９０薄膜電子デバイス
の技術動向ｐ３９０」記載のように、基板に処理液を
シャワーすることで処理をおこなっていた。また、その
応用例として図２に示すような液処理槽によって処理を
行っていた。

【０００３】すなわち液処理槽３ｆで処理を受けた基板
１ｄは矢印２の搬送方向に搬送され、処理槽３ｇへ運ば
れる。ここで基板１ｅは吐出ノズル４ａ，４ｂ，４ｃ，
４ｄ，４ｉ，４ｊ，４ｋ，４ｌから吐出される処理液８
ａにより処理される。吐出された処理液は処理槽３ｇに
設けられた回収口５ｅより回収され、回収タンク６ａに
戻される。回収タンク６ａに溜められた処理液は送水ポ
ンプ７ａにより再吐出される。このとき、図に記載され
ていないフィルタにより処理液中の粒子を除去する機能
を持つ場合もある。処理槽３ｇで処理をうけた基板１ｅ
は処理槽３ｈに運ばれ、同様な処理を受ける。回収タン
ク６ｂには後工程より処理液のオーバーフロー水９ａが
流入し、回収タンク６ｂの処理液を新たな処理液と置換
し、清浄度が向上する。更に処理タンク６ｂのオーバー
フロー水９ｃは前工程の回収タンク６ａに流入される。
回収タンク６ａのオーバーフロー水９ｂは排水９ａへ流
される。

【０００４】この構造により基板１ｄ，１ｅ，１の搬送
方向２に従って処理タンクの処理液８ａ，８ｂの処理液
の清浄度は向上する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】基板を水平に搬送しな
がら処理を行う処理槽においては、異なる処理槽の間で
基板を搬送するとき、前の処理槽の処理液が基板上面に
乗った状態で搬送されるため、後の処理槽に前槽の処理
液が持ち込まれる。持ち込まれた処理液はその槽で処理
を行う処理液と混合される。たとえば、図２において処
理槽３ｆで洗剤により処理を行った場合、その洗剤は基
板１ｄと共に処理槽３ｇに持ち込まれる。処理槽３ｇで
は洗剤を濯ぐ目的で純水を処理液として吐出ノズルから
基板に吐出される。その結果、純水内に洗剤が混合さ
れ、純水の清浄度が低下する。回収タンクに回収された
処理液（純水）は再吐出されるため、基板１ｅが次工程
の処理槽処理槽３ｈに搬送される時、同様に清浄度の低
下した純水が持ち込まれる。

【０００６】洗浄においては、基板に付着した汚染物質
を洗浄液で除去し、さらにその洗浄液を基板から除去す
る必要がある。図２に示す処理槽においては前槽から持
ち込まれた液が再吐出され次槽に持ち込まれる為、基板
から洗浄液を除去するためには、処理槽を多数個並べて
段階的に処理液の清浄度を高める必要がある。その結
果、処理槽により構成される処理装置の全長が長くなる
という問題が有った。また、処理槽毎に回収タンク，送
水ポンプが必要となり、装置コストが高くなるという問
題があった。

【０００７】本発明の目的は、持ち込まれる液による処
理液の清浄度の低下を防止し、処理装置の処理槽数を削
減し、処理装置の全長を短くし、装置コストを低減する
ことにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、基板を水平に搬送して処理を行う処理槽内を分割
し、基板を受け入れる側に排出口を設け、回収する処理
液と排水する処理液を分離し、回収し再吐出する処理液
に持ち込む前槽の処理液量を低減したものである。

【０００９】

【作用】処理槽内を分割し、基板を受け入れる側に排出
口を設け、回収する処理液と排出する処理液を分離する
処理槽に基板を搬入し、処理液を吐出した場合、受入直
後の基板の乗った前槽の処理液は、この槽において処理
液の吐出を受け、基板上面より除去される。除去された
処理液はこの槽の回収系には混合されないため、再吐出
される処理液に持ち込む量を低減できる。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の実施例を図１より図３により
説明する。

【００１１】処理槽３ｂには回収口５ｂが、処理槽３ｃ
には排出口５ａが設けられており、これらの口に流入す
る処理液は処理槽３ｂと処理槽３ｃに分割されている。
回収口５ｂから回収された処理液は回収タンク６ａに回
収され、送水ポンプ７ａにより吐出ノズル４ａ，４ｂ，
４ｃ，４ｄ，４ｉ，４ｊ，４ｋ，４ｌに送られる。この
とき図に記載されないフィルタにより処理液中の粒子を
除去する機能を持つ場合もある。各ノズルに送られた処
理液は基板に再吐出される。排出口５ａから排出された
処理液はオーバーフロー水９ｂと合流し、前槽または、
排水へ流される。処理槽３ｄ，処理槽３ｅは処理槽３
ｂ，処理槽３ｃと同構造であり、処理槽３ｄの排出口５
ｃから排出される処理液はオーバーフロー水９ｃと合流
し、回収タンク６ａへ、流入される。処理槽の数は本事
例により制限されるものではなく、処理液，基板種類，
処理速度により任意にその数を決定出来る。

【００１２】処理槽３ａにおいて基板１ａは処理を受け
る。一例として洗剤を処理液としたブラシスクラブ、超
音波洗浄が挙げられる。処理液として純水を用いること
もある。また、フォトリソグラフ，エッチング，剥離工
程における各種の薬剤を処理液として浸漬，スプレー処
理を行う場合もある。これらの処理を受けた基板１ａは
搬送方向２に搬送され、処理槽３ｂに搬入される。ここ
で基板には吐出ノズル４ａ，４ｉから処理液が吐出され
る。処理液として、一例として純水が用いられる。処理
槽３ａから持ち込まれる処理液量は、基板寸法５００＊
５００、処理タクト１５秒／枚において約１リットル／
分である。持ち込みを防止する対策として、本事例に記
載していないエアノズルにより基板上の液を除去する方
法も取り得る。この量を持ち込む基板に対し、吐出ノズ
ル４ａ，４ｉからは回収タンク６ａに溜められた処理
液、例えば純水が８リットル／分吐出される。これによ
り、基板上の持ち込み液は希釈され、その大半は排出口
５ａから排出される。この吐出により基板上に残った液
は処理槽３ｂから処理槽３ｃに持ち込まれるが、その液
は希釈された液であり、吐出ノズル４ｂ，４ｃ，４ｄ，
４ｊ，４ｋ，４Ｌから２４リットル／分吐出される処理
液、例えば純水と混合し、回収タンク６ａに流入され
る。

【００１３】従来技術の処理槽３ｇにおいては前槽３ｆ
から持ち込まれる処理液は全て回収タンク６ａに混合さ
れる。しかし、本発明における処理槽においては持ち込
まれる液の大半をあらかじめ排出した後処理を行う為、
回収タンク６ａに混入される量を低減できる。一例とし
て、処理槽３ａの処理液が１％洗剤、基板により持ち込
まれる洗剤液量が１リットル／分、回収タンク容量が１
００リットル、後工程からの新液９ｃの供給量が１０リ
ットル／分の場合の回収タンク６ａ内の洗剤濃度を図３
に示す。ここで従来技術の場合の濃度を１０に本発明の
場合を１１に示す。

【００１４】本例で明らかのように洗剤持ち込みによる
処理液の清浄度の低下を防ぐことが出来る。これによ
り、処理槽を複数個配置して、連続処理を行う場合、そ
の数を低減できる。通常洗剤洗浄を行うばあい、最終濯
ぎ槽においては洗剤濃度は１０ppm オーダである必要が
有る。本例に示す従来技術ではすくなくとも濯ぎ槽を３
槽必要とするが、本発明によれば２槽でその目的を達成
出来る。

【００１５】また、従来技術と本発明の技術の比較で明
らかなように、本発明を行うにあたり、新たな回収タン
クおよび送水ポンプを用いる必要はなく、装置コストを
高める必要性はない。また、後工程より供給される新液
も１槽あたり、従来技術と同等であり、ランニングコス
トを増加させる必要がない。

【００１６】

【発明の効果】本発明によれば、処理槽に持ち込む処理
液を低減させることが出来るため、洗浄後の濯ぎにおい
ては濯ぎ水の清浄度をたもつことが可能であり、濯ぎの
ための処理槽の数を低減できるという効果が有る。それ
により、これらの処理槽を持つ処理装置の全長を低減出
来るという効果が有る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の液処理槽の断面図である。

【図２】従来技術による液処理槽の断面図である。

【図３】本発明による液処理の効率を示す図である。

【符号の説明】

１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆ…基板、２…基板
搬送方向、３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅ，３ｆ，３
ｇ，３ｈ…液処理槽、４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ，
４ｆ，４ｇ，４ｈ，４ｉ，４ｊ，４ｋ，４Ｌ，４ｍ，４
ｎ，４ｏ，４ｐ…吐出ノズル、５ａ，５ｃ…排出口、５
ｂ，５ｄ，５ｅ，５ｆ…回収口、６ａ，６ｂ…回収タン
ク、７ａ，７ｂ…送水ポンプ、８ａ，８ｂ…処理液、９
ａ…排水、９ｂ，９ｃ，９ｄ…オーバーフロー水、１０
…従来技術による処理液中の洗剤濃度、１１…本発明に
よる処理液中の洗剤濃度。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を水平方向に搬送しながら処理液を吐
出して処理を行う処理槽において、処理槽内の処理液を
複数に分割して処理槽から流出する機能を備えているこ
とを特徴とする液処理槽。
【請求項２】吐出した処理液を処理槽から流出する機能
を備えている回収口より回収タンクに回収し、送水ポン
プにて再吐出する機能を有することを特徴とする請求項
１記載の液処理槽。
【請求項３】吐出した処理液を処理槽から流出する機能
を備えている排出口より排出し、排水とする機能を有す
ることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の液処理
槽。
【請求項４】搬送される基板を受け入れる側の壁面と回
収口の間に排出口を設けたことを特徴とする請求項１か
ら請求項３のいずれか１項に記載の液処理槽。
【請求項５】回収タンクより送水ポンプにて再吐出した
処理液を、回収口と排出口に分割して流す機能を有する
ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項
に記載の液処理槽。
【請求項６】処理液を回収口と排出口に分割して流す手
段として、処理槽を複数個の槽に分割したことを特徴と
する請求項１から請求項５のいずれ１項に記載の液処理
槽。
【請求項７】回収口に流す処理液量と排水口に流す処理
液量を調整する機能を有することを特徴とした請求項１
から請求項６のいずれか１項に記載の液処理槽。
【請求項８】回収タンクに回収した処理液を送水ポンプ
にて再吐出する時、処理性能に支障を及ぼす物質を処理
液から除去する機能を有することを特徴とした請求項１
から請求項７のいずれか１項に記載の液処理槽。
【請求項９】回収する処理液の他に、回収タンクに処理
液を供給する機能を有することを特徴とする請求項１か
ら請求項８のいずれか１項に記載の液処理槽。
【請求項１０】回収タンクに回収した処理液が回収タン
クの容量を超す場合、オーバーフローする処理液を排出
する機能を有することを特徴とする請求項１から請求項
９のいずれか記載の液処理槽。
【請求項１１】処理液として水を用いることを特徴とす
る請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の液処
理槽。
【請求項１２】処理液として洗剤を用いることを特徴と
する請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の液
処理槽。
【請求項１３】処理を行う基板がガラスまたはシリコン
ウェハまたはアルミまたはセラミックまたは樹脂である
ことを特徴とする請求項１１又は請求項１２記載の液処
理槽。
【請求項１４】処理を行うガラス基板が液晶表示素子用
の基板であることを特徴とする請求項１３記載の液処理
槽。
【請求項１５】請求項１から請求項１４のいずれか１項
に記載の液処理槽を複数個並べ、それらの中で連続して
基板の処理を行うことを特徴とする液処理装置。
【請求項１６】液処理槽を複数個並べて処理を行う液処
理装置において、各液処理槽の回収タンクのオーバーフ
ロー処理液を、基板の搬送方向と逆方向側の液処理槽の
回収タンクに流出させる機能を有することを特徴とした
請求項１５記載の液処理装置。
【請求項１７】液処理槽を複数個並べて処理を行う液処
理装置において、各液処理槽の排出口から排出される処
理液を、基板の搬送方向と逆方向側の液処理槽の回収タ
ンクに流出させる機能を有することを特徴とした請求項
１５記載から請求項１６のいずれか１項に記載の液処理
装置。