JPH0574671A - 処理条件データの設定支援方法 - Google Patents

処理条件データの設定支援方法

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Publication number
JPH0574671A
JPH0574671A JP23811891A JP23811891A JPH0574671A JP H0574671 A JPH0574671 A JP H0574671A JP 23811891 A JP23811891 A JP 23811891A JP 23811891 A JP23811891 A JP 23811891A JP H0574671 A JPH0574671 A JP H0574671A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
condition data
processing condition
semiconductor manufacturing
processing
input
Prior art date
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Pending
Application number
JP23811891A
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English (en)
Inventor
Kazumasa Machida
和正 町田
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】半導体製造装置に処理条件データ(レシピ)を
正確に設定する手段を提供する。 【構成】半導体製造装置1と工程ごとに設置されている
工程内コンピュータ2が、オンラインで結ばれる。工程
内コンピュータ2には入出力用端末3があり、半導体製
造装置1の近くに設置される。工程内コンピュータ2は
ホストコンピュータ4とオンラインで結ばれる。ホスト
コンピュータ4には、現在仕掛かっているウェハーの進
捗情報が格納されている進捗データベース5と、各半導
体製造装置において処理を行うために必要な処理条件デ
ータが格納されているマスタレシピデータベース6が存
在している。 【効果】半導体製造装置の近くに設置された入出力端末
からウェハー識別コードを入力するだけで、間違った処
理条件データが設定されることがなくなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置におけ
る処理条件データの設定支援方法に関する
【0002】
【従来の技術】従来、特に前工程とよばれるウェハープ
ロセス工程において、図2に示すように、処理を行う半
導体製造装置1ごとに処理のための処理条件データを登
録(記憶)しておく外部記憶装置7が設けられていて、
作業者は処理を行うウェハーと共に流動されてくる作業
指示書にもとづいて、必要な処理条件データを装置1に
付属の入力装置(多くの場合キーボード)にて選択し、
装置1ではそれにもとづいて装置1ごとに設けられてい
る外部記憶装置7から装置本体1に必要な処理条件デー
タが送り込まれ、装置1で処理を行うための設定を行っ
ていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし前述の従来技術
では、工場内に多数存在する半導体製造装置ごとにそれ
ぞれ処理をおこなうための処理条件データ(レシピ)が
多数登録(記録)されており、作業者による作業指示書
にもとづいた処理条件データ設定といった人手を介した
作業なため、間違った処理条件データ(レシピ)が選択
・設定されてしまう可能性があり、その場合、間違った
処理条件データ(レシピ)により処理されたウェハーは
当然不良品となってしまい、通常、ロット単位で流動す
るウェハー群のすべてが使い物にならなくなってしまう
ためその被害は極めて大きい。また、間違った処理条件
データ(レシピ)を選択・設定しないように気を付ける
ことは、作業者にとって負荷となる。さらに、多数の処
理条件データを管理する管理者にとって、例えば処理条
件の変更に伴う処理条件データの更新作業は、困難を伴
う作業となる。特にそれが複数の装置にまたがる場合に
は一層困難となる。
【0004】本発明は、このような問題点を解決するも
ので、その目的とするところは、人手を介さずに正確に
半導体製造装置に処理条件データ(レシピ)を設定する
手段(方法)を提供するところにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の処理条件データ
の設定支援方法は、半導体製造装置において処理を行う
ために必要な処理条件データを、装置とオンラインで接
続されたコンピュータから直接転送する手段を備えてい
ることを特徴とする。
【0006】
【実施例】以下に、本発明の実施例を図面をもとに説明
する。図1において、半導体製造装置1と工程ごとに設
置されている工程内コンピュータ2が、オンラインで結
ばれている。工程内コンピュータ2には入出力用端末3
があり、半導体製造装置1の近くに設置されている。工
程内コンピュータ2はホストコンピュータ4とオンライ
ンで結ばれている。そのホストコンピュータ4には、現
在仕掛かっているウェハーの進捗情報が格納されている
進捗データベース5と、各半導体製造装置において処理
を行うために必要な処理条件データが格納されているマ
スタレシピデータベース6が存在している。
【0007】作業者は、半導体製造装置1にこれから処
理を行うウェハーをセットした後、そのウェハーを識別
するコードを、半導体製造装置1の近くに設置されてい
る入出力用端末3より入力する。この時の入力方法とし
ては、バーコード等を利用した簡易入力方法が用いられ
る。これにより、工程内コンピュータ2はホストコンピ
ュータ4に対し、入出力用端末3から入力されたウェハ
ー識別コード対する処理条件データの要求を行う。その
要求に応じて、ホストコンピュータ4ではまずウェハー
識別コードをキーに進捗データベース5より、現在の仕
掛かり工程情報を検索する。ここで得られた仕掛かり工
程情報の中から、処理条件データを検索するのに必要な
レシピ番号を得る。次に、このレシピ番号をキーにマス
タレシピデータベース6より、必要な処理条件データを
検索する。ホストコンピュータ4にて、このようにして
得られた処理条件データを工程内コンピュータ2を介し
て半導体製造装置1に転送する。処理条件データが転送
された半導体製造装置1は、これでいつでも処理が開始
できる状態となる。
【0008】
【発明の効果】本発明の処理条件データの設定支援方法
は以上説明したように、半導体製造装置の近くに設置さ
れた入出力端末からウェハー識別コードを入力するだけ
で半導体製造装置に処理条件データが設定されるため、
間違った処理条件データが設定されることがなくなる。
これにより、処理条件データの設定間違いによる不良ウ
ェハーの発生を完全に防止することができる。また、作
業自体も極めて簡単であるため、ウェハー製造作業を直
接行う作業者の作業負荷の低減となる。更に、処理条件
データを管理する管理者にとって、処理条件データを変
更・修正する場合にホストコンピュータのマスタレシデ
ータベースのみを変更・更新するだけで良いため、確実
にその変更・修正が行える。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の処理条件データの設定支援方法の構成
図である。
【図2】従来の処理条件データの設定を行うための構成
図である。
【符号の説明】 1 半導体製造装置 2 工程内コンピュータ 3 入出力用端末 4 ホストコンピュータ 5 進捗データベース 6 マスタレシピデータベース 7 処理条件データ保持用外部記憶装置

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体製造装置において処理を行うために
    必要な処理条件データを、装置とオンラインで接続した
    コンピュータから直接転送する手段を備えていることを
    特徴とする処理条件データの設定支援方法
JP23811891A 1991-09-18 1991-09-18 処理条件データの設定支援方法 Pending JPH0574671A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23811891A JPH0574671A (ja) 1991-09-18 1991-09-18 処理条件データの設定支援方法

Applications Claiming Priority (1)

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JP23811891A JPH0574671A (ja) 1991-09-18 1991-09-18 処理条件データの設定支援方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0574671A true JPH0574671A (ja) 1993-03-26

Family

ID=17025452

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23811891A Pending JPH0574671A (ja) 1991-09-18 1991-09-18 処理条件データの設定支援方法

Country Status (1)

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JP (1) JPH0574671A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6000830A (en) * 1997-04-18 1999-12-14 Tokyo Electron Limited System for applying recipe of semiconductor manufacturing apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6000830A (en) * 1997-04-18 1999-12-14 Tokyo Electron Limited System for applying recipe of semiconductor manufacturing apparatus

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