JPH0574428B2 - - Google Patents
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- JPH0574428B2 JPH0574428B2 JP60224200A JP22420085A JPH0574428B2 JP H0574428 B2 JPH0574428 B2 JP H0574428B2 JP 60224200 A JP60224200 A JP 60224200A JP 22420085 A JP22420085 A JP 22420085A JP H0574428 B2 JPH0574428 B2 JP H0574428B2
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- JP
- Japan
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- coating
- ring
- cylindrical body
- stirring
- lid
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- Expired - Lifetime
Links
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(A) 産業上の利用分野
本発明は塗布装置に関し、特に円筒形状体の外
表面に均一な厚さの塗布層を連続的に効率よく形
成するに適した塗布装置に関するものである。
表面に均一な厚さの塗布層を連続的に効率よく形
成するに適した塗布装置に関するものである。
(B) 従来技術及びその問題点
円筒形状体のような被塗布基材の円外周面上に
塗布材を被覆する方法として、スプレー法、浸漬
法、リング状液体容器を用いる垂直型塗布法、カ
ーテン塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法、
エクストルジヨン法等の種々の方法が知られてい
る。このうちリング塗布法については、特開昭53
−22544、同昭56−101149、同昭58−11064、同昭
58−180261などに示されている。リング塗布法
は、円筒形状体の外径より僅かに小さい内径の弾
性リングと液体容器外筒とを一体となし、このリ
ングの中に円筒形状体を貫通させて円筒形状体の
外表面とで形成された塗布室に塗布液を供給し、
円筒形状体あるいはリングのいずれか又は両方を
移動させることによつて、円筒形状体の外表面に
塗布するものである。このリング塗布法は、塗布
層の表面平滑性に優れ、また、塗布液との接触時
間が短かいため、多層塗布にも適している利点が
ある。しかし、これらのリング塗布法は塗布室内
の塗布液を円筒形状体の外周面に塗布中又は停止
している間、常に静止した状態にあるため、多数
の円筒形状体を連続的に長時間塗布する場合、塗
布液表面と外気との接触により塗布液表面又は円
筒形状体の外周面と塗布液との接触点に乾燥皮膜
物を生じ易く、常に均一な塗布層を形成すること
は困難であつた。リング塗布法で円筒形状体の外
周面に垂直方向に塗布する場合、一般的には、塗
布液を塗布した後、乾燥終了するまでに液ダレに
よる塗布ムラを生じ易く、この影響を防止するた
めに、比較的蒸発速度の早い溶剤系を溶媒として
使用する。
塗布材を被覆する方法として、スプレー法、浸漬
法、リング状液体容器を用いる垂直型塗布法、カ
ーテン塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法、
エクストルジヨン法等の種々の方法が知られてい
る。このうちリング塗布法については、特開昭53
−22544、同昭56−101149、同昭58−11064、同昭
58−180261などに示されている。リング塗布法
は、円筒形状体の外径より僅かに小さい内径の弾
性リングと液体容器外筒とを一体となし、このリ
ングの中に円筒形状体を貫通させて円筒形状体の
外表面とで形成された塗布室に塗布液を供給し、
円筒形状体あるいはリングのいずれか又は両方を
移動させることによつて、円筒形状体の外表面に
塗布するものである。このリング塗布法は、塗布
層の表面平滑性に優れ、また、塗布液との接触時
間が短かいため、多層塗布にも適している利点が
ある。しかし、これらのリング塗布法は塗布室内
の塗布液を円筒形状体の外周面に塗布中又は停止
している間、常に静止した状態にあるため、多数
の円筒形状体を連続的に長時間塗布する場合、塗
布液表面と外気との接触により塗布液表面又は円
筒形状体の外周面と塗布液との接触点に乾燥皮膜
物を生じ易く、常に均一な塗布層を形成すること
は困難であつた。リング塗布法で円筒形状体の外
周面に垂直方向に塗布する場合、一般的には、塗
布液を塗布した後、乾燥終了するまでに液ダレに
よる塗布ムラを生じ易く、この影響を防止するた
めに、比較的蒸発速度の早い溶剤系を溶媒として
使用する。
しかるに、これらの塗布装置では、リング内部
に満された塗布液表面は静置された状態にあり、
外気との接触により乾燥皮膜物を発生し易く、長
時間連続塗布においては、塗布ムラが発生し易い
という欠点がある。
に満された塗布液表面は静置された状態にあり、
外気との接触により乾燥皮膜物を発生し易く、長
時間連続塗布においては、塗布ムラが発生し易い
という欠点がある。
(C) 発明の目的
本発明の目的は、上記のような欠点を解決し、
長時間連続塗布において、常に均一な塗布面を得
ることのできる塗布装置を提供することにある。
長時間連続塗布において、常に均一な塗布面を得
ることのできる塗布装置を提供することにある。
(D) 発明の構成
本発明の目的は、円筒形状体の外表面に塗布層
を形成するリング塗布装置において、リング本体
2の内部の塗布室8の上部に、複数の撹拌羽5が
固定された蓋6を有し、該撹拌羽5は円筒形状体
の塗布近傍から遠ざけたリング本体2の側壁近傍
に位置するように取り付けられており、蓋6を円
筒形状体の周囲を回転させて、塗布室に満たされ
た塗布液を撹拌羽5で撹拌するようにした撹拌手
段を設けたリング塗布装置により達成された。
を形成するリング塗布装置において、リング本体
2の内部の塗布室8の上部に、複数の撹拌羽5が
固定された蓋6を有し、該撹拌羽5は円筒形状体
の塗布近傍から遠ざけたリング本体2の側壁近傍
に位置するように取り付けられており、蓋6を円
筒形状体の周囲を回転させて、塗布室に満たされ
た塗布液を撹拌羽5で撹拌するようにした撹拌手
段を設けたリング塗布装置により達成された。
以下に本発明に用いられるリング装置を図面に
より説明する。
より説明する。
第1図は本発明の塗布装置を用いて円筒形状体
の外周面に塗布している状態を示す断面図であ
る。又、第2図は撹拌羽を固定した蓋とモーター
とのギヤー連結を示す図である。図中1は円筒形
状体の被塗布材であり、2はリング本体である。
リング本体2の内部の塗布室8には塗布液4と、
ゴム等の弾性材料からなるリング状パツキン3が
設けられている。このパツキン3は被塗布材1と
同心円で、かつ、これよりもやや小さな径をもつ
ものである。5は撹拌羽であり、6は撹拌羽を固
定した蓋である。更に蓋6はモーター7とギヤー
連結により回転する様になつている。撹拌羽5
は、第2図に示す様に、複数個を使用することが
でき、かつ、形状についてはスクリユウ型、T字
型、L字型等があるがこれらに限定されない。
の外周面に塗布している状態を示す断面図であ
る。又、第2図は撹拌羽を固定した蓋とモーター
とのギヤー連結を示す図である。図中1は円筒形
状体の被塗布材であり、2はリング本体である。
リング本体2の内部の塗布室8には塗布液4と、
ゴム等の弾性材料からなるリング状パツキン3が
設けられている。このパツキン3は被塗布材1と
同心円で、かつ、これよりもやや小さな径をもつ
ものである。5は撹拌羽であり、6は撹拌羽を固
定した蓋である。更に蓋6はモーター7とギヤー
連結により回転する様になつている。撹拌羽5
は、第2図に示す様に、複数個を使用することが
でき、かつ、形状についてはスクリユウ型、T字
型、L字型等があるがこれらに限定されない。
撹拌羽5の取りつけ位置は、液面の乱れによる
塗布ムラを防止するために、円筒形状体1への塗
布近傍から出来るだけさけた位置とすることが好
ましい。
塗布ムラを防止するために、円筒形状体1への塗
布近傍から出来るだけさけた位置とすることが好
ましい。
モーター7の回転速度は可変調整ができる様に
なつており、円筒形状体1の外周面に塗布してい
る間は撹拌を停止させるか、又は、液面の乱れに
よつて局部的な塗布ムラを生じない程度の微動撹
拌させることが好ましい。塗布していない間は撹
拌力をやや強くしてやることができる。本発明の
撹拌羽を設けたリング装置の使用に際しては、液
面の乱れによつて局部的な塗布ムラを生じない様
な回転速度、撹拌羽の取り付け位置、撹拌羽の形
状、取り付け個数等の条件を選定するのが好まし
い。
なつており、円筒形状体1の外周面に塗布してい
る間は撹拌を停止させるか、又は、液面の乱れに
よつて局部的な塗布ムラを生じない程度の微動撹
拌させることが好ましい。塗布していない間は撹
拌力をやや強くしてやることができる。本発明の
撹拌羽を設けたリング装置の使用に際しては、液
面の乱れによつて局部的な塗布ムラを生じない様
な回転速度、撹拌羽の取り付け位置、撹拌羽の形
状、取り付け個数等の条件を選定するのが好まし
い。
撹拌羽5及び蓋6の材質は、金属、プラスチツ
ク等任意であるが耐溶剤性を有することが必要で
ある。
ク等任意であるが耐溶剤性を有することが必要で
ある。
上記のリング装置を使つて塗布する場合の昇降
手段としては、特開昭60−244363号公報のような
公知のものが使用できる。
手段としては、特開昭60−244363号公報のような
公知のものが使用できる。
(E) 実施例
第1図のリング塗布装置において、先ず撹拌羽
5及び蓋6を取り除いた状態で、直径116mmのア
ルミニウム管(長さ33cm)の外周面上へ下記処方
の分散液を連続的に30本塗布し、自然乾燥させ
た。連続塗布するための昇降手段として特開昭60
−244363号公報に記載の装置を用いて、塗布速度
10mm/secの一定速度で塗布した。
5及び蓋6を取り除いた状態で、直径116mmのア
ルミニウム管(長さ33cm)の外周面上へ下記処方
の分散液を連続的に30本塗布し、自然乾燥させ
た。連続塗布するための昇降手段として特開昭60
−244363号公報に記載の装置を用いて、塗布速度
10mm/secの一定速度で塗布した。
この結果、塗布開始後約10本目より塗布液表面
と円筒形状体の外周面との接触点に発生した乾燥
皮膜物により、縦筋ムラが発生しはじめた。
と円筒形状体の外周面との接触点に発生した乾燥
皮膜物により、縦筋ムラが発生しはじめた。
一方、本発明の撹拌羽5及び蓋6を取り付け装
置を用い、連続微動撹拌(回転速度20rpm)しな
がら、同様に30本のアルミニウム管を連続塗布し
た。撹拌羽はL字型で同心円上に4本取り付け
た。この結果、最終塗布30本目においても塗布ム
ラの発生はなく、乾燥後に電位を測定したところ
円周方向及び長さ方向において、2%以内の電位
のフレがあるだけであり、多数の円周形状体につ
いて同じ品質が再現性よく確保できることが確認
された。
置を用い、連続微動撹拌(回転速度20rpm)しな
がら、同様に30本のアルミニウム管を連続塗布し
た。撹拌羽はL字型で同心円上に4本取り付け
た。この結果、最終塗布30本目においても塗布ム
ラの発生はなく、乾燥後に電位を測定したところ
円周方向及び長さ方向において、2%以内の電位
のフレがあるだけであり、多数の円周形状体につ
いて同じ品質が再現性よく確保できることが確認
された。
塗布液ポリスチレン 1.6g
銅フタロシアニン 3.2g
キシレン100mlに調整
(F) 発明の効果
本発明によれば、円筒形状体の全長にわたつて
極めて均斉な塗布層を多数の連続的塗布において
形成することができる。
極めて均斉な塗布層を多数の連続的塗布において
形成することができる。
第1図は本発明における塗布装置の一具体例を
用いて塗布している状態を示す主要部の断面図、
第2図は撹拌装置の一具体例を示す斜視図であ
る。 1……円筒形状体、2……リング本体、3……
ゴムパツキン、4……塗布液、5……撹拌羽、6
……蓋、7……モーター、8……塗布室。
用いて塗布している状態を示す主要部の断面図、
第2図は撹拌装置の一具体例を示す斜視図であ
る。 1……円筒形状体、2……リング本体、3……
ゴムパツキン、4……塗布液、5……撹拌羽、6
……蓋、7……モーター、8……塗布室。
Claims (1)
- 1 円筒形状体の外表面に塗布層を形成するリン
グ塗布装置において、リング本体2の内部の塗布
室8の上部に、複数の撹拌羽5が固定された蓋6
を有し、該撹拌羽5は円筒形状体の塗布近傍から
遠ざけたリング本体2の側壁近傍に位置するよう
に取り付けられており、蓋6を円筒形状体の周囲
を回転させて、塗布室に満たされた塗布液を撹拌
羽5で撹拌するようにした撹拌手段を設けたこと
を特徴とするリング塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22420085A JPS6283065A (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22420085A JPS6283065A (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | 塗布装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6283065A JPS6283065A (ja) | 1987-04-16 |
JPH0574428B2 true JPH0574428B2 (ja) | 1993-10-18 |
Family
ID=16810091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22420085A Granted JPS6283065A (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | 塗布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6283065A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6022966A (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-05 | Canon Inc | 塗布方法 |
JPS60172379A (ja) * | 1984-02-20 | 1985-09-05 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 塗布装置 |
-
1985
- 1985-10-07 JP JP22420085A patent/JPS6283065A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6022966A (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-05 | Canon Inc | 塗布方法 |
JPS60172379A (ja) * | 1984-02-20 | 1985-09-05 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 塗布装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6283065A (ja) | 1987-04-16 |
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