JPH043271B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 (A) 産業上の利用分野 本発明は、塗布装置に関し、特に円筒形状体の
外周面に電子写真感光体を連続的に塗布するに適
した塗布装置に関するものである。

(B) 従来技術及びその問題点 円筒形状体のような被塗布基材の円外周面上に
塗布材を被覆する方法としては、スプレー法、浸
漬法、リング状液体容器を用いる垂直型塗布法、
カーテン塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布
法、エクストルジヨン法等の種々の方法が知られ
ている。

しかし、スプレー法は量産性に優れている反
面、１回当りの塗布量が少ないこと、また表面平
滑性が劣るという欠点があり、1μｍ〜数＋μｍ
の広い範囲の膜厚と極めて高い表面平滑性のの塗
布層が必要な電子写真感光体の塗布法としては適
していない。浸漬法は、比較的手軽な方法である
が、円筒形状体の上部と下部とで膜厚の差が大き
いこと、また２層以上の塗布を行う場合に各層の
塗布を同一溶剤系で行うと下層がおかされるとい
う欠点が生じ易く、更に量産性に劣つている。

特開昭53−22544、同昭56−101149、同昭58−
11064、同昭58−180261などに示されるリング塗
布法は、塗布層の表面平滑性に優れ、また塗布液
との接触時間が短かいため多層塗布にも適してい
る利点がある。リング塗布法は、円筒形状体の外
径より僅かに小さい内径の弾性リングと液体容器
外筒とを一体となし、このリングの中に円筒形状
体を貫通させて円筒形状体の外表面とで形成され
た塗布室に塗布液を供給し、円筒形状体あるいは
リングのいずれか又は両方を移動させることによ
つて円筒形状体の外表面に塗布するものである。
しかし、このリング塗布法は、多数の円筒形状体
を連続して塗布することは装置の構造上から困難
なことでであつた。たとえば、第１の円筒形状体
と第２の円筒形状体とを隙間なく完全に接合して
リング中を通さなければ、塗布室が形成されず、
塗布液が漏れ出て第２の円筒形状体を汚してしま
う結果になる。さらに、円筒形状体を下部昇降手
段により供給し、塗布リングを貫通し上部昇降手
段により円筒形状体を排出する場合において、下
部昇降手段から上部昇降手段への受渡し中は、両
昇降手段の速度が完全に一致しなければならな
い。また、第１の円筒形状体と第２の円筒形状体
とが接合する時にも両円筒形状体の速度は完全に
一致する必要があり、さもなければ接合時に衝撃
が発生し、塗布面の乱れとなるからである。ま
た、その接合部は、一体の円筒形状体とみなせる
程度に正確でないと、接合部の不一致部分に液の
溜りが発生し、その液溜りが第２の円筒形状体の
外表面にタレとなつて塗布面を乱したり、接合部
の内面に浸透し第２の円筒形状体の内面を汚した
りするのである。

さらに、積層感光体を塗布する際に下層がおか
されるのを防止する目的で第１の円筒形状体と第
２の円筒形状体の間に中間リングを設けることも
知られているが、やはり上述したと同様の難点が
ある。

また、リング塗布法は、弾性リング先端よりも
上にある塗布液だけで塗布するため塗布液が少な
く（反面、前述したように円筒形状体との接触時
間が短かい利点がある）、連続塗布するためには
塗布液を断続的に供給しなければならず、泡の発
生や液面の変動により均斉な塗布面が得られなか
つたり、生産効率を低下したりする。

(C) 発明の目的 本発明の目的は、前述したような欠点がなく、
円筒形状体の外周面上に均斉な塗布層を効率よく
連続的に形成することができる電子写真感光体を
塗布するに適した塗布装置を提供することであ
る。

(D) 発明の構成 本発明は、被塗布基材としての円筒形状体を上
昇させるための昇降手段、昇降手段に設けられた
外周円体の載置台および外周円体の外周を保持す
る係止手段を含み外周円体の両側は円筒形状体の
内面に装着したとき連続的な外周面を形成する構
造を有していることを特徴とするリング塗布法に
用いる塗布装置である。

本発明の塗布装置は、上記した特徴に加えて外
周円体が係止手段によつて停止している間も塗布
液をリング状液体容器に連続して供給できるよう
に容器中の塗布液がオーバーフローするように構
成した装置を包含するものである。

(E) 実施例 以下に本発明の塗布装置の動作、機構を図面に
より詳細に説明する。

第１図ａ〜ｃは、本発明の塗布装置を用いて円
筒形状体の外周面に塗布している状態を経時的に
示す断面図である。円筒形状体７が弾性リングを
有する液体容器４を貫通し、昇降装置（ロツド６
のみ図示）により一定速度で上昇しながら塗布さ
れる。リング状液体容器４には塗布液供給管１が
設けられ、塗布液がポンプ（図示せず）により自
動的に液体容器４に塗布液供給管から送られ塗布
されるようになつている。しかし、第１図におい
ては、リング状液体容器４とは別個に貯液槽２が
連通管３（塗布液供給管とも言いうる）で連結さ
れ、この貯液槽２に塗布液供給管１及びオーバー
フロー管５が設けている。オーバーフロー管５を
もつ貯液槽２を液体容器４とは別個に設けること
は、装置の製作が容易であること、円筒形状体へ
の塗布近傍ではオーバーフロー管への塗布液の流
れ込みによる液面の乱れによつて局部的な塗布ム
ラを防止すること等によるが、液体容器４の外径
を大きくすれば、別個の貯液槽を設けることな
く、液体容器４の中にオーバーフロー管５を設け
てもよい。

円筒形状体７の外周表面上への塗布は、弾性リ
ングの先端より上にある塗布液の液面で行なわ
れ、その液面の高さは任意に設定することができ
る。本発明の図示した塗布装置では、その液面の
高さはオーバーフロー管によつて決定されるが、
弾性リングの先端より僅かの上にオーバーフロー
管５の流入口が位置するようにしても可能であ
る。

塗布液供給管１からは円筒形状体での消費量
（塗布量）よりもある程度多い量の塗布液が連続
して供給されるが、円筒形状体の移動によつても
塗布液液面は変動せず、常に同一の条件で塗布す
ることができる。また、外周円体９がそれを保持
するための係止手段１０によつてリング容器内に
停止している間も同様に塗布液供給を続けること
ができる。第１図ａは、円筒形状体７に塗布する
前の状態を示しており、連続塗布作業は外周円体
９′をリング容器内で係止手段１０により停止さ
せた状態で開始することが好ましい。

昇降装置には外周円体９の載置台８が設けら
れ、外周円体９を保持している。外周円体９は、
円筒形状体と等しい外径を有し、かつ外周が円形
になつていれば、中空のものでも中空でないもの
でもよい。載置台８に保持された外周円体９の上
側（第１図ａ）は、被塗布基材としての円筒形状
体７の内面に挿入、装着され、その際に円筒形状
体７と外周円体９の外周が連続した外周面となる
ように、円筒形状体７の外壁厚みに等しい分だけ
外径が小さくなつている。但し、その部分はエン
ドレスになつている必要はない。外周円体９は、
円筒形状体７の塗布完了後に外周円体９′と同じ
状態になるから、その下側（第１図ａ）も上述し
た上側と同様の構造を有している必要がある。外
周円体９の両側は既述した構造のものに限られる
ことはなく、円筒形状体に挿入したときその内面
に拡張バネ方式で装着するようにしてもよい。載
置台８は、外周円体９を保持するものである。従
つて、載置台８は第１図ａで示すように外周円体
９の下側の外径よりも僅かに大きい内径の円筒体
とする（外径は任意である。） また、載置台の別の例は、外周円体９の内径よ
り僅かに小さい外径の円筒体または円柱体である
こともできる。昇降装置は、一定速度で昇降する
手段を備えている。昇降の手段については公知の
方法でよく、モーターによるもの、油圧シリンダ
ー、空気圧シリンダー等によるものでよい。

第１図ａにおいて、上昇した円筒形状体７に係
止手段１０により保持されている外周円体９′が
装着される。装着と同時もしくはその後に係止手
段１０は、外周円体９′の保持を解除するように
それから離間される。円筒形状体７は、一定速度
で上昇を続けながら塗布される（第１図ｂ）。外
周円体９が第１図ａの外周円体９′の位置に来た
とき昇降装置の上昇が停止され、同時に係止手段
１０が作動して外周円体９を保持する（第１図
ｃ）。

円筒形状体９は、その上の外周円体９′からの
塗液の流れがあり、それらが連続的な外周面を形
成しているから、全長にわたつて均一な膜厚の塗
布が可能である。

一方、塗布が完了した円筒形状体７は、排出手
段としての昇降装置１１によつて、外周円体９′
とともに排出され、また載置台８を有する昇降装
置は次の円筒形状体の準備に下降する（第１図
ｃ）。排出手段は公知のものでよい。

第２図は、係止手段１０について、第１図ｂの
上方から見た断面図であり、係止手段が４つのも
のを示している。係止手段は少なくとも２つあれ
ばよい。

の載置台８、外周円体９、係止手段１０の材質
は、金属、プラスチツクス等任意のものでよい。

外周円体は塗膜を除去して再使用できる。昇降
装置の昇降、係止手段の作動などを公知の検知手
段を用いることによつて、自動的に連続塗布する
ことができる。

本発明の塗布装置を用いて塗布される液の粘度
は、広い範囲にわたつて選択することできるが通
常は0.5〜1000センチボイズ（CP）程度、好まし
くは１〜500CPである。

第１図に示す塗布装置のリング状液体容器を使
用し、116φのアルミニウム管（長さ33cm）の外
周面上へ下記処方の分散液を塗布した。

ポリスチレン 16ｇ 銅フタロシアニン 3.2ｇ キシレンで100mlに調整 塗布速度10mm／secで既述した方法により連続
的に30本のアルミニウム管に塗布し乾燥した。塗
膜厚みは20μｍであつた。塗布液供給管１からは
３ml／secで常時送液した。乾燥後に電位を測定
したところ、円周方向および長さ方向において２
％以内の電位のフレがあるだけであり、多数の円
筒形状体について同じ品質が再現性よく確保でき
ることが確認された。

(F) 発明の効果 本発明によれば、円筒形状体の全長にわたつて
極めて均斉な塗布層を形成することができる。ま
た外周円体およびその係止手段の採用によつて、
昇降手段と排出手段の動作を分離して確実で能率
のよい連続塗布が可能になり、且つ塗布液の連続
供給も可能になつた。

【図面の簡単な説明】

第１図ａ〜ｃは、本発明における塗布装置の一
具体例を用いて塗布している状態を示す主要部の
断面図である。第２図は、係止手段の一具体例を
示す上断面図である。 １……塗布液供給管、２……貯液槽、３……連
通管、４……リング塗布容器、５……オーバーフ
ロー管、６……ロツド、７……円筒形状体、８…
…載置台、９及び９′……外周円体、１０……係
止手段、１１……排出手段。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 被塗布基材としての円筒形状体を上昇させる
   ための昇降手段、昇降手段に設けられた外周円体
   の載置台および外周円体の外周を保持する係止手
   段を含み、外周円体の両側は円筒形状体の内面に
   装着したとき連続的な外周面を形成する構造を有
   していることを特徴とするリング塗布法に用いる
   塗布装置。 ２ 塗布液のオーバーフロー手段を有している特
   許請求の範囲第１項記載の塗布装置。