JPS59189963A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPS59189963A JPS59189963A JP6600483A JP6600483A JPS59189963A JP S59189963 A JPS59189963 A JP S59189963A JP 6600483 A JP6600483 A JP 6600483A JP 6600483 A JP6600483 A JP 6600483A JP S59189963 A JPS59189963 A JP S59189963A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- liquid
- water
- web
- resin
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発Ｆ！Ａは移送されている長尺可撓性支持体（以下「
ウェブ」という）に液状塗布組成物全塗布するための装
置に関する〇 液状塗布組成物（以下「塗布液」という）をウェブに塗
布するための装置として広く利用さ几ている装置の一つ
にＲｌｔｓｓｅｌｌ等により米国特許第ｊ 、７ｇ／
、７！Ｐ／号に提案さ１−た多層スライドビード塗布装
置がある。この装置は傾斜面（スライド面）全流れ下る
複数の塗布液を、スライド面の下端においてそ几が移送
さｎているウェブと出会う点にビードを形成させるよう
にし、このビードを介して塗布を行なうものである。従
ってこの種の装置においてはビードを安定に維持するこ
とが、塗布全成功させるために必要である。
ウェブ」という）に液状塗布組成物全塗布するための装
置に関する〇 液状塗布組成物（以下「塗布液」という）をウェブに塗
布するための装置として広く利用さ几ている装置の一つ
にＲｌｔｓｓｅｌｌ等により米国特許第ｊ 、７ｇ／
、７！Ｐ／号に提案さ１−た多層スライドビード塗布装
置がある。この装置は傾斜面（スライド面）全流れ下る
複数の塗布液を、スライド面の下端においてそ几が移送
さｎているウェブと出会う点にビードを形成させるよう
にし、このビードを介して塗布を行なうものである。従
ってこの種の装置においてはビードを安定に維持するこ
とが、塗布全成功させるために必要である。
米国特許λ、６♂ｌ、コタ弘号は、ビード部分が懸垂し
ている表面に真空を生じさせる等して、ビード部分上下
の露出表面間に圧力差を生じさせる技術を開示している
。又、特公昭５ｒ−２０７号公報では、「走行する被塗
布基体に１つ以上の塗ｉｔ塗布するホッパー装置におい
て、前記ホッパー装置の被塗布基体侵入側の被塗布基体
に対向する面に塗液架＃Ｊ（ビード）の接触後端部全保
持する液端保持部を設は罠ことを特徴とするホッパー装
置。」が提案さｎている。すなわち、前述の米国特許λ
、ｔｌ／、２Ｆ≠号では、高速薄層塗布時に過度な真空
度が必要とし、この過度な真空度の増大はビードに撹乱
や破裂を生じさせるとして、高速薄層時にスジ故障の発
生全弁えるためになさｎｔｃものが特公昭ｊに−ｙ０７
号特計発明である。
ている表面に真空を生じさせる等して、ビード部分上下
の露出表面間に圧力差を生じさせる技術を開示している
。又、特公昭５ｒ−２０７号公報では、「走行する被塗
布基体に１つ以上の塗ｉｔ塗布するホッパー装置におい
て、前記ホッパー装置の被塗布基体侵入側の被塗布基体
に対向する面に塗液架＃Ｊ（ビード）の接触後端部全保
持する液端保持部を設は罠ことを特徴とするホッパー装
置。」が提案さｎている。すなわち、前述の米国特許λ
、ｔｌ／、２Ｆ≠号では、高速薄層塗布時に過度な真空
度が必要とし、この過度な真空度の増大はビードに撹乱
や破裂を生じさせるとして、高速薄層時にスジ故障の発
生全弁えるためになさｎｔｃものが特公昭ｊに−ｙ０７
号特計発明である。
しかしながら、特に准接触角の低い液体或は低粘度の液
体全塗布液として用い／）場合には、依然として問題は
解決さｎない。ま１こ、液端保持部に汚ル等が付層した
り、ウェブの巾方向端部に液の浸み出したりして、実用
的な塗布ヲ打なうことができない。
体全塗布液として用い／）場合には、依然として問題は
解決さｎない。ま１こ、液端保持部に汚ル等が付層した
り、ウェブの巾方向端部に液の浸み出したりして、実用
的な塗布ヲ打なうことができない。
本発明は、力・かる従来技術の欠点を補い、液接触角の
低い液体或は低粘度の液体を塗布液として用いる場合で
もスジ故障等を発生することなく、実用的なホラノミ−
型塗布装禦τ提供すゐこと全目的とする。
低い液体或は低粘度の液体を塗布液として用いる場合で
もスジ故障等を発生することなく、実用的なホラノミ−
型塗布装禦τ提供すゐこと全目的とする。
本発明のかかる目的は、先端部に撥水性樹脂を施し７こ
ことを特徴とするホラノミ−型塗布装置により達成され
る。
ことを特徴とするホラノミ−型塗布装置により達成され
る。
以下、添付図面（Ｃ従って本発明の内容全史に詳細に説
明丁ゐ。
明丁ゐ。
第１図において、塗布バックアップローラ／に巻き掛け
られて整送さ′ｎるウェブ、２に近接して塗布ヘッド３
が設置さ几ている。塗布ヘッド３Ｖｃは計量ポンプ／ハ
／、２により塗布液≠、ｊが供給さｆ’ｓ、 ６ ｏ
各塗布液に塗布ヘッド３の上部スリット状開口から押し
出さ几、スライド面上全そ几ぞ几層状になって流几下ゐ
。二つの塗布液層は互に接して混り合うことなく、スラ
イド面全流几下り、ビード部に達する。減圧室７は真空
ポンプどと結合さＴ″したビード安定用背圧供給手段で
ある。
られて整送さ′ｎるウェブ、２に近接して塗布ヘッド３
が設置さ几ている。塗布ヘッド３Ｖｃは計量ポンプ／ハ
／、２により塗布液≠、ｊが供給さｆ’ｓ、 ６ ｏ
各塗布液に塗布ヘッド３の上部スリット状開口から押し
出さ几、スライド面上全そ几ぞ几層状になって流几下ゐ
。二つの塗布液層は互に接して混り合うことなく、スラ
イド面全流几下り、ビード部に達する。減圧室７は真空
ポンプどと結合さＴ″したビード安定用背圧供給手段で
ある。
第２図は本発明の一実施態様を示す塗布装置の袋部側面
図で、スライド面下端部乙の詳細図である。すなわち、
本発明装置は塗布ヘッド３の先端部（「リップ」とも称
する。）に撥水性樹脂り全施し７こものであめ。本発明
装置全作成するには、第３図に示す如く、先端部に凹部
１０ｆ設け、ここに撥水性樹脂を吹き付けた後研磨仕上
げを行なう。本発明において、ヘッド３の先端部に撥水
性樹脂りを施す形態は第弘図に示す如き形態でも良い０ 本発明において、撥水性樹脂とは、罠とえば、フッ素樹
脂、ポリアセタール樹脂、ポリエチレン仙脂、ポリスチ
レン′！ＩＢ脂等を挙けることが出来、こ２’Ｌらのう
ちでもテフロン（米国Ｄｕ ｐ ｏ ｎ ｔ 社曲品名
）の名で知らｎ−イポリテトラフルオルエチレン、チル
リン（米国Ｄｕｐｏｎｔ 社商品名）の名で知ら′ｎる
ポリアセタール樹脂の如き塗布液に対し孤水性を有する
樹脂を総称する。本発明装置においては、かかる撥水性
樹脂りが塗布巾全中に亘り、塗布ヘッド３の先端部に施
される。本発明装置に於て塗布ヘッド３の先端部に施さ
れる撥水性樹月旨の厚みＩｄＯ，／ｍｙないしハＯｍＪ
ｎｓ ウェブ進行方向の長さはｊｗｎないし２０ＷＩｎ
程度が望ましい。これらの値以下では、撥水性樹脂の効
果が現れず、こｎらの値以上では塗布ヘッドの積度の維
持力Ｓ困難になる。
図で、スライド面下端部乙の詳細図である。すなわち、
本発明装置は塗布ヘッド３の先端部（「リップ」とも称
する。）に撥水性樹脂り全施し７こものであめ。本発明
装置全作成するには、第３図に示す如く、先端部に凹部
１０ｆ設け、ここに撥水性樹脂を吹き付けた後研磨仕上
げを行なう。本発明において、ヘッド３の先端部に撥水
性樹脂りを施す形態は第弘図に示す如き形態でも良い０ 本発明において、撥水性樹脂とは、罠とえば、フッ素樹
脂、ポリアセタール樹脂、ポリエチレン仙脂、ポリスチ
レン′！ＩＢ脂等を挙けることが出来、こ２’Ｌらのう
ちでもテフロン（米国Ｄｕ ｐ ｏ ｎ ｔ 社曲品名
）の名で知らｎ−イポリテトラフルオルエチレン、チル
リン（米国Ｄｕｐｏｎｔ 社商品名）の名で知ら′ｎる
ポリアセタール樹脂の如き塗布液に対し孤水性を有する
樹脂を総称する。本発明装置においては、かかる撥水性
樹脂りが塗布巾全中に亘り、塗布ヘッド３の先端部に施
される。本発明装置に於て塗布ヘッド３の先端部に施さ
れる撥水性樹月旨の厚みＩｄＯ，／ｍｙないしハＯｍＪ
ｎｓ ウェブ進行方向の長さはｊｗｎないし２０ＷＩｎ
程度が望ましい。これらの値以下では、撥水性樹脂の効
果が現れず、こｎらの値以上では塗布ヘッドの積度の維
持力Ｓ困難になる。
本゛発明装置によｎば、高速薄層塗布時に減圧室７の真
空度を高めても撥水性樹脂りの撥水効果によムスライド
面下端部において塗布液の落ち込みを防ぐことができ、
同時にウェブの外側への液の回り込みも防止することが
できる。
空度を高めても撥水性樹脂りの撥水効果によムスライド
面下端部において塗布液の落ち込みを防ぐことができ、
同時にウェブの外側への液の回り込みも防止することが
できる。
本明細曹において「液接触角の低い液体」とは、表面張
力３０ ｄ ７ ｎ ｅ ／ ｃｎｒ以下の物性の液体
を指し、「低粘度の液体」とは粘ｆ１０ＣＰＳ以下の物
性の液体を云う。本発明装置により塗布する塗布液に例
えば、アセトン、メタノール、エタノール、塩化メチル
、ブタノール、メチルグリコールメチルエチルケトン、
メチルプロピルケトン、エチルセロソルフ、エチルアセ
テート、フェノールレジン及びこ几らと水との組合わせ
又はと扛らの１部の組合わせ等写真材料、記録材料に用
いる溶剤塗布液を云う。
力３０ ｄ ７ ｎ ｅ ／ ｃｎｒ以下の物性の液体
を指し、「低粘度の液体」とは粘ｆ１０ＣＰＳ以下の物
性の液体を云う。本発明装置により塗布する塗布液に例
えば、アセトン、メタノール、エタノール、塩化メチル
、ブタノール、メチルグリコールメチルエチルケトン、
メチルプロピルケトン、エチルセロソルフ、エチルアセ
テート、フェノールレジン及びこ几らと水との組合わせ
又はと扛らの１部の組合わせ等写真材料、記録材料に用
いる溶剤塗布液を云う。
本発明に使用さｎ，るウェブとしては、紙、プラスチッ
クフィルム、金属、レジンコーチイツト紙、合成紙等が
包含さｔｌ．る。プラスチックフィルムの拐貿ニ、たと
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン、ポリ酢酸ヒ６ニル、ホＩＪ ｆｆｌ化ビニル、ポリ
スチレン等のビニル重合体、乙。
クフィルム、金属、レジンコーチイツト紙、合成紙等が
包含さｔｌ．る。プラスチックフィルムの拐貿ニ、たと
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン、ポリ酢酸ヒ６ニル、ホＩＪ ｆｆｌ化ビニル、ポリ
スチレン等のビニル重合体、乙。
ｔ−ナイロン、６−ナイロン等のポリアミド、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−２。
レンテレフタレート、ポリエチレン−２。
６−ナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート
、セルローストリアセテート、セルロースクイアセテー
ト等のセルロースアセテート等が使用さｒする。またレ
シンコーチイツト紙に用いる樹脂としては、ポリエチレ
ンｔはじめとす／）、ｌセリオレフィンが代表旧である
が、必ずしもこｎに限定さＩＬない。又、金属ウェブと
しては、例えはアルミニウムウェブがある。
、セルローストリアセテート、セルロースクイアセテー
ト等のセルロースアセテート等が使用さｒする。またレ
シンコーチイツト紙に用いる樹脂としては、ポリエチレ
ンｔはじめとす／）、ｌセリオレフィンが代表旧である
が、必ずしもこｎに限定さＩＬない。又、金属ウェブと
しては、例えはアルミニウムウェブがある。
以下、本発明の効果音一層明瞭ならしめるため、実施例
をあける。
をあける。
実施例１
第３図において先端凹部１０の寸法が以下の値の塗布ブ
ロック３を機械加工によジ作成した；ａ ；０− ’
喘ｒ ｂ−’ −’ ｍｌｌ ＋ Ｃ−”、 （’ ４
ｊ ｒｍｎｄ：／Ｊ、０聴 先端凹部１０の表面を洗浄した後、エア・ガンによ・リ
テフロン液を吹きっけ約０− ／鶏の厚さとした。その
後膣先端部を研磨仕上げして第１図。
ロック３を機械加工によジ作成した；ａ ；０− ’
喘ｒ ｂ−’ −’ ｍｌｌ ＋ Ｃ−”、 （’ ４
ｊ ｒｍｎｄ：／Ｊ、０聴 先端凹部１０の表面を洗浄した後、エア・ガンによ・リ
テフロン液を吹きっけ約０− ／鶏の厚さとした。その
後膣先端部を研磨仕上げして第１図。
第２図に示す如き塗布装置とした。
上記の塗布装置を用いて、厚さ／θ０μ２ｎ、幅１ｏｏ
ｏｙ、、のポリエチレンテレフタレートウェブの表面に
第１表に示す組成及び物性を有する塗布液全塗布した。
ｏｙ、、のポリエチレンテレフタレートウェブの表面に
第１表に示す組成及び物性を有する塗布液全塗布した。
第１表
毎分ｊＯｍの塗布速度で、減圧室７の真空度を３０ ｒ
ｒｒｎ＋ ＨｚＯトして、ｚ ｏ ｃｃ／ｍ２）’ｉＷ
ｉＪｍ塗布’ｒ：行なっても、ビードの落ち込みにょ６
スジ等の故障あ／）込は塗布量の異常は発生しなかつ罠
。父、ウェブ側端部にうす塗少スジも発止せず、長時間
安定な塗布が可能であった。
ｒｒｎ＋ ＨｚＯトして、ｚ ｏ ｃｃ／ｍ２）’ｉＷ
ｉＪｍ塗布’ｒ：行なっても、ビードの落ち込みにょ６
スジ等の故障あ／）込は塗布量の異常は発生しなかつ罠
。父、ウェブ側端部にうす塗少スジも発止せず、長時間
安定な塗布が可能であった。
こ几と比較して、先端部に撥水性樹脂を流さなり場合に
は塗布量をｊ Ｏ００７ｍ２ＶＣ上けないと、ビードの
洛ち込みゃウェブ側端部のうす塗りスジが発止して安定
な塗布を行なうことができなかった。
は塗布量をｊ Ｏ００７ｍ２ＶＣ上けないと、ビードの
洛ち込みゃウェブ側端部のうす塗りスジが発止して安定
な塗布を行なうことができなかった。
実施例２
実施例１と同寸法の第３図塗布ブロック３全機械加工に
より作成し、先端四部１０の表面を洗浄した後、エア・
ガンによりテフロン液を吹きつけ約０．／ｒｉｍの厚さ
とした。その後スライド面／３を約０− ｊｔＴｔｍ厚
削り落とし、先端部全研磨仕上げして第７図、第弘図に
示す如き塗布装置とした。
より作成し、先端四部１０の表面を洗浄した後、エア・
ガンによりテフロン液を吹きつけ約０．／ｒｉｍの厚さ
とした。その後スライド面／３を約０− ｊｔＴｔｍ厚
削り落とし、先端部全研磨仕上げして第７図、第弘図に
示す如き塗布装置とした。
上記の塗布装置を用いて、厚さ、２００μｍ１幅ｔｏｏ
鴎のアルミニウムウェブの表面に第２表に示す組成及び
物性を有する塗布液を塗布し罠。
鴎のアルミニウムウェブの表面に第２表に示す組成及び
物性を有する塗布液を塗布し罠。
毎分７０ｍの塗布速度で、減圧室７の真空度を一弘ｊ鴎
Ｈ２０として２３ｃｃ／ｍ２の薄層塗布を行なっでも、
ビードの落ち込みによるスジ等の故障あるいは塗布量の
異常は発生しなかった。又、ウェブ側端部にうす塗りス
ジも発生せず、長時間安定な塗布が可能であった。
Ｈ２０として２３ｃｃ／ｍ２の薄層塗布を行なっでも、
ビードの落ち込みによるスジ等の故障あるいは塗布量の
異常は発生しなかった。又、ウェブ側端部にうす塗りス
ジも発生せず、長時間安定な塗布が可能であった。
こ九と比較して、先端部に撥水性樹脂を施さない場合に
は塗布量をにＯＣｃ／ｍ２に上けないと、ビルドの落ち
込みやウェブ側端部のウス塗りスジが発生して安定な塗
布を行なうことができなかつ′ｆｃ、Ｏ 本発明は写真感光フィルムの下塗液を塗布する場合にも
鳴動である。こｎ−らは例えば、アルコール（メタノー
ル、エタノール、イソブロノξノール、メトキシエタノ
ール、アセトキシエタノール、エトキシエタノール、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレン
グリコール、メトキシエタノール、フェノキシエタノー
ル、７エ二ルフロパノール、シクロヘキサノール、ベン
ジルアルコール、フェノール、ｔ−ブチルフェノール、
フリフリルアルコール、トリプロピレングリコールなど
）、炭化水素（ヘキサン、リグロイン、シ
□クロヘキサン、デリカン、オクタンなト）、ハロ
ゲン化炭化水素（ジクロルメタン、クロロホルム、メチ
ルクロロホルム、四塩化炭素、ジクロルエタンｂ ト
’）クロルエタン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼン
ナト）、エーテル（エチルエーテル、ジメトキシエタン
、ジイソプロピルエーテル、エチルフェニルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール、プロピ
レンオキサイド、モルホリンなど）、芳香族炭化水素（
ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シメ
ン、キュメン、スチレンなど）、ラクトン、ラクタム（
ブチロラクトン、アセチルブチロラクトン、ピロリドン
、Ｎ−メチルチロリドン、ビニルピロリドンなど）、ア
ミド（ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、
ホルムアミド、ジエチルアセトアミド、ホルミルモルホ
リン、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルア
ミド、テトラメチル尿素など）、ケトン（アセトン、メ
チルエチルケトン、メシチルオキシド、メチルイソブチ
ルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン、
メチルシクロヘキサノン、アセトフェノンなど）、アセ
トニトリル、ニトロプロパン、ジメチルシアナミド、二
硫化炭素、ジメチルスルホキサイド、メチルエチルスル
ホキシド、ジエチルスルホキシド、スルホラン、エステ
ル（蟻酸メチル、フタル酸ジメチル、酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸シクロヘキシル、酢酸アミル、酢酸ブチル
、β−メトキシエチルアセテート、β−ブトキシエチル
アセテート、プロピオン酸プロピル、シュウ酸ジメチル
、マレイン酸ジメチルなど）、酸（蟻酸酢酸、酪酸、ア
クリル酸、メタクリル酸など）、アミン（ピリジン）、
の中から、画業者が溶解性、乾燥しやすさ、反応性、臭
気、水との相溶性、価格などを参考にして、容易に一種
もしくはそれ以上を選ぶことができる。
は塗布量をにＯＣｃ／ｍ２に上けないと、ビルドの落ち
込みやウェブ側端部のウス塗りスジが発生して安定な塗
布を行なうことができなかつ′ｆｃ、Ｏ 本発明は写真感光フィルムの下塗液を塗布する場合にも
鳴動である。こｎ−らは例えば、アルコール（メタノー
ル、エタノール、イソブロノξノール、メトキシエタノ
ール、アセトキシエタノール、エトキシエタノール、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレン
グリコール、メトキシエタノール、フェノキシエタノー
ル、７エ二ルフロパノール、シクロヘキサノール、ベン
ジルアルコール、フェノール、ｔ−ブチルフェノール、
フリフリルアルコール、トリプロピレングリコールなど
）、炭化水素（ヘキサン、リグロイン、シ
□クロヘキサン、デリカン、オクタンなト）、ハロ
ゲン化炭化水素（ジクロルメタン、クロロホルム、メチ
ルクロロホルム、四塩化炭素、ジクロルエタンｂ ト
’）クロルエタン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼン
ナト）、エーテル（エチルエーテル、ジメトキシエタン
、ジイソプロピルエーテル、エチルフェニルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール、プロピ
レンオキサイド、モルホリンなど）、芳香族炭化水素（
ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シメ
ン、キュメン、スチレンなど）、ラクトン、ラクタム（
ブチロラクトン、アセチルブチロラクトン、ピロリドン
、Ｎ−メチルチロリドン、ビニルピロリドンなど）、ア
ミド（ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、
ホルムアミド、ジエチルアセトアミド、ホルミルモルホ
リン、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルア
ミド、テトラメチル尿素など）、ケトン（アセトン、メ
チルエチルケトン、メシチルオキシド、メチルイソブチ
ルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン、
メチルシクロヘキサノン、アセトフェノンなど）、アセ
トニトリル、ニトロプロパン、ジメチルシアナミド、二
硫化炭素、ジメチルスルホキサイド、メチルエチルスル
ホキシド、ジエチルスルホキシド、スルホラン、エステ
ル（蟻酸メチル、フタル酸ジメチル、酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸シクロヘキシル、酢酸アミル、酢酸ブチル
、β−メトキシエチルアセテート、β−ブトキシエチル
アセテート、プロピオン酸プロピル、シュウ酸ジメチル
、マレイン酸ジメチルなど）、酸（蟻酸酢酸、酪酸、ア
クリル酸、メタクリル酸など）、アミン（ピリジン）、
の中から、画業者が溶解性、乾燥しやすさ、反応性、臭
気、水との相溶性、価格などを参考にして、容易に一種
もしくはそれ以上を選ぶことができる。
然しなから、本発明は実施例もしくは上記有機溶剤に限
らず、低粘度で濡ｎの良い、水系の塗布液にも、本発明
の技術的範囲内で適用可能である。
らず、低粘度で濡ｎの良い、水系の塗布液にも、本発明
の技術的範囲内で適用可能である。
又、撥水性樹脂はホッパースライド塗布装置に限らず、
第５図に示す如くエクストルージョンホッパー型塗布装
置の先端部にも施すと同様の効果を期待できる。
第５図に示す如くエクストルージョンホッパー型塗布装
置の先端部にも施すと同様の効果を期待できる。
第１図は本発明に係る塗布装置を示す断面図、第２図、
第４図はその要部断面図、第３図は装置の製作過程を示
す図である。又、第３図は本発明に係る装置の他の実施
態様全示す要部断面図である。 ｌ、・・・・・・塗布バックアップロールλ・・・・・
・ウェブ ３・・・・・・塗布ヘッド 弘、！・・・・・・塗布液 り・・・・・・撥水性樹脂 特許出願人 富士写真フィルム株式会社第１図 ２ 第２図 第３図 １ス 第 ４ 第５図
第４図はその要部断面図、第３図は装置の製作過程を示
す図である。又、第３図は本発明に係る装置の他の実施
態様全示す要部断面図である。 ｌ、・・・・・・塗布バックアップロールλ・・・・・
・ウェブ ３・・・・・・塗布ヘッド 弘、！・・・・・・塗布液 り・・・・・・撥水性樹脂 特許出願人 富士写真フィルム株式会社第１図 ２ 第２図 第３図 １ス 第 ４ 第５図
Claims (1)
- 走行する支持体に１種以上の塗布液を塗布するホッパー
型塗布装置において、先端部に撥水性樹脂を施したこと
を特徴とするホッパー型塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6600483A JPS59189963A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6600483A JPS59189963A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59189963A true JPS59189963A (ja) | 1984-10-27 |
| JPH0157629B2 JPH0157629B2 (ja) | 1989-12-06 |
Family
ID=13303365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6600483A Granted JPS59189963A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59189963A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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