JPH0561026A - 液晶基板及びそれを用いた液晶デイスプレイ - Google Patents
液晶基板及びそれを用いた液晶デイスプレイInfo
- Publication number
- JPH0561026A JPH0561026A JP28950091A JP28950091A JPH0561026A JP H0561026 A JPH0561026 A JP H0561026A JP 28950091 A JP28950091 A JP 28950091A JP 28950091 A JP28950091 A JP 28950091A JP H0561026 A JPH0561026 A JP H0561026A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- norbornane
- resin
- polymer
- crystal substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂から成るシ
ートやそれに透明電極層などを積層したものである液晶
基板、及びそれを用いた液晶ディスプレイ。 【効果】 本発明の液晶基板は熱可塑性飽和ノルボルネ
ン系樹脂から成るシートであるので、透明性、耐熱性、
耐湿性、強度、耐水性、電気絶縁性、耐溶剤性、酸やア
ルカリ等への耐薬品性、低複屈折性に優れ、また、光弾
性係数が小さいため、光学的に均一であり、曲面の液晶
ディスプレイも製造可能である。また、本発明の液晶デ
ィスプレイは軽量であり、液晶基板の平滑性をよくする
ことにより、画像の歪みの小さいものを得ることができ
る。
ートやそれに透明電極層などを積層したものである液晶
基板、及びそれを用いた液晶ディスプレイ。 【効果】 本発明の液晶基板は熱可塑性飽和ノルボルネ
ン系樹脂から成るシートであるので、透明性、耐熱性、
耐湿性、強度、耐水性、電気絶縁性、耐溶剤性、酸やア
ルカリ等への耐薬品性、低複屈折性に優れ、また、光弾
性係数が小さいため、光学的に均一であり、曲面の液晶
ディスプレイも製造可能である。また、本発明の液晶デ
ィスプレイは軽量であり、液晶基板の平滑性をよくする
ことにより、画像の歪みの小さいものを得ることができ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶基板およびそれを
用いた液晶ディスプレイに関し、さらに詳しくは、熱可
塑性飽和ノルボルネン系樹脂から成る液晶基板およびそ
れを用いた液晶ディスプレイに関する。
用いた液晶ディスプレイに関し、さらに詳しくは、熱可
塑性飽和ノルボルネン系樹脂から成る液晶基板およびそ
れを用いた液晶ディスプレイに関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶基板とは、液晶ディスプレイの構成
部品であり、液晶ディスプレイにおいては、２枚の液晶
基板の間に液晶が封入される。
部品であり、液晶ディスプレイにおいては、２枚の液晶
基板の間に液晶が封入される。
【０００３】従来、液晶基板においては主としてガラス
が使われてきた。しかし、薄いと割れやすく、厚みを持
たせると重くなる、さらに、柔軟性がないため曲面の液
晶ディスプレイ用の液晶基板などには用いることが困難
であるという欠点があった。そのため、これらの欠点を
有さない透明性の高い光学材料用の樹脂が用いられるよ
うになってきた。そのような光学材料用樹脂としては、
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル
系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）系樹脂、ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）などのポリエステル系樹脂
が主として用いられている。しかしながら、ＰＣ系樹脂
は複屈折が大きく、また、アクリル系樹脂、ポリエステ
ル系樹脂は吸水性が大きく、耐熱性も不十分であるた
め、使用環境によっては、液晶等が劣化しやすく、ます
ます高度化する要求に答えることが困難となってきてい
る。
が使われてきた。しかし、薄いと割れやすく、厚みを持
たせると重くなる、さらに、柔軟性がないため曲面の液
晶ディスプレイ用の液晶基板などには用いることが困難
であるという欠点があった。そのため、これらの欠点を
有さない透明性の高い光学材料用の樹脂が用いられるよ
うになってきた。そのような光学材料用樹脂としては、
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル
系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）系樹脂、ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）などのポリエステル系樹脂
が主として用いられている。しかしながら、ＰＣ系樹脂
は複屈折が大きく、また、アクリル系樹脂、ポリエステ
ル系樹脂は吸水性が大きく、耐熱性も不十分であるた
め、使用環境によっては、液晶等が劣化しやすく、ます
ます高度化する要求に答えることが困難となってきてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明によれば、透明
性、低複屈折性、耐熱性、耐湿性、耐水性、耐溶剤、酸
やアルカリ等への耐薬品性、加工性、重量に対する強
度、柔軟性に優れた液晶基板が提供される。
性、低複屈折性、耐熱性、耐湿性、耐水性、耐溶剤、酸
やアルカリ等への耐薬品性、加工性、重量に対する強
度、柔軟性に優れた液晶基板が提供される。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記従来
技術の有する問題点を克服するために鋭意研究した結
果、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂を用いて液晶基板
を成形することにより前記課題を達成できることを見い
だした。
技術の有する問題点を克服するために鋭意研究した結
果、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂を用いて液晶基板
を成形することにより前記課題を達成できることを見い
だした。
【０００６】（熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂）本発
明の熱可塑性ノルボルネン系樹脂は、特開平３−１４８
８２号や特開平３−１２２１３７号などで公知の樹脂で
あり、具体的には、ノルボルネン系単量体の開環重合
体、その水素添加物、ノルボルネン系単量体の付加型重
合体、ノルボルネン系単量体とオレフィンの付加型重合
体などが挙げられる。
明の熱可塑性ノルボルネン系樹脂は、特開平３−１４８
８２号や特開平３−１２２１３７号などで公知の樹脂で
あり、具体的には、ノルボルネン系単量体の開環重合
体、その水素添加物、ノルボルネン系単量体の付加型重
合体、ノルボルネン系単量体とオレフィンの付加型重合
体などが挙げられる。
【０００７】ノルボルネン系単量体も、上記公報や特開
平２−２２７４２４号、特開平２−２７６８４２号など
で公知の単量体であって、例えば、ノルボルネン、その
アルキル、アルキリデン、芳香族置換誘導体およびこれ
ら置換または非置換のオレフィンのハロゲン、水酸基、
エステル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミ
ド基、シリル基等の極性基置換体、例えば、２−ノルボ
ルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、５，５−ジメ
チル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネ
ン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−
２−ノルボルネン、５−メトキシカルボニル−２−ノル
ボルネン、５−シアノ−２−ノルボルネン、５−メチル
−５−メトキシカルボニル−２−ノルボルネン、５−フ
ェニル−２−ノルボルネン、５−フェニル−５−メチル
−２−ノルボルネン等；ノルボルネンに一つ以上のシク
ロペンタジエンが付加した単量体、その上記と同様の誘
導体や置換体、例えば、１，４：５，８−ジメタノ−
１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−２，３−シクロ
ペンタジエノナフタレン、６−メチル−１，４：５，８
−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オ
クタヒドロナフタレン、１，４：５，１０：６，９−ト
リメタノ−１，２，３，４，４ａ，５，５ａ，６，９，
９ａ，１０，１０ａ−ドデカヒドロ−２，３−シクロペ
ンタジエノアントラセン等；シクロペンタジエンの多量
体である多環構造の単量体、その上記と同様の誘導体や
置換体、例えば、ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒ
ドロジシクロペンタジエン等；シクロペンタジエンとテ
トラヒドロインデン等との付加物、その上記と同様の誘
導体や置換体、例えば、１，４−メタノ−１，４，４
ａ，４ｂ，５，８，８ａ，９ａ−オクタヒドロフルオレ
ン、５，８−メタノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，
８ａ−オクタヒドロ−２，３−シクロペンタジエノナフ
タレン等；等が挙げられる。
平２−２２７４２４号、特開平２−２７６８４２号など
で公知の単量体であって、例えば、ノルボルネン、その
アルキル、アルキリデン、芳香族置換誘導体およびこれ
ら置換または非置換のオレフィンのハロゲン、水酸基、
エステル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミ
ド基、シリル基等の極性基置換体、例えば、２−ノルボ
ルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、５，５−ジメ
チル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネ
ン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−
２−ノルボルネン、５−メトキシカルボニル−２−ノル
ボルネン、５−シアノ−２−ノルボルネン、５−メチル
−５−メトキシカルボニル−２−ノルボルネン、５−フ
ェニル−２−ノルボルネン、５−フェニル−５−メチル
−２−ノルボルネン等；ノルボルネンに一つ以上のシク
ロペンタジエンが付加した単量体、その上記と同様の誘
導体や置換体、例えば、１，４：５，８−ジメタノ−
１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−２，３−シクロ
ペンタジエノナフタレン、６−メチル−１，４：５，８
−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オ
クタヒドロナフタレン、１，４：５，１０：６，９−ト
リメタノ−１，２，３，４，４ａ，５，５ａ，６，９，
９ａ，１０，１０ａ−ドデカヒドロ−２，３−シクロペ
ンタジエノアントラセン等；シクロペンタジエンの多量
体である多環構造の単量体、その上記と同様の誘導体や
置換体、例えば、ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒ
ドロジシクロペンタジエン等；シクロペンタジエンとテ
トラヒドロインデン等との付加物、その上記と同様の誘
導体や置換体、例えば、１，４−メタノ−１，４，４
ａ，４ｂ，５，８，８ａ，９ａ−オクタヒドロフルオレ
ン、５，８−メタノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，
８ａ−オクタヒドロ−２，３−シクロペンタジエノナフ
タレン等；等が挙げられる。
【０００８】ノルボルネン系単量体の重合は公知の方法
でよく、必要に応じて、水素添加することにより、熱可
塑性ノルボルネン系樹脂水素添加物とすることができ
る。
でよく、必要に応じて、水素添加することにより、熱可
塑性ノルボルネン系樹脂水素添加物とすることができ
る。
【０００９】なお、本発明においてはノルボルネン系モ
ノマーを公知の方法で開環重合させる場合には、本発明
の効果を実質的に妨げない範囲において開環重合可能な
他のシクロオレフィン類を併用することができる。この
ようなシクロオレフィンの具体例としては、例えば、シ
クロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシ
クロペンタジエンなどのごとき反応性の二重結合を１個
以上有する化合物が例示される。
ノマーを公知の方法で開環重合させる場合には、本発明
の効果を実質的に妨げない範囲において開環重合可能な
他のシクロオレフィン類を併用することができる。この
ようなシクロオレフィンの具体例としては、例えば、シ
クロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシ
クロペンタジエンなどのごとき反応性の二重結合を１個
以上有する化合物が例示される。
【００１０】本発明で使用する熱可塑性飽和ノルボルネ
ン系樹脂の数平均分子量は、トルエン溶媒によるＧＰＣ
（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ）法で測
定して、１０，０００〜２００，０００、好ましくは２
０，０００〜１５０，０００、より好ましくは２５，０
００〜１２０，０００である。数平均分子量が小さすぎ
ると機械的強度が劣り、大きすぎると成形性が悪くな
る。
ン系樹脂の数平均分子量は、トルエン溶媒によるＧＰＣ
（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ）法で測
定して、１０，０００〜２００，０００、好ましくは２
０，０００〜１５０，０００、より好ましくは２５，０
００〜１２０，０００である。数平均分子量が小さすぎ
ると機械的強度が劣り、大きすぎると成形性が悪くな
る。
【００１１】また、ノルボルネン系モノマーの開環重合
体を水素添加する場合、水素添加率は耐熱劣化性、耐光
劣化性などの観点から、９０％以上、好ましくは９５％
以上、より好ましくは、９９％以上とする。
体を水素添加する場合、水素添加率は耐熱劣化性、耐光
劣化性などの観点から、９０％以上、好ましくは９５％
以上、より好ましくは、９９％以上とする。
【００１２】なお、液晶基板として、後述のように耐水
性、耐湿性がよいものが好ましく、特に耐水性、耐湿性
がよいものが必要な場合は、極性基を有さない熱可塑性
飽和ノルボルネン系樹脂が好ましい。
性、耐湿性がよいものが好ましく、特に耐水性、耐湿性
がよいものが必要な場合は、極性基を有さない熱可塑性
飽和ノルボルネン系樹脂が好ましい。
【００１３】（添加物）本発明で用いる熱可塑性飽和ノ
ルボルネン系樹脂には、所望により、フェノール系やリ
ン系などの老化防止剤、耐電防止剤、紫外線吸収剤など
の各種添加剤を添加してもよい。液晶は紫外線によって
変質するので、紫外線吸収剤を添加することは好まし
い。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸
収剤、ベンゾトリアゾル系紫外線吸収剤、アクリルニト
リル系紫外線吸収剤などを用いることができ、添加量
は、通常１０〜１００，０００ｐｐｍ、好ましくは１０
０〜１０，０００ｐｐｍである。溶液流延法で基板を成
形する場合には、表面粗さを小さくするため、レベリン
グ剤の添加も好ましい。レベリング剤は、例えば、フッ
素系ノニオン界面活性剤、特殊アクリル樹脂系レベリン
グ剤、シリコーン系レベリング剤など塗料用レベリング
剤を用いることができ、それらの中でも溶媒との相溶性
の良いものが好ましく、添加量は、通常は５〜５０，０
００ｐｐｍ、好ましくは１０〜２０，０００ｐｐｍであ
る。
ルボルネン系樹脂には、所望により、フェノール系やリ
ン系などの老化防止剤、耐電防止剤、紫外線吸収剤など
の各種添加剤を添加してもよい。液晶は紫外線によって
変質するので、紫外線吸収剤を添加することは好まし
い。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸
収剤、ベンゾトリアゾル系紫外線吸収剤、アクリルニト
リル系紫外線吸収剤などを用いることができ、添加量
は、通常１０〜１００，０００ｐｐｍ、好ましくは１０
０〜１０，０００ｐｐｍである。溶液流延法で基板を成
形する場合には、表面粗さを小さくするため、レベリン
グ剤の添加も好ましい。レベリング剤は、例えば、フッ
素系ノニオン界面活性剤、特殊アクリル樹脂系レベリン
グ剤、シリコーン系レベリング剤など塗料用レベリング
剤を用いることができ、それらの中でも溶媒との相溶性
の良いものが好ましく、添加量は、通常は５〜５０，０
００ｐｐｍ、好ましくは１０〜２０，０００ｐｐｍであ
る。
【００１４】（成形加工）本発明の熱可塑性ノルボルネ
ン系重合体水素添加物は常法に従ってシートである液晶
基板に成形する。しかし、液晶基板は、厚さムラが大き
い、または表面の平滑性に劣ると液晶ディスプレイの画
像の歪みが大きく、実用上問題がある。厚さムラは全面
で±５０μｍ以下、Ｒｍａｘ値が０．２μｍ以下でなく
ては、画像の判別が困難であるなどの不都合がある。厚
さムラが全面で±２５μｍ以下、Ｒｍａｘ値が０．１μ
ｍ以下が好ましく、特に厚さムラが全面で±２０μｍ以
下、Ｒｍａｘ値が０．０８μｍ以下のものが好ましい。
厚さムラの小さな成形法としては、充分に研磨した金型
を用いる射出成形法などがある。
ン系重合体水素添加物は常法に従ってシートである液晶
基板に成形する。しかし、液晶基板は、厚さムラが大き
い、または表面の平滑性に劣ると液晶ディスプレイの画
像の歪みが大きく、実用上問題がある。厚さムラは全面
で±５０μｍ以下、Ｒｍａｘ値が０．２μｍ以下でなく
ては、画像の判別が困難であるなどの不都合がある。厚
さムラが全面で±２５μｍ以下、Ｒｍａｘ値が０．１μ
ｍ以下が好ましく、特に厚さムラが全面で±２０μｍ以
下、Ｒｍａｘ値が０．０８μｍ以下のものが好ましい。
厚さムラの小さな成形法としては、充分に研磨した金型
を用いる射出成形法などがある。
【００１５】さらに、精度の高い正確な画像を得るため
には厚さムラ、Ｒｍａｘ値は小さいほど好ましく、厚さ
ムラが全面で±１０μｍ 以下、好ましくは±５μｍ以
下、より好ましくは±２μｍ以下、Ｒｍａｘ値は０．０
７μｍ以下、好ましくは０．０５μｍ以下、より好まし
くは０．０３μｍ以下の液晶基板が必要である。しか
し、充分に研磨した金型を用いる射出成形法でも、Ｒｍ
ａｘ値が０．０６μｍ以下の液晶基板を得ることは困難
である。
には厚さムラ、Ｒｍａｘ値は小さいほど好ましく、厚さ
ムラが全面で±１０μｍ 以下、好ましくは±５μｍ以
下、より好ましくは±２μｍ以下、Ｒｍａｘ値は０．０
７μｍ以下、好ましくは０．０５μｍ以下、より好まし
くは０．０３μｍ以下の液晶基板が必要である。しか
し、充分に研磨した金型を用いる射出成形法でも、Ｒｍ
ａｘ値が０．０６μｍ以下の液晶基板を得ることは困難
である。
【００１６】Ｒｍａｘ値が０．０６μｍ以下の液晶基板
を得るためには、成形後にさらに研磨すればよく、研磨
の効率の点からは金型を充分に研磨した射出成形法が好
ましいが、他の成形方法、例えば、通常の射出成形法、
押出成形法、圧縮成形法、溶液流延法など、通常の樹脂
に用いられる成形法であっても構わない。
を得るためには、成形後にさらに研磨すればよく、研磨
の効率の点からは金型を充分に研磨した射出成形法が好
ましいが、他の成形方法、例えば、通常の射出成形法、
押出成形法、圧縮成形法、溶液流延法など、通常の樹脂
に用いられる成形法であっても構わない。
【００１７】研磨する方法は、熱硬化性樹脂の平面を研
磨する際に通常用いられている方法であればよく、例え
ば、遊離砥粒によるラッピング加工、同じくポリシング
加工、研磨布紙加工、鏡面切削、バレル加工などが採用
でき、中でも遊離砥粒によるポリシング加工などが好ま
しい。また、研磨前の成形品の表面の最大高さが大きい
場合は、遊離砥粒によるラッピング加工を行ってある程
度研磨した後、遊離砥粒によるポリシング加工により研
磨することが好ましい。遊離砥粒としては、アルミナ、
炭化ケイ素、シリカなどが好ましく、粒径は０．１〜２
０μｍのもの、特に０．５〜１０μｍのものが好まし
い。粒径が小さすぎると研磨の効率が悪く、粒径が大き
すぎると研磨面の最大高さが大きくなる。
磨する際に通常用いられている方法であればよく、例え
ば、遊離砥粒によるラッピング加工、同じくポリシング
加工、研磨布紙加工、鏡面切削、バレル加工などが採用
でき、中でも遊離砥粒によるポリシング加工などが好ま
しい。また、研磨前の成形品の表面の最大高さが大きい
場合は、遊離砥粒によるラッピング加工を行ってある程
度研磨した後、遊離砥粒によるポリシング加工により研
磨することが好ましい。遊離砥粒としては、アルミナ、
炭化ケイ素、シリカなどが好ましく、粒径は０．１〜２
０μｍのもの、特に０．５〜１０μｍのものが好まし
い。粒径が小さすぎると研磨の効率が悪く、粒径が大き
すぎると研磨面の最大高さが大きくなる。
【００１８】（液晶基板）本発明の液晶基板は基本的に
熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂のシートであり、表面
の平滑性に優れていることから、画像の歪みが少なく、
また、本発明の液晶基板は透明性に優れており、そのた
め、明暗の差がはっきりした画像が得られる。さらに、
光弾性係数が小さいため、光学的に均一であり、曲面の
液晶ディスプレイのために曲げて使用することもでき
る。光弾性係数が小さいほど好ましく、９×１０ー13ｃ
ｍ2／ｄｙｎｅ、特に７×１０ー13ｃｍ2／ｄｙｎｅのシ
ートを用いることが好ましい。
熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂のシートであり、表面
の平滑性に優れていることから、画像の歪みが少なく、
また、本発明の液晶基板は透明性に優れており、そのた
め、明暗の差がはっきりした画像が得られる。さらに、
光弾性係数が小さいため、光学的に均一であり、曲面の
液晶ディスプレイのために曲げて使用することもでき
る。光弾性係数が小さいほど好ましく、９×１０ー13ｃ
ｍ2／ｄｙｎｅ、特に７×１０ー13ｃｍ2／ｄｙｎｅのシ
ートを用いることが好ましい。
【００１９】さらに、本発明の液晶基板は熱可塑性飽和
ノルボルネン系樹脂のシートであることにより、耐湿
性、耐水性に優れている。液晶基板を水分が透過すると
液晶や透明電極層が劣化することがあるので、吸湿性が
０．０５％以下、特に０．０１％以下のシートを用いる
ことが好ましい。また、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹
脂の酸素透過速度は１００μｍの厚さのシートで約１ｍ
ｌ／ｍ2・２４ｈｒｓ程度と小さいので、本願の液晶基
板は酸素の透過も充分に阻害し、酸素による液晶の劣化
も少ない。
ノルボルネン系樹脂のシートであることにより、耐湿
性、耐水性に優れている。液晶基板を水分が透過すると
液晶や透明電極層が劣化することがあるので、吸湿性が
０．０５％以下、特に０．０１％以下のシートを用いる
ことが好ましい。また、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹
脂の酸素透過速度は１００μｍの厚さのシートで約１ｍ
ｌ／ｍ2・２４ｈｒｓ程度と小さいので、本願の液晶基
板は酸素の透過も充分に阻害し、酸素による液晶の劣化
も少ない。
【００２０】そのほか、本発明の液晶基板は熱可塑性飽
和ノルボルネン系樹脂の成形品であることにより、低複
屈折性、耐熱性、耐溶剤、酸やアルカリ等への耐薬品
性、重量に対する強度などに優れている。
和ノルボルネン系樹脂の成形品であることにより、低複
屈折性、耐熱性、耐溶剤、酸やアルカリ等への耐薬品
性、重量に対する強度などに優れている。
【００２１】本発明の液晶基板は基本的に熱可塑性飽和
ノルボルネン系樹脂から成るシートであるが、実際の使
用にあたっては、使用目的などに応じて、透明電極層、
液晶配向層、ガスバリア性膜、偏向子、位相フィルムな
どが積層される。また、２枚の液晶基板の間の液晶を封
入する空間を設けるためのスペーサーを積層してもよ
い。なお、酸素の透過による劣化をより小さくし耐久性
をあげるなどの目的のためには、液晶基板と透明電極層
の間、または、基板と透明電極層の接着面と反対側に接
着材層等を介して、ポリビニリデンクロライド、ポリビ
ニルアルコールなどのガスバリア性材料を積層すること
が望ましい。これらを積層したものも液晶基板という場
合がある。
ノルボルネン系樹脂から成るシートであるが、実際の使
用にあたっては、使用目的などに応じて、透明電極層、
液晶配向層、ガスバリア性膜、偏向子、位相フィルムな
どが積層される。また、２枚の液晶基板の間の液晶を封
入する空間を設けるためのスペーサーを積層してもよ
い。なお、酸素の透過による劣化をより小さくし耐久性
をあげるなどの目的のためには、液晶基板と透明電極層
の間、または、基板と透明電極層の接着面と反対側に接
着材層等を介して、ポリビニリデンクロライド、ポリビ
ニルアルコールなどのガスバリア性材料を積層すること
が望ましい。これらを積層したものも液晶基板という場
合がある。
【００２２】（透明電極層）液晶ディスプレイの構成部
品として使用される時点で液晶基板には透明電極層が積
層されていなければならない。透明電極層は、可視光線
のある程度以上の光透過率が必要であり、通常５０％以
上、好ましくは７０％以上、比抵抗が１００Ωcm以下、
好ましくは５０Ωcm以下のものである。具体的には、Ａ
ｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｐｈなどの金属薄
膜、Ｉｎ2Ｏ3（Ｓｎ）、ＳｎＯ2（Ｓｂ）、ＳｎＯ2（Ｆ
ｅ）、ＣｄＯ、Ｃｄ2Ｏ3、ＣｄＳｎＯ4、ＴｉＯ2、Ｚｒ
Ｏ2、ＣｕＩなどの半導体及び酸化物半導体薄膜、Ｔｉ
Ｏx／Ａｇ／ＴｉＯx（ｘ≦２）などの多層薄膜、ポリビ
ニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、オリ
ゴ（ポリ）スチレンスルホン酸塩などの高分子電解質薄
膜系、ポリアニリン類、ポリチオフェン類、ポリピロー
ル類などの導電性高分子等を挙げることができる。これ
らの導電膜は、スプレー法、プラズマ法、気相反応系
（ＣＶＤ）、塗布法（ＣＬＤ）、真空蒸着法、ＲＦまた
はＤＣスパッタリング法、イオンプレーティング法、電
解重合法などの周知の方法でもって液晶基板上に積層さ
れる。また、導電性高分子は電解重合法または気相法に
よってフィルム中内部に形成することもできる。また、
ＴＴＦ−ＴＣＮＱ（テトラチオフルバレン−テトラシア
ノキシジメタン）などの錯体を含浸させることによって
導電性をもたせることもできる。
品として使用される時点で液晶基板には透明電極層が積
層されていなければならない。透明電極層は、可視光線
のある程度以上の光透過率が必要であり、通常５０％以
上、好ましくは７０％以上、比抵抗が１００Ωcm以下、
好ましくは５０Ωcm以下のものである。具体的には、Ａ
ｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｐｈなどの金属薄
膜、Ｉｎ2Ｏ3（Ｓｎ）、ＳｎＯ2（Ｓｂ）、ＳｎＯ2（Ｆ
ｅ）、ＣｄＯ、Ｃｄ2Ｏ3、ＣｄＳｎＯ4、ＴｉＯ2、Ｚｒ
Ｏ2、ＣｕＩなどの半導体及び酸化物半導体薄膜、Ｔｉ
Ｏx／Ａｇ／ＴｉＯx（ｘ≦２）などの多層薄膜、ポリビ
ニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、オリ
ゴ（ポリ）スチレンスルホン酸塩などの高分子電解質薄
膜系、ポリアニリン類、ポリチオフェン類、ポリピロー
ル類などの導電性高分子等を挙げることができる。これ
らの導電膜は、スプレー法、プラズマ法、気相反応系
（ＣＶＤ）、塗布法（ＣＬＤ）、真空蒸着法、ＲＦまた
はＤＣスパッタリング法、イオンプレーティング法、電
解重合法などの周知の方法でもって液晶基板上に積層さ
れる。また、導電性高分子は電解重合法または気相法に
よってフィルム中内部に形成することもできる。また、
ＴＴＦ−ＴＣＮＱ（テトラチオフルバレン−テトラシア
ノキシジメタン）などの錯体を含浸させることによって
導電性をもたせることもできる。
【００２３】（液晶ディスプレイ）本発明の液晶ディス
プレイは、基本的には、２枚の液晶基板とその間に封入
された液晶から成る液晶セルである。液晶セルは、通
常、液晶が漏れないように、２枚の液晶基板がその間に
スペーサーと呼ばれる枠を挟み込み、スペーサーの厚み
と液晶基板の面がつくる空間に液晶が封入されている。
スペーサーは、液晶と反応したり、酸素や水分を透過し
ない材料であれば、特に限定されない。曲面の液晶ディ
スプレイの場合などでは、ある程度の柔軟性があること
が好ましい。通常、液晶が漏れないように、スペーサー
と液晶基板は接着剤で接着されている。接着剤は、液晶
と反応しやすいものでなく、十分な接着性があるもので
あれば、特に限定されない。
プレイは、基本的には、２枚の液晶基板とその間に封入
された液晶から成る液晶セルである。液晶セルは、通
常、液晶が漏れないように、２枚の液晶基板がその間に
スペーサーと呼ばれる枠を挟み込み、スペーサーの厚み
と液晶基板の面がつくる空間に液晶が封入されている。
スペーサーは、液晶と反応したり、酸素や水分を透過し
ない材料であれば、特に限定されない。曲面の液晶ディ
スプレイの場合などでは、ある程度の柔軟性があること
が好ましい。通常、液晶が漏れないように、スペーサー
と液晶基板は接着剤で接着されている。接着剤は、液晶
と反応しやすいものでなく、十分な接着性があるもので
あれば、特に限定されない。
【００２４】また、用途、必要に応じて、偏向子、位相
フィルム、保護フィルム、反射膜またはバックライトな
どと液晶セルを組み合わせて、液晶ディスプレイとす
る。
フィルム、保護フィルム、反射膜またはバックライトな
どと液晶セルを組み合わせて、液晶ディスプレイとす
る。
【００２５】
【実施例】以下に参考例、実施例、及び比較例を挙げて
本発明をさらに具体的に説明する。
本発明をさらに具体的に説明する。
【００２６】参考例１ ６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４
ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン
に、重合触媒としてトリエチルアルミニウムの１５％シ
クロヘキサン溶液１０重量部、トリエチルアミン５重量
部、及び四塩化チタンの２０％シクロヘキサン溶液１０
重量部を添加して、シクロヘキサン中で開環重合し、得
られた開環重合体をニッケル触媒で水素添加してポリマ
ー溶液を得た。このポリマー溶液をイソプロピルアルコ
ール中で凝固させ、乾燥し、粉末状の樹脂を得た。この
樹脂の数平均分子量は４０，０００、水素添加率は９
９．８％以上、Ｔｇは１４２℃、残留溶媒濃度は０．０
５％であった。
ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン
に、重合触媒としてトリエチルアルミニウムの１５％シ
クロヘキサン溶液１０重量部、トリエチルアミン５重量
部、及び四塩化チタンの２０％シクロヘキサン溶液１０
重量部を添加して、シクロヘキサン中で開環重合し、得
られた開環重合体をニッケル触媒で水素添加してポリマ
ー溶液を得た。このポリマー溶液をイソプロピルアルコ
ール中で凝固させ、乾燥し、粉末状の樹脂を得た。この
樹脂の数平均分子量は４０，０００、水素添加率は９
９．８％以上、Ｔｇは１４２℃、残留溶媒濃度は０．０
５％であった。
【００２７】実施例１ 参考例１の樹脂１５重量部をクロロベンゼン８５重量部
に溶解して樹脂溶液を調製した。さらにレベリング剤
（フロラード ＦＣ−４３０、住友スリーエム製）と紫
外線安定剤（Ｖｉｏｓｏｒｂ ８０、共同製薬製）をそ
れぞれ、５００ｐｐｍ、３００ｐｐｍになるように添加
した。この溶液を表面研磨されたガラス板上にたらし、
これをバーコーターにより幅約３００ｍｍ、長さ約５０
０ｍｍに流延した。これを第１段階の乾燥としてガラス
板ごとホットプレート上に移し、５５℃で３０分間、さ
らに９０℃で３０分間乾燥させた。室温まで冷却後、シ
ートの一部を切取り、残留溶媒濃度を測定したところ、
２．０重量％であった。ついで、第２段階の乾燥として
ホットプレート上で１１０℃で３０分間、さらに１４０
℃で６０分間乾燥した。室温に冷却後、樹脂膜をガラス
板から剥離し、周囲１０ｍｍ幅を切り落としてシートを
得た。このシートの残留溶媒濃度は０．１１重量％であ
った。
に溶解して樹脂溶液を調製した。さらにレベリング剤
（フロラード ＦＣ−４３０、住友スリーエム製）と紫
外線安定剤（Ｖｉｏｓｏｒｂ ８０、共同製薬製）をそ
れぞれ、５００ｐｐｍ、３００ｐｐｍになるように添加
した。この溶液を表面研磨されたガラス板上にたらし、
これをバーコーターにより幅約３００ｍｍ、長さ約５０
０ｍｍに流延した。これを第１段階の乾燥としてガラス
板ごとホットプレート上に移し、５５℃で３０分間、さ
らに９０℃で３０分間乾燥させた。室温まで冷却後、シ
ートの一部を切取り、残留溶媒濃度を測定したところ、
２．０重量％であった。ついで、第２段階の乾燥として
ホットプレート上で１１０℃で３０分間、さらに１４０
℃で６０分間乾燥した。室温に冷却後、樹脂膜をガラス
板から剥離し、周囲１０ｍｍ幅を切り落としてシートを
得た。このシートの残留溶媒濃度は０．１１重量％であ
った。
【００２８】このシートの表面を目視および光学顕微鏡
で観察したが、発泡、スジ、傷などは観察されなかっ
た。Ｔｇは１４０℃、平均厚さは約１００μｍで厚さの
ばらつきは最大でも±２μｍ以下、両面ともＲｍａｘ値
は、０．１０μｍ以下、光線透過率は９０．５％、複屈
折の絶対値の最大値は全面で２ｎｍ以下であった。
で観察したが、発泡、スジ、傷などは観察されなかっ
た。Ｔｇは１４０℃、平均厚さは約１００μｍで厚さの
ばらつきは最大でも±２μｍ以下、両面ともＲｍａｘ値
は、０．１０μｍ以下、光線透過率は９０．５％、複屈
折の絶対値の最大値は全面で２ｎｍ以下であった。
【００２９】鋳鉄製の５インチの定盤を設置したホフマ
ン型ラップ盤（スピードファム社製、ＤＳＭ ５Ｂ−８
Ｌ）を用い、またキャリア（スピードファム社製、ＥＧ
キャリア）を治具として用いてこのシートをラッピング
加工した。
ン型ラップ盤（スピードファム社製、ＤＳＭ ５Ｂ−８
Ｌ）を用い、またキャリア（スピードファム社製、ＥＧ
キャリア）を治具として用いてこのシートをラッピング
加工した。
【００３０】このシートの成形品の表面への荷重を０．
０４〜０．０８ｋｇ／ｃｍ2に調節しながら、上下定盤
を２０〜５０ｒｐｍで回転するように調節し、平均粒子
径１２．３μｍのホワイトアルミナ製の研磨剤（スピー
ドファム社製、Ａ−１２００）３００ｇと水１ｌとの割
合の混合溶液を６００〜１０００ｃｍ3／分でフィード
して１０分かけて研磨した。
０４〜０．０８ｋｇ／ｃｍ2に調節しながら、上下定盤
を２０〜５０ｒｐｍで回転するように調節し、平均粒子
径１２．３μｍのホワイトアルミナ製の研磨剤（スピー
ドファム社製、Ａ−１２００）３００ｇと水１ｌとの割
合の混合溶液を６００〜１０００ｃｍ3／分でフィード
して１０分かけて研磨した。
【００３１】ポリウレタン製のポリシャ（スピードファ
ム社製、ＳＵＲＦＩＮ ０１８−３）を設置した定盤サ
イズ５インチのホフマン型ポリシュ盤（スピードファム
社製、ＤＳＭ ５Ｂ−８Ｐ）を用い、またキャリア（ス
ピードファム社製、ＥＧキャリア）を治具として用いて
ラッピング加工したシートをポリッシング加工した。
ム社製、ＳＵＲＦＩＮ ０１８−３）を設置した定盤サ
イズ５インチのホフマン型ポリシュ盤（スピードファム
社製、ＤＳＭ ５Ｂ−８Ｐ）を用い、またキャリア（ス
ピードファム社製、ＥＧキャリア）を治具として用いて
ラッピング加工したシートをポリッシング加工した。
【００３２】シートの表面への荷重を０．０４〜０．０
８ｋｇ／ｃｍ2に調整しながら、上下定盤を２０〜５０
ｒｐｍで回転するように調整して、平均粒子径１．３μ
ｍのホワイトアルミナ製の研磨剤と水を重量比１：１と
の混合溶液（スピードファム社製、ＰＯＬＩＰＬＡ １
０３）を２００〜４００ｃｍ3／分でフィードして４０
分かけて研磨した。
８ｋｇ／ｃｍ2に調整しながら、上下定盤を２０〜５０
ｒｐｍで回転するように調整して、平均粒子径１．３μ
ｍのホワイトアルミナ製の研磨剤と水を重量比１：１と
の混合溶液（スピードファム社製、ＰＯＬＩＰＬＡ １
０３）を２００〜４００ｃｍ3／分でフィードして４０
分かけて研磨した。
【００３３】この結果、成形品の最大高さＲｍａｘ値は
全面で最高０．０４２μｍであった。
全面で最高０．０４２μｍであった。
【００３４】このシートをから、一辺２０ｍｍの正方形
を２枚切り出し、２枚とも片面にＩｎ2Ｏ3（Ｓｎ）を真
空蒸着して透明電極層を積層して、液晶基板を得た。
を２枚切り出し、２枚とも片面にＩｎ2Ｏ3（Ｓｎ）を真
空蒸着して透明電極層を積層して、液晶基板を得た。
【００３５】参考例２ キシレン８５重量部に参考例１の樹脂１５重量部を溶解
した樹脂溶液を用いて、実施例１と同様に流延した。こ
れを第１段階の乾燥としてガラス板ごと空気還流型のオ
ーブン中で２５℃から８０℃まで３０分かけて昇温させ
て乾燥させた。室温まで冷却後、シートの一部を切取
り、残留溶媒濃度を測定したところ、１．６重量％であ
った。ついで、第２段階の乾燥として１３０℃のオーブ
ンで９０分乾燥し、室温に冷却後、樹脂膜をガラス板か
ら剥離し、周囲１０ｍｍ幅を切り落としてシートを得
た。このシートの残留溶媒濃度は０．０４重量％であっ
た。
した樹脂溶液を用いて、実施例１と同様に流延した。こ
れを第１段階の乾燥としてガラス板ごと空気還流型のオ
ーブン中で２５℃から８０℃まで３０分かけて昇温させ
て乾燥させた。室温まで冷却後、シートの一部を切取
り、残留溶媒濃度を測定したところ、１．６重量％であ
った。ついで、第２段階の乾燥として１３０℃のオーブ
ンで９０分乾燥し、室温に冷却後、樹脂膜をガラス板か
ら剥離し、周囲１０ｍｍ幅を切り落としてシートを得
た。このシートの残留溶媒濃度は０．０４重量％であっ
た。
【００３６】このシートの表面を目視および光学顕微鏡
で観察したが、発泡、スジ、傷などは観察されなかっ
た。Ｔｇは１４１℃、平均厚さは１０μｍで厚さのばら
つきは最大でも±０．３μｍ以下、両面ともＲｍａｘ値
は、０．１２μｍ以下、複屈折の絶対値の最大値は全面
で２ｎｍ以下であった。
で観察したが、発泡、スジ、傷などは観察されなかっ
た。Ｔｇは１４１℃、平均厚さは１０μｍで厚さのばら
つきは最大でも±０．３μｍ以下、両面ともＲｍａｘ値
は、０．１２μｍ以下、複屈折の絶対値の最大値は全面
で２ｎｍ以下であった。
【００３７】このシートを一辺２０ｍｍの正方形に切り
出し、さらにその正方形のシートの内部、外周から２ｍ
ｍの位置の一辺１６ｍｍの正方形の部分を切り抜き、ス
ペーサーを作成した。
出し、さらにその正方形のシートの内部、外周から２ｍ
ｍの位置の一辺１６ｍｍの正方形の部分を切り抜き、ス
ペーサーを作成した。
【００３８】実施例２ 実施例１で得た内の一枚の液晶基板の透明電極層側に参
考例２で得たスペーサーを、ＤＨ ５９７Ａ（ノガワケ
ミカル製ホットメルト接着剤）の１０重量％トルエン溶
液を２０ｍｇ／ｃｍ2塗布し、８０℃で２分乾燥し、３
ｋｇ／ｃｍ2の圧をかけて積層した。この際、液晶基板
の外周から１ｍｍのところ１ヶ所から外方向への導電線
を透明電極層に取り付けた。
考例２で得たスペーサーを、ＤＨ ５９７Ａ（ノガワケ
ミカル製ホットメルト接着剤）の１０重量％トルエン溶
液を２０ｍｇ／ｃｍ2塗布し、８０℃で２分乾燥し、３
ｋｇ／ｃｍ2の圧をかけて積層した。この際、液晶基板
の外周から１ｍｍのところ１ヶ所から外方向への導電線
を透明電極層に取り付けた。
【００３９】スペーサーが接着された後、液晶基板上に
液晶として３０℃にして液状になったメトキシベンジリ
デン−ブチルアニリンを注ぎ、その上から実施例１で得
たもう一枚の液晶基板を液晶側が透明電極層になるよう
に、また、空気が残らないように、もう一枚の液晶基板
とスペーサーをＤＨ ５９７Ａの１０重量％トルエン溶
液を用いて接着した。
液晶として３０℃にして液状になったメトキシベンジリ
デン−ブチルアニリンを注ぎ、その上から実施例１で得
たもう一枚の液晶基板を液晶側が透明電極層になるよう
に、また、空気が残らないように、もう一枚の液晶基板
とスペーサーをＤＨ ５９７Ａの１０重量％トルエン溶
液を用いて接着した。
【００４０】この液晶セルを３０℃に保持して、２本の
導電線間に１４００〜２４００Ｖ／ｃｍの直流電圧を印
加すると、電圧が高くなるに従い、光の散乱が高くな
り、すりガラスのように曇った。これにより、本発明の
液晶基板は、液晶ディスプレイに用いることができるこ
とが判った。
導電線間に１４００〜２４００Ｖ／ｃｍの直流電圧を印
加すると、電圧が高くなるに従い、光の散乱が高くな
り、すりガラスのように曇った。これにより、本発明の
液晶基板は、液晶ディスプレイに用いることができるこ
とが判った。
【００４１】
【発明の効果】本発明の液晶基板は熱可塑性飽和ノルボ
ルネン系樹脂から成るので、透明性、耐熱性、耐湿性、
強度、耐水性、電気絶縁性、耐溶剤性、酸やアルカリ等
への耐薬品性、低複屈折性に優れ、また、光弾性係数が
小さいため、光学的に均一であり、曲面の液晶ディスプ
レイも製造可能である。また、本発明の液晶ディスプレ
イは軽量であり、液晶基板の平滑性をよくすることによ
り、画像の歪みの小さいものを得ることができる。
ルネン系樹脂から成るので、透明性、耐熱性、耐湿性、
強度、耐水性、電気絶縁性、耐溶剤性、酸やアルカリ等
への耐薬品性、低複屈折性に優れ、また、光弾性係数が
小さいため、光学的に均一であり、曲面の液晶ディスプ
レイも製造可能である。また、本発明の液晶ディスプレ
イは軽量であり、液晶基板の平滑性をよくすることによ
り、画像の歪みの小さいものを得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 夏梅 伊男 神奈川県川崎市川崎区夜光１−２−１ 日 本ゼオン株式会社研究開発センター内
Claims (4)
- 【請求項１】 熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂から成
る液晶基板。 - 【請求項２】 表面の最大高さＲｍａｘ値が０．２μｍ
以下である請求項１記載の液晶基板。 - 【請求項３】 透明導電層を積層した請求項１、または
２記載の液晶基板。 - 【請求項４】 請求項１、２、または３記載の液晶基板
を用いた液晶ディスプレイ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28950091A JPH0561026A (ja) | 1991-06-17 | 1991-10-09 | 液晶基板及びそれを用いた液晶デイスプレイ |
| US07/950,152 US5334424A (en) | 1991-06-17 | 1992-09-24 | Thermoplastic norbornene resin formed articles and sustrates for liquid crystal display |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17038891 | 1991-06-17 | ||
| JP3-170388 | 1991-06-17 | ||
| JP28950091A JPH0561026A (ja) | 1991-06-17 | 1991-10-09 | 液晶基板及びそれを用いた液晶デイスプレイ |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000353329A Division JP2001215482A (ja) | 1991-06-17 | 2000-11-20 | 液晶基板及びそれを用いた液晶ディスプレイ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0561026A true JPH0561026A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=26493387
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28950091A Pending JPH0561026A (ja) | 1991-06-17 | 1991-10-09 | 液晶基板及びそれを用いた液晶デイスプレイ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0561026A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5516456A (en) * | 1994-02-24 | 1996-05-14 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Liquid crystal display panel |
| US5766699A (en) * | 1994-10-21 | 1998-06-16 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Molded article |
| US5833878A (en) * | 1996-02-14 | 1998-11-10 | Jsr Corporation | Liquid crystal display panel |
| WO2004003644A1 (ja) * | 2002-06-28 | 2004-01-08 | Zeon Corporation | 液晶基板及び液晶表示素子 |
| WO2004101478A1 (ja) | 2003-05-14 | 2004-11-25 | Jsr Corporation | ノルボルネン系誘導体、ノルボルネン系開環（共）重合体ならびに該開環（共）重合体の製造方法 |
| US7157523B2 (en) | 2002-11-14 | 2007-01-02 | Jsr Corporation | Ring-opened polynorbornenes |
| US8013090B2 (en) | 2006-01-30 | 2011-09-06 | Zeon Corporation | Film comprising norbornene compound addition polymer |
| KR20160079161A (ko) | 2014-12-25 | 2016-07-06 | 주식회사 효성 | 노르보넨 광학 필름 제조방법 |
| KR20160079160A (ko) | 2014-12-25 | 2016-07-06 | 주식회사 효성 | 안티-블락킹 특성의 노르보넨 필름, 및 이의 제조방법 |
| KR20160083389A (ko) | 2014-12-30 | 2016-07-12 | 주식회사 효성 | 노르보넨 필름용 첨가제, 및 이를 포함하는 광학 필름 |
| KR20160083384A (ko) | 2014-12-30 | 2016-07-12 | 주식회사 효성 | 노르보넨 필름용 첨가제, 및 이를 포함하는 광학 필름 |
-
1991
- 1991-10-09 JP JP28950091A patent/JPH0561026A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5516456A (en) * | 1994-02-24 | 1996-05-14 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Liquid crystal display panel |
| US5766699A (en) * | 1994-10-21 | 1998-06-16 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Molded article |
| US5833878A (en) * | 1996-02-14 | 1998-11-10 | Jsr Corporation | Liquid crystal display panel |
| WO2004003644A1 (ja) * | 2002-06-28 | 2004-01-08 | Zeon Corporation | 液晶基板及び液晶表示素子 |
| US7230058B2 (en) | 2002-11-14 | 2007-06-12 | Jsr Corporation | Ring-opened polynorbornenes |
| US7157523B2 (en) | 2002-11-14 | 2007-01-02 | Jsr Corporation | Ring-opened polynorbornenes |
| WO2004101478A1 (ja) | 2003-05-14 | 2004-11-25 | Jsr Corporation | ノルボルネン系誘導体、ノルボルネン系開環（共）重合体ならびに該開環（共）重合体の製造方法 |
| US7541411B2 (en) | 2003-05-14 | 2009-06-02 | Jsr Corporation | Norbornene derivative, norbornene polymer produced by ring-opening (co)polymerization, and process for producing the polymer by ring-opening (co)polymerization |
| US7759437B2 (en) | 2003-05-14 | 2010-07-20 | Jsr Corporation | Norbornene derivative, norbornene polymer produced by ring-opening (co)polymerization, and process for producing the polymer by ring-opening (co)polymerization |
| US8013090B2 (en) | 2006-01-30 | 2011-09-06 | Zeon Corporation | Film comprising norbornene compound addition polymer |
| KR20160079161A (ko) | 2014-12-25 | 2016-07-06 | 주식회사 효성 | 노르보넨 광학 필름 제조방법 |
| KR20160079160A (ko) | 2014-12-25 | 2016-07-06 | 주식회사 효성 | 안티-블락킹 특성의 노르보넨 필름, 및 이의 제조방법 |
| KR20160083389A (ko) | 2014-12-30 | 2016-07-12 | 주식회사 효성 | 노르보넨 필름용 첨가제, 및 이를 포함하는 광학 필름 |
| KR20160083384A (ko) | 2014-12-30 | 2016-07-12 | 주식회사 효성 | 노르보넨 필름용 첨가제, 및 이를 포함하는 광학 필름 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5334424A (en) | Thermoplastic norbornene resin formed articles and sustrates for liquid crystal display | |
| KR100825177B1 (ko) | 열가소성 수지 필름을 포함하는 적층체 | |
| JP3132122B2 (ja) | 複合シート | |
| JPH0561026A (ja) | 液晶基板及びそれを用いた液晶デイスプレイ | |
| CA2142580A1 (en) | Optical Functional Materials and Process for Producing the Same | |
| EP1275697A1 (en) | Curable composition, composition for optical material, optical material, liquid-crystal display, transparent conductive film, and process for producing the same | |
| JP2002327024A (ja) | 樹脂フィルム、およびその用途 | |
| JPH08166849A (ja) | タッチパネル用プラスチック積層シート及びプラスチック基板タッチパネル | |
| JP6321108B2 (ja) | 光学積層体および画像表示装置 | |
| US20040106740A1 (en) | Resin film and applications thereof | |
| JP2007002023A (ja) | フィルムおよび画像表示装置 | |
| JP4070510B2 (ja) | 複屈折フィルム、光学補償層一体型偏光板、画像表示装置、並びに複屈折フィルムの製造法 | |
| JP3099506B2 (ja) | 液晶封止体及びそれを用いた液晶ディスプレイ | |
| JP2005181548A (ja) | 光学用フィルム及びそれを用いた偏光板 | |
| JPH04301415A (ja) | 熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂シート及びその製造方法 | |
| JP2009187687A (ja) | 透明導電性フィルムの製造方法、該方法により得られたフィルムを有するタッチパネルおよび該タッチパネルを有する表示装置 | |
| JPH1081956A (ja) | 積層フィルムおよびその製造方法 | |
| JP4072872B2 (ja) | 電極基板 | |
| JPH08201791A (ja) | 透明電極基板 | |
| JP2001215482A (ja) | 液晶基板及びそれを用いた液晶ディスプレイ | |
| JPH0559196A (ja) | 熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂成形品及びその製造方法 | |
| JPH1010558A (ja) | 電極基板 | |
| JP2001004985A (ja) | セル基板、液晶セル、液晶表示装置及び電極形成法 | |
| JP2004103292A (ja) | 複層フィルム | |
| JP3874227B2 (ja) | 粘着型光学部材 |